KR0184879B1 - 개선된 하이드로시안화법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고체 촉매 분해 침전물을 하이드로시안화 반응기에 가하고, 반응기에서 나오는 생성물 유동액 백만부 당 HCN농도가 약 2500부 미만이 되는 수준으로 반응기를 작동시킴을 포함하는, 펜텐니트릴의 하이드로시안화에 대한 개선된 방법을 제공한다.

Description

개선된 하이드로시안화법
도면은 본 발명의 공정을 도시한 하이드로시안화 공정의 개요도이다.
본 발명은 O가 니켈 촉매 및 트리아릴보란 촉진제를 사용하는 펜텐니트릴의 하이드로시안화에 의한 아디포니트릴의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 구체적으로, 본 발명은 장치 표면을 덮어 작동성의 문제를 야기시키는 고체 촉매 분해 침전물의 양을 감소시킴으로써 보다 효과적으로 위의 방법을 실시하는 것에 관한 것이다. 또한, 본 발명으로 모든 O가 니켈 화합물(촉매)이 생성물 스트림(stream)으로부터 회수되기 전에 생성물 유동액으로부터 고체 촉매 분해 침전물이 제거될 수 있고, 생성물 유동액으로부터 촉매가 효율적으로 분리될 수 있다. 고체 촉매 분해 침전물은 이후 종종 NCBC라고 하는 Ni[NC(CH2)4CN]2[NCBφ3]2를 포함한다.
콘(Corn)에게 허여된 미합중국 특허 제4,080,374호에는 펜텐니트릴의 아디포니트릴로의 하이드로시안화 동안 몇몇 O가 니켈 촉매가 시인화니켈로 산화되어 트리아릴보란과 불용성 착체를 형성하는 것으로 기술되어 있다. 이들 불용성 착체(고체 촉매 분해 침전물)은 장치 표면을 덮어, 열 전달능의 손실 및 장치를 통한 유동의 제한에 의해 작동이 비효율적으로 되도록 한다. 특정한 고체 촉매 분해 침전물은 생성물 유동액중에 현탁되어 액체/액체 추출에 의해 생성물 유동액으로부터 O가 니켈 촉매의 효율적인 회수를 방해한다.
본 발명으로 고체 촉매 잔사가 반응기 및 연결 장치를 오염시키는 침전물을 형성시키고, 또한 O가 니켈 촉매를 생성물 유동액으로부터 분리시키기가 어려울 정도의 고농도로 생성물 스트림 중에 함유되는, O가 니켈 촉매 및 트리아릴보란 촉진제를 사용한 펜텐니트릴의 하이드로시안화에 의한 아디포니트릴의 제조방법이 개선된다. 개선된 방법에는 침전물의 일부를 생성물 스트림으로부터 제거하고, 제거된 침전물의 일부 이상을 반응기로 재순환시킴이 포함된다.
침전물을 반응기에 가할 경우, 새로 형성되는 촉매 분해 생성물이 침전될 수 있는 대용 표면이 확실히 공급됨으로써 반응기 및 연결 장치의 표면을 덮는 촉매 분해 생성물의 양이 감소된다. 또한, 촉매 분해 침전물을 신중히 가한 후 생성물 스트림 중에 함유된 고체 촉매 분해 침전물은 생성물 유동액으로부터 보다 용이하게 분리되며, 그 결과 생성물 유동액으로부터의 O가 촉매의 분리를 방해하지 않는다. 침전물을 형성하는 촉매 분해 생성물은 NCBC를 높은 비율로 함유한다.
본 발명 방법의 통상적 실시에서, 반응기는 펜텐니트릴, 시안화수소, 트리아릴보란, O가 니켈 촉매(신선한 촉매 및 재순환된 촉매) 및 첨가된 고체 분해 침전물의 혼합물을 함유한다. 첨가된 고체 촉매 분해 침전물 이외의 성분들의 양 및 비율은 통상적이고 선행 분야에 기술되어 있으며 당해 분야의 숙련가에게 공지되어 있다. 반응기 유동액의 시안화수소 농도는 보통 2500ppm미만, 바람직하게는 1000ppm미만이다. 보통 약 500ppm정도의 시안화수소 농도가 펜텐니트릴과 효과적으로 반응하기에 충분하나, O가 니켈 촉매가 매우 다량인 침전물 즉, 고체 촉매 분해 침전물을 형성시키기에는 부족하다. 반응기에 가하는 고체량은 광범위하게 변화시킬 수 있으나, 보통 반응기 유동액의 약 0.3 내지 2.5중량%, 바람직하게는 약 1 내지 약 1.5중량%이다.
본 발명은 방법을 위한 공급 물질은 펜텐니트릴이다. 니트릴이 3-펜텐니트릴인 경우, 동일 반응계내에서 4-펜텐니트릴로 이성체화된다. 4-펜텐니트릴은 시안화수소 1분자를 가함으로써 아디포니트릴로 전환된다. 도면을 참고해 보면, 펜텐니트릴 스트림(1)이 HCN 스트림(2), 트리아릴보란 스트림(3) 및 O가 니켈 촉매 및 고체 촉매 분해 침전물을 함유하는 재순환 스트림이다. 본 발명의 실시에서, 고체 촉매 분해 침전물을 재순환시키고, 반응기에서 나오는 생성물 스트림중의 HCN 농도가 약 2500ppm을 초과하지 않도록 반응 조건을 유지하여야 할 필요가 있다. HCN 농도가 보다 높은 경우, 고체 촉매 분해 침전물이 하전되어 경사 분리기(decanter)내에서 촉매와 분리되기 보다는 극성 아디포니트릴 분자와 결합하는 경향이 있다. 반응 후, 생성물 유동액은 스트림(5)을 거채 플래셔(flasher)로 가고, 여기서 미반응된 펜텐니트릴이 스트림(6)으로서 제거된다(이 스트림(6)은 보통 반응기로 재순환된다). 조악한 아디포니트릴은 스트림(7)을 통과하여 경사 분리기로 가고, 여기서 두 상이 형성된다. 45℃ 이하의 작동 온도는 경사 분리기 내에서 혼합물로부터 활성이 있는 고체 촉매 분해 침전물의 분리를 향상시키는 것으로 밝혀졌다. 상부의 상은 대부분 아디포니트릴을 함유하고, 하부의 상은 대부분 O가 니켈 촉매를 함유한다. 본 명세서에 기술된 주의깊게 선택된 공정 작동 조건을 사용하고 분해 침전물의 분획을 반응기로 재순화시킴으로써, 실질적으로 모든 고체 촉매 분해 침전물이 경사 분리기내에서 촉매 상과 함께 침강될 수 있다. 하부의 상은 스트림(8)으로서 분리되고, 상부의 상은 스트림(9)으로서 분리된다. 라이언데커(Leyendeker) 등에서 허여된 미합중국 특허 제4,539,302호에는 반응, 섬광 및 경사 분리의 단계들을 수행하기에 적합한 상당히 상세한 공정 조건이 기술되어 있다. 상부의 상은 스트림(9)을 통과하여 추가의 활성 촉매가 과량의 리간드와 함께 회수되는 추출기로 간다. 미합중국 특허 제3,773,809호에는 추출기의 작동 과정이 상당히 상세하게 기술되어 있다. 추출 유기 용매는 스트림(10)으로서 추출기로 공급되고, 정제된 아디포니트릴 스트림은 스트림(12)을 형성한다. 스트림(11)중에 함유된 추출된 리간드 및 촉매는 반응기로 공급될 추가의 촉매를 제조하는데 사용된다.
시스템 중의 고체 촉매 분해 침전물의 양은 이 고체의 일부를 제거하기 위한 조치를 취하지 않는 이상 불만족스런 수준으로 증가할 것이다. 시스템 중에 존재하는 고체 촉매 잔사의 양은 스트림(8) 모두 또는 일부를 펜텐니트릴 세척액으로 주기적으로 또는 연속적으로 처리하여 조절하고, 이에 의해 촉매(O가 니켈 화합물)가 펜텐니트릴 중에 용해되며 과량의 고체 촉매 분해 침전물은 폐기한다. 이어서 용해된 촉매 및 바람직한 양의 고체 촉매 분해 침전물을 함유하는 펜텐니트릴을 반응기로 재순환시킨다. O가 니켈 화합물의 액체/액체 추출물은 결과가 바람직한 경우 거의 모든 고체 촉매 분해 침전물을 재순환된 촉매 스트림으로부터 제거하는데 사용될 수 있다.
공정 장치의 오염은 고체 촉매 분해 침전물을 반응기에 가함으로써 현저히 감소되고, 반응기내의 HCN 농도가 적절히 조절되어 생성물 스트림 중의 HCN 농도가 약 2500ppm 미만이 될 경우, 고체 촉매 분해 침전물은 경사 분리기 중의 생성물 유동액으로부터 보다 용이하게 제거된다. 이는 보다 큰 입자 크기, 보다 균일한 입자 크기 분포, 보다 고밀도의 입자, 상기 요인들의 조합에 기인할 수 있거나, 하나 이상의 이들 요인 및 하나 이상의 미지의 요인에 기인할 수 있다.
[실시예]
[실시예 1, 플래셔 오염 감소]
첨부된 도면에서와 같이 대략적으로 도시된 펜텐니트릴 하이드로시안화 단위 장치는 고체 재순환없이 작동된다. 플래셔 스트림(5)으로 들어가는 공급물은 0.07중량% 고체 촉매 분해 침전물, 주로 NCBC를 함유한다. 프래셔 말단은 스트림(7)은 0.14중량% 고체를 함유한다. 플래쉬 단위 장치 작동 후 29일 지나자 덮힌 고체로 심하게 오염되어 조업을 중단하고 침전물을 제거해야 했다. 이 29일 동안 플래셔 칼란드리아스(the flasher calcndrias)를 7회 교환 및 세정해야 했다.
반응기 생성물[스트림(5)]의 고체 촉매 분해 침전물 농도를, 반응기 공급물에 고체 NCBC를 가함으로써 1.4%로 조절하는 것을 제외하고는 대략 동일한 작동 조건하에서 단위 장치에서 제2실험을 수행한다. 플래셔 말단인 스트림(7)의 고체 함량은 2.0%로 증가하고 공정 장치의 오염률은 크게 감소한다. 시스템을 작동한 지 95일이 지나서야 조업을 중단하고 세정할 필요가 있었다. 이 기간 동안, 플래셔 칼란드리아스를 5회만 세정했다.
[실시예 2. 경사 분리기 고체 회수]
실시예 1에 기술된 펜텐니트릴 단위 장치를 경사 분리기로 들어가는 고체 촉매 분해 침전물이 스트림(8)에서 99% 회수되고 경사 분리기에서 나가는 고체 촉매 분해 침전물이 스트림(9)에서 1%만 회수되도록 안정 상태 조건으로 작동시킨다. 반응기 생성물[스트림(5)]의 HCN 농도는 500ppm에서 3000ppm으로 증가시킨다. 시스템 고체 중의 Ni(CN)2농도는 3.5중량%에서 7.7중량%로 증가한다. 영향을 받은 생성물이 경사 분리기에 도달한 직후, 경사 분리기로 들어가는 고체 촉매 분해 침전물의 대부분이 스트림(9)에서 경사 분리기로부터 나오기 시작한다. 고체 촉매 분해 침전물은 유탁액을 형성하여 추출기를 범람시킨다. HCN 농도는 0.05중량%로 돌아간다. 그 직후에, 스트림(9)의 경사 분리기에서 나가는 고체 촉매 분해 침전물이 다시 1% 수준으로 되고 스트림(8) 중의 고체 촉매 분해 침전물의 농도가 증가한다. 추출기의 범람은 중지된다.

Claims (6)

  1. 고체 촉매 분해 침전물이 반응기와 연결장치를 오염시키고 생성물 유동액 속에 함유되는, O가 니켈 촉매와 트리아릴보란 촉진제를 사용하여 펜텐니트릴을 하이드로시안화시켜 아디포니트릴을 제조하는 방법에 있어서, 고체 촉매 분해 침전물의 일부를 반응기로 재순환시키고, 반응기에서 나오는 생성물 스트림(stream)의 HCN 농도가 약 2500ppm을 초과하지 않도록 조절함을 포함하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 반응기로 재순화되는 O가 니켈 화합물의 스트림에 함유되어 있는 고체 촉매 분해 생성물 침전물의 일부를 제거함으로써, 재순환된 고체 촉매 분해 침전물의 양이 조절되는 방법.
  3. 제2항에 있어서, O가 니켈 화합물의 스트림으로부터 제거된 고체 촉매 분해 침전물의 일부가 스트림을 펜텐니트릴과 반응기로 공급되는 세척액으로 세척함으로써 제거되는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 침전물이 NCBC를 함유하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 침전물이 생성물 유동액으로부터 제거되기 전에, 펜텐니트릴이 생성물 유동액으로부터 제거되는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 반응기로 공급되는 침전물의 양이 반응기 중의 성분들의 총중량의 약 0.3 내지 2.5중량%의 범위인 방법.
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