KR0163183B1 - 시클로헥세논 화합물 및 제초제 또는 식물 성장 조절제로서 이것의 사용방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 하기식(I)의 시클로헥세는 화합물과 그 제조방법 및 잡초성장을 억제하고 식물성장을 조절하기 위한 이들의 사용 방법에 관한 것이다 :
상기식에서,
R1은 치환 또는 비치환된 알킬기, 알켄일기, 알킨일기, 시클로알킬기, 페닐기 또는 벤질기이고 ;
A는 산소, N-OR2, NR3이고 ;
R2는 치환 또는 비치환된 알킬기, 알켄일기, 알킨일기이고 ;
R3는 수소, 알킬기, 히드록시알킬기, 알콕시알킬기, 알킬티오알킬기, 치환 또는 비치환된 페닐기 또는 벤질기이다.
Description
본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)의 시클로헥세는 화합물과 농경상 유용한 이것의 염 및 카르복실산, 황산 또는 인산부가 에스테르화 생성물에 관한 것이다.
상기식에서, R1은, 각각 비치환되거나 한가지 이상의 할로겐 치환기에 의해 치환되는 C1-C20-알킬기, C2-C20-알켄일기, C2-C20-알킨일기 또는 C3-C6-시클로알킬기, 또는 C2-C6-알콕시알킬기, C2-C6-알킬티오알킬기, 벤질기 또는 페닐기이고, 상기 방향족 핵은 각각 비치환되거나 할로겐, 시아노기, C1-C4-알킬기, C1-C4-알콕시기, C1-C4-할로알킬기 또는 니트로기에 의해 단일치환 내지 삼중치환되고,
A는 산소, NOR2또는 NR3이고,
R2는, 각각 할로겐, C1-C4-알콕시기 5 내지 6개의 고리원자와 질소, 산소 또는 황과 같은 1 또는 2개의 헤테로원자를 갖는 헤타릴기 및 페닐기로 구성된 군으로 부터의 한가지 이상의 치환기에 의해 치환되거나 비치환되는 C1-C4-알킬기, C3- 또는 C4-알켄일기 또는 C3- 또는 C4-알킨일기 이고, 여기서의 페닐기와 헤타릴기는 비치환되거나 할로겐, C1-C4-알킬기, C1-C4-알콕시키, C1-C4-할로알콕시기 또는 니트로기에 의해 단일치환 내지 삼중치환되고,
R3는 수소, C1-C6-알킬기, C1-C4-히드록시알킬기, C2-C4-알콕시알킬기, C2-C4-알킬티오알킬기, 페닐기 또는 벤질기 이고, 여기서의 페닐기와 벤질기는 비치환되거나 할로겐, C1-C4-알킬기, C1-C4-알콕시기, C1-C4-할로알킬기 또는 니트로기에 의해 단일 치환 내지 삼중치환된다.
또한 본 발명은 한가지 이상의 상기식(Ⅰ)의 시클로헥세는 화합물을 함유하는 제초제와 식물 성장 조절체에 관한 것이다.
DE-A 24 39 104호에는 2-[1-(에톡시아미노)-에틸리덴]-4-시아노-5,5-디메틸시클로헥산-1,3-디온 또는 2-[1-(알릴옥시아미노)-부틸리덴]-시아노-5,5-디메틸시클로헥산-1,3-디온과 같은, 4-위치에 시아노기 및 동시에 5-위치에 디메틸 치환기를 갖는 시클로헥세는 옥심 에테르가 우수한 제초작용을 갖는다는 것이 기재되어 있다.
그중에서도 특히, DE-A 35 23 862호에는 식물 성장 조절제로서 하기 구조(Ⅰ')의 시클록헥세는 화합물이 기재되어 있다 :
상기 구조를 갖는 옥심 에테르는 제초성 물질로서 DE-A 34 40 410호에 기재되어 있다.
본 발명의 목적은 신규의 제초성 및/또는 생물학적 조절성(bioregulatory) 물질을 제공하는 데에 있다.
본 발명자들은 상기의 목적이 서두에서 정의된 시클로헥세는 화합물에 의해 달성된다는 것을 발견하였다. A가 기NOR2인 화합물(Ⅰ)은, 예컨대 벼과(Gramineae)로 부터의 종에 대해 매우 우수한 제초성질을 갖고, 반면에 A가 산소 또는 아미노기 NR3인 화합물(Ⅰ)은 식물 성장을 조절하기 위해, 특히 줄기를 짧게하기 위해 유리하게 사용될 수 있다.
화합물(Ⅰ)의 예정된 사용의 관점에서, 바람직한 치환기들은 하기의 기들이다 :
R1은 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 2차-부틸기, 3차-부틸기, n-펜틸기 또는 n-헥실기 또는 n-헥실기와 같은 C1-C20-알킬기, 특히 C1-C6-알킬기, C2-C6-알켄일기, 예컨대 비닐기, 알릴기, 부트-2-엔일기, 부트-3-엔일기, 펜트-2-엔일기, 펜트-3-엔일기, 펜트-4-엔일기, 헥스-2-엔일기, 헥스-3-엔일기, 헥스-4-엔일기 또는 헥스-5-엔일기, C2-C6-알킨일기, 예컨대 에틴일기, 프로파르길기, 부트-2-인일기, 부트-3-인일기, 펜트-2-인일기, 펜트-3-인일기, 펜트-4-인일기 또는 헥스-2-인일기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기와 같은 C3-C6-시클로알킬기, (규정된 알킬기, 알켄일기, 알킨일기 및 시클로알킬기는 한개이상, 예컨대 1 내지 4개의 불소, 염소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자에 의해 치환되거나 비치환 된다)
C2-C6-알콕시알킬기, 예컨대 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 프로폭시메틸기, 1-메톡시에틸기, 2-메톡시에틸기, 1-에톡시에틸기, 2-에톡시에틸기, 2-프로폭시에틸기, 1-메톡시프로필기, 2-메톡시프로필기, 3-메톡시프로필기, 1-에톡시프로필기, 2-에톡시프로필기, 3-에톡시프로필기, 1-메톡시부틸기, 2-메톡시부틸기, 3-메톡시부틸기, 4-메톡시부틸기, 1-에톡시부틸기, 2-에톡시부틸기, 3-에톡시부틸기 또는 4-에톡시부틸기,
C2-C6-알킬티오알킬기, 예컨대 메틸티오메틸기, 에틸티오메틸기, 프로필티오메틸기, 메틸티오에틸기, 에틸티오에틸기, 프로필티오에틸기, 메틸티오프로필기 또는 에틸티오프로필기,
방향족 핵이 비치환되거나 염소, 브롬 또는 불소와 같은 할로겐, 시아노기, 니트로기, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기와 같은 C1-C4-알킬기, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기 또는 부톡시기와 같은 C1-C4-알콜시기, 트리플루오로메틸기, 디플루오로클로로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리클로로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 테트라플루오로에틸기, 플루오로프로필기, 플루오로부틸기, 클로로프로필기 또는 클로로부틸기와 같은 C1-C4-할로알킬기에 의해 단일치환 내지 삼중치환되는 벤질기 또는 페닐기,
R2는, 비치환되거나 단일치환 또는 다치환, 예컨대 단일치환 내지 삼중치환된, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, 2차-부틸기 또는 3차-부틸기와 같은 C1-C4-알킬기,
비치환되거나 단일치환 내지 삼중치환된, 알킬기, 부트-2-엔일기 또는 부트-3-엔일기)와 같은 C3-또는 C4-알켄일기, 또는 비치환되거나 단일치환된 프로파르길기, 부트-2-인일기 또는 부트-3-인일기와 같은 C3- 또는 C4-알킨일기.
적합한 치환기는 다음과 같다 :
불소, 염소 또는 브롬과 같은 할로겐, R1을 위해 정의된 것과 같은 C1-C4-알콕시기, 질소, 산소 또는 황과 같은 1 또는 2개의 헤테로원자 및 5 또는 6개의 고리원자를 갖는 헤타릴기 또는 페닐기, 예컨대 피라졸일기, 이미다졸일기, 이소옥사졸일기, 옥사졸일기, 이소티아졸일기, 티오옥사졸일기, 피리딜기, 피리미딜기, 푸릴기, 티엔일기 또는 피롤리기이고, 특히 페닐기와 티엔일기가 바람직하다. 규정된 방향족 기들은 할로겐, C1-C4-알킬기, C1-C4-알콜시기 또는 C1-C4-할로알킬기에 의해 단일치환 내지 삼중치환될 수 있다. 예로는 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 메톡시페닐기, 에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 3,4-디클로로페닐기, 2,6-디클로로페닐기, 4-클로로페닐기, 4-브로모페닐기, 2-브로모페닐기, 3-트리플루오로메틸페닐기, 티엔-2-일기, 5-클로로티엔일기, 5-클로로티엔-2-일기, 4-브로모티엔-2-일기, 티엔-3-일기, 5-클로로티엔-3-일기, 4,5-디클로로티엔-3-일기, 5-브로모티엔-3-일기, 2,5-디클로로티엔-3-일기, 이소옥사졸리딘-5-일기, 옥사졸일기, 이소옥사졸인일기, 티아졸일기, 티아졸린일기, 티아졸리딘일기, 3-메틸이소옥사졸-5-일기, 3-메톡시메틸이소옥사졸-5-일기, 3-페닐이소옥사줄-5-일기 및 5-이소프로필-1,3,4-옥사디아졸-2-일기가 있다.
R3는 수소, R1을 위해 정의된 것과 같은 C1-C6-알킬기, 2-히드록시에틸기, 2-히도록시프로필기, 2-히드록시부틸기, 3-히드록시프로필기 또는 3-히드록시부틸기와 같은 C1-C4-히드록시알킬기, 2-메톡시에틸기, 2-에톡시에틸기, 2-메톡시프로필기 또는 3-메톡시프로필기와 같은 C1-C4-알콕시알킬기, 특히 R1의 경우에 규정된 것으로서, 방향족 기들이 할로겐, C1-C4-알킬기, C1-C4-할로알킬기 또는 니트로기에 의해 단일치환 내지 삼중치환될 수 있는 페닐기 또는 벤질기, 또는 2-메틸티오에틸기, 2-에틸티오에틸기, 2-메틸티오프로필기 또는 3-메틸티오프로필기와 같은 C1-C4-알킬티오알킬기 이다.
상기식 (Ⅰ)에서, 특히 바람직하게는 R1은 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부필기, 이소부틸기, 2차-부틸기, 3차-부틸기, n-펜틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기이고;
식에서 A가 NOR2일때, 특히 바람직하게는 R2는 에틸기, 프로필기, 알릴기, (E)-부트-2-엔-1-일기, 프로파르길기, 부트-2-인-1-일기, 2-플루오로에틸기, (E)-3-클로로프로프-2-엔-1-일기, 4-페닐부트-2-엔-1-일기, 4-(4-플루오로페닐)-1-부트-2-엔-1-일기, 4-(4-클로로페닐기)-부트-2-엔-1-일기, 4-(4-플루오로페닐기)-부트-3-엔-1-일기, 4-(4-클로로페닐)-부트-3-엔-1-일기 또는 5-클로로테닐기 이고,
식에서 A가 NR3일때, 특히 바람직하게는 R3는 수소, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 2차-부틸기, 3차-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 알릴기, 히드록시에틸기, 2-메톡시에틸기, 벤질기 또는 페닐기이다.
규정된 바람직한 치환기중에서, 하기의 기들이 매우 바람직하다 :
R1은 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기 또는 시클로프로필기, R2(A=NOR2)는 에틸기, 알릴기, (E)-부트-2-엔-1-일기, 프로파르길기, 부트-2-인-1-일기, (E)-3-클로로프로프-2-엔-1-일기, 4-(4-플루오로페닐)-부트-2-엔-1-일기, 4-(4-클로로페닐)-부트-2-엔-1-일기, 4-(4-플로오로페닐)-부트-3-엔-1-일기, 4-(4-클로로페닐)-부트-3-엔-3-일기 또는 5-클로로테닐기, 및
R3(A=NR3)는 수소, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 2차-부틸기, 이소부틸기, n-헥실기, 알릴기, 2-메톡시에틸기, 벤질기 또는 페닐기이다.
상기식(Ⅰ)의 화합물이 적합한 염은 농업적으로 유용한 염, 예컨대 알칼리 금속염, 특히 나트륨 또는 칼륨염, 알칼리토금속염, 특히 칼슘, 마그네슘 또는 바륨염 및 망간, 구리, 아연 또는 철의 염 및 암모늄, 포스포늄, 술포늄 또는 술폭소늄염, 예컨대 암모늄염, 테트라알킬암모늄염, 벤질트리알킬암모늄염, 트리알킬스포늄염 또는 트리알킬스포늄염 이다.
적합한 에스테르화 생성물의 예는 아세트산 에스테르, 프로피온산 에스테르, 벤조산 에스테르 또는 벤젠술폰산 에스테르와 같은, 저분자량 카르복실산, 예컨대 C1-C6-카르복실산 부가 에스테르이다.
A가 NOR2또는 NR3인 화합물(Ⅰ)은 기준(key) 중간물질(Ia) (A가 산소인 화합물(Ⅰ))을 통해 제조될 수 있다.
화합물(Ia)는, 본 발명에 따라, 0 내지 150℃에서 비활성 용매중에서 사용하는 프로밀-치환된 시클로헥세는 화합물(Ⅱ)와 히드록실아민-O-술폰산을 반응시킴으로써 제조된다.
1 내지 9의 pH에서, 20 내지 80℃, 특히 20 내지 40℃에서 물중에서 출발물질(Ⅱ)에 근거하여, 1 내지 100중량부의 물과 반응시키는 것이 특히 유리한 것으로 입증되었다.
반응 경로는 하기의 과정으로 나타난다.
프로밀 화합물(Ⅱ)는 EP-A-233 568호에 기재된 방법으로 얻을 수 있다.
반응은 완층액을 첨가하거나 첨가하지 않고, 균일 또는 비균일수성상에서 수행될 수 있다. 이 목적을 위해, 프르밀 화합물(Ⅱ)는 물증에서 현탁되거나 물-혼화성 유기용매, 예컨대 메탄올 또는 에탄올을 첨가함으로써 용해된다. 또한 에테르, 예컨대 디에틸 에테르 또는 테트라하드로푸란, 염화 메틸렌, 클로로포름 또는 디클로로에탄과 같은 염화탄화수소, 아세트산에틸과 같은 에스테르, 또는 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌과 같은 방향족 화합물과 같은 물-비혼화성 용매에 포르밀 화합물(Ⅱ)를 용해시킬 수 있다. 고체 형태로 또는 수용액으로서, 히드록실아민-O-술폰산은 용매와 출발물질(Ⅱ)의 혼합물에 첨가된다.
반응이 비균일 상에서 수행된다면, 상들의 충분한 혼합을 보장하는 것이 유리하다.
시아노 화합물로의 완전한 전환에 달성하기 위해, 똑같은 물량으로 반응물을 사용하는 것이 타당하다. 공정 공학에 관계하는 이유때문에, 예컨대 1 내지 100몰%의 초과량으로 히드록실-O-술폰산 또는 포르밀 화합물(Ⅱ)를 사용하는 것이 타당할 수 있다. 히드록실아민-O-술폰산은 10 내지 20몰%의 초과량으로 바람직하게 사용된다.
몇몇 경우에, 염기를 첨가함으로써 반응을 촉진시키는 것이 유용할 수 있다. 예컨대, 화합물(Ⅱ)에 근거하여, 0 내지 3 당량의 염기가 첨가될 수 있다.
적합한 염기의 예로는 KOH 또는 NaOH와 같은 알칼리 금속 수산화물, 수산화암모늄, 수산화망간 또는 수산화칼슘과 같은 알킬리 토금속 수산화물, 알킬리 금속 탄산염 및 알킬리 금속 중탄산염이 있다.
반응은 통상적인 방법에 의해 대기압, 초대기압 또는 감압하에서, 연속적 또는 회분적으로 수행될 수 있다.
시아노시클로헥세는 화합물(Ia)는 통상적인 방법으로, 예컨대 추출 또는 여과에 의해 조반응 혼합물로 부터 단리될 수 있다.
신규의 방법에 부가하여, 또한 시아노헥세는 화합물(Ia)는 화합물(Ⅱ)와 히드록실아민을 반응시킨후 물을 제거함으로써 제조될 수 있다. 또한 화합물(Ia)는 상용하는 카르복실산 또는 그 유도체 또는 상응하는 할로겐 화합물로 부터 출발하는 통상적인 방법에 의해 제조될 수 있다.(참조 : houben-weyl Vol. E5/Ⅱ, page 1318 et seq).
A가 N-OR2이고, R1과 R2가 상기 정의된 의미를 갖는 일반식(Ⅰ)의 시크로헥세는 화합물은 화합물은 화합물(Ia)로 부터 공지의 방법으로 제조될 수 있다.
이 목적을 위해, 화합물(Ia)는 염기의 존재하에서 상응하는 하기식(Ⅲ)의 히드록실아민 또는 유리하게는 이것의 암모늄염과 반응한다.
유리하게는 반응은 약 80℃이하의 적합한 온도 또는 반응 혼합물의 비등점에서 용매중의 비균일상중에서 수행된다.
적합한 염기의 예로는 알칼리금속, 또는 알칼리토금속의 탄산염, 중탄산염, 아세트산염, 수산화물 또는 산화물, 특히 수산화나트륨, 수산화칼륨, 산화 마그네슘 또는 산화 칼슘이 있다. 또한 피리딘 또는 3차 아민과 같은 유기염기가 사용될 수 있다. 염기는, 예컨대 암모늄 화합물에 근거하여, 0.5 내지 2몰의 양으로 첨가된다(참조 ; DE-A 34 33 767호).
적합한 용매의 예로는 디메틸술폭시화물, 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올과 같은 알코올, 벤젠 또는 톨루엔과 같은 방향족 탄화수소, 클로로포름 또는 디클로로에탄과 같은 염화탄화수소, 헥산 또는 시클로헥산과 같은 지방족 탄화수소, 아세트산 에틸과 같은 에스테르, 및 디옥산 또는 테트라히드로푸란과 같은 에테르가 있다.
반응은 몇시간후에 완결되고 요구하는 생성물은 예컨대 혼합물을 증발시키고, 염화메틸렌과 물 사이에서 잔류물을 분리하고 감압하에서 용매를 증류시킴으로써, 단리될 수 있다.
예컨대, 수용액의 형태로 유리 히드록실아민 염기(Ⅲ)가 사용될때, 단일상 또는 2상 반응 혼합물은 출발 물질(Ia)을 위해 사용된 용매에 의존하여 얻어진다.
이 반응을 위해 적합한 용매는, 예컨대 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 벤젠 또는 톨로엔과 같은 방향족 탄화수소, 클로로포름 또는 디클로에탄과 같은 염화탄화수소, 헥산 또는 시클로헥산과 같은 지방족 탄화수소, 아세트산 에틸과 같은 에스테르, 디옥산 또는 테트라히드로푸란과 같은 에테르, 및 아세토니트릴과 같은 니트릴이다.
A가 산소 또는 N-OR2인 화합물(Ⅰ)의 알칼리 금속염은 3-수산기 화합물을 메탄올, 에탄올, 아세톤 또는 톨루엔과 같은 유기용매 또는 수용액중에서 수산화나트륨, 수산화카륨, 알콜산나트륨 또는 알콕산 칼륨으로 처리함으로써 얻어질 수 있다.
그밖의 금속염, 예컨대 망간, 구리, 아연, 철, 칼슘, 마그네슘 및 바륨염은 통상적인 방벙으로 나트륨 염으로 부터 제조될 수 있고, 암모늄, 포스포늄, 술포늄 또는 술폭소늄 염은 암모늄 또는 포스포늄, 술포늄 또는 술폭소늄 수산화물을 사용하여 제조될 수 있다. 에스테르는 통상적인 방법에 의해 염기(예; 트리에틸아민)의 존재하에 비활성 용매중에서 상기식(Ⅰ)의 화합물을 아실염화물과 반응시킴으로써 제조될 수 있다.
A가 NR3이고 R1과 R2가 상기 정의된 의미를 갖는 일반식(Ⅰ)의 시클로헥세는 화합물은 일반식(Ia)의 화합물로 부터 공지의 방법으로 제조될 수 있다.
이 목적을 위해, 시클로헥세는 화합물은 아민 H2NR3와 반응한다. 유리하게는 반응은 약 80℃이하의 적합한 온도 또는 반응 혼합물의 비등점에서 용매중의 균일상에서 수행된다. 적합한 용매의 예로는 디메틸 술폭시화물, 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올과 같은 알콜, 벤젠 또는 톨루엔과 같은 방향족 탄화수소, 클로로포름 또는 디클로로에탄과 같은 염화탄화수소, 헥산 또는 시클로헥산과 같은 지방족 탄화수소, 아세트산 에틸과 같은 에스테르, 및 디옥산 또는 테트라히드로푸란과 같은 에테르가 있다.
반응은 몇시간후 완결되고 요구되는 생성물은 혼합물을 증발시키고, 염화메틸렌과 같은 물사이에서 잔류물을 분리하고 감압하에서 용매를 증류시킴으로써 단리될 수 있다.
다음 실시예들은 신규의 시클로헥세는 화합물(Ⅰ)의 제조방법을 설명한다.
[실시예 1.1]
3,5-디옥소-4-아세틸시클로헥산니트릴
우선 200ml의 증류수증의 19.3g(0.11mol)의 5-프로밀-2-아세틸시클로헥산-1,3-디온을 채우고, 14.7g(0.13mol)의 히드록실아민-O-술폰산을 실온에서 부가한다. 이어서 혼합물을 실온에서 17시간동안 교반한다. 침전물을 흡입여과 시킨다음, 물로 세척하고 건조시킨다. 11.5g(이론치의 61%)의 용융점이 66-69℃인 3,5-디옥소-4-아세틸시클로헥산니트릴을 수득한다.
[실시예 1.2]
3,5-디옥소-4-프로피온일시클로헥산니트릴
우선 150ml의 증류수중의 30.7g(0.16mol)의 5-포로밀-2-프로피온일시클로헥산-1,3-디온을 채우고, 21.0g(0.19mol)의 히드록실아민-O-술폰산을 실온에서 부가한다. 이어서, 실온에서 밤새 교반시킨다. 침전물을 흡입여과시킨 다음, 물로 세척하고 건조시킨다. 23.8g(이론치의 71%)의 용융점이 70-74℃인 3,5-디옥소-4-프로피온일시클로헥산니트릴을 수득한다.
[실시예 1.5]
3,5-디옥소-4-팔미토일시클로헥산니트릴
43g(0.12mol)의 5-프로밀-2-말미토일시클로헥산-1,3-디온을 150ml의 증류수에 현탁시킨다. 50m의 물에 용해시킨 15.7g(0.14mol)의 히드록실아민-O-술폰산을 부가한다. 상기 이종의 반응혼합물을 실온에서 밤새교반시킨다. 수득한 고체를 흡입여과시킨다음, 물로 세척하고 건조시킨다. 37.7g(이론치의 86%)의 용융점이 66-69℃인 3,5-디옥소-4-팔미토일시클로헥산니트릴을 분리한다.
다음표 1에서 나타난 시클로헥세톤 화합물(Ia)는 유사한 방법으로 제조할 수 있다.
[실시예 2.3]
옥심 에스테르 제조예
3.1g(0.016mol)의 3,5-디옥소-4-프로피온일시클로헥산니트릴을 50ml을 건조메탄올에 용해시키고, 잇달아 2.2g(0.018mol)의 부트-2-엔일옥시아민 염화수소 및 1.5g(0.018mol)의 증탄산나트륨을 부가한다. 이어서 반응혼합물을 실온에서 16시간동안 교반시킨다. 이것을 감압하에서 용매를 스트리핑 제거하고 잔류물을 98:2 염화메틸렌/메탄올을 사용하여 실리카렐상에서 크로마토그래피 정제시킨다. 2.2g(이론치의 52%)의 3,5-디옥소-4-[1-(부트-2-엔일옥시이미노)-프로필]-시클로헥산니트릴을 분리한다.
표2에서 나타는 화합물들(Ib)는 유사하게 제조할 수 있다.
[실시예 3.3]
1.2g(0.006mol)의 3,5-디옥소-4-프로피온일시클로헥산니트릴을 40ml의 건조테트라히드로푸란에 용해시키고, 0.4g(0.006mol0의 이소프로필아민을 부가한다. 혼합물을 실온에서 16시간동안 교반시킨다음, 용매를 감압하에서 스트링핑 제거하고 잔류물을 염화메틸렌/메탄올을 사용하여 소량의 실리카겔 상에서 흡입여과한다. 용매를 스트리핑 제거하여 1.3g(=이론치의 92%)의 3,5-디옥소-4-(1-이소프로필이미노프로필)-시클로헥산니트릴을 수득한다.
표3에 나타난 시클로헥산은 화합물(Ic)는 유사하게 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 제초성화합물(Ib), 및 성장조절제(Ia) 및 (Ic)는 예컨대, 직접 분무 가능한 용액, 분말, 현탁액(높은 - 백분율의 수성, 유성 또는 그의 현탁액을 포함), 분산액, 유탁액, 오일분산액, 페이스트, 분제, 살포제 또는 과립의 형태로 분무, 살포, 산포 또는 급수하여 사용할 수 있다. 사용형태는 전적으로 상기 제제가 사용되는 목적에 따라 좌우되지만, 가능한 한 본 발명에 따른 활성성분들의 분포가 잘 이루어져야 한다.
직접 분무되는 용액, 유탁액, 페이스트 및 오일 분산액의 제조를 위하여, 화합물(Ⅰ)이 적합하다. 비활성 첨가제의 예들은 등유, 디젤유 또는 코올-타르유와 같은 중간 내지 높은 비등점을 갖는 광물유분획 및 동.식물성유, 지방족 탄화수소, 고리형 탄화수소 및 방향족 탄화수소 예컨대, 톨루엔, 크실렌, 파라핀, 테트라히드로나프탈렌, 알킬화나프탈렌 및 이들의 유도체, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 시콜로헥산올, 시클로헥사는, 클로로벤젠, 이소포론등 그리고 N,N-디메틸포름아미도, 디메틸술폭디메틸술폭시드, N-메틸피롤리든, 물등과 같은 강한 극성 용매가 적합하다.
수성 제제는 농축 유탁액, 페이스트, 오일 분산액, 수화제 또는 수-분산과립에 물을 부가하여 제조할 수 있다. 유탁액, 페이스트 및 오일분산액을 제조하기 위하여, 그자체로서의 성분 또는 용매나 오일중에 용해된 성분을 습윤제 또는 분산매, 접착제 또는 유화제에 의해 수중에 균질화시킬 수 있다. 활성성분, 습윤제, 접착제, 유화제 또는 분산매 및 가능한 용매나 오일로부터 물로 희석하기에 적합한 농축물을 제조할 수 있다.
계면 활성제의 예로는 하기와 같은 것들이 있다 : 방향족 술폰산 예컨대, 리그닌술폰산, 페놀술폰산, 나프탈렌술폰산 및 디부틸나프탈렌술폰산의 알칼리금속염, 알칼리토금속염 및 암모늄염, 지방산의 알칼리금속염, 알칼리토금속염 및 암모늄염, 알킬 술폰산염, 알킬아릴술폰산염, 알킬황산염, 라우릴에테르황산염, 지방족 알코올황산염, 황산화 헥사데칸올염, 황산화 헵타데칸올염, 황산화 옥타데칸올염, 지방족 알코올 글리콜에테르염, 황산화 나프탈렌 및 나프탈렌 유도체의 포름알데히드와의 축합 생성물, 나프탈렌 또는 나프탈렌술폰산의 페놀 및 포름알데히드와의 축합생성물, 폴리옥시에틸렌 옥틸페놀 에테르, 에톡실화 이소옥틸페놀, 에톡실화 옥틸페놀, 에톡실화 노닐페놀, 알킬페놀 폴리글리콜 에테르, 트리부틸페닐 폴리글리콜 에테르, 알킬아릴 폴리에테르 알코올, 이소트리데실 알코올, 지방 알코올 에틸렌 산화물 축합물, 에톡실화 피마자유, 폴리옥시프로필렌, 라우릴 알코올 폴리글리골 에테르 아세탈, 솔비톨 에스테르, 리그닌-아황산염 폐기액 및 메틸 셀룰로오스.
분말, 분제 및 산포제는 활성성분을 고체 담체와 혼합하거나 분쇄하여 제조할 수 있다.
과립 예컨대 피복 과립, 함침 과립 또는 균질 과립은 활성성분을 고체 담체에 결합시켜 제조할 수 있다. 고체 담체의 예는 규산, 실리카겔, 규산염, 활석, 고령토, 아타펄거스 점토, 석회석, 석회, 백악, 보울, 황토, 점토, 백운석, 규조토와 같은 광물토류, 황산 칼슘, 황산 마그네슘, 산화 마그네슘, 분쇄 플라스틱과, 황산암모늄, 인삼 암모늄, 질산 암모늄, 요소와 같은 비료, 및 낟알분말, 나무껍질 분말, 톱밥, 견과 껍질 분말과 같은 식물성 생성물, 셀룰로오스 분말이다.
제제는 0.1 내지 95 중량% 바람직하게는 0.5 내지 90 중량%의 활성 성분을 함유한다. 활성 성분은 90 내지 100%, 및 바람직하게는 95 내지 100%의 의 순도(NMR 스펙트럼에 따름)로 사용된다.
제제예는 하기와 같다.
Ⅰ. 90 중량부의 화합물 번호 1.1을 10 중량부의 N-메틸-알파-피롤리돈과 혼합한다. 매우 미세한 방울형태의 사용에 적합한 혼합물이 수득된다.
Ⅱ. 20 중량부의 화합물 번호 1.3을, 80중량부의 크실렌, 8 내지 10몰의 산화에틸렌과 1몰의 올레산-N-모노에탄올아미드의 부가 생성물 10 중량부, 5 중량부의 도데실벤젠슬론산의 칼슘염, 및 40몰의 산화에틸렌과 1몰의 피마자유의 부가생성물 5 중량부로 이루어진 혼합물에 용해시킨다. 100,000 중량부의 물에 용액을 따르고 균일하게 분포시킴으로써, 0.02중량%의 활성성분을 함유하는 수성 분산액이 수득된다.
Ⅲ. 20 중량부의 화합물번호 1.3을, 40중량부의 시클로헥사는, 30중량부의 이소부탄올을, 7몰의 산화에틸렌과 1몰의 이소옥틸페놀로 구성된 20중량부의 부가생성물 및 40몰의 산화에틸렌과 1몰의 피마자유로 구성된 10 중량부의 부가 생성물로 이루어진 혼합물에 용해시킨다. 100,000중량부의 물에 용액을 따르고 미세하게 분포시킴으로써 0.02중량%의 활성성분을 함유하는 수성 분산액이 수득된다.
Ⅳ. 20 중량부의 화합물번호 1.5을, 25중량부의 시클로헥사는, 210내지 280℃의 비점을 갖는 65 중량부의 광물유 분획 및 40 몰의 산화 에틸렌과 1몰의 피마자유로 구성된 10중량부의 부가 생성물로 이루어진 혼합물에 용해시킨다. 100,000중량부의 물에 용액을 따르고 균일하게 분포시킴으로써, 0.02 중량%의 활성성분을 함유하는 수성 분산액이 수득된다.
Ⅴ. 20중량부의 화합물 번호 2.1을 3중량부의 디이소부틸나프탈렌-알파-술폰산을 나트륨염, 아황산염 폐기액으로 부터 수득된 17 중량부의 리그닌-술폰산의 나트륨염 및 60중량부의 분말 실리카겔과 잘혼합하고 햄머밀에서 분쇄한다. 20,000중량부의 수중에 혼합물을 균일하게 분포시킴으로써, 0.1중량%의 활성성분을 함유하는 분무액이 수득된다.
Ⅵ. 3중량부의 화합물 번호 2.2을 97 중량부의 미립고령토와 조밀하게 혼합한다. 3중량%의 활성성분을 함유하는 분제가 수득된다.
Ⅶ. 30 중량부의 화합물 번호 2.0을 9.2 중량부의 분말실리카겔과 이 실리카겔의 표면상에 분무된 8중량부의 파라핀오일로 이루어진 혼합물과 조밀하게 혼합한다. 우수한 점착성을 갖는 활성성분 제제가 수득된다.
Ⅷ. 20중량부의 화합물번호 2.12를, 도데실벤젠슬폰산의 칼슘염 2부, 지방족 알코올 폴리글리콜 에테르 8부, 페놀술폰산의 나트륨염-우레아-포름알데히드 축합체 2부 및 파라핀계 광물유 68부와 잘 혼합한다. 안정한 유성 분산액을 수득한다.
Ⅸ. 90 중량부의 화합물번호 1.3을 크실렌, 80중량부 8내지 10몰의 산화에틸렌과 1몰의 올레산-N-모노에탄올아미드의 첨가생성물 10중량부, 도데실벤젠슬폰산의 칼슘염 5 중량부 및 40몰의 산화에틸렌과 1몰의 피마자유의 첨가생성물 5중량부로 이루어진 혼합물에 용해시킨다. 상기 용액을 100,000중량부의 물에 붓고 현장에서 균일하게 교반시켜 0.2wt.%의 활성 성분을 포함하는 수성 분산액을 수득한다.
XI. 20중량부의 화합물번호 3.4를 시클로헥산은 40중량부, 이소부탄올 30중량부, 7몰의 산화에틸렌과 1몰의 이소옥틸페놀의 첨가생성물 20 중량부, 및 40몰의 산화에틸렌과 1몰의 피마자유의 첨가생성물 10중량부로 이루어진 혼합물에 용행시킨다. 용액을 100,000 중량부의 물에 붓고 현장에서 정교히 교반시켜 0.02wt.%의 활성성분을 포함하는 수성분산액을 수득한다.
XII. 20 중량부의 화합물번호 1.1을 시클로헥산은 25 중량부, 210 내지 280℃의 비점을 갖는 광물유분획 65중량부 및 40몰의 산화에틸렌과 1몰의 피마자유의 첨가생성물 10 중량부로 이루어진 혼합물에 용해시킨다. 용액을 100,000 중량부의 물에 붓고 현장에서 균일하게 교반하여 0.02wt.%의 활성성분을 포함하는 수성분산액을 수득한다.
XIII. 20 중량부의 화합물번호 1.1을 디이소부틸나프탈렌-알파-술폰산의 나트륨염 3 중량부, 아황산염 폐기액으로 부터 수득한 리그닌술폰산의 나트륨염 17 중량부 및 분말 실리카겔 60 중량부와 잘 혼합하고 햄머밑에서 분쇄한다. 상기 혼합물을 20,000 중량부의 물에 정교히 분산시켜 0.1wt.%의 활성성분을 포함하는 분무액을 수득한다.
XIV. 3 중량부의 화합물번호 1.3을 입자화된 카율린 97 중량부와 잘 혼합하여 3wt.%의 활성성분을 분무제를 수득한다.
XV. 30 중량부의 화합물번호 2.7을 분말실리카겔 92 중량부 및 이러한 실리카겔 표면에 분무된 파라핀유 8 중량부로 이루어진 혼합물과 잘 혼합한다. 좋은 접착성을 갖는 활성성분의 제제를 수득한다.
XVI. 20 중량부의 화합물번호 3.3을 도데실벤젠슬폰산의 칼슘염 2부, 지방산 알코올 폴리글리콜에테르 8부, 페놀 술폰산의 나트륨염-우레아-포름알데히드 축합생성물 2부 및 파라핀계 광물유 68부와 잘 혼합하여 안정한 유성 분산액을 수득한다.
활성성분 또는 이들을 함유하는 제초제는 발아전 또는 발아후에 사용할수 있다. 농작물이 활성 성분에 대한 내성이 적을 경우, 또는 상기 식물이 영향을 받지않고 성장을 계속할 경우 민감한 농작물의 잎은 가능한한 건드리지않고 제초제가 농작물 밑에서 자라는 잡초나 토양에 접촉하도록 하는 방법으로, 제초제를 적당한 장비로 부터 분무하는 적용 기술을 이용할 수 있다(발아 후-직접 처리, 래이-바이(lay-by)처리).
살포율은 달성 목적, 계절, 퇴치 식물 및 이들의 성장단계에 따라 좌우되며, 헥타르당 0.001 내지 3.0, 바람직하게는 0.01 내지 2kg의 활성 성분이다.
일반식(Ⅰ)의 화합물은 사실상 식물의 모든 발육단계에 여러 영향을 미칠 수 있으므로, 성정조절제로 사용된다. 성장조절제의 작용의 차이는 특히
a) 식물의 종류와 형태 ;
b) 식물의 발육단계 및 계절과 관련하여 살포하는 시간 ;
c) 살포방법 및 장소(종자처리, 토양처리 또는 잎에 살포) ;
d) 기후인자, 예로서 평균온도, 강우량, 햇빛 및 일조시간 ;
e) 토양조건(비료포함) ;
f) 활성성분의 제제;
g) 활성성분의 살포농도에 따라 좌우된다.
농업 및 원예에서 본 발명에 따르는 일반식(Ⅰ)의 성장조절제를 사용하는 여러가지 실현성증 일부를 하기에 설명하였다.
A. 생장 식물성장은 상당한 정도로 억제될 수 있으며, 이 사실은 특히 식물의 높이의 감소에서 증명된다. 또한 처리식물은 밀집습성을 가지므로; 잎의 색은 더 진하다.
실제로 장점중의 하나는 길가, 울타리, 제방 및 공원, 경기장, 과수원, 잔디밭 및 비행장과 같은 지역에서 잡초의 성장을 감소시켜, 제초에 소모되는 시간 및 경비를 절약한다는 것이다.
경제적인 면에서 그외의 특성은 곡물, 옥수수, 해바라기 및 콩과 같은 바람에 쓰러지는 경향이 있는 농작물의 밀집이 증가되는 것이다. 그러므로 줄기의 길이 감소 및 강화는 바람직하지 못한 기후조건하에서의 쓰러짐의 위험을 감소 또는 제거시킨다.
또한 성장조절제의 사용은 식물의 높이를 억제하고 목화의 경우 숙성시간을 변화시키는데에 중요하다. 따라서 이러한 주요 농작물을 완전히 기계적으로 수확하는 것이 가능하다.
성장조절제는 곁가지를 증가 또는 억제할 수도 있다. 이것은 예컨대 담배에서, 잎의 발육을 위해 곁가지의 형성(흡지)을 억제할 필요가 있을경우 유리하다.
예로 겨울평지를 성장조절제로서 처리하면 동해에 대한 내성을 상당히 증가시킬 수 있다. 반면에, 울창한(특히 서리에 민감한) 잎 또는 식물전체의 발육 및 성장은 억제되며, 반면에, 이들의 바람직한 성장조건에도 불구하고 겨울서리가 시작되기전에 생장발육단계에서 어린평지로 유지된다. 개화 및 생식단계에 들어가는 것을 억제하는 능력을 조기 소실할 경향이 있는 동해의 위험이 제거된다. 또한 다른 농작물, 예로서 겨울철 곡물들에 있어서, 만약 이 식물들이 본 발명에 따른 화합물로 처리한 결과로 가을에 싹이 잘 나오면 유리하지만, 성장이 풍성하지않고 겨울로 들어간다. 이것은 상대적으로 적은 잎 또는 식물 전체로 인한 동해 및 여러가지 질병(특히 균류)에 의한 공격에의 증간된 민감성에 대한 예방책이다. 생장발육의 억제는 많은 작물의 밀집 재배를 가능하게 하며, 이것을 농작지역에 따른 수확량의 증가를 뜻한다.
B. 신규의 약제로서 식물부 및 식물재료의 더 좋은 수확량을 얻을수도 있다. 이것은 또한 싹, 꽃, 잎, 열매, 종자, 뿌리 및 관의 형성의 증가를 촉진하고, 사탕무, 사탕수수 및 밀감의 당분함량을 증가시키고, 곡물 및 콩의 단백질 함량을 높이고, 고무나무에서 라텍스 형성의 증가를 촉진시킬 수 있다.
일반식(I)의 화합물은 식물의 신진대사의 영향을 미치거나 생장적인 및/또는 생식적인 식물발율을 억제 또는 촉진시켜 수확량을 증가시킬 수도 있다.
C. 발육단계를 줄이거나 늘이고 추수전 또는 후에 식물부에서 숙성과정을 촉진 또는 지연시키는 것은 성장조절제로서 또한 가능하다.
경제적인 관점에서의 특성은 수확의 촉진이 밀감류, 올리브나무 및 다른 종류의 이과, 핵과 비열개 과일의 가지에 붙은 줄기의 화학적, 일시적인 집중해체(절단)에 의해 가능하다는 것이다. 같은 메카니즘, 즉 열매 또는 잎과 식물의 줄기간의 분리층형성의 촉진은 목화와 같은 농작물의 잎이 떨어지는 것을 쉽게 억제하기에 필수적이다.
D. 또한, 농작물의 증산은 성장조절제를 사용하여 감소시킬 수 있다. 이것은 관개에 비용이 많이드는 농업지역, 예로서 불모지 또는 반 불모지에서의 식물의 생육에 특히 중요하다. 관개횟수는 본 발명에 따른 화합물을 사용함으로써 감소되어 비용을 낮출수 있다. 생장조절제의 사용의 결과로서,
- 기공개열의 크기가 감소되고;
- 두꺼운 표피 및 상피가 형성되고 ;
- 뿌리에 의한 토양의 침투가 향상되고 ;
- 수목의 미기상이 밀집생장에 의해 유리하게 영향을 받기때문에, 사용할 수 있는 물이 더 좋은 용도에 이용될 수 있다.
E. 일반식(I)의 성장조절체를 가지고 잡초성장을 제한할 수도 있다. 이러한 방식에서, 잡초와 작물의 경쟁을 직접적인 제초작용이 없이 감소할 수 있다. 잔디 또는 잡초를 제거하지 않는 유리한 농작물에 대한 관목의 경쟁을 상당한 정도로 감소시키는 것이 과일 및 포도에서도 가능하다. 이것은 밀폐된 토양덮개를 제공하여 토양에의 생물학적 활성 및 침식에 대한 보호작용을 더 좋게 한다.
본 발명에 따른 일반식(I)의 성장조절제는 종자(드레싱으로서)에 뿐만아니라 토양(뿌리를 통해)에 살포할 수 있고, 특히 바람직하게는 분무에 의해 잎에 살포할 수 있다.
농작물에 대한 좋은 허용성의 결과로서, 살포율은 넓은 범위내에서 다양할 수 있다.
가능한 수많은 살포방법에서, 본 발명에 따른 화합물 또는 이들을 포함하는 약제들은 잡초제거 및 식물성장 조절을 위해 많은 작물에 사용할 수 있다.
작용범위를 넓히고 상승효과를 달성하기 위해, 본 발명에 따른 화합물(I)은 상호 혼합되거나 또는 다수의 대표적인 다른 제초 활성성분이나 성장조절 활성 성분 그룹과 함께 혼합하여 사용할 수 있다. 적합한 성분의 예는 디아진, 4H-3,1-벤족사진 유도체, 벤조티아디아지논, 2,6-디니트로아닐린, N-페닐카르밤산염, 티올카르밤삼염, 할로카르복실산, 트리아진, 아미드, 요소, 디페닐 에테르, 트리아지는, 우라실, 벤조푸란 유도체, 시클로헥산-1,3-디온 유도체, 퀴놀린카르복실산, (헤테로)-아릴옥시페녹시프로피은산 유도체(염, 에스테르, 아미도) 등이다.
또한 화합물(I)은 단독으로 또는 다른 제조체와 함께, 다른 농작물보호제 예컨대 해충 또는 식물 병리학적인 균류나 박테리아 퇴지용제제와의 부가혼합물의 형태로 사용하는 것이 유용하다. 상기 화합물은 또한 영양 결핍 또는 미량 원소 결핍을 치료하는데 사용되는 무기염용액과 혼합할 수 있다. 비-식물성 오일 및 오일 농축액을 부가할 수도 있다.
또다른 성장조절제의 예들은 특정 4차 암모늄화합물, 트리아졸, 이미다졸, 노르보르나노디아제틴, 4-피리딘, 에테폰, 아브시스산 및 이들로 부터 유도된 구조의 화합물들이다.
[사용예]
본 발명에 따른 시클로헥산은 화합물(I)의 제초작용은 하기 온실실험으로 설명된다.
사용된 용기는 300cm 용적의 플라스틱 화분이고 이들을 약 3.0% 부식토를 함유하는 모래양토로 채운다. 시험 식물들의 종자를 종에 따라 분리하여 파종한다.
발아전 처리를 위해, 활성성분을 수종에 현탁 또는 유화시켜 파종 직후 미세 분배 노즐을 통해 토양의 표면에 살포한다. 약제를 살포한 후에 발아 및 성장을 유도하기 위해 화분을 가볍게 살수 관개한다. 식물이 뿌리를 내릴때 까지 투명한 플라스틱 덮개로 덮는다. 식물이 활성성분에 의해 손상되지 않는한 이 덮개는 식물의 균일한 발아를 일으키게 한다.
발아후 처리를 위해, 성장형태에 따라 식물을 3 내지 15cm 높이로 성장시키고 수중에 현탁 또는 유화된 활성 성분으로 처리한다. 발아후 처리의 살포율은 0.25㎏/ha 이다.
화분들은, 온대 종은 10∼25℃, 열대 종은 20∼35℃의 온도의 온실에 설치한다. 실험을 2 내지 4주간 진행시킨다. 이 기간동안 식물을 처리하여 여러 처리에 대한 이들의 반응을 평가한다.
평가 단위는 0 내지 100이고 100은 무발아 또는 최소한 눈에 보이는 식물부위의 완전한 파괴를 의미하며 0은 무손상 또는 정상적인 성장을 표시한다.
사용된 식물들은 아베나 파투아(Avena Fatua), 에치노클로아 크루스-갈리(Echinochloa crus-galli), 롤리움 멀티플로룸(Lolium multiflorum), 메디카고 새티바(Medicago sativa) 및 세티아 이탈리카(Setaria italica)이다.
잡초들은 0.25㎏/ha의 비율로 발아 후에 살포된 실시예 2.4의 화합물에 의해 매우잘 억제된다. 알팔파, 활엽농작물은 조금도 손상되지 않는다.
억제할 수 있는 잡초의 범위, 활성성분의 작물에의 허용성, 또는 이들의 성장에 대한 바람직한 영향의 관점 및 많은 가능한 살포법의 관점에서 일반식(I)의 시클로헥센은 유도체는 많은 작물에 사용할 수 있다. 작물의 예들은 다음과 같다:
선정화합물의 성장조절특성을 결정하기 위해, 매양매질에 충분한 영양분을 공급하고, 시험식물을 약 12.5cm의 직경 및 약 500ml의 체적을 갖는 플라스틱화분에서 성장시킨다.
발아전 처리에서, 시험재료를 파종한 날에 수성제제로서 파종상에 넣는다.
발아후 처리에서, 선정화합물을 수성제제로서 식물에 살포한다. 발견된 성장조절작용은 성장높이를 측정하는 실험에서 확인된다. 관측된 높이를 비처리 식물과 비교한다. 비교 목적을 위해 2-클로로에틸트리메틸암모늄 염화물(CCC)를 사용한다.
식물성장이 감소되고 잎의 색이 더 진해졌다. 증가된 엽록소 농도는 더 많은 수득양을 내는 더 높은 비율의 광합성을 지적한다.
개개의 자료는 다음 표에 나타내었고, 농도는 용기당 활성성분의 ㎎(a.i./vessel)로 나타내었다.
Claims (9)
- 하기 일반식(I)의 시클로헥세논 화합물과 농경상 이용할 수 있는 이들의 염 및 카르복실산, 술폰산 또는 인산 부가 에스테르화 생성물 ;상기식에서, R1은, 각각 비치환되거나 한가지 이상의 할로겐치환기에 의해 치환되는 C1-C20-알킬기, C2-C20-알켄일기, C2-C20-알긴일기 또는 C3-C6-시클로알킬기, 또는 C2-C6-알콕시알킬기, C2-C6-알킬티오알킬기, 벤질기 또는 페닐기이고, 상기의 각각의 방향족 핵은 비치환되거나 1 내지 3개의 할로겐, 시아노기, C1-C4-알킬기, C1-C4-알콕시기, C1-C4-할로알킬기 또는 니트로치환기로 치환되고; A는 산소, NOR2또는 NR3이고, 여기에서 R2는, 각각 비치환되거나 할로겐, C1-C4-알콕시기, 5개 내지 6개의 고리원자 및 질소, 산소 또는 황과 같은 1 내지 2개의 헤테로원자를 갖는 헤테로아릴기 또는 페닐기로 구성된 군으로 부터 선택된 한가지 이상의 치환기로 치환되는 C2-C4-알킬기, C3-C4-알켄일기, 또는 C3-C4-알킨일기이고, 상기의 페닐기와 헤테로아릴기는 비치환되거나 1 내지 3개의 할로겐, C2-C4-알킬기, C2-C4-알콕시기, C2-C4-할로알킬기 또는 니트로치환기로 치환되고, R3는 수소, C1-C6-알킬기, C1-C4-히드로시알킬기, C2-C4-알콕시알킬기, C2-C4-알킬티오알킬기, 페닐기 또는 벤질기이고, 여기서 페닐기와 벤질기는 비치환되거나 1 내지 3개의 할로겐, C1-C4-알킬기, C1-C4-알콕시기 또는 니트로치환기로 치환된다.
- 제1항에 있어서, R1은 메틸기, 에틸기, n-부틸기 또는 시클로프로필기이고, A는 산소 또는 NR3이고, R3은 수소, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, n-헥실기, 알릴기, 2-메톡시에틸기, 벤질기 또는 페닐기인 것을 특징으로 하는 식(I)의 시클로헥세논 화합물.
- 제1항에 있어서, R1은 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기 또는 시클로프로필기이고, A는 N-OR2이고, R2은 에틸기, 일릴기, (E)-부트-2-엔-1-일기, 프로파르길기, 부트-2-인-1-일기, (E)-3-클로로프로프-2-엔-1-일기, 4-(4-플루오로페닐)-부트-2-엔-1-일기, 4-(4-클로로로페닐)-부트-2-엔-1-일기, 4-(4-프로오로페닐)-부트-3-엔-1-일기, 4-(4-클로로로페닐)-부트-3-엔-1-일기, 또는 5-클로로로테닐기인 것을 특징으로 하는 식(I)의 시클로헥세논 화합물.
- 하기 일반식(Ia)의 시클로헥세논 화합물의 제조방법에 있어서, 0 내지 150℃에서 비활성용매중에서 하기 일반식(II)의 시클로헥세논을 히드록실아민-O-술폰산과 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(Ia)의 시클로헥세논 화합물의 제조방법 :상기식에서 R2은 상기 정의된 것과 같다.
- 제4항에 있어서, 20 내지 80℃ 및 1 내지 9의 pH에서 균일 또는 비균일 수성상에서 반응이 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- A가 NOR2인 적어도 한가지의 제1항에 따르는 식(I)의 시클로헥세논 화합물, 및 통상적인 비활성 첨가제를 함유하는 제초제.
- 식물 및/또는 잡초성장이 없이 유지되어야 하는 지역을 A가 NOR2인 제1항에 따르는 제초적으로 유효량의 식(I)의 시클로헥세논 화합물로 처리하는 잡초성장 억제방법.
- A가 산소 또는 NR3인 제1항에 따르는 식(I)의 시클로헥세논 화합물, 및 통상적인 비활성 첨가제를 함유하는 식물성장 조절제.
- A가 산소 또는 NR3인 제1항에 따르는 생물학적 조절량의 식(I)의 시클로헥세논 화합물 식물 및/또는 이들의 서식지에 작용시키는 식물성장 조절방법.
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