JPWO2023189799A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPWO2023189799A5 JPWO2023189799A5 JP2024511865A JP2024511865A JPWO2023189799A5 JP WO2023189799 A5 JPWO2023189799 A5 JP WO2023189799A5 JP 2024511865 A JP2024511865 A JP 2024511865A JP 2024511865 A JP2024511865 A JP 2024511865A JP WO2023189799 A5 JPWO2023189799 A5 JP WO2023189799A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aromatic
- group
- underlayer film
- resist underlayer
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022051966 | 2022-03-28 | ||
| PCT/JP2023/010815 WO2023189799A1 (ja) | 2022-03-28 | 2023-03-20 | 自己架橋性ポリマー及びレジスト下層膜形成組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023189799A1 JPWO2023189799A1 (https=) | 2023-10-05 |
| JPWO2023189799A5 true JPWO2023189799A5 (https=) | 2026-03-10 |
Family
ID=88201087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024511865A Pending JPWO2023189799A1 (https=) | 2022-03-28 | 2023-03-20 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20260022203A1 (https=) |
| JP (1) | JPWO2023189799A1 (https=) |
| KR (1) | KR20240168378A (https=) |
| CN (1) | CN118974135A (https=) |
| TW (1) | TW202406971A (https=) |
| WO (1) | WO2023189799A1 (https=) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW202540261A (zh) * | 2023-11-02 | 2025-10-16 | 日商日產化學股份有限公司 | 阻劑下層膜形成用組成物 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101821705B1 (ko) * | 2011-09-06 | 2018-01-25 | 주식회사 동진쎄미켐 | 페놀계 자가가교 고분자 및 이를 포함하는 레지스트 하층막 조성물 |
| JP6726142B2 (ja) | 2017-08-28 | 2020-07-22 | 信越化学工業株式会社 | 有機膜形成用組成物、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び重合体 |
| JP6940335B2 (ja) | 2017-08-30 | 2021-09-29 | 信越化学工業株式会社 | 有機膜形成用組成物、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び重合体 |
| CN110041345B (zh) * | 2019-05-10 | 2020-08-04 | 福建泓光半导体材料有限公司 | 一种抗蚀剂下层膜单体和组合物及图案形成方法 |
| JP2021105703A (ja) * | 2020-06-01 | 2021-07-26 | 日産化学株式会社 | イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物 |
-
2023
- 2023-03-20 KR KR1020247035246A patent/KR20240168378A/ko active Pending
- 2023-03-20 US US18/850,809 patent/US20260022203A1/en active Pending
- 2023-03-20 CN CN202380031323.4A patent/CN118974135A/zh active Pending
- 2023-03-20 WO PCT/JP2023/010815 patent/WO2023189799A1/ja not_active Ceased
- 2023-03-20 JP JP2024511865A patent/JPWO2023189799A1/ja active Pending
- 2023-03-23 TW TW112110902A patent/TW202406971A/zh unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7064149B2 (ja) | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 | |
| TWI795383B (zh) | 含有醯胺溶劑之阻劑下層膜形成組成物 | |
| JP7545125B2 (ja) | レジスト下層膜形成組成物の製造方法、パターニングされた基板の製造方法および半導体装置の製造方法 | |
| TW201632996A (zh) | 抗蝕劑底層膜形成用組成物、抗蝕劑底層膜及圖案化基板的製造方法 | |
| CN105209974A (zh) | 含有使用双酚醛的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 | |
| TWI456352B (zh) | 圖案形成方法 | |
| JP7056651B2 (ja) | フルオレン化合物を用いたレジスト下層膜形成組成物 | |
| TW201324057A (zh) | 多層抗蝕製程用抗蝕底層膜形成用組成物、抗蝕底層膜及其形成方法，以及圖型形成方法 | |
| TW200905401A (en) | Resist underlayer coating forming composition | |
| TWI748986B (zh) | 抗蝕劑底層膜形成用組成物、抗蝕劑底層膜及圖案化基板的製造方法 | |
| TW201634615A (zh) | 可以濕式去除的含矽阻劑下層膜形成組成物 | |
| CN105143979A (zh) | 抗蚀剂下层膜形成用组合物 | |
| TWI652548B (zh) | Resist underlayer film forming polymer, method for producing the same, and resistance Etchant underlayer film forming composition, resist underlayer film, and method of manufacturing patterned substrate | |
| TWI911473B (zh) | 抗蝕劑底層膜的形成方法、半導體基板的製造方法、抗蝕劑底層膜形成用組成物及抗蝕劑底層膜 | |
| JPWO2023189803A5 (https=) | ||
| CN104937493A (zh) | 光刻用抗蚀剂上层膜形成用组合物及使用了该组合物的半导体装置的制造方法 | |
| JP7041358B2 (ja) | 膜形成用組成物、膜、レジスト下層膜の形成方法、パターニングされた基板の製造方法及び化合物 | |
| KR101582462B1 (ko) | 신규한 중합체 및 이를 포함하는 조성물 | |
| KR20170105480A (ko) | 스핀-온 하드마스크 재료 | |
| JPWO2023189799A5 (https=) | ||
| TW202449008A (zh) | 形成阻劑下層膜之組成物 | |
| TW202433182A (zh) | 形成阻劑下層膜之組成物 | |
| JPWO2022059504A5 (https=) | ||
| TW201722908A (zh) | 膜形成用組成物、膜、形成有圖案的基板的製造方法及化合物 |