KR0132220Y1

KR0132220Y1 - 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척

Info

Publication number: KR0132220Y1
Application number: KR2019960029566U
Authority: KR
Inventors: 전상균
Original assignee: 문정환; 엘지반도체주식회사
Priority date: 1996-09-17
Filing date: 1996-09-17
Publication date: 1998-12-15
Also published as: KR19980016258U

Abstract

본 고안은 노광용 스탭퍼의 웨이퍼척을 구동시 세타 소프트시의 진공 누설과 고정 로울러의 간섭에 의한 웨이퍼척이 플로우팅되는 것을 웨이퍼척과 고정 로울러 사이의 접촉 면적을 늘려 최대한도로 방지할수 있고, 웨이퍼척과 고정 로울러의 접촉 부분을 빗장 형태로 하여 웨이퍼척의 이탈을 방지할수 있어서 안정된 상태로 포커스 구동을 할수있는등의 많은 장점이 구비된 것이다.

이를 위해, 본 고안은 웨이퍼척(1)에 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2) 사이의 접촉 면적을 늘려 웨이퍼척(1)의 플로우팅 및 이탈을 방지하기 위해 고정 로울러(2)에 형성된 요입홈(3)에 대응 삽입되는 돌출부(4)가 형성되고, 상기 고정 로울러(2)의 축(5)에는 웨이퍼척(1)의 업 및 다운시 고정 로울러(2)가 낙하되는 것을 방지하기 위한 스프링(6)이 설치된 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척이다.

Description

반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척

본 고안은 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 소자를 제조하기 위한 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척을 구동시 세타 소프트시의 진공 누설과 고정 로울러의 간섭에 의한 웨이퍼척이 플로우팅되는 것을 방지할수 있도록 한 것이다.

종래의 반도체 소자를 제조하기 위한 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척은 제1도 내지 제3도에 나타낸 바와같이, 스테이지 이니셜(웨이퍼척 이니셜)과 웨이퍼척의 얼라인시 세타(Theta:θ) 보정을 위해 구동하게 되고, 최초의 세타 구동시 웨이퍼척(1a) 하부의 WTC Planetary 기어의 진공 패드(8)에서 웨이퍼척(1a)을 지지하는 하드 진공 상태가 소프트 진공 상태로 릴리즈(Release) 된다.

또한, 세타 모터(9)의 구동에 따라 웨이퍼척(1a)과 세타 모터 블록 사이 세타핀(10)의 푸쉬 스텝에 의해서 웨이퍼척(1a)이 시계 방향으로 회전하게 되고, 인니셜 또는 세타 보정 완료후 세타 모터(9)의 역구동시 세타 스프링(11)에 의한 텐션으로 반시계 방향으로 원위치하게 되며, 상기 웨이퍼척(1a)의 회전시 웨이퍼척(1a)과 접한 고정 로울러(2a)가 웨이퍼척(1a)의 측면을 회전하게 된다.

웨이퍼척(1a)의 위치가 결정되면 척 클램프(12)가 록킹되고, 진공 패드(8)의 세타 진공은 소프트 진공 상태에서 하드 진공 상태로 다시 릴리즈되어 웨이퍼척(1a)을 홀딩시키게 된다.

그러나, 이와같은 종래 웨이퍼척(1a)의 구동시 척 클램프(12)와 고정 로울러(2a)를 따라 구동하게 되는데, 이때 진공 패드(8)의 하드 진공 상태에서 소프트 진공 상태로 릴리즈 동작시 웨이퍼척(1a)이 순간적으로 플로팅 되는데, 이것은 고정 로울러(2a)의 높이가 웨이퍼척(1a)의 상단 표면으로 부터 약 1/3 위치에 있으므로 웨이퍼척(1a)의 플로팅을 억제시킬수가 있고, 순간적인 웨이퍼척(1a)의 플로팅은 안정된 포커스 기능을 저해시키게 되는등의 많은 문제점이 있었다.

본 고안은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 반도체 소자를 제조하기 위한 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척을 구동시 세타 소프트시의 진공 누설과 고정 로울러의 간섭에 의한 웨이퍼척이 플로우팅되는 것을 방지할수 있도록 하여 안정된 상태로 포커스 구동을 할수 있는 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척을 제공하는 데 그 목적이 있다.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 고안은 웨이퍼척에 웨이퍼척과 고정 로울러 사이의 접촉 면적을 늘려 웨이퍼척의 플로우팅 및 이탈을 방지하기 위해 고정 로울러에 형성된 요입홈에 대응 삽입되는 돌출부가 형성되고, 상기 고정 로울러의 축에는 웨이퍼척의 업 및 다운시 고정 로울러가 낙하되는 것을 방지하기 위한 스프링이 설치된 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척이 제공된다.

제1도는 종래의 반도체 소자 노광용 스텝퍼에 웨이퍼척이 설치된 상태를 나타낸 평면도.

제2도는 제1도의 진공 패드에 고정 로울러와 척 클램프가 접속된 상태를 나타낸 평면도.

제3도는 제1도의 종단면도.

제4는 본 고안을 나타낸 종단면도.

제5도는 제4도는의 평면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 웨이퍼척 2 : 고정 로울러

3 : 요입홈 4 : 돌출부

5 : 축 6 : 스프링

이하, 본 고안의 일실시예를 첨부도면 제4도 및 제5도를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

제4도는 본 고안을 나타낸 종단면도이고, 제5도는 제4도는의 평면도로서, 반도체 소자의 제조를 하기 위한 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척(1) 외주면에 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2) 사이의 접촉 면적을 늘려 웨이퍼척(1)의 플로우팅 및 이탈을 방지하기 위해 고정 로울러(2)의 외주면에 형성된 요입홈(3)에 대응 삽입되는 약 1 ㎝ 이내의 돌출부(4)가 형성되고, 상기 고정 로울러(2)의 축(5) 하부에는 웨이퍼척(1)의 업 및 다운시 고정 로울러(2)가 낙하되는 것을 방지하기 위한 스프링(6)이 설치되어 구성된다.

이와같이 구성된 본 고안은 제4도 및 제5도에 나타낸 바와같이, 반도체 소자의 제조를 하기 위한 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척(1)의 외주면에 고정 로울러(2)의 외주면에 형성된 요입홈(3)에 대응 삽입되는 약 1 ㎝ 이내의 돌출부(4)가 형성되고, 상기 고정 로울러(2)의 축(5) 하부에는 스프링(6)이 설치된 상태에서 웨이퍼척(1)이 구동하게 되면 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2) 사이의 빗장 형태의 접촉 방식에 의해서 세타를 보정하기 위해 웨이퍼척(1)이 회전하게 된다.

이때, 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2) 사이의 접촉 면적이 증대되므로 웨이퍼척(1)의 플로우팅을 최대한 방지할수 있고, 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2)의 접촉 부분을 빗장 형태로 하여 웨이퍼척(1)의 이탈을 방지할수 있게 된다.

또한, 제5도와 같이 고정 로울러(2)가 구동시 웨이퍼척(1)과의 접촉 부위 한계는 약 1 ㎝로 한정하여 웨이퍼척(1)의 크리닝 또는 웨이퍼척(1)의 장, 탈착을 용이하게 할수 있게 된다.

또한, WTC 모터(7)의 구동에 따른 웨이퍼척(1)의 업/다운시 고정 로울러(2)의 높이도 대응할수 있도록 고정 로울러(2)의 축(5) 하부에 스프링(6)을 설치하여 고정 로울러(2)의 낙하등을 방지할수 있게 된다.

이상에서와 같이, 본 보안은 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척(1)을 구동시 세타 소프트시의 진공 누설과 고정 로울러(2)의 간섭에 의한 웨이퍼척(1)이 플로우팅되는 것을 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2) 사이의 접촉 면적을 늘려 최대한도로 방지할수 있고, 웨이퍼척(1)과 고정 로울러(2)의 접촉 부분을 빗장 형태로 하여 웨이퍼척(1)의 이탈을 방지할수 있어서 안정된 상태로 포커스 구동을 할수있는등의 많은 장점이 구비된 매우 유용한 고안이다.

Claims

웨이퍼척에 웨이퍼척과 고정 로울러 사이의 접촉 면적을 늘려 웨이퍼척의 플로우팅 및 이탈을 방지하기 위해 고정 로울러에 형성된 요입홈에 대응 삽입되는 돌출부가 형성되고, 상기 고정 로울러의 축에는 웨이퍼척의 업 및 다운시 고정 로울러가 낙하되는 것을 방지하기 위한 스프링이 설치된 것을 특징으로하는 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척.
제1항에 있어서, 상기 웨이퍼척의 외주면에 돌출부가 약 1 ㎝ 이내로 형성된 반도체 소자 노광용 스텝퍼의 웨이퍼척.