JPWO2023054464A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 溶射法において用いる成膜装置であって、
   ノズルと、
   前記ノズルに成膜原料となる粉末を供給する粉末供給部と、
   前記ノズルに動作ガスを供給するガス供給部とを備え、
   前記ノズルは、ノズルパイプと、前記ノズルパイプの前記動作ガスが流れる上流側に接続されるセラミックパイプと、前記セラミックパイプが嵌挿されるノズルホルダーとを有し、
   前記ノズルホルダーは、前記動作ガスが前記ノズルホルダー内を流れる第１方向に延びる第１部分を含み、
   前記粉末供給部と前記第１部分とを結ぶ配管をさらに備え、
   前記配管が前記第１部分に接続される前記配管の部分は、前記第１方向に交差する第２方向に延び、
   前記ノズルパイプと前記セラミックパイプとの周囲を囲み前記ノズルパイプおよび前記セラミックパイプと接触するガイド部品をさらに備え、
   前記ガイド部品は銅により形成される、成膜装置。
2. 前記セラミックパイプは、前記ノズルホルダー内における前記動作ガスの流路と前記粉末の流路との交差部に隣接する領域および前記隣接する領域の前記動作ガスが流れる下流側に配置される、請求項１に記載の成膜装置。
3. 前記セラミックパイプの前記第１方向に沿う長さは１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、請求項１または２に記載の成膜装置。
4. 前記セラミックパイプは、ジルコニア、窒化珪素およびアルミナからなる群から選択されるいずれかにより形成される、請求項１または２に記載の成膜装置。
5. 溶射法において用いる成膜装置であって、
   ノズルと、
   前記ノズルに成膜原料となる粉末を供給する粉末供給部と、
   前記ノズルに動作ガスを供給するガス供給部とを備え、
   前記ノズルは、ノズルパイプと、前記ノズルパイプの前記動作ガスが流れる上流側に接続されるセラミックパイプと、前記セラミックパイプが嵌挿されるノズルホルダーとを有し、
   前記ノズルホルダーは、前記動作ガスが前記ノズルホルダー内を流れる第１方向に延びる第１部分を含み、
   前記粉末供給部と前記第１部分とを結ぶ配管をさらに備え、
   前記配管が前記第１部分に接続される前記配管の部分は、前記第１方向に交差する第２方向に延び、
   前記ノズルホルダーの内部には空洞部の内径が最も小さいスロート部が形成され、
   前記配管が前記第１部分に接続される交差部は、前記スロート部よりも前記動作ガスが流れる下流側である、成膜装置。
6. 溶射法において用いる成膜装置であって、
   ノズルと、
   前記ノズルに成膜原料となる粉末を供給する粉末供給部と、
   前記ノズルに動作ガスを供給するガス供給部とを備え、
   前記ノズルは、ノズルパイプと、前記ノズルパイプの前記動作ガスが流れる上流側に接続されるセラミックパイプと、前記セラミックパイプが嵌挿されるノズルホルダーとを有し、
   前記ノズルホルダーは、前記動作ガスが前記ノズルホルダー内を流れる第１方向に延びる第１部分を含み、
   前記粉末供給部と前記第１部分とを結ぶ配管をさらに備え、
   前記配管が前記第１部分に接続される前記配管の部分は、前記第１方向に交差する第２方向に延び、
   前記ノズルホルダーの内部には空洞部の内径が最も小さいスロート部が形成され、
   前記セラミックパイプは、前記スロート部よりも前記動作ガスが流れる下流側のみに配置される、成膜装置。
7. 前記セラミックパイプは、前記ノズルホルダー内における前記動作ガスの流路と前記粉末の流路との交差部に隣接する領域および前記隣接する領域の前記動作ガスが流れる下流側に配置される、請求項５または６に記載の成膜装置。
8. 前記セラミックパイプの前記第１方向に沿う長さは１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、請求項５または６に記載の成膜装置。
9. 前記セラミックパイプは、ジルコニア、窒化珪素およびアルミナからなる群から選択されるいずれかにより形成される、請求項５または６に記載の成膜装置。
10. 前記ノズルパイプと前記セラミックパイプとの周囲を囲み前記ノズルパイプおよび前記セラミックパイプと接触するガイド部品をさらに備え、
    前記ガイド部品は銅により形成される、請求項５または６に記載の成膜装置。