JPWO2023090256A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023090256A5
JPWO2023090256A5 JP2023561565A JP2023561565A JPWO2023090256A5 JP WO2023090256 A5 JPWO2023090256 A5 JP WO2023090256A5 JP 2023561565 A JP2023561565 A JP 2023561565A JP 2023561565 A JP2023561565 A JP 2023561565A JP WO2023090256 A5 JPWO2023090256 A5 JP WO2023090256A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
source
bias
phase
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2023561565A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023090256A1 (https=
JP7622252B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/041985 external-priority patent/WO2023090256A1/ja
Publication of JPWO2023090256A1 publication Critical patent/JPWO2023090256A1/ja
Publication of JPWO2023090256A5 publication Critical patent/JPWO2023090256A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7622252B2 publication Critical patent/JP7622252B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2023561565A 2021-11-19 2022-11-10 プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体 Active JP7622252B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021188303 2021-11-19
JP2021188303 2021-11-19
PCT/JP2022/041985 WO2023090256A1 (ja) 2021-11-19 2022-11-10 プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2023090256A1 JPWO2023090256A1 (https=) 2023-05-25
JPWO2023090256A5 true JPWO2023090256A5 (https=) 2024-12-11
JP7622252B2 JP7622252B2 (ja) 2025-01-27

Family

ID=86396925

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023561565A Active JP7622252B2 (ja) 2021-11-19 2022-11-10 プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体

Country Status (6)

Country Link
US (1) US12476080B2 (https=)
JP (1) JP7622252B2 (https=)
KR (1) KR20240101662A (https=)
CN (1) CN118202792A (https=)
TW (1) TW202336804A (https=)
WO (1) WO2023090256A1 (https=)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7462803B2 (ja) * 2021-01-29 2024-04-05 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びソース高周波電力のソース周波数を制御する方法
WO2025070640A1 (ja) * 2023-09-29 2025-04-03 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及び制御方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4739793B2 (ja) 2005-03-31 2011-08-03 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
JP5319150B2 (ja) 2008-03-31 2013-10-16 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
US9947514B2 (en) 2015-09-01 2018-04-17 Mks Instruments, Inc. Plasma RF bias cancellation system
JP7474591B2 (ja) 2019-12-27 2024-04-25 株式会社ダイヘン 高周波電源システム
JP6928407B1 (ja) * 2021-03-15 2021-09-01 株式会社アドテックプラズマテクノロジー 出力する高周波電力の経時変化パターンを任意に設定可能な高周波電源

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11935726B2 (en) High speed synchronization of plasma source/bias power delivery
TWI776184B (zh) 一種射頻電源系統、電漿處理器及其調頻匹配方法
US10468233B2 (en) RF power delivery regulation for processing substrates
KR102381837B1 (ko) 플라즈마 rf 바이어스 소거 시스템
CN103295865B (zh) 用于多频率rf脉冲的频率增强阻抗依赖的功率控制
JP6837053B2 (ja) 基板処理のためのrfパルス反射の低減
KR101761493B1 (ko) 스위칭 모드 이온 에너지 분포 시스템을 교정하기 위한 시스템 및 방법
JPWO2023090256A5 (https=)
JP6404580B2 (ja) 電力制御モードのためのチャンバマッチング
TW201633853A (zh) 電漿處理系統中之射頻功率補償用系統、方法及設備
CN103155717A (zh) 控制离子能量分布的系统、方法和装置
KR20240096677A (ko) 플라즈마 프로세싱 동안 복수의 파형 신호들을 전달하기 위한 장치 및 방법
JP2024074894A5 (ja) プラズマ処理装置
US20230298857A1 (en) Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System
US12531207B2 (en) Plasma processing system and plasma processing method
WO2023132300A1 (ja) プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体
JP2022105037A5 (https=)
JP2023001473A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
KR20240101662A (ko) 플라즈마 처리 장치, 전원 시스템, 제어 방법, 프로그램, 및 기억 매체
JP7678233B2 (ja) プラズマ処理装置、ソース高周波電力のソース周波数を制御する方法、及び記憶媒体
JPWO2022125231A5 (https=)
US10622191B2 (en) Substrate processing method
JP7727860B2 (ja) プラズマ処理装置、電源システム、及び周波数制御方法
TW202335028A (zh) 電漿處理裝置、供電系統、控制方法、程式及記憶媒體
KR20250090378A (ko) 플라즈마 처리 장치, 전원 시스템, 및 소스 주파수를 제어하는 방법