JPWO2022013919A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2022013919A5
JPWO2022013919A5 JP2022535999A JP2022535999A JPWO2022013919A5 JP WO2022013919 A5 JPWO2022013919 A5 JP WO2022013919A5 JP 2022535999 A JP2022535999 A JP 2022535999A JP 2022535999 A JP2022535999 A JP 2022535999A JP WO2022013919 A5 JPWO2022013919 A5 JP WO2022013919A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
infrared
purification method
crystal form
target wavelength
infrared rays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2022535999A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2022013919A1 (https=
JP7506883B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2020/027256 external-priority patent/WO2022013919A1/ja
Publication of JPWO2022013919A1 publication Critical patent/JPWO2022013919A1/ja
Publication of JPWO2022013919A5 publication Critical patent/JPWO2022013919A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7506883B2 publication Critical patent/JP7506883B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2022535999A 2020-07-13 2020-07-13 精製方法 Active JP7506883B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2020/027256 WO2022013919A1 (ja) 2020-07-13 2020-07-13 精製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2022013919A1 JPWO2022013919A1 (https=) 2022-01-20
JPWO2022013919A5 true JPWO2022013919A5 (https=) 2023-04-18
JP7506883B2 JP7506883B2 (ja) 2024-06-27

Family

ID=79555296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022535999A Active JP7506883B2 (ja) 2020-07-13 2020-07-13 精製方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7506883B2 (https=)
WO (1) WO2022013919A1 (https=)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120140267A (ko) * 2009-06-10 2012-12-28 테바 파마슈티컬 인더스트리즈 리미티드 페북소스타트의 결정형
JP2014189462A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Osaka Univ 結晶製造方法、準安定形結晶、医薬の製造方法および医薬
JP6285619B1 (ja) 2016-08-19 2018-02-28 日本碍子株式会社 有機化合物の精製方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2022014396A5 (https=)
JPWO2022014397A5 (https=)
JP2018041743A5 (https=)
JP2009277651A5 (ja) 発光装置の作製方法
EA200601058A1 (ru) Прозрачная подложка, которая может быть использована альтернативно или кумулятивно для теплового контроля, для электромагнитного экранирования и для нагретых окон
JP2013175738A5 (ja) 発光装置の作製方法
WO2007130909B1 (en) Uv assisted thermal processing
JP2009535858A5 (https=)
JP2018111096A5 (https=)
JP2013258402A5 (https=)
KR102222726B1 (ko) 그래핀 히터를 이용한 유전자 증폭/검출 장치 및 방법
CN103688427A (zh) 以能量有效方式干燥薄膜的方法
JP2009295574A5 (ja) 成膜方法、及び成膜用基板
WO2013111511A1 (ja) Ｐｅｔフィルムの表面に形成された塗膜の乾燥方法および塗膜乾燥炉
JP2005525771A5 (https=)
RU2018101894A (ru) Покрытое изделие с последовательно активированным низкоэмиссионным покрытием и/или способ его изготовления
RU2018129971A (ru) Устройство, имеющее поверхности и систему противодействия биологическому обрастанию, содержащую по меньшей мере один источник противодействующего биологическому обрастанию света для излучения лучей противодействующего биологическому обрастанию света
JPWO2022013919A5 (https=)
TW201803403A (zh) 放射裝置及使用放射裝置的處理裝置
WO2017158943A1 (ja) パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
CN105445312B (zh) 微区加热装置
CN205124212U (zh) 一种电子元器件用散热结构
TWI520220B (zh) 用於使用發光二極體進行材料處理的方法
TWI857213B (zh) 乾燥裝置
JP5776082B2 (ja) 塗膜の乾燥方法