KR0137474B1 - 주사형 터널링 마이크로스코프 - Google Patents

주사형 터널링 마이크로스코프

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KR0137474B1
KR0137474B1 KR1019890012385A KR890012385A KR0137474B1 KR 0137474 B1 KR0137474 B1 KR 0137474B1 KR 1019890012385 A KR1019890012385 A KR 1019890012385A KR 890012385 A KR890012385 A KR 890012385A KR 0137474 B1 KR0137474 B1 KR 0137474B1
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기까라 미야따
마사또시 야스따께
히로시 이시지마
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하라 레이노스께
세이꼬 덴시 고교 가부시끼 가이샤
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Abstract

본 발명은 주사형 터널링 마이크로스코프에 관한 것으로, 탐침과 미세 이동 소자를 가지고 있는 미세 이동 소자 블록이 마이크로스코프의 리벌버에 제거 가능하게 배치되고, 상기 탐침의 방향으로 견본을 이동시키기 위한 거친 이동 메카니즘이 상기 마이크로스코프의 견본 스테이지 상에 배치되는 것을 특징으로 한다.

Description

주사형 터널링 마이크로스코프
제 1도는 본 발명의 한 실시예.
제 2도는 종래 기술의 예.
제 3도는 미세 이동소자 블럭의 분해 설명도.
제 4도는 미세 이동소자의 투시도.
제 5도는 미세 이동소자 블럭의 다른 실시예의 분해 설명도.
제 6a도 및 제 6b도는 접속기 부분의 다른 실시예를 도시한 부분도 및 평면도.
제 7도는 본 발명의 제 2 실시예의 측면도.
제 8도는 제 3 실시예의 측면도.
제 9도는 제 4 실시예의 측면도.
제 10도는 본 발명의 제 5 실시예.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : STM 검출 유니트2 : 광학 마이크로스코프
3 : 리벌버4 : 대물렌즈
5 : 견본6,7,8 : 테이블
9 : 암10 : 홀
12 : 스텝모터13 : 피드 스크류
101 : 미세 이동소자102 : 탐침
104 : 탐침 홀더
본 발명은 주사형 터널링 마이크로스코프에 관한 것이다.
제 2도는 기존의 STM 기구의 예를 도시한 것이다.
미세 이동소자 블럭(1)은 미세 이동소자(101)의 단부에 놓여있는 탐침(102)이 실린더의 축방향에서 경사지게 실린더부재(11)에 고정된 구조를 가지고 있다. 미세 이동소자(101)는 Z방향(미세 이동소자의 축방향)으로 연장되고 단축될 수 있거나 또는 전기적 자극에 의해서 X-Y 방향으로 향하게 할 수 있다.
거친 피드 메카니즘(10)은 이러한 모터의 출력 축에 접속된 스텝모터(12)와 피드 스크류(13)로 실제 구성된다. 이러한 피드 스크류(13)는 미세 이동소자 블럭(1)에 고정된다. 따라서, 거친 피드 메카니즘(10)의 피드 스크류(13)는 회전하고, 미세 이동소자 블럭(1)은 실린더형 부재(11)에 따라 축방향으로 이동된다.
견본(5)은 실린더형 부재(11)의 정면 단부 표면에 고정시켜 부착되는 견본 홀더(51)에 의해서 유지된다.
그래서, 탐침에 의해 견본을 측정하기 위해서, 미세 이동소자 블럭(1)은 견본 방향으로 거칠게 공급되며, 반면에 미세 이동소자(101)는 구동되고, 거친 이동은 터널 전류가 검출되는 위치에서 정지된다. 다음에, 미세 이동소자(101)는 측정하는 견본의 내부 평면 방향으로 구동된다. 이러한 방법에서, 거친 이동, 정밀 이동 및 견본은 종래 기술에 따라 서로 통합된다.
STM 기구는 원자 레벨의 해상도를 가진 기구이다. 최근에 정밀한 표면 형태의 관찰을 위한 STM 기구의 사용은 미크론 미터 범위에서 시작된다. 높은 해상도(resolution)를 가지고 있다고 하더라도, STM 기구는 또한 최대 관찰 범위가 대략 10 μm정도의 좁은 특성을 가지고 있다. 그래서, 단지 STM 기구만을 사용함으로써 관찰될(할퀸 자국과 같음) 견본의 위치에 관찰 범위를 위치시키는 것은 매우 어렵다.
정밀한 견본의 이동 테이블을 장비한 STM 기구에서 (예를들면, 88 정밀 엔지니어링 협회지의 기술적 페이저의 추계 모임에서 907 페이지에서 견본이동 스테이지를 갖춘 STM 기구의 발전), 거친 위치 설정은 비스듬하게 횡단 방향으로부터 설정되며, STM 측정은 시행-에러 기선 상에서 위치 설정시키기 위해 정밀 이동 테이블에 의해 견본을 양호하게 이동시킴으로써 반복된다. 그래서 광학 관찰 수단에 의한 견본의 원하는 측정 위치를 설정시키고, 그후 이러한 위치에 STM 측정 지역을 위치시키는 것이 필요하다.
본 발명의 제 1 목적은 높은 원광성(orecision)과 함께 관찰될 지역을 검색하고 위치시킬 수 있는 STM 기구를 제공하는 것이다.
본 발명의 제 2 목적은 광학 마이크로스코프(레이저 마이크로스코프)가 부착된 STM 기구를 제공하는 것이다.
본 발명의 제 3 목적은 광학 마이크로스코프(레이저 마이크로스코프)를 가진 STM 기구를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적 및 특성은 다음의 설명에 의해 충분히 나타날 것이다.
본 발명은 터널 유니트의 크기와 무게를 감소시킨 것이며, 반면에 높은 강도를 유지하고, 다른 수단에 의해서 터널 유니트를 조립하는 것이 가능하며, 특히 상기의 수단은 광학 마이크로스코프 및 레이저 마이크로스코프와 같은 기구이다. 다시 말하면, 본 발명은 터널 유니트로부터 거친 피드 메카니즘을 분리시키고, 다른 응용에 대한 미세 이동소자 블럭을 가지고 있는 터널 유니트를 고정시키는 것이 가능하다. 본 발명에서, 견본에 도달시키기 위한 거친 피드와 터널 지역에 대한 탐침은 견본 측면상의 Z축 이동 스테이지를 사용하거나 광학 마이크로스코프의 렌즈-배럴을 이동시킴으로써 수행된다.
터널 유니트는 상술된 바와같이 소형으로 구성되기 때문에, 광학 마이크로스코프 또는 레이저 마이크로스코프와 같은 종류나 리벌버에 고정될 수 있다.
[실시예 1]
제 1도는 본 발명의 실시예를 도시한 것으로서, 미세 이동소자 블럭이 광학 마이크로스코프 또는 레이저 마이크로스코프의 리벌버에 고정될 때를 나타낸 것이다. 터널 유니트의 중요한 소자와 같은 미세 이동소자 블럭(1)은 대물렌즈(4)와 함께 리벌버(3)에 고정된다. 광학 마이크로스코프의 렌즈-배럴(2)과 리벌버(3)는 암(9)에 의해서 지탱되고, Z축 테이블은 리벌버(3)을 덮는 방법과 같이 X축 테이블(7)과 Y축 테이블(8)을 통하여 암(9)의 견본 스테이지 위에 놓이게 된다. 이러한 견본(5)은 Z축 테이블(6)에 고착된다. Z축 테이블(6)은 수직 방향(Z축 방향)으로 이동할 수 있으며, 최소이동 거리는 Z축 방향으로 미세 이동 소자 블럭(1)의 이동거리에 의해서 결정된다.
예를들면, Z축 이동거리가 3μm 이면, 그러한 것은 1 마이크론 이하이다.
다음에, 그러한 위치의 STM 측정을 유도하고, 광학 마이크로스코프에 의해서 견본 관찰 위치를 결정하는 방법은 이제부터 설명될 것이다.
불규칙한 패턴을 가지고 있는 위치 설정 견본은 처음에 STM 측정을 하는 것이다. 여기서 X 축 테이블과 Y 축 테이블의 위치 결정은 (X0, Y0)가 된다.
이러한 위치에서, Z축 테이블은 더 낮아지고, 리벌버(3)는 회전하게 되어 광학 관찰은 광학 마이크로스코프의 대물렌즈(4)에 의해서 수행된다. Z축 테이블과 X-Y 축 테이블에 의해서 수행된 집속이 이동되어 STM 측정에 의해서 획득된 영상은 관찰 필드 내측의 교차-활자선의 중앙에 도달한다.
만약 X-Y 테이블의 위치가 (X1, Y1)이면, (X0-X1, Y0-Y1)은 교차-활자선의 중앙 위치로부터 STM 탐침의 오프셋(편차)이다.
다음에, 이러한 견본은 측정될 다른 견본으로 대체된다. 그리고, 원하는 측정 위치는 광학 마이크로스코프 관찰의 시간에서 교차-활자선(cross-cursor)의 위치에 있게 된다.
z 축은 더 낮아지고, 리벌버는 회전하게 되어 미세 이동소자 블럭(1)은 견본위에 오게 된다. 오프셋(X0-X1, Y0-Y1)은 교정되고, 자동-진입이 측정된다. 다시 말하면, 견본과 탐침은 STM 측정을 위해 Z 축 테이블에 의해 진입된다. 이러한 방법에서, 대물렌즈와 활자선에 의해서 위치된 장소는 STM 측정을 하게 될 수 있다.
대물렌즈와 탐침 사이에서 위치 에러는 탐침의 생산 정밀도에 크게 의존된다. 그래서, 오프셋(X0-X1, Y0-Y1)은 탐침이 대체될때마다 결정되야만 한다. 어떤 견본이 위치 설정을 위한 견본으로서 사용될 수 있는 바와같이, 그러한 견본은 예를들면 광학 디스크의 피트와 같은 불규칙한 패턴 형태를 가진다.
다음의 2가지 절차는 STM 측정을 위해 이용될 수 있다. 제 1 절차는 다음과 같다.
(1) 서보 작용은 미세 이동소자(101)에 응용되고, 반면에 이러한 소자(101)는 늘려진 상태로 유지되고, Z축 테이블(6)은 차례차례 정밀하게 진입된다.
(2) 견본(5)과 탐치(102)이 서로 진입되고, 터널 전류가 검출될 때, Z축 테이블(6)에 의한 거친 피드는 정지된다.
이러한 경우에, 미세 이동 소자(101)는 확장 및 축소되며, Z축 테이블(6)에 의한 거친 피드는 견본(5)과 탐침(102)이 지나치게 접근하거나 상호 부딪치지 않도록 양호한 정도와 높은 응답으로 제어될 수 있으므로 견본(5)과 탐침(102) 사이의 거리는 터널 전류를 검출함으로써 소정의 터널 전류값에 의해 일정하게 된다. 만약 미세 이동소자(101)의 이동 거리가 Z축 방향에서 대략 0.5μm로 되면, 몇 다스의 nm 의 최소 이동거리가 필요하게 된다.
제 2 절차는 다음과 같다.
(1) 서보 작용이 인가된다.
(2) 거친 피드는 터널 전류가 검출될 때 정지된다.
(3) 서보 작용이 차단되고, 양호한 이동소자(101)는 축소된다.
(4) 작은 거리에 의한 거친 피드는 Z축 테이블(6)에 의해서 수행된다.
(5) 상기의 단계는 (1)로 복귀한다.
이러한 경우에, Z축 스테이지(6)의 이동을 통하여 미세 이동소자(101)의 이동 거리의 대략 1/2의 거리가 이동될 수 있다. 그러나, 미세 이동소자(101)에 대한 인가 전압범위내의 원하는 위치에서 터널 전류를 검출하기 위해서, Z축 이동 스테이지의 최소 이동 거리를 감소시키고, 순간적으로 인가된 미세 이동소자(101)의 전압으로부터 Z축 이동 스테이지의 교정 이동 거리를 결정함으로써 교정하는 것이 필요하다. 이러한 값은 상술된 바와같은 방법의 몇 다스의 nm 정도이다.
상술된 구성에서, X-Y 테이블(7,8)은 견본을 이동시키기 위한 것이지만, 상기의 테이블은 전체강도, 예를들면 미세 이동소자 블럭(1)과 견본 사이에서의 강도, 즉 리벌버(3)에 대한 고정강도, 암(9)에 대한 고정강도, 암(9)의 주 몸체의 강도와 테이블(6,7,8)의 강도는 STM 만큼 필요한 강도를 가져야만 하거나, 또는 전체 고유 주파수가 몇 킬로 헤르쯔 이상되어야만 한다.
여기서 사용된 스테이지(6,7,8)는 수동식 또는 전기식으로 사용될 수 있다. 그러나, 동작성을 고려해볼 때, 전기식은 수동식보다 바람직하며, 광학 마이크로스코프에 대한 자동-접속을 수행할 수 있는 구성이 얻어질 수 있다.
다음에 미세 이동소자 블럭은 제 3도를 참고로 하며 설명될 것이다.
터널 전류를 검출하기 위한 탐침(102)은 탐침 홀더(104)에 제거가능하게 스크류 되고, 이러한 탐침 홀더(104)는 접착제에 의해 절연 시트에 고정된다. 이러한 절연시트(A105)는 차례로 접착제에 의한 실린더 형의 미세 이동소자(101)에 차례로 고착된다. 미세 이동소자(101)의 다른 단부는 절연 시트(B108)를 통하여 접착제에 의한 지지평판(109)에 고착된다. 탐침 홀더(104)로부터 탐침(102)의 신호와 같은 그러한 방법으로 리드 와이어에 접속된 하나의 접촉핀(B107)과 미세 이동 소자(101)를 구동시키기 위한 리드 와이어에 접속된 최소 4개의 접촉핀(A106)은 절연시트(B108)에 의해 절연되게 지지된다.
제 4도는 미세 이동소자 (101)의 투시도이다.
공통전극(101a)은 실린더형의 미세 이동 소자의 내부벽위에 구성되고, X축과 Y축 및 Z축 방향에서 미세 이동 소자를 굴곡지게하고 축소 및 연장시키기 위한 X,Y 및 Z 전극(101b, 101c, 101d)은 외부벽위에 구성된다. 이러한 리드와이어(101e)는 이러한 전극에 접속된다. 이러한 리드와이어(101e)의 그룹은 상술된 4개의 접촉핀(A106)에 각각 접속된다. 도면에서, 각각의 X 전극과 Y 전극은 도시된 바와같이 구성되지만, 각각 쌍을 구성하기 위해 X 와 Y 방향에서 대향하는 외부 주변 표면위에 다른 X 전극과 Y 전극을 구성하는 것도 가능하다.
선정된 신호가 공통전극(101a)과, X,Y 및 Z 전극 사이에 인가될 때, 미세 이동 소자는 구동되고, 탐침(102)은 선정된 위치로 약간 이동된다. 덮개(103)는 미세 이동소자블럭(1)을 구성하도록 결합등에 의해 지지평판(109)에 고정된다. 이러한 덮개(103)는 미세 이동소자(101)에 인가된 전압에 대한 안전 실드로서 배치되고, 또한 구동 전압에 의해서 터널 전류에 대한 잡음을 방지하기 위한 실드로서 배치된다.
미세 이동소자 블럭(1)을 지지하기 위한 지지 유니트로서 링 부재(113)는 리벌버(3)에 스크류 시킴으로써 고정된다. 상술된 접촉핀(A106)과 일치하게 결합된 접촉부(A110)는 절연 링(112)을 통하여 이러한 링 부재(113)에 고정되고, 접촉핀(B107)과 일치하게 결합된 접촉부(B111)는 절연시트(117)를 통하여 고정된다. 이러한 리드 와이어(114, 115)는 리벌버(3)를 통하여 각각 접촉부(A110, A111)로부터 연장되고, STM 기구에 접속된다. 미세 이동소자 블럭 (1)은 링 부재에 고정되고 리벌버에 고정되며, 이것은 구성된 스크류(116a)를 가지고 있는 고정 수단으로서 고정 스크류(116)가 링 부재에 고정될 때 실행된다. 다시말하면, 미세 이동소자(1)의 후부 단부에서 외부 주변 돌출부(109a)는 고정 스크류의 플렌지(116b)에 대향하여 인접하며, 이러한 블럭 (1)은 링부재(113)로 밀려나아가 고정된다.
이러한 구조에 따라, 미세 이동 소자의 대체는 매우 쉬워지게 되고, 다수의 미세 이동 소자는 리벌버 (3)위에 장착될 수 있다. 필연적으로, 위치 설정핀과 미세 이동소자 블럭(1) 위에 구성된 안내 홈 및 링 부재(113) 사이의 맞물림을 확립시키는 것도 가능하며, 회전 및 위치 설정을 방지하기 위한 맞물림을 사용하는 것도 가능하다. 덮개(103)는 미세 이동소자 블럭(1)에 고정시키는데 꼭 필요하지는 않지만, 후에 고정스크류(116)에 의해 리벌버(3)에 미세 이동소자 블럭(1)을 고정시킬 때, 리벌버(3)와 미세 이동소자 블럭(1) 사이에서 클램프될 수 있다. 또한 링 부재(113)가 리벌버(3)와 함께 집적될 때 어떠한 문제도 생기지 않는다.
제 5도는 미세 이동소자 블럭의 다른 예를 도시한 것이다. 미세 이동소자(101)는 접촉핀(118, 119)으로 고정된 밀폐 또는 접착제에 의해 고정된다. 접촉핀(118, 119)에 꼭맞는 접촉부(120, 121)는 용접 밀폐(125)에 의해 고정되고, 정밀 이동블럭(1)은 이전의 실시예에서와 같은 방법으로 고정 스크류(116)에 의해 제거할 수 있게 고정된다. 리드 와이어(114)를 통하여 흐르는 약한 터널 전류를 증폭시키기 위한 I/V 증폭기(123)는 링 부재(113)에 고정되며, I/V 증폭기와 출력을 구동시키기 위한 전압 공급선은 122와 124 만큼 연장되고, 이러한 것들은 리벌버(3) 내부의 회전 접촉부를 통하여 미세 이동소자(101)를 구동시키기 위한 전압 공급선(115)과 함께 리벌버(3)가 회전할 수 있게 해준다.
제 6a도 및 제 6b도는 미세 이동소자 블럭(1)의 접속기 부분의 다른 예를 도시한 것이다. 금속 링(126)은 접촉핀(118, 119)보다 훨씬 더 크게 용접 밀폐의 외부 주위로부터 팽창하며, 미세 이동소자 블럭(1)이 아래에 위치될 때 접촉핀(118, 119)을 보호할 수 있다. 금속링(126)은 또한 링부재(113)에 삽입될 때 안내부로서 기능한다.
위치 설정을 위한 노치 또는 톱니바퀴의 멈춤쇠는 미세 이동소자 블럭(1)의 소켓 부분에 구성된다. 비록 도면이 보기에 의해 노치(119)와 톱니바퀴의 멈춤쇠(127, 128)를 도시하고 있지만, 고정 시간에서 미세 이동 소자 블럭(1)의 회전을 방지하거나 또는 위치 설정시키는 것은 최소한 링 부재(113)상에 노치 또는 톱니바퀴의 멈춤쇠중 하나를 맞추는 부분을 구성함으로써 얻어질 수 있다. 접촉핀 (119)은 접촉핀 (118)외부의 중앙에 구성된다. 이러한 접촉핀(118, 119)의 위치는 위치 설정을 위해 이탈될 수도 있어서 하나의 위치만이 맞게 만들어질 수 있다.
상술된 실시예는 실린더형의 미세 이동소자(101)를 사용하기 때문에, 형태는 대물렌즈와 같지만 미세 이동소자의 형태는 임의적으로 될 수 있다. 예를 들면, 그러한 것은 입방형과 같은 정육면체로 구성될 수 있다.
상술된 본 발명에 따라, 터널 유니트의 거친 피드는 스테이지 측면에 제공되어 터널 유니트의 주요 몸체는 미세 이동소자 블럭과 같이 구성될 수 있어서, 크기와 무게는 감소될 수 있다. 그래서, 광학 마이크로스코프 또는 레이저 마이크로스코프에서 협조될 수 있으며, 광학 마이크로스코프 또는 그러한 종류에 의한 견본의 원하는 측정 범위에 대한 위치 설정후, 높은 해상도 측정은 STM 에 의해서 수행될 수 있다.
또한, 서로 다른 특성을 가지고 있는 다수의 미세 이동소자를 배치시키거나 또는 미세 이동소자를 쉽게 대체시키는 것도 가능하다. 본 발명의 미세 이동소자 블럭은 광학 마이크로스코프의 위치에 정밀 Z-스테이지를 가지고 있는 기구에서 어셈블 될수 있으며, 이러한 것은 크기가 작고 무게가 가볍기 때문이며, 그래서 높은 강도를 가지고 지지될 수 있다. 이러한 방법에서, 본 발명은 산업적으로 매우 사용하기에 알맞다.
[실시예 2]
제 7도는 본 발명의 실시예 2를 도시한 것이다. 광학 마이크로스코프의 렌즈-배럴(2), 리벌버(3), STM 검출 유니트(1) 및 I/V 증폭기(115)는 상기 기구의 암(9)에 의해서 지지된다. 다시 말하면, 조립베드(24)는 암(9)위에 배치되고, STM 검출 유니트(1)는 세트 스크류(116)에 의해 조립베드(24)에 고정된다. STM 검출 유니트 내부의 와이어링과 조립 베드는 전기적으로 접속되고, 제 1 실시예와 같은 방법으로 단말기 핀과 소켓에 의해 제거될 수 있게 접속된다. I/V 증폭기(115)는 조립 베드(24)와 간츤 방법으로 암(9)에 의해 지지되고, 조립베드(24)와 I/V 증폭기(115)는 전기적으로 서로 접속된다.
대물렌즈(4)는 리벌버(3)에 설치된다. 높이의 방향으로 STM 검출 유니트(1)의 첨단에서 탐침(102)과 대물렌즈(4)의 촛점 위치 사이의 관계는 이러한 탐침(102)이 도면에 도시된 바와같은 견본보다 더 멀리 떨어져 있게 되어 있다. 이러한 배치는 광학 마이크로스코프 측정 동안에 견본(5)에 대해 STM 탐침 (102)과 부딪치는 것을 방지하도록 해준다. X와 Y 테이블(7,8)은 내부 평면 방향에서 견본(5)을 이동시키고, 위치 설정시키며, STM 측정과 광학 마이크로스코프 측정의 시간에서 축 사이의 이동을 위한 것이다.
Z-테이블(6)은 높이의 방향에서 견본(5)을 이동시키고, 대물렌즈(4)를 집속시키며, STM 측정을 위한 거친 이동을 달성시키기 위한 것이다.
위치설정 방법은 다음과 같다. 무엇보다도, 측정 위치의 위치 설정은 광학 마이크로스코프(2)에 의해서 수행된다. 다음에, Z-테이블(6)은 낮아지게 되고, 견본(5)은 X-테이블과 Y-테이블(7,8)에 의한 교정 거리에 의해서 이동된다. 이러한 작용 후에, 광학 마이크로스코프에 의해 위치 설정된 위치는 STM 검출 블럭(1)의 탐침(102) 밑에 즉시 오게된다. 다음에 자동-진입이 수행된다. 즉, Z-테이블(6)은 터널 영역[탐침(5)과 탐침(102) 사이에서 대략 1㎚의 거리]에서 입구가 검출될 때 탐침(102)에 진입되고, Z-테이블(6)은 자동적으로 정지됨으로써 STM 측정이 가능하게 된다. 부수적으로, 상술된 교정 거리는 대물렌즈의 광학축(22)과 탐침(102)의 축(23) 사이의 갭이며, 이러한 것은 제 1 실시예를 참고로 하여 설명한 방법의 값과 같다.
이러한 구성에 따라, I/V 증폭기는 STM 검출 유니트(1) 가까이에 배치될 수 있으며, S/N 비율은 신호선(211b)의 길이를 감소시킴으로써 향상될 수 있다. 권선 메카니즘은 꼭 필요하지는 않기 때문에, 이러한 구성은 간단히 될 수 있고, 강도는 강화될 수 있다. 또한 자동화는 리벌버(3)를 전기 리벌버로 변경시킴으로써 쉽게 획득될 수 있으며, 홀(10)의 위치를 검출시키기 위한 스위치를 대물렌즈(4)에 배치시키는 것은 적절하지 못하다. CCD와 전기 활자선이 이러한 경우 광학 마이크로스코프상에 배치되면 견본의 세팅후의 모든 작용, 즉, 광학 마이크로스코프를 사용하여 원하는 위치에의 위치설정과, 리벌버의 회전에 기인한 대물렌즈(4)의 퇴각과, STM 측정 위치에 대한 견본의 이동과, 자동-진입 및 STM 측정은 키보드에 의해서 수행될 수 있으며, STM의 자동-진입까지 광학 마이크로스코프의 사용에 의한 위치 설정후의 작용은 충분히 자동화될 수 있다.
[실시예 3,4]
제 8 도는 제 3 실시예의 측면도로서, 대물렌즈(4)의 배율은 고정되며 다시말하면, 리벌버(3)가 생략된다. 제 9도는 제 4 실시예의 측면도로서, STM 검출 유니트(1)를 조립하기 위한 리벌버(3b)는 대물렌즈에 대한 리벌버(3a)로부터 분리시켜 암(9)위에 배치되어 다수의 STM 검출 유니트는 이러한 리벌버(3b)에 설치된다. 만약 다수의 STM 검출 유니트가 배치될 수 있으면, 탐침(102)을 구동시키기 위한 다른 종류의 미세 이동소자(제 8도와 제 9도에 도시되어 있지 않음)는 원자 측정용 소자와 형태 측정용 소자와 같이 동시에 준비될 수 있다. STM 검출 유니트와 같은 종류의 다수의 STM 검출 유니트가 제공되면, 회전에 의해서 예를들면, 충돌에 기인한 탐침(102)의 대체 필요성을 빠르게 만족시키는 것이 가능하다. 이러한 제 4 실시예에서, 리벌버(3b)로부터 STM 검출 유니트(1)의 와이어링(211a, 211b)의 연장은 리벌버(3b)의 회전축의 중심을 통하여 수행된다. X 및 Y 스테이지의 이동 시간에서 안전한 위치는 STM 검출 유니트(1)가 스크류 되지않고, 대물렌즈 측면위에서 리벌버(3)와 같은 방법으로 STM 검출 측면상의 리벌버(3b)에 비어있는 홀 위치를 배치시킴으로써 고찰될 수 있다.
상술된 실시예의 STM 기구는 X와 Y축 방향에서 견본을 이동시키기 위한 X와 Y 스테이지 및 STM의 거친 이동과 집속을 위한 Z 스테이지를 구비하고 있다. 그래서, 광학 마이크로스코프에 의해서 위치 설정된 견본 위치의 STM 측정은 X와 Y 스테이지에 의한 STM 검출 유니트의 광학축과 중앙축 사이의 거리에 의해 견본을 이동시킴으로써 수행될 수 있다. 제 1 실시예로부터 본 발명의 커다란 차이는 광학축과 STM 검출 유니트가 서로 분리하여 배치된다는 것과 광학축 및 STM 검출 유니트 사이의 이동은 테이블에 의해서 수행된다는 것이며, 여기서 제 1 실시예의 기술은 리벌버를 회전시키고 광학축상의 STM 검출 유니트를 세트시키는 것이다. 따라서, 위치설정 정밀도의 강하는 본 발명의 제 2, 3, 4 실시예에서 더 크게 나타날 수 있는데, 이는 위치 설정이 광학 마이크로스코프에 의해서 수행되고, 견본은 제 1 실시예의 기술과 비교하여 추가 단계와 같은 STM 측정용 테이블에 의한 STM 검출 유니트와 광학축 사이에서 이동되기 때문이다. 그러나, STM 검출 유니트의 첨단에서 탐침은 가끔 대체되야만 하는 종류의 장치이고, 또한 제 1 실시예의 기술에 따라, 광학축의 위치와 STM 검출 유니트의 단계는 위치 설정함으로써 교정된다. 이러한 교정은 제 1 실시예의 기술을 참고로 하여 설명된 바와같은 X-Y 테이블을 이동시킴으로써 달성된다. 다시말하면, 교정을 하기 위해 X-Y 테이블을 이동시키는 작용은 본 발명의 제 2, 3, 4 실시예와 제 1 실시예의 기술에서 균등하게 수행되며, 이동 거리는 본 발명의 제 2,3,4 실시예에서 대략 몇 다스의 밀리미터만큼 더 크다 테이블의 한 방향으로부터 (백래시를 제거시키는) 위치 재생 정밀도를 고려해볼 때, 이러한 거리는 제 1 실시예의 기술과 다르지 않다.
상술된 바와같이, 본 발명의 구성은 다음과 같은 커다란 효과를 제공한다. 즉, S/N 비율은 STM 검출 유니트와 I/V 증폭기 사이에서 신호선을 짧게함으로써 개량될 수 있고, 구조는 와이어링의 권선 메카니즘이 필요하지 않기 때문에 간단히 구성될 수 있으며, 위치 설정의 재생성은 와이어링에 어떠한 인장력이 작용되지 않고 자동화가 쉽게 행하여 질 수 있기 때문에 향상될 수 있다.
[실시예 5]
제 10도는 위치설정 수단의 다른 예를 도시한 것이다. 단축 테이블(20)은 단축 테이블 방향으로 미끄러질 수 있는 방법과 같이 디보테일(devotail ; 9a)과 디보테일 홈(20a)을 통하여 암(9)에 의해 지지된다. 위치 설정을 위한 V-홈(9b)은 암(9)위에 구성되고, 클릭 볼(34)은 단축 테이블 측면상의 2개의 위치에서 스프링에 의해 상부로 바이어스되어 위치 설정은 이러한 볼이 V-홈으로 밀려질 때 달성된다.
STM 측정이 제 10도에서 유도될 때, 견본(5)의 선정된 부분은 대물렌즈(4)에 의해 준수되고, 위치는 광학 마이크로스코프 내부의 교차-활자선내에 정렬된다. 그후, 대물렌즈로부터 자유로운 위치(홀의 위치)로 세트되는 동안 단축 테이블(20)에 의해 STM 위치로 이동된다. 이러한 상태하에서, 대물렌즈의 중앙축(22)과 STM 검출 유니트(1)의 중앙축(23) 사이에서 편차량의 위치 교정은 X와 Y테이블(7,8)에 의해서 미리 얻어지고, 자동-진입은 터널 전류가 X-테이블(6)에 의해서 검출될때까지 수행된다. 그러한 위치 교정은 제 2 실시예를 참고로 하여 기술되어 왔다.

Claims (6)

  1. 탐침과 미세 이동 소자를 가지고 있는 미세 이동 소자 블럭이 마이크로스코프의 리벌버에 제거 가능하게 배치되고, 상기 탐침의 방향으로 견본을 이동시키기 위한 거친 이동 메카니즘이 상기 마이크로스코프의 견본 스테이지 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 주사형 터널링 마이크로스코프.
  2. 미세 이동 소자의 첨단에 설치된 탐침으로 구성된 미세 이동 소자 블럭을 포함하며, 상기의 미세 이동 소자는 3개의 축 방향으로 상기의 탐침을 구동시키고, 단말기의 그룹이 상기의 탐침과 미세 이동 소자의 전극에 접속되며 ; 상기 단말기의 그룹과 일치하는 방식으로 배치된 단말기의 그룹을 가지고 있는 지지 유니트를 포함하고 ; 상기 미세 이동 소자와 상기의 지지 유니트를 고정시키기 위한 고정 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 터널링 마이크로스코프.
  3. 광학 관찰 수단에 의해 견본의 측정 위치를 설정함으로써 주사하는 터널링 마이크로스코프 사용을 위한 기구인 주사형 터널링 마이크로스코프에 있어서, 대물렌즈 및 STM 검출 유니트는 위치 설정 가능한 이동 메카니즘에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 주사형 터널링 마이크로스코프.
  4. 제 3 항에 있어서, 다수의 대물렌즈를 고정시킬 수 있는 리벌버 유니트가 상기 이용 메카니즘에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 주사형 터널링 마이크로스코프.
  5. 제 3 항에 있어서, 다수의 STM 검출 유니트가 상기 이동 메카니즘에 의해서 지지되는 것을 특징으로 하는 주사형 터널링 마이크로스코프.
  6. 제 3 항에 있어서, 다수의 STM 검출 유니트가 회전 및 위치 설정 가능한 방식으로 리벌버를 통하여 상기의 이동 메카니즘에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 주사형 터널링 마이크로스코프.
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Families Citing this family (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0640829B1 (en) * 1987-08-12 2004-11-17 Olympus Optical Co., Ltd. Scanning probe microscope
US5304924A (en) * 1989-03-29 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Edge detector
US5260824A (en) * 1989-04-24 1993-11-09 Olympus Optical Co., Ltd. Atomic force microscope
JP2909829B2 (ja) * 1989-07-05 1999-06-23 セイコーインスツルメンツ株式会社 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡
JP2909828B2 (ja) * 1989-07-05 1999-06-23 セイコーインスツルメンツ株式会社 複合走査型トンネル顕微鏡
JP2815196B2 (ja) * 1989-10-02 1998-10-27 オリンパス光学工業株式会社 微細表面形状計測装置
JP2821005B2 (ja) * 1989-10-02 1998-11-05 オリンパス光学工業株式会社 微細表面形状計測装置
US5229607A (en) * 1990-04-19 1993-07-20 Hitachi, Ltd. Combination apparatus having a scanning electron microscope therein
US5157251A (en) * 1991-03-13 1992-10-20 Park Scientific Instruments Scanning force microscope having aligning and adjusting means
EP0509856B1 (en) * 1991-03-15 1998-08-12 Nikon Corporation Microscope apparatus combining a scanning probe type microscope and an optical microscope
US5155361A (en) * 1991-07-26 1992-10-13 The Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Acting For And On Behalf Of Arizona State University Potentiostatic preparation of molecular adsorbates for scanning probe microscopy
US5317153A (en) * 1991-08-08 1994-05-31 Nikon Corporation Scanning probe microscope
JPH0540034A (ja) * 1991-08-08 1993-02-19 Nikon Corp 複合型顕微鏡
FR2685789A1 (fr) * 1991-12-31 1993-07-02 Centre Nat Rech Scient Microscope en champ proche fonctionnant par detection tunnel optique.
US5291775A (en) * 1992-03-04 1994-03-08 Topometrix Scanning force microscope with integrated optics and cantilever mount
US5448399A (en) * 1992-03-13 1995-09-05 Park Scientific Instruments Optical system for scanning microscope
US5376790A (en) * 1992-03-13 1994-12-27 Park Scientific Instruments Scanning probe microscope
JP3000500B2 (ja) * 1992-09-02 2000-01-17 セイコーインスツルメンツ株式会社 原子間力顕微鏡
US5426302A (en) * 1993-04-28 1995-06-20 Board Of Regents, University Of Texas Optically guided macroscopic-scan-range/nanometer resolution probing system
US5689063A (en) * 1993-07-15 1997-11-18 Nikon Corporation Atomic force microscope using cantilever attached to optical microscope
US5440920A (en) * 1994-02-03 1995-08-15 Molecular Imaging Systems Scanning force microscope with beam tracking lens
US5753814A (en) * 1994-05-19 1998-05-19 Molecular Imaging Corporation Magnetically-oscillated probe microscope for operation in liquids
US5866805A (en) * 1994-05-19 1999-02-02 Molecular Imaging Corporation Arizona Board Of Regents Cantilevers for a magnetically driven atomic force microscope
US5513518A (en) * 1994-05-19 1996-05-07 Molecular Imaging Corporation Magnetic modulation of force sensor for AC detection in an atomic force microscope
US5515719A (en) * 1994-05-19 1996-05-14 Molecular Imaging Corporation Controlled force microscope for operation in liquids
US5751683A (en) * 1995-07-24 1998-05-12 General Nanotechnology, L.L.C. Nanometer scale data storage device and associated positioning system
US5756997A (en) * 1996-03-04 1998-05-26 General Nanotechnology, L.L.C. Scanning probe/optical microscope with modular objective/probe and drive/detector units
US6339217B1 (en) * 1995-07-28 2002-01-15 General Nanotechnology Llc Scanning probe microscope assembly and method for making spectrophotometric, near-field, and scanning probe measurements
US6337479B1 (en) * 1994-07-28 2002-01-08 Victor B. Kley Object inspection and/or modification system and method
US5955661A (en) * 1997-01-06 1999-09-21 Kla-Tencor Corporation Optical profilometer combined with stylus probe measurement device
US5952657A (en) * 1997-08-22 1999-09-14 Thermo Microscopes, Corp. Atomic force microscope with integrated optics for attachment to optical microscope
WO1999010705A2 (en) * 1997-08-22 1999-03-04 Thermomicroscopes Corp. A scanning probe microscope system removably attached to an optical microscope objective
US6802646B1 (en) 2001-04-30 2004-10-12 General Nanotechnology Llc Low-friction moving interfaces in micromachines and nanomachines
US7196328B1 (en) 2001-03-08 2007-03-27 General Nanotechnology Llc Nanomachining method and apparatus
US6923044B1 (en) 2001-03-08 2005-08-02 General Nanotechnology Llc Active cantilever for nanomachining and metrology
US6752008B1 (en) 2001-03-08 2004-06-22 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for scanning in scanning probe microscopy and presenting results
US6787768B1 (en) 2001-03-08 2004-09-07 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for tool and tip design for nanomachining and measurement
US6085581A (en) * 1998-11-18 2000-07-11 Sandia Corporation Method for accurately positioning a device at a desired area of interest
AU6061100A (en) * 1999-07-01 2001-01-22 General Nanotechnology, Llc Object inspection and/or modification system and method
DE10007650C2 (de) * 2000-02-19 2003-04-10 Leica Microsystems Lichtoptisches Mikroskop mit Elektronenstrahl-Einrichtung
US6690509B2 (en) 2000-12-01 2004-02-10 Auburn University High-resolution optical microscope
US6992819B2 (en) * 2000-12-01 2006-01-31 Auburn University High-resolution optical microscope for quick detection of pathogens
US6931710B2 (en) 2001-01-30 2005-08-23 General Nanotechnology Llc Manufacturing of micro-objects such as miniature diamond tool tips
US7253407B1 (en) 2001-03-08 2007-08-07 General Nanotechnology Llc Active cantilever for nanomachining and metrology
US7053369B1 (en) 2001-10-19 2006-05-30 Rave Llc Scan data collection for better overall data accuracy
US6813937B2 (en) * 2001-11-28 2004-11-09 General Nanotechnology Llc Method and apparatus for micromachines, microstructures, nanomachines and nanostructures
WO2004023490A2 (en) * 2002-09-09 2004-03-18 General Nanotechnology Llc Fluid delivery for scanning probe microscopy
US7966034B2 (en) * 2003-09-30 2011-06-21 Sony Ericsson Mobile Communications Ab Method and apparatus of synchronizing complementary multi-media effects in a wireless communication device
DE102004032556A1 (de) * 2004-07-06 2006-02-16 Carl Zeiss Jena Gmbh Wechseleinrichtung für Mikroskope
JP4563117B2 (ja) * 2004-09-03 2010-10-13 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 顕微鏡システム及び顕微鏡システムの走査法ならびに顕微鏡システムの画像合成法
JP2007005690A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Fujifilm Holdings Corp 半導体装置用検査装置およびこれを用いた半導体装置の検査方法
JP5123630B2 (ja) * 2007-09-27 2013-01-23 株式会社ニューフレアテクノロジー パターン検査装置及びパターン検査方法
JP5426901B2 (ja) * 2009-02-26 2014-02-26 株式会社日立製作所 Ｄｕｖ−ｕｖ帯域の分光光学系およびそれを用いた分光測定装置
US8143763B2 (en) 2009-05-29 2012-03-27 Rhk Technology, Inc. Linear piezoelectric nano-positioner
CN105891549A (zh) * 2016-04-08 2016-08-24 西南交通大学 一种基于原子力显微镜的多功能组合探针系统
CN110174758B (zh) * 2019-05-27 2024-05-31 赫智科技(苏州)有限公司 一种测量平台用显微镜的定位方法
WO2022258085A1 (en) 2021-07-13 2022-12-15 Ceske Vysoke Uceni Technicke V Praze A method of examining a sample in a microscope equipped with at least one scanning tunneling tip

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1439433A1 (de) * 1964-08-17 1969-02-06 Siemens Ag Korpuskularstrahlmikroskop,insbesondere Elektronenmikroskop,mit einer Einrichtung zur Fernsehuebertragung des Leuchtschirmbildes
US3840721A (en) * 1972-07-05 1974-10-08 Commw Scient Corp Automatic control for ion milling machine
US4128765A (en) * 1976-10-29 1978-12-05 Joseph Franks Ion beam machining techniques and apparatus
US4151418A (en) * 1977-08-17 1979-04-24 Bausch & Lomb, Inc. Multiple crystal holder assembly for wavelength dispersive X-ray spectrometers
JPS56121151U (ko) * 1980-02-15 1981-09-16
GB2130433B (en) * 1982-03-05 1986-02-05 Jeol Ltd Scanning electron microscope with as optical microscope
US4656358A (en) * 1985-03-12 1987-04-07 Optoscan Corporation Laser-based wafer measuring system
US4807979A (en) * 1986-01-24 1989-02-28 Geno Saccomanno Microscope slide marking device
US4745277A (en) * 1986-10-06 1988-05-17 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Rotary turret and reusable specimen holder for mass spectrometer

Also Published As

Publication number Publication date
KR900003659A (ko) 1990-03-26
US4999495A (en) 1991-03-12

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