KR0158734B1 - 폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Description

폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법

제1도는 폴리에스테르 필름 제조공정중 본 발명의 엠보싱 처리방법을 설명하는 모식도이고,

제2도는 본 발명에 따라 한 쪽면이 엠보싱된 쉬트(A)와 필름(B)의 요철구조를 비교 설명하기 위한 모식도이다.

본 발명은 폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 필름 표면에 요철구조를 형성하여 양명의 구조가 서로 상이한 적어도 일축연신한 폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

폴리에스테르 필름중 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate: PET)이축연신필름은 물리 화확적 특성이 우수하고 기계적 강도가 높을 뿐 아니라 내구성, 내열성, 내약품성 및 전기 절연성이 우수하여, 산업용, 사진필름용, 콘덴서용, 포장용, 그랙픽아트용등 각종 성형가공용품을 비롯하여 자기기록 매체용으로 널리 사용되고 있다.

자기기록매체용으로 사용되는 폴리에스테르 필름에 있어서, 필름의 표면 조도와 권취성은 상효 밀접한 관계가 있으며, 이들의 관계는 필름의 전자특성에 상당한 영향을 미치는 요인으로 작용한다. 예를 들어 표면 조도의 조절은 중합시 폴리머의 내부에 무기물 충전제를 흔입하는 방법을 사용하고 있는데, 전자 특성을 향상시키기 위하여 표면조돌르 낮게 하면(15mm 이하)전자 특성은 우수하게 되나 하이엣지(high edge)와 같은 치명적인 불량이 나타나고, 이를 개선하기 위해 표면조도를 높게 하면(25mm 이상)슬리팅성은 개선되나 전자 측성이 나빠져서 제품으로 사용할 수 없는 문제가 있다.

이와 같은 문제를 개선하기 위하여 각종 충전제를 여러 가지로 조합하거나 투입량을 조절하는 방법이 제안된 바 있으나, 자기기록매체용으로 사용할 때 전자 특성과 주행성을 동시에 만족시키는 데에는 한계가 있었다. 예를 들어, 일본국 특허공개보 소62-502458호와 미국 특허제5,188,891호에는 공압출에 의해 양면이 서로 다른 조도를 형성하도록 2종 이상의 칩을 사용함으로써 표면구조가 서로 다른 2층의 두께를 조절하는 방법을 개시하고 있으나, 이들에 있어서는 모두 2가지 이상의 칩을 제조하고 관리 사용하는데 따르는 여러 가지 문제가 있고 공압출을 위한 공정 기술이 요구될 뿐 아니라, 박막 필름의 성형시 공정의 정도관리가 어렵고 회수된 필름의 재사용에 많은 어려움이 있다는 단점이 있다.

본 발명에서는 상기와 같은 종래기술의 문제점을 고려하여, 공압출에 의한 공정에서와 같이 복잡하고도 어려운 관리를 요하지 않으면서, 간단하고도 경제적인 단체에 의해 양면의 구조가 서로 상이한 적어도 일축배향된 폴리에스테르 필름을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 다른 목적은 상기 제조방법에 따라 제조되어 전자특성과 주행성을 동시에 만족시킴으로써, 자기기록매체로 사용하기에 특히 적합한 양면의 구조가 서로 상이한 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.

상기의 목적을 당성하기 위하여 본 발명에서는, 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 냉각를 상에서 쉬트를 형성시킨 후 예열 단계를 거쳐 연신 및 열처리하는 단계를 포함하는 적어도 일축연신된 폴리에스테르 필름의 제조방법에 있어서, 상기 단계에서 폴리에스테르 쉬트 또는 필름이 통과하는 적어도 하나의 룰상에 요철구조를 형성시킴으로써 필름의 표면을 엠보싱 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 요철구조를 형성시키는 롤은 캐스팅 드럼, 캐스팅 드럼에 인접된 터치롤, 종연신전 예롤 및 종연신후 냉각후 냉각롤 중에서 선택된 하나 이상의 롤인 것이 바람직하다.

상기의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는, 플리에스테르 필름의 일면에, 단위면적이 900 내지 52,000,000㎛²이고 요철구조면 중심선 평균조도(Ra)가 50 내지 2,000nm인 요철구조가 형성된 것을 특징으로 하는, 양면의 구조가 서로 상이한 적어도 일축연신된 폴리에스테르 필름을 제공한다.

본 발명에서는 폴리에스테르 필름의 제조공정에 있어서 적어도 1개소에 요철구조 형성을 위한 수단을 구비하여, 폴리에스테르 쉬트 및 필름의적어도 한 가지의 일면에 미세한 구조의 엠보싱 가공을 행함으로써 양면의 구조가 서로 상이한 적어도 일축 연신되 폴리에스테르 필름을 제조하고 있다. 이러한 엠보싱 가공은 폴리에스테르 쉬트 캐스팅시, 예열된 쉬트 또는 일축 연신된 필름에 대하여 엠보싱 가공된 롤로압력을 가하여 요철을 형성시키는 것에 의하여 수행될 수 있다. 본 발명에서는 닢롤을 이용한 가압 방법이나 정전인가 방법을 채택하여 폴리에스테르 필름의 제조공정중의 위치, 엡보싱 형태 및 크기, 그리고 가압조건 등을 다양하게 적용함으로써 필름 양면의 표면 구조가 상이한 폴리에스테르 필름을 제조할 수 있다는 특징이 있다.

이하 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.

본 발명에 사용하는 폴리에스테르 수지는 본 분야에서 공지된 방법에 의해, 이염기산인 디메틸 테에프탈레이트 또는 고순도 테레프탈산과 2가 알콜인 에틸렌글리콜을 중합시켜 제조한다. 즉 디베틸테레프탈레이트 또는 테레프탈산을 용융하여 에틸렌글리콜과 상압하에 가열하고 2가 금속 화합물을 촉매로 하여, 고온 고진공하에서 안티모니 계열의 금속촉매와 안정제 등 각종 첨가제를 참가하여 중합반응을 거쳐 폴리에스테르 수지를 제조한다. 이때 용도에 따라 분자량의 크기를 조절하는데 필름용 수지로는 수평균 분자량 200,000 내외의 것이 바람직하다.

상기와 같이 제조된 수지를 냉각·절단하여 펄렛이나 칩 형태로 만들어 수분0.5%이하로 건조한 후, 온도범위270~310°C인 압출기에 투입하여 용융시키고 이를 다이-슬릿(또는T-다이)을 통하여 냉각롤(60~80°C)상에서 냉각 고화시켜 쉬트를 제조한다. 이 때 다이-슬릿에서 나온 용융된 고분자의 냉각 방법으로서 냉각 드럼을 사용하며, 밀착력을 좋게 하기 위한 보조 수단으로서 정전인가법, 에어나이프법,오일패드법, 냉각수 분산법 둥 여러 가지 방법을 사용할 수 있는데, 정전인가법이 공정제어에 유리하다.

캐스팅된 쉬트를 여러개의 예열롤을 통하여 예열시킨 다음, 종연신롤의 속도 차이에 의하여 2.5~5배, 바람직하게는 3~4배 범위로 연신을 행한다. 이 때 예열을 촉진시키기 위하여 적외선 히터를 사용할 수 있는데, 바람직한 온도범위는 700~900°C이다.

종연시된 쉬트의양단부를 파지해서 90~140°C의 예열실로 이송하여 통과시킨 다음, 두께 탄성 등을 고려하여 3.0~4.0배의 범위에서 횡연신을 행하고, 150~250°C 범위에서 열처리하여 치수를 안정시킨 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조한다.

본 발명에 따라 표면이 엠보싱 처리된 필름을 제조하기 위해 사용되는 폴리에스테르 수지는, 상기와 같은 통상의 방법으로 제조한 필름의 마찰계수가 0.2~1.0, 바람직하게는 0.3~0.5의 범위에 있고, 중심선 표면조도(Ra)는 3내지 100nm, 바람직하게는 3내지 50nm이고, 필름의 두께가 5~300㎛인 것이 필름의 주행성과 전자 특성을 향상시키는데 유리하다.

본 발명에 의한 필름의 엠보싱 처리는 상기와 같은 공지의 폴리에스테르 제조공정중 캐스팅 드럼을 사용하는 경우, 캐스팅 드럼 인접부분에 터치볼을 설치하여 사용하는 경우, 예열부의 가열롤 및 인접한 닢롤을 사용하는 경우, 종연신직후의 냉각롤 및 인접한 닢롤을 사용하는 경우 등을 고려할 수 있으며, 필름의 용도에 따라 적어도 1개소의 엠보싱 가공 수단을 구비하여 행할 수 있다.

이를 도면을 참고하여 상세히 설명한다. 제 1 도는 폴리에스테르 필름 제조공정중 본 발명의 엠보싱 처리 방법을 설명하는 모식도이다. 참조번호 1은 캐스팅 드럼이고 2는 터치롤, 3은 예열롤이고 4는 냉각롤이다.

(1) 캐스팅 드럼을 사용하여 엠보싱 처이하는 경우 직경 300~2,000mm인 캐스팅 드럼 표면상에 종횡방향의 연신배율을 고려하여 엠보싱 가공을 행하고, 바람직하게는 정전인가 전압을 15kV 이하로 유지하면서 용융된 폴이머를 통상적으로 가압이송하여 쉬트의 표면상에 미세한 요철을 형성시킨다.

이 때 캐스팅 드럼 표면상의 요철의 형태는 모양, 깊이 및 크기 등을 다양하게 선택할 수 있으나, 깊이와 간격 등은 연신된 필름의 권취성과 슬리팅성에 지장을 초해하지 않도록 가공에 유의하여야 한다. 요철구조의 형태는, 예를 들어 다이아몬드형, 원추형, 구형 및 타원형등으로 하는 것이 가능하다.

편의상 요철의 단위형태를 가로(a), 세로(b) 및 깊이(h)로 정할 때, a와 b가 작으면서 h가 클수록 유리하지만 쉬트와 필름의 두께를 고려하여야 한다. 종연신·횡연신 비가 동일할 경우에는 a=b가 일반적이고, 종연신비가 클 경우에는 ab, 횡연신비가 클 경우에는ab로 설계하는 것이 요철의 단위 형태가 균형을 유지하는데 필요하다. 이와 반대로 할 경우에도 효과는 있지만 요철의 모양이 길어지게 되는 양상을 띠게 된다. 캐스팅 드럼의 표면상에 형성되어 있는 요철의 단위 형태의 크기는 a×b=200~260,000㎛²범위, a와 b의 비는 0.25~5 범위로 하는 것이 바람직하다. 또한, 캐스팅 드럼의 표면상에 형성되어 있는 요철의 깊이는 최종필음에서 권취성이 향상되면서 반대면이 변화되지 않도록 0.05~20㎛의 범위로 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 요철의 깊이에 있어서는 형태에 따라 다르지만 중심선에서 산과 높이의 평균비를 40~60% 범위로 하는 것이 바라직하다.

(2) 캐스팅 드럼 인접부분에 터치롤을 설치하여 엠보싱 처리하는 경우 캐스팅 드럼 인접부분에 엠보싱 가공된 터치롤을 설치하여 쉬트의 엠보싱 처리 수단으로 사용하는 경우로, 특히 두께가 두꺼운 쉬트의 표면에 요철을 부여하는데 적합하다. 이 경우에는 가압 보조 수단으로 정전인가 방식을 사용하지 않는 것이 일반적이나, 경우에 따라서는 적용이 가능하다. 정전인가의 사용여부에 따라 캐스팅 드럼에 인접하는 터치롤의 위치는 서로 상이할 수 있다.

터치롤의 재질은 특성을 고려하여 하드크롬 도금 등과 같은 금속재 또는 세라빅제를 사용하는 것이 바람직하고, 요철의 크기 및 형태 등은 전술한 조건들이 그대로 적용된다.

터치롤을 엠보싱 처리 수단으로 사용하는 경우에는 터치롤 내에 구비된 냉각 자켓을 사용하여 온도 제어를 캐스팅 드럼과 병행하게 되므로 냉각효과는 캐스팅 드럼을 사용하여 엠보싱 처리할 때보다 높다.

터치롤이 캐스팅 드럼 상으로 이송되는 쉬트를 가압하는 압력의 적정 범위는 5~50 kg/m2이 바람직하다. 사용되는 롤의 직경은 작을수록 유리하나 일반적으로 50~500mm범위의 것을 사용하는 것이 바람직하다.

(3)종연신전 예열롤을 엠보싱 처리수단으로 사용하는 경우 통상의 폴리에스테르 제조공정중 종연신전 예열수단으로 사용하는 금속 또는 세라믹재의 예열롤중 쉬트의 표면온도가 80~90℃ 수준이 되는 예열롤 중의 하나를 엠보싱·처리수단으로 사용하는 경우로, 이 때 쉬트의 가압수단으로는 고무로 핀복된 닢롤을 사용한다.

가압수단인 닢롤과 엠보싱 처리수단인 예열롤의 위치는서고 바꾸어 상하좌우로 다양하게 변경하여 사용할 수 있다. 닢롤의 길이는 연신 쉬트 폭보다 작게 하는 것이 바람직하며 크기와 간격은 균일한 가입이 되도록 조절한다. 닢롤에 피복된 고무는 쇼어 경도 40~80도 수준인 EDPM,실리콘, 천연고무 등을 사용하는 것이 바람직하고, 직경은 100~300mm로 하는 것이 가압의 정도가 우수하고 쉬트의 변형을 방지하는데 유리하다.

엠보싱 롤로 선택된 예열롤의 엠보싱 처리는 전술한 바와 동일하며 직경은 150~500mm 범위가 바람직하다.

(4) 종연신직후 냉각롤을 엠보싱 처리수단으로 사용하는 경우 통상의 폴리에스테르 필름의 제조공정에 있어서, 예열부를 통과한 쉬트는 종연신부에서 라디에이션 히터로 신속히 가열되어 쉬트의 표면온도가 100~140`C 범위에서 종방향으로 2.5~4.5배 연신죈 후 다시 냉각롤을 통과하게 되는데 이 냉긱롤을 엠보싱 처리수단으로 사용한 것이다.

이 경우에도 전술한 바와 같은 닢롤을 사용하는데, 이 방법에서는 쉬트의 중앙부와 두께 차이가 있는 양단부가 가압되지 않도록 홈 등을 판닢롤을 사용하는 것이 바람직하다.

여기에서는 종연신후의 쉬트에 요철을 형성시키기 때문에 ab가 되도록 하면 균형잡힌 요철의 형태를 얻을 수 있다. 요철의 깊이는 연신배율을 고려하여 0.2~10㎛ 범위로 하는 것이 바람직하다. 쉬트의 온도는 70~80°C에서 엠보싱이 되도록 조절하는 것이 바람직하고 중심선에서 산과 높이의 비율은 40~60% 범위가 바람직하다.

이상과 같은 방법중 적어도 하나의 방법을 적용하여 얻어진 엠보싱 처리된 쉬트를 통상의 방법에 의해 횡연신하여 필름을 제조한다.

제2도는 본 발명에 따라 한쪽 면이 엠보싱된 쉬트와 필름의 요철구조를 비교설명하기 위한 모식도이다. 본 발명의 방법에 따라 엠보싱 처리된 본 발명의 폴리에스테르 필름에는, 단위면적 900 내지 52,000,000㎛²이고 요철구조면 중심선 평균조도(Ra)가50 내지 2,000nm안 요철구조가 형성되는데, 바람직하게는 요철구조면 중심선 평균조도(Ra)가 5~1,000nm이고 요철의 갯수가 인치당 25~26,000 개 인 것이다. 한편, 요철구조를 형성하지 않은 이면의 동마찰계수는 0.2~1.0의 범위이고 중심선 평균조도(Ra)는 3내지 100nm인 것이 바람직하다.

이하 실시예에 의하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 단 하기의 실시예는 본 발명의 예시일 뿐 본 발명을 이로써 한정하는 것은 아니다.

본 발명의 실시예 및 비교예에서 제조된 필름 및 자기테이프의 각종 성능 평가는 다음 방법으로 실시한다.

(1)표면조도

중심선 평균조도(Ra)：비접촉식 3차원 조도계(WYKO 타입)를 사용하여 JIS B 0601에 따라 측정하였으며, 필름 샘플 표면에 광선을 쏘아 표면에서 반사되는 광선으로 측정하였다.

(2)헤이즈

ASTM D1003에 따라 측정하였다.

(3)동마찰계수

ASTM D1894에 따라 측정하였다.

(4)슬리팅성

필름을 롤상태로 절단하여 권취할 때 권취된 필름롤의 외관상태, 즉 필름의 변형정도를 표시하였다.

(5)고속복사특성

자기테이프를 복사할 때 고속복사기에서 테이프릴이 감긴 외관의 균일도를 표시하였다.

(6)전자특성

어떤 신호(S)와 잡음(N)의 비로 표시되며, 표준 테이프와 피측정 테이프와의 출력비교가 데시벨로 표시된다.

(7)엠보싱 효과

엠보싱 면의 요철 크기 · 깊이에 따라 시각적으로 나타나는 효과를 표사하였다.

[비교실시예 1]

통상의 방법에 따라, 디메틸 테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을 1：2의 당량비로 혼합하고 에스테르 교환반응 촉매를 넣어 폴이에틸렌테레프탈레이트 단량체를 제조하고, 여기에 폴리에스테르 단량체를 기준으로 무기충전제, 안티모니 계열의 금속촉매와 안정제 등 각종 첨가제를 넣고 중합반응시켜 수평균 분자량 20,000 내외의 필름용 폴이에스테르수지의 칩 A를 제조하였다.

칩 A를 다이-슬릿을 통하여 용융압출후 냉각롤 상에서 냉각고화된 쉬트를 성형하였다. 이 때, 다이-슬릿에서 나온 용융 고분자는 냉각 드럼 상에서 냉각시키는데, 5kV의 전압을 공급하여 정전인가법으로 밀착력을 좋게 가압하여 쉬트를 얻었다. 이것을 여러개의 예열롤을 통하여 예열한 후 적외선 히터로 복사열을 가하고 종연신롤의 속도차에 의해 4배 종연신한 다음 냉각롤로 종연신된 필름을 냉각하였다.

이어서 예열실을 거쳐 4배의 횡연신을 행한 후 230°C 부근에서 열처리후 공냉시켜, 두께14μm의 이축연신 폴이에스테르 필름을 얻었다 상기와 같이 제조한 폴리에스테르 필름의 물성을 측정한 것을〔표〕에 나타내었다.

폴리에스테르 필름의 일면에 자성체가 포함된 조성물을 도포, 건조하고 슬리팅 및 권취한 후 슬리팅성, 전자특성 및 고속복사특성을 평가하여〔표〕에 나타내었다.

[비교실시예 2 내지 5]

표에 기재된 것과 같은 필름 물성을 갖는 칩을 사용한 것을 제뇌하고는 비교실시예1과 동일하게 실시하였다.

[실시예 1]

캐스팅 드럼상에 면적 600μm²,깊이 3 μm의 미세한 다수의 다이아몬드형 요철을 형성한 것을 제외하고는 비교실시예1과 동일하게 실시하였다.

[실시예 2]

폴리에스테르 칩 B를 사용하고 요철의 깊이를 1μm로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.

[실시예 3]

요철의 깊이를 3μm로 한 것을 제외하고는 실시에 2와 동일하게 실시하였다.

[실시예 4]

터치롤 싱에 면적 6000μm², 깊이 3μm의 미세한 다수의 다이아몬드형 요철을 형성한 것을 제외하고는 실시예 3과 동일하게 실시하였다.

[실시예 5]

요철의 깊이를 3μm로 한 것을 제외하고는 실시예 4와 동일하게 실시하였다.

[실시예 6]

폴리에스테르 칩 C를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.

[실시예 7]

요철의 깊이를 1μm로 한 것을 제외하고는 실시예 6과 동일하게 실시하였다.

[실시예 8]

요철의 면적을 6000μm²로 한 것을 제외하고는 실시예 6과 동일하게 실시하였다.

[실시예 9]

예열롤 상에 면적 6000㎛², 깊이 5㎛의 미세한 다수의 다이아몬드형 요철을 형성하여 폴리에스테르 칩 C 를 사용한 것을 제와하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.

[실시예 10]

폴리에스테르 칩 D를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과동일하게 실시하였다.

[실시예 11]

요철의 깊이를 1㎛로 한 것을 제외하고는 실시예를 10과 동일하게 실시하였다.

[실시예 12]

요철의 면적을 6000㎛²로 한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 실시하였다.

[실시예 13]

종연신후의 냉각롤 상에 면적 200㎛², 깊이 1㎛의 미세한 다수의 다이아본드형 요철을 형성하여 폴리에스테르 칩 C를 사용한 것을 제외하고는 실시예 10과 동일하게 실시하였다.

[실시예 14]

폴리에스테르 칩 E를 사용한 것을 제외하고는 실시예 12와 동일하게 실하여, 두께 100㎛의 그래픽 아트용 이축연신 폴리에스테르 필름을 제조하였다. 이와 같이 제조한 폴리에스테르 필름을 슬리팅 및 권취한 후 슬리팅과 엠보싱 효과를 평가하였다.

[실시예 15]

터치롤상에 면적6000㎛², 깊이 5㎛의 미세한 다수의 다이아몬드형 요철을 형성한 것을 제외하고는 실시예14와 동일하게 실시하였다.

[실시예 16]

예열롤 상에 면적 6000㎛², 깊이 5㎛의 미세한 다수의 다이아몬드형 요철을 형성한 것을 제외하고는 실시예 15와 동일하게 실시하였다.

각 비교실예 및 실시예에서 제조한 폴리에스테르 필름의 물성 및 자기테이프의 자기특성은 다음 표와 같다.

표에서 보듯이, 본 발명의 방법에 따라 엠보싱 처리된 본 발명의 폴리에스테르 필름은, 자기테이프로 제조시 슬리팅성이 양호하고 전자특성이 우수하며 고속복사가 가능할 뿐 아니라, 그래픽 아트용 필름으로 제조시 슬리팅성이 양호하고 엠보싱 효과가 우수하여 다양한 용도로 적용될 수 있다는 것을 알 수 있다.

이상 살펴 본 바와 같이, 본 발명의 폴리에스테르 필름은 기록매체용으로 사용할 경우 코팅면이 평활하여 전자특성이 우수하면서도, 권취성이 향상할 경우 코팅면이 평활하여 전자특성이 우수하면서도, 권취성이 향상되고 하이엣지 등의 문제점이나 주행중 이물이 탈락되는 현상이 없는 것으로서, 특히 고밀도/고속화에 대응하기 위한 가장 적합한 필름임은 물론, 고속보사기인 스프린터나 티엠디 방식 권취기 등에서 야기되는 고질적인 문제점의 하나인 테이프의 변형 등을 제거할 수 있는 탁월한 효과가 있다.

Claims (7)

1. 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 냉각롤 상에서 쉬트를 형성시킨 후 예열 단계를 거쳐 연신 및 열처리하는 단계를 포함하는 적어도 일축연신된 폴리에스테르 필름의 제조방법에 있어서, 상기 단계에서 폴리에스테르 쉬트 또는 필름이 통과하는 적어도 하나의 롤상에 요철구조를 형성시킴으로써 필름의 표면을 엠보싱 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 적어도 일축연신된 폴리에스테르 필름의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 요철구조를 형성시키는 롤이 캐스팅 드럼, 캐스팅 드럼에 인접된 터치롤, 종연신전 예열롤 및 종연신후 냉각롤중에서 선택된하나 이상의 롤인 것을 특징으로 하는 제조방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 요철구조를 단위면적 200~260,000㎛², 좌우 직경비0.25~5, 깊이 0.05~20㎛ 그리고 중심선 요철구조 면적을 40~60%범위로 형성시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 요철구조를 형성시키는 롤이 금속 또는 세라믹 재질인 것을 특징으로 하는 제조방법.
5. 폴리에스테르 필름의 일면에, 단위면적 900 내지 52,000,000㎛²이고 요철구조면 중심선 평균조도(Ra)가 50 내지 2,000 nm 인 요철구조가 형성된 것을 특징으로 하는, 양면의 구조가 서로 상이한 적어도 일축연신된 폴리에스테르 필름.
6. 제5항에 있어서, 요철구조면 중심신 평균조도(Ra)가 5~1,000 nm 이고, 요철의 개수가 인치당 25~26,000 개인 것을 특성으로 하는 폴리에스테르 필름.
7. 제5항에 있어서, 필름의 두께가 5~300㎛이고, 요철구조를 형성하지 않은 이면의 동마찰계수는 0.2~1.0의 범위이고 중심선 평균조도(Ra)는 3 내지100 nm 인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르 필름.