JPH08110212A - 電子部品用三次元測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 リード曲げ深さ、基板の反り等を高精度でか
つ高速で測定できる測定装置を提供する。 【構成】 リードフレームあるいは半導体パッケージ等
の電子部品のリード寸法、曲げ深さ、基板の反り等を測
定する電子部品用三次元測定装置において、基台１０上
に被測定体の測定ポイントに合わせて被測定体を平面内
で移動させ測定位置に位置決めして支持するＸ−Ｙステ
ージ１４、１６を設け、該Ｘ−Ｙステージ１４、１６の
上方に前記被測定体の測定ポイントを視認する顕微鏡を
Ｚ軸方向に移動可能に支持するとともに、前記測定ポイ
ントに対し瞳面内分布方式によって前記顕微鏡を合焦位
置までＺ軸方向に移動させて合焦させるＺ軸ステージ１
８を設け、前記測定ポイントにおける前記顕微鏡のＺ軸
方向の移動位置の検出手段を設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はリードフレームあるいは
半導体パッケージ等の電子部品の検査等に使用する電子
部品用三次元測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】リードフレームあるいは半導体パッケー
ジといった半導体チップを搭載する電子部品は近年きわ
めて多ピン化および高密度化しており、これら製品の各
部分に求められる寸法精度としてきわめて高精度が要求
されるようになってきた。これらの電子部品の製造では
製品検査にあたりリード等の各部の寸法等を検査する
が、これらの検査では高精度の測定が可能な測定装置が
用いられている。

【０００３】この測定装置の検査内容としては、リード
フレームではリード形状、段差、曲げ深さ、コイニング
深さ、ステージの反り、平面度、フレームの幅方向の反
り等があり、ピングリッドアレイ型半導体パッケージで
はピン配置、ピンの高さ、基板の反り、ボールグリッド
アレイ型半導体パッケージでははんだボールの高さ、平
面配置等がある。

【０００４】これらの検査ではＸ−Ｙ平面内での変位と
ともにＺ方向での変位についても測定する三次元的な測
定が必要となる。従来、三次元的な測定を可能とする測
定装置としては焦点深度法、光切断法といった原理を用
いた測定装置が使用されている。焦点深度法は被測定体
（被観察面）のＺ方向でのずれに対し光学系を合焦位置
までＺ方向に移動させ、その移動位置を直接読みとるこ
とによって被観察面のＺ方向の変位を検出する方法であ
る。

【０００５】光切断法は図７に示すように、被測定体に
対し斜め方向から光を入射させ受光素子にあたる位置の
ずれからＺ方向の変位を検出する方法である。同図で５
が光源、６が受光センサである。被測定体の被観察面の
Ｚ方向の高さがａからｂへずれると受光センサ６での受
光位置がａ’からｂ’にずれ、これによって被測定体の
Ｚ方向の変位を検出することができる。図８に示すよう
に受光センサ６にはフォトアレイが列状に並置されてお
り、このフォトアレイの受光点から受光位置が検出でき
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な従来の測定装置ではきわめて微細でかつ高精度が要求
されるリードフレーム等の電子部品については所要の精
度でかつ高速で検査するには不十分であるという問題が
生じてきた。本出願人は上記の光切断法の原理に基づく
測定装置を従来開発してきたが、この光切断法による場
合は測定ポイントの大きさが大きいこと、投射光の波長
および受光側のレンズ倍率といった光学的な制約によっ
て測定精度の限界が２μｍ程度となること、被測定体の
表面反射をみるため被測定体の表面性状によって影響を
受けやすいといった問題があった。

【０００７】なお、自動合焦方式の顕微鏡をこれらの測
定装置に利用することが最近検討されているが、自動合
焦方式の顕微鏡は合焦速度が遅いこと、被測定体の表面
状態や反射条件が異なる場合の条件設定が難しいといっ
た問題があり、実用的な測定装置の組み込みにまで至っ
ていない。本発明は、このようなリードフレーム等の寸
法精度に高精度が要求される製品を対象とする測定装置
における問題を解消すべくなされたものであり、リード
フレームあるいは半導体パッケージといったきわめて微
細でかつ高精度が要求される製品の検査に好適に使用で
き、かつ取扱いが容易な電子部品用三次元測定装置を提
供しようとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。すなわち、リードフレーム
あるいは半導体パッケージ等の電子部品のリード寸法、
曲げ深さ、基板の反り等を測定する電子部品用三次元測
定装置において、基台上に、被測定体の測定ポイントに
合わせて被測定体を平面内で移動させ測定位置に位置決
めして支持するＸ−Ｙステージを設け、該Ｘ−Ｙステー
ジの上方に前記被測定体の測定ポイントを視認する顕微
鏡をＺ軸方向に移動可能に支持するとともに、前記測定
ポイントに対し瞳面内分布方式によって前記顕微鏡を合
焦位置までＺ軸方向に移動させて合焦させるＺ軸ステー
ジを設け、前記測定ポイントにおける前記顕微鏡のＺ軸
方向の移動位置の検出手段を設けたことを特徴とする。
また、前記Ｚ軸ステージは、前記基台上に支持コラムを
立設し、該支持コラムに固定したベースに顕微鏡をＺ軸
方向に移動ガイドするためのスライドガイド及び該スラ
イドガイドに係合して前記顕微鏡を支持するスライドベ
ースを設け、該スライドベースを移動させる移動機構を
設けたことを特徴とする。これによって１軸スライドス
テージによる精度の良い測定が可能になる。また、前記
顕微鏡の移動位置の検出手段として、前記Ｚ軸ステージ
に設けたベースに移動位置検出用のスケールをＺ軸に平
行に固定し、前記顕微鏡もしくは顕微鏡を支持する移動
部に前記スケールによりＺ軸方向の位置を検出する検出
用ヘッドを設けたことを特徴とする。これによりＺ軸方
向の移動位置を高精度で検出できる。また、前記スケー
ルが透明ガラスに目盛りを設けたガラススケールであ
り、光透過方式により前記目盛りを電気的なパルス信号
として検出ヘッドが読み取るものであることを特徴とす
る。また、前記顕微鏡に被測定体の測定ポイントを拡大
して視認する高倍率カメラを設けるとともに、該高倍率
カメラとは別体に前記被測定体の略全体像を視認する低
倍率カメラを設けたことを特徴とする。これにより、測
定ポイントの指定が容易にできティーチング作業が容易
になる。また、前記高倍率カメラおよび顕微鏡により前
記被測定体を測定するための光源とは別体に前記低倍率
カメラにより前記被測定体を視認するための光源を設け
たことを特徴とする。これにより、測定に影響を与えず
に低倍率カメラによる被測定体の視認が容易にできティ
ーチング等の作業が容易になる。また、前記基台上に防
振構造を介して前記Ｘ−Ｙステージを設けたことによ
り、安定した高精度の測定を可能にする。

【０００９】

【作用】被測定体はＸ−Ｙステージに支持されて測定位
置に測定ポイントを位置決めしてセットされる。Ｘ−Ｙ
ステージの上方に配置されたＺ軸ステージに取り付けら
れた顕微鏡は被測定体の測定ポイントごとＺ軸ステージ
の移動により合焦位置に合致する位置までＺ軸方向に移
動する。測定ポイントにおいてＺ軸方向の移動位置検出
手段により顕微鏡の移動位置が検出され、各測定ポイン
トでの顕微鏡の移動位置から被測定体の各測定ポイント
の高さ測定がなされる。これら、高さ測定値からリード
寸法、曲げ深さ、基板の反り等が測定できる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基
づいて説明する。図１は本発明に係る電子部品用三次元
測定装置を組み込んだ全体装置の説明図である。同図で
１０は装置の基台であり、１２は基台１０上に設置した
定盤である。定盤１２上にはＸＹステージを配置する
が、１４は定盤１２上に配置したＸ軸ステージ、１６は
Ｘ軸ステージ１４の上に配置したＹ軸ステージである。
Ｘ軸ステージ１４は図の左右方向に移動し、Ｙ軸ステー
ジ１６は紙面に垂直方向に移動する。これらＸ軸ステー
ジ１４およびＹ軸ステージ１６の構成は一般のＸ−Ｙス
テージと同様である。

【００１１】Ｘ−Ｙステージの上方にはＺ軸ステージ１
８を配置する。Ｚ軸ステージ１８は被測定体のＺ軸方向
の変位を測定するためのもので、検査用の光学機構とと
もにＸ−Ｙステージの上方に配置する。２０はＺ軸ステ
ージ１８を基台１０の上方で支持するための支持コラム
である。２２はコンピュータ制御用のキーボード、２４
はモニター、２６はマウステーブル、２８はステージカ
バーである。

【００１２】なお、リードフレームあるいは半導体パッ
ケージといったきわめて高精度が要求される三次元測定
装置では、Ｘ−ＹステージおよびＺ軸ステージには高度
の位置精度が要求されるばかりでなく、基台１０を含め
て外部からの振動や温湿度変化などに対しても適切な対
策を施す必要がある。実施例の装置では機械的剛性を高
めるため基台１０にじかに支持コラム２０を固定し、支
持コラム２０を変形コの字形としている。また、Ｘ−Ｙ
ステージを支持する定盤１２は防振ゴムを介して基台１
０に支持することにより、Ｘ−Ｙステージが高速で移動
し、停止を繰り返した際の慣性を吸収して被測定体が位
置ずれすることを防止している。

【００１３】図２はＺ軸ステージ１８とこれに付設する
検査用の光学機構等の構成を示す。３０は支持コラム２
０によって鉛直に固定支持したベースで、３２はベース
３０に固定したスライドガイドである。本実施例の光学
系は自動合焦方式の顕微鏡を使用するが、３４は顕微鏡
を支持するスライドベースであり、前記スライドガイド
３２にガイドされて鉛直方向（Ｚ軸方向）に上下動す
る。３６はスライドベース３４を上下移動させるための
パルスモータである。パルスモータ３６の出力軸にはス
ライドベース３４を上下に移動させるボールネジ３８を
連結する。ボールネジ３８は軸線方向をスライドガイド
３２と平行にして配置し、スライドベース３４にその背
面で係合する。パルスモータ３６はパルス制御によって
そのボールネジ３８の回転量を制御し、これによってス
ライドベース３４の高さ位置を変えることができる。上
記パルスモータ３６、ボールネジ３８等はスライドベー
ス３４の移動機構を構成するが、パルスモータのかわり
にサーボモータを使用することも可能であり、スライド
ベース３４を移動させる構成も本実施例に限るものでは
ない。

【００１４】４０は自動合焦方式の顕微鏡を構成する光
学系の収納部、４２は対物レンズの収納部、４４は高倍
率カメラである。これらはスライドベース３４に固定さ
れている。また、４６は低倍率の顕微鏡、４８は低倍率
カメラで、これらもスライドベース３４に固定されてい
る。高倍率カメラ４４は被測定体を高倍率で観察するた
めのもの、低倍率カメラ４８は被測定体の全体像を視認
するためのものである。高倍率カメラ４４と低倍率カメ
ラ４８とを併設することにより、モニター２４の画面に
高倍率カメラ４４によってとらえた被測定体の像を大き
く拡大して示し、同時にモニター２４の窓内に低倍率カ
メラ４８によってとらえた被測定体の全体像を表示する
といった使い方ができる。

【００１５】実施例のＺ軸ステージ１８は上記のように
１軸スライドステージの構成により自動合焦方式の顕微
鏡を移動するものである。そして、顕微鏡の移動位置を
検知するため、スライドベース３４の一方の外側面にス
ライドベース３４の移動方向と平行にガラススケール５
０を設置し、ガラススケール５０に対向するスライドベ
ース３４の側縁に検出用ヘッドを固定する。ガラススケ
ール５０には透明な基体上に高精度の目盛りが設けられ
ており、前記検出用ヘッドはガラススケール５０に設け
たスケールを光透過式によって検出し、目盛りをパルス
信号として読み取ることによって移動量を検知する。実
際には、目盛りを読み取ったパルス信号を電気的にいっ
たん変換して移動精度を０．１μｍ程度で検知できるよ
うにしている。スライドベース３４およびガラススケー
ル５０はＺ軸方向の顕微鏡の変位量を正確に検出するた
め、Ｘ−Ｙステージに対して正確に垂直に取り付ける。

【００１６】図３は実施例での自動合焦方式の顕微鏡の
光学系を示す説明図である。同図で６０は測定用の光源
として用いる半導体レーザダイオードで、６２はビーム
エキスパンダ用レンズ、６４はハーフミラー、６６は対
物レンズである。実施例の顕微鏡はＺ軸方向に顕微鏡を
移動させて合焦位置を検知し、１軸スライドステージで
の顕微鏡の位置から被測定体の高さを測定するが、実施
例で顕微鏡の合焦方法として採用している方法は、瞳面
内分布方式（ナイフエッジ方式）によるものである。

【００１７】瞳面内分布方式による自動合焦方法の原理
を図４に示す。この方法では、観察面に対する焦点面に
２分割したセンサＡ、Ｂを配置し、センサＡ、Ｂの直前
に光軸に対して一方側を半分遮蔽する遮蔽板Ｃを配置
し、ちょうどフォーカスしたときにセンサＡ、Ｂがとも
に光照射されて明るくなるように配置する。図４(b) が
ちょうどフォーカスした状態でセンサＡ、Ｂが明るい状
態、図４(a) は焦点位置よりも後ろでフォーカスしてい
る状態、図４(c) は焦点位置よりも前でフォーカスして
いる状態である。この方法の特徴はセンサＡ、Ｂの明暗
によって容易にフォーカス位置が識別でき、図４(a) の
ように焦点位置よりも後ろでフォーカスしている場合は
顕微鏡を下げ、図４(c) のように前でフォーカスしてい
る場合は顕微鏡を上げることによって自動的に合焦させ
ることができる。

【００１８】図３で６８は上記の遮蔽板であり、７０は
上記の２分割センサを内蔵した受光センサである。半導
体レーザダイオード６０から放射されたレーザ光は対物
レンズ６６から微小スポットにしぼられて被測定体１０
０に投射され、被測定体１００から反射された光はハー
フミラー６４により一部反射され、受光センサ７０によ
って検知される。受光センサ７０と遮蔽板６８により顕
微鏡位置がフォーカス位置からずれている場合はパルス
モータ３６を駆動しスライドベース３４を移動させるこ
とによって顕微鏡のＺ方向の位置を調節してフォーカス
させる。こうして、被測定体１００の任意の測定ポイン
トに対して顕微鏡がフォーカスされる。

【００１９】上記半導体レーザダイオード６０は測定用
の光源であるが、同時に高倍率カメラ４４によって被測
定体１００を視認する光源としても利用している。一
方、図３で光ファイバー７２は低倍率顕微鏡４６および
低倍率カメラ４８によって被測定体１００を視認する光
を導入するための光ファイバーである。７４は光学レン
ズ等の光学系、７６はハーフミラーである。このよう
に、本実施例では低倍率カメラ４８用の光源と測定用の
光源とを別の光源としているから、測定時であっても測
定精度に影響を与えない範囲で観察用の光源の光量を調
節することができ、被測定体１００を容易に視認するこ
とが可能になる。また、測定前に被測定体１００を視認
して測定位置を決めるといったような場合は観察用の光
源を優先することによって、的確な観察を行うことが可
能になる。

【００２０】次に、実施例の三次元測定装置の使用例と
して、図５に示すリードフレームのインナーリード先端
部のコイニング部の高さを測定する場合を説明する。被
測定体の検査対象部位は、この場合各々のインナーリー
ドの先端部であるから、Ｘ−Ｙステージにより被測定体
をＸ−Ｙ平面内で移動させ、顕微鏡による検査位置にイ
ンナーリードの先端を合わせる。測定ポイントでは顕微
鏡を合焦させ、合焦位置でガラススケール５０のスケー
ルを読み取り、その値を０とする。次いで、Ｘ−Ｙステ
ージで被測定体を移動させ次のインナーリード先端部に
測定ポイントを移動させ、顕微鏡を合焦してそのときの
ガラススケール５０のスケールを取り込む。

【００２１】このようにして、次々とインナーリードの
先端部について顕微鏡を合焦させ、合焦した顕微鏡の位
置（Ｚ方向のスケール値）を読み取っていく。インナー
リードの先端部の測定ポイントでリードの高さが異なる
と顕微鏡は合焦位置までＺ軸方向に移動し合焦した位置
で停止する。こうして、図６に示すような各測定ポイン
トでＺ軸方向の読み取り値が得られる。読み取り値は電
気的な変換により現実の高さ変位値におきかえられ測定
値となる。これらの測定値はインナーリードの先端部の
高さの変動を示すものであり、これらの結果から各測定
ポイントでの高さの差を知ることができる。

【００２２】実施例の三次元測定装置はこのようにＸ−
Ｙ平面で適宜測定ポイントを設定し、当該測定ポイント
ごとにＺ軸方向、すなわち高さ測定することによって、
種々の三次元的な測定を行うことができる。測定ポイン
トは検査対象に応じて適宜設定すればよく、たとえばリ
ードフレームのステージ上で何点か測定ポイントをとる
ことでステージの反り、平坦度を測定することができ
る。また、同様にしてリードの曲げ深さ、幅反り、チル
ト、ツイスト測定等ができる。

【００２３】なお、図５に示した例のように、多ピンの
リードフレームで個々のリードにつて測定するような場
合に自動測定するには、被測定体のどの部分を測定する
かあらかじめ三次元測定装置に教え込む（ティーチン
グ）ことが必要である。このようなティーチング作業で
は被測定体のかなり広い範囲を観察できるようにし、測
定個所が容易に把握できるようにするのが作業性の向上
には好都合である。実施例の装置では、この点で高倍率
カメラ４４とともに低倍率カメラ４８を併設したことに
よってこのようなティーチング作業が容易にできるとい
う利点がある。すなわち、低倍率カメラ４８によって被
測定体の全体像を把握することによって測定ポイントを
的確に選択してティーチングでき、測定の際には高倍率
像に切り換えて測定することができる。

【００２４】顕微鏡の測定倍率等は適宜設定できるが、
実施例での自動合焦方式の顕微鏡の測定倍率は倍率４０
倍、フォーカス精度±０．２μｍ、フォーカス範囲±１
７０μｍ、測定ポイント６μｍである。低倍率カメラ４
８を使用するティーチング用の光学系は、ティーチング
画面視野７×７ｍｍ、画面分解能１３μｍ、低倍率カメ
ラ４８は３０万画素のＣＣＤカメラを使用し、光源はハ
ロゲン照明によった。これらの光学系の設定によって測
定ポイントがきわめてしぼられて設定されることからリ
ードフレームのインナーリード部分のようにきわめて微
細なパターンで形成される部位についても的確な測定が
可能である。とくに、実施例の装置では１本のリード内
で複数の測定ポイントを設定するといった超高精度の測
定も可能であり、リードごとのチルト、ツイストを測定
することも可能である。また、測定ポイントを適宜設定
することで、三次元グラフィック表示とすることも可能
であり、被測定体の断面形状、等高線表示といった種々
のデータ処理を施すことも可能である。

【００２５】また、ティーチング操作の際も高精度で測
定ポイントを特定することができ、これによっても的確
な自動測定を可能にしている。なお、実施例では高倍率
カメラ４４の光学系と低倍率カメラ４８の光学系が別個
にあり各々の光軸は一致していないが、画像を認識する
際に互いの光学系の位置関係を補正することよって同じ
光軸像として認識することが可能である。これによっ
て、ティーチング作業を正確に行うことができる。

【００２６】また、実施例の三次元測定装置では瞳面内
光分布式（ナイフエッジ式）による合焦方式を採用した
ことによってフォーカス位置に短時間に到達させること
ができるという利点がある。自動合焦方式の顕微鏡の場
合、フォーカス位置にできるだけ短時間で到達できるよ
うにすることが測定時間を短縮する上で非常に重要であ
る。任意位置にある顕微鏡が任意位置にある被測定体の
フォーカス位置に到達させる場合、一般的な合焦方式で
はフォーカス位置への方向性が確定しないため、毎回決
まった基準点にいったん戻ってからフォーカス位置を探
しにいくという方法をとるが、実施例の場合は原理的に
は一定のフォーカス範囲内にあればフォーカス位置に対
する現在位置からの方向性が確定可能であり、そのつど
基準点に戻るという必要がないことから短時間でフォー
カスすることが可能になる。

【００２７】また、実施例の場合は２分割した受光セン
サからの出力電圧を比較してフォーカス位置を判別する
から、画像を積分したり微分したりする必要がなく、電
気回路レベルの速度で結果が識別できることからも測定
時間の高速化に寄与している。なお、三次元測定装置の
総合的な測定時間は顕微鏡がフォーカス範囲外にあった
場合にフォーカス範囲内に移動させてフォーカスさせる
までの時間が測定速度に大きく影響する。実施例の装置
ではこの測定時間を短縮するため、コンピュータ制御に
よってあらかじめ登録されているフォーカス範囲内まで
自動的に顕微鏡を移動させ、フォーカス位置近傍から自
動フォーカス動作をさせることで総合的な測定時間の短
縮を図っている。

【００２８】また、実施例の装置では上述したようにき
わめて微細な測定ポイントについて測定するため、測定
対象位置や測定条件によってスポット光が欠けるといっ
たことが生じ得る。このため、実際の測定にあたっては
指定測定ポイントにおいて複数のデータを取り、データ
の差が一定以上のデータは異常データとして除去し、残
りのデータの平均をとって当該測定ポイントのデータ値
とするようにしている。これによって、光の回折や干
渉、使用するスポット光やスリット光の欠けなどによる
生のデータのばらつきを取り除いて、繰り返し再現精度
のよい高精度の測定を可能にしている。

【００２９】

【発明の効果】本発明に係る電子部品用三次元測定装置
によれば、上述したように、リードフレームあるいは半
導体パッケージといったきわめて微細にかつ高精度に形
成される電子部品について、高精度でかつ高速での測定
が可能になる。また、リード形状、段差形状等の他、リ
ードピン等の外部接続端子の平面配置、高さ等の種々の
測定に好適に利用することができる等の著効を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】電子部品用三次元測定装置の全体構成を示す説
明図である。

【図２】Ｚ軸ステージの構成を示す説明図である。

【図３】自動合焦方式による実施例装置の光学系の構成
を示す説明図である。

【図４】瞳面内分布方式の自動合焦方法の原理を示す説
明図である。

【図５】電子部品用三次元測定装置によりリードフレー
ムを測定する方法を示す説明図である。

【図６】リードフレームの測定結果を示すグラフであ
る。

【図７】光切断法による測定方法を示す説明図である。

【図８】光切断法で用いる受光センサを示す説明図であ
る。

【符号の説明】

１０ 基台 １２ 定盤 １４ Ｘ軸ステージ １６ Ｙ軸ステージ １８ Ｚ軸ステージ ２０ 支持コラム ２４ モニター ３２ スライドガイド ３４ スライドベース ３６ パルスモータ ３８ ボールネジ ４４ 高倍率カメラ ４６ 低倍率の顕微鏡 ４８ 低倍率カメラ ５０ ガラススケール ６０ 半導体レーザダイオード ６６ 対物レンズ ６８ 遮蔽板 ７０ 受光センサ ７２ 光ファイバー １００ 被測定体

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 リードフレームあるいは半導体パッケー
   ジ等の電子部品のリード寸法、曲げ深さ、基板の反り等
   を測定する電子部品用三次元測定装置において、 基台上に、被測定体の測定ポイントに合わせて被測定体
   を平面内で移動させ測定位置に位置決めして支持するＸ
   −Ｙステージを設け、 該Ｘ−Ｙステージの上方に前記被測定体の測定ポイント
   を視認する顕微鏡をＺ軸方向に移動可能に支持するとと
   もに、前記測定ポイントに対し瞳面内分布方式によって
   前記顕微鏡を合焦位置までＺ軸方向に移動させて合焦さ
   せるＺ軸ステージを設け、 前記測定ポイントにおける前記顕微鏡のＺ軸方向の移動
   位置の検出手段を設けたことを特徴とする電子部品用三
   次元測定装置。
2. 【請求項２】 前記Ｚ軸ステージは、前記基台上に支持
   コラムを立設し、該支持コラムに固定したベースに顕微
   鏡をＺ軸方向に移動ガイドするためのスライドガイド及
   び該スライドガイドに係合して前記顕微鏡を支持するス
   ライドベースを設け、該スライドベースを移動させる移
   動機構を設けたことを特徴とする請求項１記載の電子部
   品用三次元測定装置。
3. 【請求項３】 前記顕微鏡の移動位置の検出手段とし
   て、前記Ｚ軸ステージに設けたベースに移動位置検出用
   のスケールをＺ軸に平行に固定し、 前記顕微鏡もしくは顕微鏡を支持する移動部に前記スケ
   ールによりＺ軸方向の位置を検出する検出用ヘッドを設
   けたことを特徴とする請求項１記載の電子部品用三次元
   測定装置。
4. 【請求項４】 前記スケールが透明ガラスに目盛りを設
   けたガラススケールであり、光透過方式により前記目盛
   りを電気的なパルス信号として検出ヘッドが読み取るも
   のであることを特徴とする請求項３記載の電子部品用三
   次元測定装置。
5. 【請求項５】 前記顕微鏡に被測定体の測定ポイントを
   拡大して視認する高倍率カメラを設けるとともに、該高
   倍率カメラとは別体に前記被測定体の略全体像を視認す
   る低倍率カメラを設けたことを特徴とする請求項１記載
   の電子部品用測定装置。
6. 【請求項６】 前記高倍率カメラおよび顕微鏡により前
   記被測定体を測定するための光源とは別体に前記低倍率
   カメラにより前記被測定体を視認するための光源を設け
   たことを特徴とする請求項５記載の電子部品用測定装
   置。
7. 【請求項７】 前記基台上に防振構造を介して前記Ｘ−
   Ｙステージを設けたことを特徴とする請求項１記載の電
   子部品用測定装置。