JPWO2022209733A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2022209733A5 JPWO2022209733A5 JP2023510815A JP2023510815A JPWO2022209733A5 JP WO2022209733 A5 JPWO2022209733 A5 JP WO2022209733A5 JP 2023510815 A JP2023510815 A JP 2023510815A JP 2023510815 A JP2023510815 A JP 2023510815A JP WO2022209733 A5 JPWO2022209733 A5 JP WO2022209733A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- sensitive
- radiation
- hydrogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 13
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 3
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 claims 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 2
- -1 sulfonium cation Chemical class 0.000 claims 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021055493 | 2021-03-29 | ||
| PCT/JP2022/010808 WO2022209733A1 (ja) | 2021-03-29 | 2022-03-11 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2022209733A1 JPWO2022209733A1 (https=) | 2022-10-06 |
| JPWO2022209733A5 true JPWO2022209733A5 (https=) | 2023-12-27 |
Family
ID=83456119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023510815A Pending JPWO2022209733A1 (https=) | 2021-03-29 | 2022-03-11 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240027908A1 (https=) |
| EP (1) | EP4317217A4 (https=) |
| JP (1) | JPWO2022209733A1 (https=) |
| KR (1) | KR20230148360A (https=) |
| CN (1) | CN117063122A (https=) |
| TW (1) | TW202305506A (https=) |
| WO (1) | WO2022209733A1 (https=) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023090129A1 (ja) * | 2021-11-22 | 2023-05-25 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP7433394B1 (ja) | 2022-10-05 | 2024-02-19 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 |
| JPWO2024106130A1 (https=) | 2022-11-18 | 2024-05-23 | ||
| TW202600501A (zh) * | 2024-06-21 | 2026-01-01 | 日商Jsr股份有限公司 | 感放射線性組成物、圖案形成方法、化合物及聚合物 |
| JP2026036486A (ja) * | 2024-08-20 | 2026-03-05 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5841707B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2016-01-13 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂 |
| JP5729180B2 (ja) * | 2010-07-14 | 2015-06-03 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
| US8865389B2 (en) * | 2010-09-28 | 2014-10-21 | Fujifilm Corporation | Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic-ray- or radiation-sensitive film therefrom and method of forming pattern |
| JP2013061648A (ja) | 2011-09-09 | 2013-04-04 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法 |
| JP5793489B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2015-10-14 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
| JP6075369B2 (ja) | 2012-03-14 | 2017-02-08 | Jsr株式会社 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤 |
| JP5836299B2 (ja) | 2012-08-20 | 2015-12-24 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及びレジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法 |
| JP2014240942A (ja) * | 2012-09-13 | 2014-12-25 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、パターン形成方法、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス |
| JP6002705B2 (ja) | 2013-03-01 | 2016-10-05 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、電子デバイスの製造方法 |
| JP6095231B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-03-15 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、及びこれを用いた電子デバイスの製造方法 |
| JP6200721B2 (ja) * | 2013-08-01 | 2017-09-20 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、及びこれを用いた電子デバイスの製造方法 |
| JP6240489B2 (ja) * | 2013-12-06 | 2017-11-29 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
| JP5676021B2 (ja) | 2014-01-06 | 2015-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| US9644056B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-05-09 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Compound, resin and photoresist composition |
| JP6518475B2 (ja) | 2015-03-20 | 2019-05-22 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 |
| WO2018019395A1 (en) | 2016-07-27 | 2018-02-01 | Refco Manufacturing Ltd. | Water handling device |
| JP6773006B2 (ja) * | 2016-11-14 | 2020-10-21 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
| IL270030B2 (en) | 2017-04-21 | 2023-12-01 | Fujifilm Corp | A photosensitive composition for EUV light, a method for patterning and a method for producing an electronic device |
| KR102537251B1 (ko) | 2018-06-28 | 2023-05-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 수지 |
| JP7076570B2 (ja) | 2018-09-25 | 2022-05-27 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| WO2020158337A1 (ja) | 2019-01-28 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
| JP7189794B2 (ja) | 2019-02-12 | 2022-12-14 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
| US10854424B2 (en) | 2019-02-28 | 2020-12-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Multi-electron beam device |
| WO2020262134A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の精製方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
-
2022
- 2022-03-11 EP EP22779954.1A patent/EP4317217A4/en active Pending
- 2022-03-11 JP JP2023510815A patent/JPWO2022209733A1/ja active Pending
- 2022-03-11 WO PCT/JP2022/010808 patent/WO2022209733A1/ja not_active Ceased
- 2022-03-11 KR KR1020237032669A patent/KR20230148360A/ko active Pending
- 2022-03-11 CN CN202280024094.9A patent/CN117063122A/zh active Pending
- 2022-03-24 TW TW111111010A patent/TW202305506A/zh unknown
-
2023
- 2023-09-28 US US18/476,975 patent/US20240027908A1/en active Pending