KR0144235B1 - 반응이물질을 연속분리 가능한 화성처리조 - Google Patents

반응이물질을 연속분리 가능한 화성처리조

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Abstract

본 발명은 화성처리조에 수용되는 화학약품을 열교환기로 가열할 경우 균일한 온도를 유지할 수 있으며 침적화성처리시 급격히 발생하는 응집물 화성스러지 등을 연속적으로 배출할 수 있는 처리조에 관한 것으로써 처리조의 일측벽을 낮게 형성하며, 상기 낮은벽에 연이어 분리조를 형성하고 상기 분리조의 상단으로부터 처리조의 중간부를 파이프로 연결하되 상기 파이프 중간에 펌프와 밸브를 설치하여 분리조로부터 처리조로 화학약품을 순환시키도록 함과 동시에 분리조의 하부와 처리조의 하부를 연결하는 관에 필터와 펌프를 설치하여 처리조로부터 분리조로 화학약품을 순환시키도록 분리조 내부에 가열용 열교환기를 투입 구성하여 처리약품을 승온시킬수 있도록 하고 분리조 내에서 생성된 슬러지를 필터를 통하여 완전히 정화된 약품이 처리조내로 유입 순환되도록 함을 특징으로 하는 반응 이물질을 연속분리 가능한 화성처리조.

Description

반응 이물질을 연속분리 가능한 화상처리조
제1도는 본 발명의 개략도
본 발명은 화상처리조에 관한 것으로써 특히 처리조에 수용되는 화학약품을 열교환기로 가열할 경우 균일한 온도를 유지할 수 있으며 침적화성처리시 급격히 발생하는 응집물, 화상스러지 등을 연속적으로 배출할 수 있는 처리조에 관한 것이다.
종래 사용되어진 화상처리조는 금속 표면의 탈지 또는 피막을 입히는 처리 공정에 사용되는 것으로써 처리조와 보조 탱크를 별도로 설치하고 처리조에서 생성되는 부유물은 표면에서 걷어내거나 별개의 펌프로써 흡입하여 보조 탱크로 이송하는 방법을 사용하였다.
또한 처리조에서 처리하여야 할 제품이 상온보다 높거나 낮은 온도에서 처리하여야 할 경우 처리조의 외벽 또는 내부에 열교환기를 설치하여 처리조 내의 온도를 조절하였다.
그러나 이와 같은 장치는 온도를 조절하기 위하여 처리조 외부의 열교환기를 부착 구성시에는 열교환기의 열이 처리조를 통해 전도되어 화학약품에 전달되므로 열효율이 낮을뿐 아니라 정확한 온도 제어가 어려우며 문제점을 갖게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 안출한 것으로써 화성처리시 스러지등의 불순물을 연속 배출하여 화성처리되는 제품의 신뢰성을 향상시킬수 있도록 함에 본 발명의 목적이 있다.
본 발명의 또다른 목적은 열교환기를 화학약품에 직접적으로 열교환한 후 순환시키므로써 열손실을 억제하여 열효율을 높일수 있도록 함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 처리조의 일측벽을 낮게 형성하며, 상기 낮은벽에 연이어 분리조를 형성하고 상기 분리조의 상단으로부터 처리조의 중간부를 파이프로 연결하되 상기 파이프 중간에 펌프와 밸브를 설치하여 분리조로부터 처리조로 화학약품을 순환시키도록 함과 동시에 분리조의 하부와 처리조의 하부를 연결하는 관에 필터와 펌프를 설치하여 처리조로부터 분리조로 화학약품을 순환시키도록 분리조 내부에 가열용 열교환기를 투입 구성하여 처리약품을 승온시킬수 있도록 하고 분리조 내에서 생성된 슬러지를 필터를 통하여 완전히 정화된 약품이 처리조내로 유입 순환되도록 함을 특징으로 한다.
이하 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
우선 제1도를 참조하여 본 발명의 구성을 설명하면 처리조(10)의 일측벽(11)을 낮게 형성하고 상기 낮은벽(11)에 연이어 분리조(15)를 형성하며 상기 분리조(15)의 상부의 송출관(21)은 펌프(25)를 통해 처리조(10)의 중간의 인입관(22)으로 연결되며 처리조(10) 하부의 배출관(26)은 필터(27)와 펌프(28)를 거쳐 분리조의 하부로 배관됨과 동시에 분리조(15)에는 열교환기(40)가 설치된다.
이와 같이 구성되는 본 발명은 처리조(10) 내에 화학약품을 채우면 일측벽(11)이 낮게 형성되어 낮은벽(11) 측에서 분리조(15)로 넘치게 된다. 이와 같은 상태에서 처리조(10)에 처리하고자 하는 제품(50)을 침적하면 제품(50)의 표면에서 화학작용이 일어나 제품이 처리되는 것이며 이때 부산물이 발생하게 되는데 화학약품보다 비중이 낮은 부유물 또는 미립자스러지는 위로 뜨고 비중이 높은 슬러지는 하부로 침강된다.
이때 화학약품(30)의 표면으로 부상되는 부유물은 일측의 낮은벽(11)으로 넘쳐 분리조(15)에 유입되므로 처리조 내의 약품은 항상 청결 상태를 유지하므로 제품을 꺼낼때 표면에 불순물이 묻지 않아 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다.
또한 화학약품으로 처리하고자 하는 제품이 상온이 아닐 경우에는 분리조(15)에 설치된 열교환기(40)를 작동시키게 되는데 이때 열교환기(40)에 의해 승온 또는 감온된 분리조(15)의 화학약품을 처리조(10)로 이송시키게 되는데 이때 펌프(25)의 작동에 의해 송출관(21)으로부터 밸브(21')를 통해 펌프(25)를 거쳐 인입관(22)을 통해 처리조(10)로 이송되는 것이며 처리조(10) 내에 분리조로부터 화학약품이 유입됨에 따라 상부에서는 낮은벽(11)을 통해 넘쳐 분리조(15)로 이송된다.
위와 같은 화학약품의 순환에 의해 처리조 내의 화학약품이 제품을 처리하기 적당한 온도로 변화시키게 된다.
위와 같은 동작에 의해 화학약품을 지속적으로 순환시키며 제품(50)을 화학처리 할수 있게 되는 것이며 비중이 큰 침강물은 처리조(10)의 하부관(29')을 통해 필터(28)에 의해 정화되어 펌프(27)에 의해 처리조(10)로 재유입되는 것이며 바닥의 응고된 슬러지 등은 하부 바닥면(13)에 설치된 배출관(24)을 통해 청소시에 제거할수 있게 된다.
상기한 바와 같이 본 발명에 의하면 화학약품을 지속적으로 순환시켜 오염된 부유물을 제거하므로 처리제품의 오염을 방지하며 침적되는 응집물 및 화성스러지 등 배출을 손쉽게 할 수 있을뿐 아니라 집중관리할 수 있으며 처리조와 분리조를 일체화하였으며 화학약품에 직접적으로 열교환기를 침투하여 열교환하므로써 열효율을 높일 수 있을뿐 아니라 열교환기를 투입하므로 생성되는 슬러지는 처리조와는 완전히 별개로 하는 분리조내에 머물다가 하단의 배출관(29)를 통하여 펌프(27)와 필터(28)를 통과하여 정화된 약품상태로 처리조(10)로 되돌려져 순환하므로 처리조내를 청결하게 순환 관리하여 양질의 제품(50) 처리를 할 수 있도록 하였다.

Claims (2)

  1. 처리조(10)의 일측벽(11)을 낮게 형성하고, 상기 낮은벽(11)에 연이어 분리조(15)를 형성하여 상기 분리조(15)의 상부의 송출관(21)은 펌프(25)를 통해 처리조(10)의 하부의 인입관(22)으로 연결되며 처리조(10) 하부의 배출관(26) 및 분리조의 하부의 배출관은 필터(27)와 펌프(28)를 거쳐 처리조(10)의 하부로 배관됨을 특징으로 하는 반응 이물질을 연속분리 가능한 화상처리조.
  2. 제1항에 있어서 분리조(15)에 열교환기(40)가 설치됨을 특징으로 하는 반응 이물질을 연속분리 가능한 화상처리조.
KR1019950020336A 1995-07-11 1995-07-11 반응이물질을 연속분리 가능한 화성처리조 KR0144235B1 (ko)

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