KR0154926B1 - Air-gap forming method of optical-path control apparatus - Google Patents

Air-gap forming method of optical-path control apparatus

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KR0154926B1 KR1019950010581A KR19950010581A KR0154926B1 KR 0154926 B1 KR0154926 B1 KR 0154926B1 KR 1019950010581 A KR1019950010581 A KR 1019950010581A KR 19950010581 A KR19950010581 A KR 19950010581A KR 0154926 B1 KR0154926 B1 KR 0154926B1
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Abstract

본 발명은 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 관한 것으로서, 광로 조절 장치의 제조공정시 액츄에이터들을 한정하도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 건조방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치의 희생막의 소정 부분을 1차 제거하는 단계와, 상기 희생막 1차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 광로 조절 장치를 회전 건조한 후에 상기 1차 제거후 남아있는 희생막을 2차 제거하는 단계와, 상기 희생막을 2차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전 건조하여 상기 희생막 2차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 회전 건조한 후에 보호막을 제거하는 단계를 구비한다. 따라서, 본 발명은 희생막을 제거할 때 물이 생성되어 수막현상이 발생되는 것을 방지하므로서 식각율을 향상시켜 불량율을 최소화할 수 있다.The present invention relates to a method of forming an air gap of an optical path control device, and to a method of drying an optical path control device that is patterned, washed, and dried to define actuators in a manufacturing process of the optical path control device. Removing the portion first, removing the water and the etching solution generated during the first removal of the sacrificial film, and secondly removing the remaining sacrificial film after the first removal after the optical path control device is rotated to dry. And removing the sacrificial film secondly, and then rotating the optical path control device to remove water and the etching solution generated during the second removal of the sacrificial film, and removing the protective film after the rotation drying. Therefore, in the present invention, water is generated when the sacrificial film is removed, thereby preventing the occurrence of the water film phenomenon, thereby improving the etching rate, thereby minimizing the defective rate.

Description

광로 조절 장치의 에어갭 형성방법Air gap formation method of optical path control device

제1도는 종래 광로 조절 장치의 에어갭을 형성하기 위해 사용되는 건조장치의 개략도.1 is a schematic view of a drying apparatus used to form an air gap of a conventional optical path control apparatus.

제2도는 종래 기술에 따른 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법의 순서도.2 is a flow chart of the air gap forming method of the optical path control apparatus according to the prior art.

제3도는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법을 나타낸 순서도.3 is a flow chart showing a method of forming an air gap of the optical path control apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10 : 광로 조절 장치 11 : 액츄에이터10: optical path control device 11: actuator

13 : 보호막 15 : 구동기판13: protective film 15: driving substrate

17 : 회전건조대17: rotary drying rack

본 발명은 투사형표시기에 이용되는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 관한 것으로서, 특히, 희생막을 제거한 후 세척(rinse) 공정에서 에어갭(air gap)에 존재하여 스티킹(sticking)을 유발하는 식각잔유물(residue)을 용이하게 제거할 수 있는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air gap forming method of an optical path control device used for a projection display. In particular, the present invention relates to an etching method that causes sticking by being present in an air gap in a rinse process after removing a sacrificial film. The present invention relates to an air gap forming method of an optical path control apparatus that can easily remove residues.

화상 표시장치는 표시방법에 따라, 직시형 화상 표시장치와 투사형 화상 표시장치로 구분된다.An image display apparatus is classified into a direct view type image display apparatus and a projection type image display apparatus according to a display method.

직시형 화상 표시장치는 CRT(Cathode Ray Tube)등이 있는데, 이러한 CRT 화상 표시장치는 화질은 좋으나 화면이 커짐에 따라 중량 및 두께의 증대와, 가격이 비싸지는 등의 문제점이 있어 대화면을 구비하는데 한계가 있다.The direct view type image display device includes a CRT (Cathode Ray Tube). The CRT image display device has a good image quality but has a problem such as an increase in weight and thickness as the screen is enlarged, and a price is expensive. There is.

투사형 화상 표시장치는 대화면 액정표시장치(Liquid Crystal Display : 이하 `LCD'라 칭함) 등이 있는데, 이러한 대화면 LCD의 박형화가 가능하여 중량을 작게 할 수 있다. 그러나, 이러한 LCD는 편광판에 의한 광의 손실이 크고 LCD를 구동하기 위한 박막트랜지스터가 화소 마다 형성되어 있어 개구율(광의 투과면적)을 높이는데 한계가 있으므로광의 효율이 매우 낮다.Projection type image display apparatuses include a large crystal display (Liquid Crystal Display: hereinafter referred to as 'LCD') and the like, and such a large-screen LCD can be thinned to reduce the weight. However, such LCDs have a high loss of light due to a polarizing plate, and thin film transistors for driving the LCD are formed for each pixel, which limits the increase of the aperture ratio (light transmission area).

따라서, 미합중국 Aura사에 의해 액츄에이티드 미러 어레이(Actuated Mirror Arrays : 이하 `AMA'라 칭함)를 이용한 투사형 화상 표시장치가 개발되었다. AMA를 이용한 투사형 화상표시장치는 광원에서 발광된 백색광을 적색, 녹색 및 청색의 광으로 분리한 후, 이 광을 액츄에이터들로 이루어진 광로 조절 장치의 구동에 의해 광로를 변경시킨다. 즉, 액체에이터들에 실장되어 이 액츄에이터들이 개별적으로 구동되는 것에 의해 기울어지는 거울들에 각각 반사시켜 광로(light path)를 변경시키는 것에 의해 광의 양을 조절하여 화면으로 투사시킨다. 그러므로, 화면에 화상이 나타나게된다. 상기에서, 액츄에이터는 압전 또는 전왜세라믹으로 이루어진 변형부가 인가되는 전압에 의해 전계가 발생되어 변형되는 것을 이용하여 거울을 기울게 한다. AMA는 구동방식에 따라 1차원 AMA와 2차원 AMA로 구별된다. 1차원 AMA는 거울들이 M×1 어레이로 배열되고, 2차원 AMA는 거울 들이 M×N 어레이로 배열되고 있다. 따라서, 1차원 AMA를 이용한 투사형 화상표시장치는 주사거울을 이용하여 M×1개 광속들을 선주사시키고, 2차원 AMA를 이용하는 투사형 화상표시장치는 M×N개의 광속들을 투사시켜 화상을 나타내게 된다.Therefore, a projection type image display device using Actuated Mirror Arrays (hereinafter referred to as 'AMA') has been developed by Aura, USA. A projection image display apparatus using AMA separates white light emitted from a light source into red, green, and blue light, and then changes the light path by driving an optical path adjusting device made of actuators. That is, the actuators are mounted on liquid actuators and reflected on mirrors that are inclined by being individually driven to adjust the amount of light to project onto the screen by changing the light path. Therefore, an image appears on the screen. In the above, the actuator tilts the mirror by using an electric field generated and deformed by a voltage to which a deformable part made of piezoelectric or electrostrictive ceramic is applied. AMA is classified into one-dimensional AMA and two-dimensional AMA according to the driving method. The one-dimensional AMA has mirrors arranged in an M × 1 array, and the two-dimensional AMA has mirrors arranged in an M × N array. Therefore, the projection type image display apparatus using the one-dimensional AMA pre-scans the M × 1 beams using the scanning mirror, and the projection type image display apparatus using the two-dimensional AMA projects the M × N luminous fluxes to display an image.

또한, 액츄에이터는 변형부의 형태에 따라 벌크형(bulk type)과 박막형(thin film type)으로 구분된다. 상기 벌크형은 다층 세라믹을 얇게 잘라 내부에 금속전극이 형성된 세라믹웨이퍼(ceramicwafer)를 구동기판에 실장한 후 쏘잉(sawing)등으로 가공하고 거울을 실장한다. 그러나, 벌크형 액츄에이터는 액츄에이터들을 쏘잉에 의해 분리하여야 하므로 긴 공정시간이 필요하며, 또한, 변형부의 응답 속도가 느린 문제점이 있었다. 따라서, 반도체 공정을 이용하여 제조할 수 있는 박막형의 액츄에이터가 개발되었다.In addition, the actuator is classified into a bulk type and a thin film type according to the shape of the deformable portion. The bulk type thinly cuts a multilayer ceramic, mounts a ceramic wafer having a metal electrode therein on a driving substrate, processes it by sawing, and mounts a mirror. However, bulk actuators require a long process time because the actuators must be separated by sawing, and there is a problem that the response speed of the deformation part is slow. Therefore, a thin-film actuator that can be manufactured using a semiconductor process has been developed.

제1도는 종래 광로 조절 장치의 에어갭을 형성하기 위해 사용되는 건조장치에 대한 개략도이고, 제2도는 종래 기수렝 따른 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법의 순서도이다.1 is a schematic diagram of a drying apparatus used to form an air gap of a conventional optical path control device, and FIG. 2 is a flowchart of a method of forming an air gap of an optical path control device according to a conventional radix.

광로 조절 장치(10)는 트랜지스터들(도시되지 않음)이 매트릭스 형태로 내장된 구동기판(15)위에 이 트랜지스터들과 동일한 개수의 액츄에이터(11)들이 형성된다. 이 액츄에이터(11)들은 통상의 액츄에이터들과 동일하게 박막으로 이루어진다. 광로 조절 장치(10)는 구동기판(15)의 상부에 다수의 층들이 적층되고 패터닝(patterning) 되어 이웃하는 액츄에이터들과 분리되도록 한정된다. 보호막(13)은 액츄에이터(11)들의 상부와 액츄에이터(11)들의 분리에 의한 측면들을 포터레지스트(photoresist)로 형성된다.In the optical path control device 10, the same number of actuators 11 as those transistors are formed on a driving substrate 15 having transistors (not shown) embedded in a matrix. These actuators 11 are made of a thin film in the same manner as conventional actuators. The optical path control device 10 is defined such that a plurality of layers are stacked and patterned on top of the driving substrate 15 to be separated from neighboring actuators. The passivation layer 13 is formed of photoresist on the upper sides of the actuators 11 and the side surfaces of the actuators 11 by the separation of the actuators 11.

상기와 같은 구조를 갖는 광로 조절 장치(10)에 있어서 액츄에이터들을 패터닝하여 한정한 후 희생막(도시되지 않음)을 불산(HF)용액 등의 식각용액으로 제거한다. 이와같이 희생막이 제거된 후 탈이온수(deionized water)를 사용하여 희생막을 제거할 때 사용된 불산 등의 식각용액을 세척하였다(단계 100).In the optical path control device 10 having the above structure, the actuators are patterned and limited, and then the sacrificial film (not shown) is removed with an etching solution such as hydrofluoric acid (HF) solution. As such, after the sacrificial layer was removed, an etching solution such as hydrofluoric acid was used to remove the sacrificial layer using deionized water (step 100).

단계 100에서 공로 조절 장치(10)가 탈이온수로 세척된 후 광로조절 장치(10)를 건조하기 위하여 회전 건조대(18)의 상부에 고정시킨 후 고속으로 회전시켜 건조한다. 이때, 회전 건조대(17)를 사용하여 광로 조절 장치(10)를 건조하면 희생막을 제거할 때 사용되었던 불산용액이 고속 회전으로 인하여 제거된다. 이때, 보호막(13)은 불산 등의 식각용액에 의해 액츄에이터(10)의 상부와 분리에 의한 액츄에이터(11)들의 측면들이 손상되는 것을 보호하고 고속회전으로 인한 액츄에이터(11)들이 부러지는 것을 방지한다(단계 105).In step 100, the air conditioner 10 is washed with deionized water, and then fixed to the top of the rotary dryer 18 to dry the optical path control device 10, and then dried at high speed. At this time, when the optical path control apparatus 10 is dried using the rotary drying rack 17, the hydrofluoric acid solution used to remove the sacrificial film is removed due to the high speed rotation. At this time, the protective film 13 protects the side surfaces of the actuators 11 from being separated from the upper portion of the actuator 10 by an etching solution such as hydrofluoric acid, and prevents the actuators 11 from being broken due to high speed rotation. (Step 105).

그 다음, 단계 105에서 광로 조절 장치(11)가 회전건조된 후 포터레지스터로 이루어진 보호막(13)을 산소(O2) 플라즈마(plasma)에 의한 건조방법으로 제거된다(단계 110).Next, after the optical path control apparatus 11 is rotated and dried in step 105, the protective film 13 made of a port register is removed by a drying method by an oxygen (O 2 ) plasma (step 110).

상술한 바와 같이, 종래 기술에 따른 광로 조절 장치의 건조방법은 포토레지스트로 보호막을 액츄에이터의 상부와 분리에 의한 액츄에이터의 측면에 형성한 후 불산 등의 식각용액으로 희생막을 제거하여 탈이온수로 세척하였다. 그리고, 탈이온수로 세척된 광로 조절 장치를 회전건조한 후 보호막을 산소 플라즈마에 의한 건조방법으로 제거하였다.As described above, in the method of drying the optical path control apparatus according to the prior art, a protective film is formed on the side of the actuator by separating the upper part of the actuator from the upper part of the actuator, and then the sacrificial film is removed by etching solution such as hydrofluoric acid and washed with deionized water. . Then, after rotating the optical path control apparatus washed with deionized water, the protective film was removed by a drying method by oxygen plasma.

그러나, 상술한 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에서 희생막이 하기 식(1)에 의해 제거된다. 하기 식(1)과 같이, 희생막이 제거될 때 물이 발생하여 에어갭의 주변에 수막(WATER FENCE)이 생성되어 희생막의 식각율이 저하되는 문제점이 발생하였다.However, in the above-described air gap forming method of the optical path adjusting device, the sacrificial film is removed by the following equation (1). As shown in Equation (1), when the sacrificial film is removed, water is generated to generate a water film around the air gap, thereby causing a problem that the etching rate of the sacrificial film is lowered.

따라서, 본 발명의 목적은 희생막을 제거하고 세척공정을 한 후 실시되는 건조공정에서 희생막 제거시 발생되는 물을 제거하여 식각율의 저하를 방지할 수 있는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for forming an air gap of the optical path control device that can prevent the lowering of the etch rate by removing the water generated when the sacrificial film is removed in the drying process performed after removing the sacrificial film and the washing process. Is in.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 광조 조절 장치의 에어갭 형성방법은 광로 조절 장치의 제조공정시 액츄에이터들을 한정하도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 건조방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치의 희생막의 소정 부분을 1차 제거하는 단계와, 상기 희생막을 1차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전건조하여 상기 희생막 1차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 광로 조절 장치를 회전 건조한 후에 상기 1차 제거후 남아있는 희생막을 2차 제거하는 단계와, 상기 희생막을 2차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전 건조하여 상기 희생막 2차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전 건조하여 상기 희생막 2차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 회전 건조한 후에 보호막을 제거하는 단계를 구비한다.Air gap forming method of the light adjustment device according to the present invention for achieving the above object is a drying method of the optical path control device for patterning, washing and drying to limit the actuators in the manufacturing process of the optical path control device, the optical path control device First removing a portion of the sacrificial layer of the sacrificial layer, and first removing the sacrificial layer and rotating the optical path control device to remove water and an etching solution generated during the first removal of the sacrificial layer, and the optical path adjusting device Removing the sacrificial film remaining after the primary removal after the second drying; and removing the sacrificial film secondly after removing the sacrificial film secondly, removing the sacrificial film secondly, and rotating the optical path adjusting device to rotate the sacrificial film. Removing the water and the etching solution generated during the second removal of the membrane, and removing the protective film after the rotation drying. The.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제3도는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법을 나타낸 순서도이다.3 is a flowchart illustrating a method of forming an air gap in the optical path control apparatus according to the present invention.

상기 제1도와 같은 구조를 갖는 광로 조절 장치(10)에 있어서 액츄에이터들을 패터닝하여 한정한 후 희생막(도시되지 않음)의 소정 부분, 예를 들면, 액츄에이터의 중심부분을 불산(HF)용액 등의 식각용액으로 1차 제거한다. 이와같이 희생막이 1차 제거된 후 탈이온수(deionized water)를 사용하여 희생막을 1차 제거할 때 사용된 불산 등의 식각용액을 세척하였다(단계 200).In the optical path control device 10 having the structure as shown in FIG. 1, the actuators are patterned and limited, and then a predetermined portion of the sacrificial film (not shown), for example, a central portion of the actuator may be replaced with a hydrofluoric acid (HF) solution. First remove with etching solution. As such, after the sacrificial layer was first removed, an etching solution such as hydrofluoric acid, which was used to first remove the sacrificial layer using deionized water, was washed (step 200).

단계 200에서 광로 조절 장치(10)가 탈이온수로 세척된 후 광로 조절 장치(10)와 희생막을 1차 제거하는 공정에서 생성된 물을 건조하기 위하여 회전 건조대(17)의 상부에 고정시킨 후 고속으로 회전시켜 건조한다. 이때, 보호막(13)은 불산 등의 식각용액에 의해 액츄에이터(10)의 상부와 분리에 의한 액츄에이터(11)들의 측면들이 손상되는 것을 보호하고 고속회전으로 인한 액츄에이터(11)들이 부러지는 것을 방지한다(단계 205).In step 200, the optical path control device 10 is washed with deionized water, and then fixed to the top of the rotary drying table 17 to dry the water generated in the process of first removing the optical path control device 10 and the sacrificial film, and then Rotate to dry. At this time, the protective film 13 protects the side surfaces of the actuators 11 from being separated from the upper portion of the actuator 10 by an etching solution such as hydrofluoric acid, and prevents the actuators 11 from being broken due to high speed rotation. (Step 205).

이어, 단계 205에서 광로 조절 장치(10)이 회전건조된 후 불산(HF)용액 등의 식각용액으로 희생막이 1차 제거되고 남은 희생막(도시되지 않음)을 단계 200과 동일한 방법으로 2차 제거한다. 이와같이 희생막이 2차 제거된 후 탈이온수(deionized water)를 사용하여 희생막을 2차 제거할 때 사용된 불산 등의 식각용액을 세척하였다(단계 210).Subsequently, after the optical path control apparatus 10 is rotated and dried in step 205, the sacrificial film is first removed with an etching solution such as hydrofluoric acid (HF) solution, and the remaining sacrificial film (not shown) is secondly removed in the same manner as in step 200. do. As such, after the sacrificial film was removed secondly, an etching solution such as hydrofluoric acid, which was used when the sacrificial film was secondly removed using deionized water, was washed (step 210).

단계 210에서 광로 조절 장치(10)가 탈이온수로 세척된 후 단계 205와 동일한 방법으로 광로 조절 장치(10)와 희생막을 2차 제거하는 공정에서 생성된 물을 건조하기 위하여 회전 건조대(17)의 상부에 고정시킨 후 고속으로 회전시켜 건조한다. 이때, 보호막(13)은 불산 등의 식각용액에 의해 액츄에이터(10)의 상부와 분리에 의한 액츄에이터(11)들의 측면들이 손상되는 것을 보호하고 고속회전으로 인한 액츄에이터(11)들이 부러지는 것을 방지한다(단계 215).In step 210, the optical path control apparatus 10 is washed with deionized water, and then, in the same manner as in step 205, in order to dry the water generated in the process of secondaryly removing the optical path control apparatus 10 and the sacrificial film, After fixing to the top, it is rotated at high speed and dried. At this time, the protective film 13 protects the side surfaces of the actuators 11 from being separated from the upper portion of the actuator 10 by an etching solution such as hydrofluoric acid, and prevents the actuators 11 from being broken due to high speed rotation. (Step 215).

그 다음, 단계 215에서 광로 조절 장치(11)가 회전건조된 후 포터레지스터로 이루어진 보호막(13)을 산소(O2) 플라즈마(plasma)에 의한 건조방법으로 제거된다(단계 220).Then, in step 215, after the optical path control apparatus 11 is rotated to dry, the protective film 13 made of a port register is removed by a drying method by an oxygen (O 2 ) plasma (step 220).

상술한 바와 같이, 본 발명은 포토레지스트로 보호막을 액츄에이터의 상부와 분리에 의한액츄에이터의 측면에 형성한 후 불산 등의 식각용액으로 희생막을 1차 제거하여 탈이온수로 세척한다. 그리고, 탈이온수로 세척된 광로 조절 장치를 회전건조하여 희생막을 1차 제거하는 공정에서 생성된 물과 식각용액을 제거한다. 그리고, 광조 조절 장치가 회전건조된 후 재차 불산 등의 식각용액으로 희생막이 1차 제거되고 남은 희생막을 2차 제거하여 탈이온수로 세척한다. 그리고, 탈이온수로 세척된 광로 조절 장치를 회전건조하여 희생막을 2차 제거하는 공정에서 생성된 물과 식각용액을 제거한 후 보호막을 산소 플라즈마로 제거한다.As described above, the present invention forms a protective film with a photoresist on the side of the actuator by separation from the upper portion of the actuator, and then first removes the sacrificial film with an etching solution such as hydrofluoric acid and washes with deionized water. Then, by rotating the optical path control device washed with deionized water to remove the water and the etching solution generated in the first step of removing the sacrificial film. Then, after the light adjustment device is rotated and dried again, the sacrificial film is first removed with an etching solution such as hydrofluoric acid, and the remaining sacrificial film is secondly removed and washed with deionized water. In addition, after removing the water and the etching solution generated in the process of secondaryly removing the sacrificial film by rotating drying the optical path control device washed with deionized water, the protective film is removed by oxygen plasma.

따라서, 본 발명은 희생막을 제거할 때 물이 생성되어 수막현상이 발생되는 것을 방지하므로서 식각율을 향상시켜 불량율을 최소화할 수 있는 잇점이 있다.Therefore, the present invention has the advantage of minimizing the defective rate by improving the etching rate while preventing the water film is generated when the sacrificial film is removed.

Claims (4)

광로 조절 장치(10)의 제조공정시 액츄에이터(11)들을 한정하도를 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치(10)의 희생막의 소정 부분을 1차 제거하는 단계(200)와, 상기 희생막을 1차 제거한 후 광로 조절 장치(10)를 회전 건조하여 상기 희생막 1차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계(205)와, 상기 광로 조절 장치(10)를 회전 건조한 후에 상기 1차 제거후 남아있는 희생막을 2차 제거하는 단계(21)와, 상기 희생막을 2차 제거한 후 광로 조절 장치(10)를 회전 건조하여 상기 희생막 2차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계(215)와, 상기 회전 건조한 후에 보호막(13)을 제거하는 단계(220)를 구비하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법.In the air gap forming method of the optical path control apparatus for patterning, cleaning and drying the actuators 11 in the manufacturing process of the optical path control device 10, a predetermined portion of the sacrificial film of the optical path control device 10 is 1 And removing the sacrificial layer (200), and removing the water and the etching solution generated during the first removal of the sacrificial layer by rotating and drying the optical path control apparatus (10) after the first removal of the sacrificial layer (205), and the optical path The second step of removing the sacrificial film remaining after the first removal after the rotary drying of the control device 10 (21), and after the second removal of the sacrificial film, the optical path control device 10 is rotated to dry the second sacrificial film Removing the water and the etching solution generated during the removal (215); and removing the protective layer (13) after the rotation drying. 제1항에 있어서, 상기 희생막을 불산용액으로 1차 및 2차 제거한 후 광로 조절 장치(10)를 탈이온수(deionized water)로 세척하는 것을 더 구비하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법.The method of claim 1, further comprising washing the optical path adjusting device (10) with deionized water after first and second removal of the sacrificial film with a hydrofluoric acid solution. 제1항에 있어서, 상기 보호막(13)이 포토레지스터인 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법.The method of claim 1, wherein the protective film (13) is a photoresist. 제3항에 있어서, 상기 보호막(13)을 산소(O2) 플라즈마(plasma)로 제거하는 광조 조절 장치의 에어갭 형성방법.4. An air gap forming method according to claim 3, wherein said protective film (13) is removed with an oxygen (O 2 ) plasma.
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