JPWO2023090256A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2023090256A5 JPWO2023090256A5 JP2023561565A JP2023561565A JPWO2023090256A5 JP WO2023090256 A5 JPWO2023090256 A5 JP WO2023090256A5 JP 2023561565 A JP2023561565 A JP 2023561565A JP 2023561565 A JP2023561565 A JP 2023561565A JP WO2023090256 A5 JPWO2023090256 A5 JP WO2023090256A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- source
- bias
- phase
- power supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021188303 | 2021-11-19 | ||
| JP2021188303 | 2021-11-19 | ||
| PCT/JP2022/041985 WO2023090256A1 (ja) | 2021-11-19 | 2022-11-10 | プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2023090256A1 JPWO2023090256A1 (https=) | 2023-05-25 |
| JPWO2023090256A5 true JPWO2023090256A5 (https=) | 2024-12-11 |
| JP7622252B2 JP7622252B2 (ja) | 2025-01-27 |
Family
ID=86396925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023561565A Active JP7622252B2 (ja) | 2021-11-19 | 2022-11-10 | プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12476080B2 (https=) |
| JP (1) | JP7622252B2 (https=) |
| KR (1) | KR20240101662A (https=) |
| CN (1) | CN118202792A (https=) |
| TW (1) | TW202336804A (https=) |
| WO (1) | WO2023090256A1 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7462803B2 (ja) * | 2021-01-29 | 2024-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びソース高周波電力のソース周波数を制御する方法 |
| WO2025070640A1 (ja) * | 2023-09-29 | 2025-04-03 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び制御方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4739793B2 (ja) | 2005-03-31 | 2011-08-03 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置 |
| JP5319150B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
| US9947514B2 (en) | 2015-09-01 | 2018-04-17 | Mks Instruments, Inc. | Plasma RF bias cancellation system |
| JP7474591B2 (ja) | 2019-12-27 | 2024-04-25 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源システム |
| JP6928407B1 (ja) * | 2021-03-15 | 2021-09-01 | 株式会社アドテックプラズマテクノロジー | 出力する高周波電力の経時変化パターンを任意に設定可能な高周波電源 |
-
2022
- 2022-11-07 TW TW111142393A patent/TW202336804A/zh unknown
- 2022-11-10 WO PCT/JP2022/041985 patent/WO2023090256A1/ja not_active Ceased
- 2022-11-10 CN CN202280074030.XA patent/CN118202792A/zh active Pending
- 2022-11-10 KR KR1020247019319A patent/KR20240101662A/ko active Pending
- 2022-11-10 JP JP2023561565A patent/JP7622252B2/ja active Active
-
2024
- 2024-03-15 US US18/607,327 patent/US12476080B2/en active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11935726B2 (en) | High speed synchronization of plasma source/bias power delivery | |
| TWI776184B (zh) | 一種射頻電源系統、電漿處理器及其調頻匹配方法 | |
| US10468233B2 (en) | RF power delivery regulation for processing substrates | |
| KR102381837B1 (ko) | 플라즈마 rf 바이어스 소거 시스템 | |
| CN103295865B (zh) | 用于多频率rf脉冲的频率增强阻抗依赖的功率控制 | |
| JP6837053B2 (ja) | 基板処理のためのrfパルス反射の低減 | |
| KR101761493B1 (ko) | 스위칭 모드 이온 에너지 분포 시스템을 교정하기 위한 시스템 및 방법 | |
| JPWO2023090256A5 (https=) | ||
| JP6404580B2 (ja) | 電力制御モードのためのチャンバマッチング | |
| TW201633853A (zh) | 電漿處理系統中之射頻功率補償用系統、方法及設備 | |
| CN103155717A (zh) | 控制离子能量分布的系统、方法和装置 | |
| KR20240096677A (ko) | 플라즈마 프로세싱 동안 복수의 파형 신호들을 전달하기 위한 장치 및 방법 | |
| JP2024074894A5 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| US20230298857A1 (en) | Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System | |
| US12531207B2 (en) | Plasma processing system and plasma processing method | |
| WO2023132300A1 (ja) | プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体 | |
| JP2022105037A5 (https=) | ||
| JP2023001473A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| KR20240101662A (ko) | 플라즈마 처리 장치, 전원 시스템, 제어 방법, 프로그램, 및 기억 매체 | |
| JP7678233B2 (ja) | プラズマ処理装置、ソース高周波電力のソース周波数を制御する方法、及び記憶媒体 | |
| JPWO2022125231A5 (https=) | ||
| US10622191B2 (en) | Substrate processing method | |
| JP7727860B2 (ja) | プラズマ処理装置、電源システム、及び周波数制御方法 | |
| TW202335028A (zh) | 電漿處理裝置、供電系統、控制方法、程式及記憶媒體 | |
| KR20250090378A (ko) | 플라즈마 처리 장치, 전원 시스템, 및 소스 주파수를 제어하는 방법 |