KR0183650B1 - 리드 프레임의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 리드 프레임이 제조방법이다. 리드 프레임 소재표면을 세정하는 단계, 상기 소재표면에 산화막을 형성한 후 소정 두께만큼 용해시키는 단계, 상기 리드 프레임의 산화막 표면에 드라이필름을 코팅하는 단계, 상기 코팅된 드라이필름을 마스크패턴을 사용하여 노광 및 현상하는 단계, 상기 노출된 소재부위를 에칭하여 소정의 리드 프레임 형상을 제조하는 단계 및 상기 리드 프레임 형상에 잔존하는 드라이필름을 박리하는 단계를 포함하는 리드 프레임의 제조방법에 있어서, 상기 단계들이 릴투릴 방식으로 제조되는 리드프레임의 제조방법에 따르면 리드 프레임의 파인 에칭이 가능하고 제조공정이 단순하며 제조단가가 저렴하다.

Description

리드프레임의 제조방법

제1도는 종래의 일실시예에 따른 리드 프레임의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도이다.

제2도는 본 발명의 일실시예에 따른 리드 프레임의 제조방법을 순차적을 나타낸 순서도이다.

본 발명은 리드 프레임의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는 파인에칭(fine etching)이 가능한 리드 프레임의 제조방법에 관한 것이다.

통상적인 리드 프레임의 제조방법은 크게 두가지로 분류되는데, 스탬핑(stamping)에 의한 방식과 에칭(etching) 즉, 식각에 의한 방법이다. 스탬핑 방식은 순차 이송형 프레스 금형 장치에 의해 소재를 순차적으로 이송시키면서 타발함으로써 소정 형상의 제품을 제작하는 것으로, 주로 대량생산이 많이 이용된다. 상기 에칭방식은 식각에 의한 화학적 부식방법에 의한 것으로 미세한 패턴의 리드 프레임의 제조에 적합한다.

리드 프레임의 제조공정중 에칭방식에 의한 리드 프레임 제조공정은 다음과 같다. 이는 리드 프레임의 설계가 완료된 상태에서 소재를 전처리하는 세정단계, 포토레지스트 코팅단계, 노광단계, 현상단계, 에칭단계, 박리단계 그리고 후처리단계로서 플레이팅 단계(Plating step), 테이핑 단계(taping step)등으로 이루어진다.

상기 제조공정을 자세히 기술하자면, 우선 세정단계에서 포토레지스트 도포전에 소재에 부착된 불순물을 제거하고, 상기 포토레지스트 코팅단계에서 감광성 수직막인 포토레지스트를 소재의 표면에 균일하게 도포한다. 상기 포토레지스트는 광조사에 의해 감광부분이 현상액에 녹지 않게 되거나(네가티브형) 가용(可溶)되는(포지티브형) 성질을 가진 수지성분이다. 상기와 같이 포토레지스트의 도포가 완료되면 노광단계에서 포토레지스트를 도포한 소재위에 제작하고자 하는 형상과 동일한 패턴이 형성된 필름이나 유리로 된 포토 마스크를 올려놓고 광을 조사하여 제품형상을 노광한다. 그리고 상기 현상단계에서 빛이 조사된 부분의 포토레지스트막을 소정의 패턴으로 현상시키고, 상기 에칭단계에서 화학적 식각방식으로 가공형태의 제품형상을 형성한 후, 상기 박리단계에서 리드 프레임에 잔존하는 포토레지스트를 제거한다. 그리고, 후처리 공정인 상기 플레이팅 단계에서 리드 프레임의 본딩되는 부위에 은도금을 하고, 테이핑 단계에서 리드 프레임의 변형 및 핀의 간격을 유지하기 위하여 테이프를 부착한다.

상기 종래의 제조방식에 의하면 리드 프레임을 제작한 후에 후처리 단계로서 은도금을 실시하였는데, 이 경우 도금시 리드 프레임의 이면에 압력이 가해져(back pressure) 리드 프레임이 변형되는 문제가 발생하였다.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것이 선도금 후에칭 방식이다(미국특허 5,305,043). 이는 은도금 단계, 도금 부위 외의 부분의 은박리 단계, 라미네이트 단계, 노광 단계, 현상 단계, 리드팁의 은박리 단계, 에칭 박리 및 산세정 단계를 순차적을 포함한다.

즉, 상기 특허는 리드 프레임의 동박 표면에 은도금을 전체적으로 한 뒤 연속적으로 에칭하여 리드 프레임을 제조하는 방식이다.

그러나, 이는 다음과 같은 문제점이 있다.

첫째, 리드 프레임 동박 표면에 선도금하여 드라이필름을 코팅하기 때문에 도금되어 있는 분위는 다른 부위보다 두께가 두꺼워지는 현상이 있어 파인에칭이 어렵다.

둘째, 리드 프레임 표면에 은도금을 실시한 후 드라이필름을 코팅하여 노광하는 경우는 은표면에 의한 빛의 난반사량이 증가하여 현상후 드라이필름의 해상도가 좋지 않기 때문에 파인에칭에 어려움이 있다.

셋째, 리드 프레임 표면에 은도금을 실시한 후 드라이필름을 코팅한 경우 도금되어 있는 부위는 리드 프레임 표면보다도 밀착력이 떨어지기 때문에 접착력이 불량하고 막들뜸 현상이 발생하여 고정도 에칭이 어렵다.

넷째, 선도금된 리드 프레임에 노광을 실시할때는 특정한 기준홀이 없이 리드 프레임 이송량으로 노광하기 때문에 도금부위 쏠림(도금아리아 불량) 현상이 발생한다.

다섯째, 쉬트타입으로 제조하는 방식은 작업인원이 많이 들어 제조단가가 높다.

따라서, 본 발명에서는 상기 문제점을 해결하여 제조공정을 단순히 함으로써 리드 프레임의 파인에칭이 가능하고 제조비용이 저렴한 리드프레임 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는,

리드 프레임 소재 표면을 세정하는 단게;

상기 소재 표면에 산화막을 형성한 후 소정 두께만큼 용해시키는 단계;

상기 리드프레임의 산화막 표면에 드라이필름을 코팅하는 단계;

상기 코팅된 소재를 마스크패턴을 사용하여 노광 및 현상하는 단계;

상기 노출된 소재부위를 에칭하여 소정의 리드 프레임 형상을 제조하는 단계 및

상기 리드 프레임 형상에 잔존하는 드라이플림을 박리하는 단계를 포함하는 리드프레임의 제조방법이 제공된다.

특히, 상기 모든 단계는 릴투릴 방식으로 일괄처리되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에서는 기존의 선도금 공정을 생략함으로써 파인 에칭을 가능하게 하여 신뢰성이 높은 리드 프레임을 제공한다. 또한, 리드 프레임 공정을 릴투릴 방식으로 일괄처리함으로써 제조공정이 간단하고 제조단가가 저렴하게 된다.

특히, 리드 프레임 소재 표면에 일차 산화막을 형성한 후 일정두께만큼 용해시키는 공정을 추가함으로써, 드라이플림과의 밀착성을 향상시키고 노광시 광원에 의한 빛의 난반사를 방지할 수 있다.

일반적으로 포토레지스트가 액상인 경우는 통상 전처리와 코팅작업은 릴투릴 방식으로 일괄적으로 하고 후공정은 쉬트 타입으로 하고 있다. 한편, 리드프레임용 프토레지스트로 드라이필름을 사용할 수가 있는데 이 경우 통상적으로 쉬트타입으로 작업을 하고 있었다.

그러나 박형의 드라이필름이 개발되고 릴투릴방식에 필요한 장비들이 개선되어 드라이필름을 사용하는 경우 공정 전체에 릴투릴 방식을 적용할 수 있게 되었다.

본 발명에 따른 리드 프레임의 제조방법을 따르면 다음과 같은 장점이 있다.

첫째, 리드 프레임 표면에 선도금하여 드라이필름을 코팅할 때 발생되는 코팅 두께의 차이를 해결할 수 있어 파인에칭이 가능한다.

둘째, 선도금 공정을 생략함으로써 은표면에 의한 난반사량이 증가하는 문제가 없어 해상도 향상된다.

셋째, 선도금 공정과 은박리 공정이 없으므로 제조공정이 단순화된다.

넷째, 선도금을 실시하지 않는 경우는 드라이필름의 접착력이 좋아져 파인에칭이 가능하게 된다.

다섯째, 쉬트 타입의 리드 프레임 제조방식보다 릴투릴 제조방식이 작업인원을 대폭 감축할 수 있다.

여섯째, 리드 프레임 소재 표면에 일차 산화막을 형성한 후 일정 두께만큼 용해시키는 공정을 추가함으로써, 드라이필름과의 밀착성을 향상시키고 노광시 광원에 의한 빛의 난반사를 방지할 수 있다.

Claims (2)

1. 리드 프레임 소재표면을 세정하는 단계; 상기 소재 표면에 산화막을 형성한 후 소정 두께만큼 용해시키는 단계; 상기 리드 프레임의 산화막 표면에 드라이필름을 코팅하는 단계; 상기 코팅된 드라이필름을 마스크패턴을 사용하여 노광 및 현상하는 단계; 상기 노출된 소재부위를 에칭하여 소정의 리드 프레임 형상을 제조하는 단계; 및 상기 리드 프레임 형상에 잔존하는 드라이필름을 박리하는 단계를 포함하는 리드 프레임의 제조방법에 있어서, 상기 단계들이 릴투릴 방식으로 제조되는 것을 특징으로 하는 리드 프레임의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 드라이필름의 코팅 두께는 15 내지 30㎛인 것을 특징으로 하는 리드프레임의 제조방법.