KR0156824B1 - Clean booth for semiconductor process - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체소자를 제조하는 클린룸의 구조에 관한 것으로 특히 국부적인 영역의 청정을 위한 반도체소자 제조용 클린 부스의 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a structure of a clean room for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a structure of a clean booth for manufacturing a semiconductor device for cleaning of a local area.
종래의 크린부스는 천정에 설치된 필터상부의 틈새에서의 기류의 불안정과 파티클의 리크로 인한 오염으로 공정에 치명적인 영향을 주게 되는 문제점이 있었다.The conventional clean booth had a problem that the process caused a fatal effect due to contamination of the airflow in the gap between the upper filter installed in the ceiling and contamination due to particle leakage.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 크린부스의 천정에 설치되는 필터와 필터 사이의 유격 사이로 흐르는 기류를 안정화시키기 위하여 필터의 측면에 무정전 아크릴판을 부착하거나, 하단부에 이온화 장치를 설치하여 안정된 기류의 흐름을 유도함으로써 부스내 오염을 막아 공정결함을 예방하도록 한 것이다.The present invention is to overcome the above-mentioned problems, in order to stabilize the air flow between the filter and the clearance between the filter is installed on the ceiling of the clean booth to attach an uninterrupted acrylic plate on the side of the filter, or by installing an ionizer at the bottom By inducing a stable flow of air to prevent contamination in the booth to prevent process defects.
Description
제1도(a), (b)는 본 발명에 따른 크린부스의 요부구조도.1 (a), (b) is a main structure of the clean booth according to the present invention.
제2도는 본 발명 크린부스의 기류 흐름도.2 is a flow chart of the present invention clean booth.
제3도(a), (b)는 종래의 크린부스와 본 발명 크린부스의 파티클발생량을 비교한 그래프.Figure 3 (a), (b) is a graph comparing the particle generation amount of the conventional clean booth and the present clean booth.
제4도는 종래의 크린부스의 요부 구조도.4 is a main structure diagram of a conventional clean booth.
제5도는 종래 크린부스의 기류 흐름도.5 is a flow chart of a conventional clean booth.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 필터 11 : 틈새10: filter 11: gap
20 : 무정전 아크릴판 30 : 이온화 장치20: uninterruptible acrylic plate 30: ionizer
본 발명은 반도체소자 제조를 위한 제조공간에 관한 것으로 특히 국부적인 영역의 청정을 위한 반도체소자 제조를 위한 클린 부스의 구조에 대한 것이다.The present invention relates to a manufacturing space for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to a structure of a clean booth for manufacturing a semiconductor device for cleaning the local area.
일반적으로 반도체 제조의 공간으로 활용되는 청정실(Clean Room)에서 요구되는 청정도는 제품의 고집적화 및 공정에 지대한 영향을 주고 있다.In general, the cleanliness required in a clean room used as a space for semiconductor manufacturing has a great effect on the high integration and processing of products.
따라서 청정실을 제대로 관라하기 위해서는 모든 오염원이 조절 되어야 한다. 그 오염의 원인은 각기 다르며, 이를 조절하기 위해서는 특별한 과정이 필요하다.Therefore, all pollutants must be controlled in order to properly manage the clean room. The causes of the contamination are different and special procedures are needed to control them.
상기 청정실의 벽, 바닥, 천장은 모두 먼지가 없는 재료로 만들어져 부드러운 표면을 가져야 하며, 방음판은 공극이 없는 물질로 표면이 커버되야 하는 기본적인 원칙하에 준비되어야 한다.The walls, floor and ceiling of the clean room should all be made of dust-free material and have a smooth surface, and the sound insulation panel should be prepared on the basis of the basic principle that the surface should be covered with void-free material.
이러한 크린 영역을 확보하는 방법도 여러 가지 유형으로 나누어 볼 수 있다.There are various types of methods for securing such clean areas.
그 대표적인 예로 개방형(Open Bay Type), FFU, CTM형이 있으나 국부적인 영역(Area)을 청정화 시키는 방법으로 크린 벤치(Clean Bench)와 크린 부스(Clean Booth)가 널리 사용된다.Representative examples include open bay type, FFU, and CTM type, but clean bench and clean booth are widely used as a method of purifying local area.
제4도는 상술한 용도로 사용되던 종래의 크린 부스의 천정면의 구조를 나타낸 것으로, 그 내부에는 필터(1)가 설치된 구조를 가지고 있다.4 shows the structure of the ceiling surface of a conventional clean booth, which has been used for the above-mentioned uses, and has a structure in which a filter 1 is provided.
상술한 구조를 갖는 크린 부스는 내의 일부적인 기류는 외부의 공기가 천정면을 통하여 유입되어 바닥면으로 배출되는 형태를 취하고 있다.In the clean booth having the above-described structure, some air flows in the inside of the booth have a form in which external air is introduced through the ceiling surface and discharged to the floor surface.
그러나 상술한 종래의 크린부스의 천정은 필터(1)와 필터 사이의 틈새(1a)를 통해 기류의 불안정한 상태를 보이게 된다.However, the above-described ceiling of the clean booth shows an unstable state of airflow through the gap 1a between the filter 1 and the filter.
이러한 요인으로는 필터(1)와 필터면 사이로 공기가 유입될 때 상기 필터의 측면에서 정전기가 발생하여 이사이를 통과하는 기류를 당기어 와류현상을 일으키기 때문이다.This is because when air is introduced between the filter 1 and the filter surface, static electricity is generated at the side of the filter to draw airflow passing through the moving device, causing vortexing.
제5도는 이러한 와류현상으로 인한 부스내 기류의 흐름을 나타낸 것으로, 상술한 와류의 현상이 유속의 변화를 주어 전체적으로 기류의 불안정(Turbulent)현상이 나타내게 된다.FIG. 5 shows the flow of air in the booth due to the vortex phenomenon. The above vortex phenomenon causes a change in the flow velocity, thereby representing the overall turbulent phenomenon.
상술한 불안정한 기류는 작업자 또는 장비의 동작 및 외부 공기 유입으로 더욱 불안정한 기류를 형성하여 파티클증가를 더욱 가충시키는 소스(Souse)로 작용하여 부스내를 오염시키는 문제점이 있었다.The unstable air flow described above has a problem of polluting the inside of the booth by acting as a source (Souse) to further increase the particle by forming a more unstable air flow due to the operation of the operator or equipment and the inflow of external air.
특히 필터상부의 틈새에서 파티클의 리크(Leak)는 크린 부스 오염(Contamination)에 치명적인 영향을 주게 되는 문제점으로 작용하였다.Particularly, the leakage of particles in the gaps between the filters has a problem that has a fatal effect on clean booth contamination.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해소하기 위한 것으로 부스내 오염을 최소화 하여 부스의 수명을 연장하며 공정결함을 줄일수 있는 반도체소자 제조를 위한 크린부스의 구조를 제공하는데 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems and to provide a structure of a clean booth for manufacturing a semiconductor device that can minimize the contamination in the booth to extend the life of the booth and reduce process defects.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징으로는 반도체소자의 제조를 위해 제공되는 크린룸 중 크린부스의 구조에 있어서, 크린부스의 천정에 설치되는 필터와 필터 사이의 유격 사이로 흐르는 기류를 안정화 시키는 기류 안정화수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.Features of the present invention for achieving the above object in the structure of the clean booth of the clean room provided for the manufacture of a semiconductor device, stabilizing the air flow flowing between the filter and the clearance between the filter installed on the ceiling of the clean booth It comprises a means.
이를 위해서 상기 안정화수단은 상기 필터의 유격사이로 기류의 통과시 정전기가 발생하지 않도록 한다.To this end, the stabilization means prevents static electricity from occurring when the airflow passes between the clearances of the filter.
이를 위해서 상기 기류안정화수단은 필터 측면에 무정전 이크릴판을 부착한다.To this end, the airflow stabilization means attaches an uninterrupted acrylic plate to the side of the filter.
이를 위해서 상기 기류안정화수단은 필터와 필터의 사이의 끝단에 이온화장치를 설치한다.To this end, the airflow stabilization means installs an ionizer at the end between the filter and the filter.
본 발명의 또다른 특징으로는 반도체소자의 제조를 위해 제공되는 크린룸 중에서 크린부스의 구조에 있어서, 크린부스의 천정에 설치되는 필터와 필터 사이의 필터 측면에 무정전 아크릴판을 부착하고, 이 아크릴의 하단부에 이온화 장치를 설치한다.In still another aspect of the present invention, in the structure of a clean booth in a clean room provided for manufacturing a semiconductor device, an uninterruptible acrylic plate is attached to a filter side between a filter and a filter installed on the ceiling of the clean booth, Install an ionizer at the lower end.
상술한 구성으로 본 발명은 크린부스의 천정면의 필터사이에서 기류의 통과시 발생하는 정전기를 방지하여 부스내 기류의 흐름을 안정화 시키도록 한 것이다.With the above configuration, the present invention is to stabilize the flow of air in the booth by preventing the static electricity generated during the passage of air flow between the filter on the ceiling surface of the clean booth.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 작용·효과를 첨부된 도면에 따라서 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention, actions and effects will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제2도는 본 발명 실시예에 따른 크린부스의 천정면의 구조를 나타낸 것으로 필터사이의 양측면에 무정전 아크릴판을 부착하거나 이 사이의 공간에 이온화 장치(ionizer)설치하는 것중 적어도 어느 하나를 사용하여 필터의 유격사이에 기류에 의한 정전기가 발생하지 않도록한 것을 특징으로 한다.2 shows the structure of the ceiling surface of a clean booth according to an embodiment of the present invention, wherein an uninterrupted acrylic plate is attached to both sides between the filters, or an ionizer is installed in the space therebetween. It is characterized in that the static electricity caused by the air flow does not occur between the clearances.
이를 위한 본 발명의 구체적인 구성 및 동작과정을 설명한다.It describes the specific configuration and operation of the present invention for this purpose.
일반적으로 크린 부스내 천장에 설치되어있는 필터와 필터 사이의 이격거리인 틈새는 약 300 ∼ 400㎛ 이다.In general, the clearance between the filter and the filter installed in the ceiling of the clean booth is about 300 ~ 400㎛.
제1도는 본 발명은 상기 틈새(11)에 기류안정화 수단을 설치하여 부스내 불안정한 기류가 발생하지 않도록 한다.1 is provided with the airflow stabilization means in the gap 11 to prevent unstable airflow in the booth.
상기 기류안정수단으로는 기류로 인해 정전기가 발생하지 않도록 하는 무정전의 성격을 띤 것이어야 한다.The airflow stabilization means should have an uninterrupted nature to prevent static electricity from being generated by the airflow.
이를 위한 제1 실시예로 상기 기류안정화수단은 필터(10)의 마주보는 측면에 무정전 아크릴판(20)을 부착하여 사용한다.In the first embodiment for this purpose, the airflow stabilization means is used by attaching the uninterruptible acrylic plate 20 on the opposite side of the filter (10).
상기 기류안정수단의 제2 실시예로 상기 필터(10)와 필터(10) 사이의 끝단에 이온화 장치(Ionizer;30)를 설치한다.In a second embodiment of the airflow stabilization means, an ionizer 30 is installed at the end between the filter 10 and the filter 10.
상기 기류안정수단의 제3 실시예로는 상기 필터의 틈새(11)에 상기 무정전 아크릴판(20)과 상기 이온화 장치(30)를 모두 설치한다.In a third embodiment of the airflow stabilization means, both the uninterruptible acrylic plate 20 and the ionizer 30 are provided in the gap 11 of the filter.
제2도는 본 발명에 기류안정수단에 의한 크린 부스내의 기류의 형태를 나타낸 것으로, 필터(10)와 필터 사이의 유속이 비교적 완만하여 전체적으로 안정된 기류를 보이게 된다.2 shows the shape of the airflow in the clean booth by the airflow stabilization means in the present invention, and the flow rate between the filter 10 and the filter is relatively gentle, thereby showing a stable airflow as a whole.
이러한 안정된 기류의 흐름은 외부 오염된 공기의 유입 방지 및 필터의 리크를 막을 수 있어 파티클로 인한 공정결함을 최소화 시킬 수 있게 된다.This stable flow of air can prevent external contaminated air and prevent leakage of the filter, thereby minimizing process defects caused by particles.
제3도는 크린 부스에서의 파티클 발생량을 비교한 그래프로, (a)는 종래 크린부스의 실험치를 나타낸 것이고, (b)는 본 발명에 따른 크린부스의 실험치를 나타낸 것이다.3 is a graph comparing particle generation in a clean booth, (a) shows the experimental value of the conventional clean booth, and (b) shows the experimental value of the clean booth according to the present invention.
상기 실험결과에서 파악할 수 있는 바와같이 본 발명에 따른 크린 부스는 종래의 크린부스에 비해 피티클 발생량이 30,000개 수준에서 약 300개 수준으로 현저하게 감소되었음을 확인할 수 있다.As can be seen from the experimental results, the clean booth according to the present invention can be confirmed that the amount of pickle generated from the level of about 30,000 to about 300 is significantly reduced compared to the conventional clean booth.
즉 본 발명은 종래의 기류불안정한 현상을 층류(Laminar)를 조정함과 이울러 파티클을 효과적으로 처리함으로써 크린부스의 수명연장 및 파티클로 인한 런(Run)피해를 최소화하고, 안정된 기류의 흐름을 유도함으로써 부스내 오염을 막아 공정결함을 예방함으로서 제품의 품질과 생산성을 향상시킬수 있는 이점이 있다.That is, according to the present invention, by controlling the laminar flow (Laminar) in the conventional air flow unstable phenomenon, by effectively treating the particles to minimize the life extension of the clean boot and run damage due to the particles, and by inducing a stable air flow Preventing process defects by preventing contamination in the booth has the advantage of improving product quality and productivity.
Claims (5)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR1019950043923A KR0156824B1 (en) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Clean booth for semiconductor process |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950043923A KR0156824B1 (en) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Clean booth for semiconductor process |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970030431A KR970030431A (en) | 1997-06-26 |
| KR0156824B1 true KR0156824B1 (en) | 1998-12-01 |
Family
ID=19435854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950043923A KR0156824B1 (en) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | Clean booth for semiconductor process |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| KR (1) | KR0156824B1 (en) |
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1995
- 1995-11-27 KR KR1019950043923A patent/KR0156824B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| KR970030431A (en) | 1997-06-26 |
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