JPWO2021111300A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2021111300A5 JPWO2021111300A5 JP2022532637A JP2022532637A JPWO2021111300A5 JP WO2021111300 A5 JPWO2021111300 A5 JP WO2021111300A5 JP 2022532637 A JP2022532637 A JP 2022532637A JP 2022532637 A JP2022532637 A JP 2022532637A JP WO2021111300 A5 JPWO2021111300 A5 JP WO2021111300A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nanostructured
- film
- optical metasurface
- bilayer
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 50
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 18
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 15
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000002872 contrast media Substances 0.000 claims description 9
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 4
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCZWPKDRLPGFFZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynecerium Chemical compound [Ce]#N BCZWPKDRLPGFFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVMYSOZCZHQCSG-UHFFFAOYSA-N bis(sulfanylidene)zirconium Chemical compound S=[Zr]=S WVMYSOZCZHQCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- MMXSKTNPRXHINM-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trisulfide Chemical compound [S-2].[S-2].[S-2].[Ce+3].[Ce+3] MMXSKTNPRXHINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N fluoro prop-2-enoate Chemical compound FOC(=O)C=C ZYMKZMDQUPCXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 hafnium nitride Chemical class 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NRJVMVHUISHHQB-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);disulfide Chemical compound [S-2].[S-2].[Hf+4] NRJVMVHUISHHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010206 sensitivity analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- NYPFJVOIAWPAAV-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneniobium Chemical compound [Nb]=S NYPFJVOIAWPAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCYJPSGNXVLIBO-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenetitanium Chemical compound [S].[Ti] RCYJPSGNXVLIBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FAWYJKSBSAKOFP-UHFFFAOYSA-N tantalum(iv) sulfide Chemical compound S=[Ta]=S FAWYJKSBSAKOFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- AKJVMGQSGCSQBU-UHFFFAOYSA-N zinc azanidylidenezinc Chemical compound [Zn++].[N-]=[Zn].[N-]=[Zn] AKJVMGQSGCSQBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Description
表3A及び3B
感度分析TiO2ナノフィンは、光学屈折率1.5の光学樹脂に埋め込まれた。当該数字は、140nm×280nm×600nmナノフィンを100%として設定した場合の、相対的なRCPからLCPへの変換効率のパーセンテージを示す。W(短軸)における±20nm、L(長軸)における±10nm、及びH(高さ)おける±20nmの誤差により、設計された構造よりも15%未満悪く実行される。以下の項目[態様1]~[態様31]に本発明の実施形態の例を列記する。
[態様1]
光メタ表面膜であって、
第一の主表面を有する可とう性高分子膜と、
前記可とう性高分子膜の前記第一の主表面に近接する第一の表面、及び前記第一の表面の反対側に第二のナノ構造表面を有するパターン高分子層と、
ナノ構造界面を有するナノ構造二重層を形成する前記パターン高分子層の前記ナノ構造表面に隣接する屈折率コントラスト材料を含む屈折率コントラスト層と
を含み、前記ナノ構造二重層は、前記可とう性高分子膜上に配置された複数のナノ構造を含み、前記ナノ構造二重層は、光の振幅、位相、偏光、又はこれらの組み合わせに局所的に作用し、前記可とう性高分子膜の前記ナノ構造二重層の位置の関数として変化する光の位相変化を与え、前記ナノ構造二重層の前記光の位相変化は、前記光メタ表面膜の所定の操作位相プロファイルを規定する、光メタ表面膜。
[態様2]
前記ナノ構造二重層が、光の振幅に局所的に作用する、態様1に記載の光メタ表面膜。
[態様3]
前記ナノ構造二重層が、光の位相に局所的に作用する、態様1又は2に記載の光メタ表面膜。
[態様4]
前記ナノ構造二重層が、光の偏光に局所的に作用する、態様1~3のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様5]
前記ナノ構造二重層が固体材料によって規定される、態様1~4のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様6]
前記パターン高分子層を前記可とう性高分子膜の前記第一の主表面から分離するエッチングストップ層を更に含む、態様1~5のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様7]
態様1~6のいずれか一項に記載の光メタ表面膜であって、前記屈折率コントラスト材料が、第一の屈折率値を有し、前記パターン高分子層は前記第一の屈折率値よりも少なくとも0.25、又は0.5、又は0.75、又は1.0、又は1.4の差がある第二の屈折率値を有する、光メタ表面膜。
[態様8]
前記ナノ構造二重層が、前記屈折率コントラスト層の中に埋め込まれた複数のナノ構造によって規定される、前記態様1~7のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様9]
前記屈折率コントラスト材料が、金属酸化物又は金属窒化物を含む、態様1~8のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様10]
態様1~9のいずれか一項に記載の光メタ表面膜であって、前記屈折率コントラスト材料が、チタン、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、ニオブ、亜鉛、若しくはセリウム;酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、若しくは酸化セリウム;窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化タンタル、窒化ハフニウム、窒化ニオブ、窒化亜鉛、若しくは窒化セリウム;硫化チタン、硫化ジルコニウム、硫化タンタル、硫化ハフニウム、硫化ニオブ、硫化亜鉛、若しくは硫化セリウム;又はこれらの組み合わせの中から少なくとも1つを含む、光メタ表面膜。
[態様11]
前記パターン高分子層が、フッ素ポリマー、(メタ)アクリレート(コ)ポリマー、又はシリカ含有ポリマーを含む、態様1~10のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様12]
前記パターン高分子層が、フルオロアクリレートを含み、前記屈折率コントラスト材料が二酸化チタンを含む、態様1~11のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様13]
前記パターン高分子層が、(メタ)アクリレートを含み、前記屈折率コントラスト材料が二酸化チタンを含む、態様1~12のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様14]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、少なくとも約1:1、約2:1、約5:1、約10:1、又は約15:1のアスペクト比を有する、態様1~13のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様15]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約1~10°、約2~10°、約3~10°、約4~10°、約1~6°、約2~6°、又は約3~6°の範囲での角度を有するテーパー側壁を規定する、態様1~14のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様16]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約0~10°、約0~6°、約0~3°、約0~2°、約0~1°、又は0°の範囲での角度を有するテーパー側壁を規定する、態様1~15のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様17]
前記可とう性高分子膜が、約5μm~約300μmの範囲での平均厚さを有する、態様1~16のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様18]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が5μm以下、又は約100nm~約3000nm、又は約500nm~約1500nmの範囲の高さを有する、態様1~17のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様19]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、600nm以下、又は500nm以下、又は400nm以下の平均ピッチを有する、態様1~18のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様20]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約400nm以下、又は約20nm~約400nm、又は約50nm~約300nmの範囲で、互いにそれぞれ分離されている、態様1~19のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様21]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約600nm以下、又は約10nm~約400nm、又は約50nm~約350nmの範囲で、ナノ構造特徴部の高さに直交する横方向の寸法を有する、態様1~20のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様22]
前記光の位相変化が、可視光波長範囲で生じる、態様1~21のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様23]
前記光の位相変化が、近赤外線波長範囲で生じる、態様1~22のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様24]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する方向を有する、態様1~23のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様25]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する空間配置を有する、態様1~24のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様26]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する形状を有する、態様1~25のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様27]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化するアスペクト比を有する、態様1~26のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様28]
前記光メタ表面膜が、可視光又は近赤外線光を透過する、態様1~27のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様29]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、平面方向に対して幾何学的に異方的である、態様1~28のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様30]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造がが、平面方向に対して幾何学的に等方的である、態様1~29のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様31]
前記光メタ表面膜が、約300mm超の、又は約400mm超の、又は約500mm超の少なくとも1つの横方向の寸法を有する、態様1~30のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
感度分析TiO2ナノフィンは、光学屈折率1.5の光学樹脂に埋め込まれた。当該数字は、140nm×280nm×600nmナノフィンを100%として設定した場合の、相対的なRCPからLCPへの変換効率のパーセンテージを示す。W(短軸)における±20nm、L(長軸)における±10nm、及びH(高さ)おける±20nmの誤差により、設計された構造よりも15%未満悪く実行される。以下の項目[態様1]~[態様31]に本発明の実施形態の例を列記する。
[態様1]
光メタ表面膜であって、
第一の主表面を有する可とう性高分子膜と、
前記可とう性高分子膜の前記第一の主表面に近接する第一の表面、及び前記第一の表面の反対側に第二のナノ構造表面を有するパターン高分子層と、
ナノ構造界面を有するナノ構造二重層を形成する前記パターン高分子層の前記ナノ構造表面に隣接する屈折率コントラスト材料を含む屈折率コントラスト層と
を含み、前記ナノ構造二重層は、前記可とう性高分子膜上に配置された複数のナノ構造を含み、前記ナノ構造二重層は、光の振幅、位相、偏光、又はこれらの組み合わせに局所的に作用し、前記可とう性高分子膜の前記ナノ構造二重層の位置の関数として変化する光の位相変化を与え、前記ナノ構造二重層の前記光の位相変化は、前記光メタ表面膜の所定の操作位相プロファイルを規定する、光メタ表面膜。
[態様2]
前記ナノ構造二重層が、光の振幅に局所的に作用する、態様1に記載の光メタ表面膜。
[態様3]
前記ナノ構造二重層が、光の位相に局所的に作用する、態様1又は2に記載の光メタ表面膜。
[態様4]
前記ナノ構造二重層が、光の偏光に局所的に作用する、態様1~3のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様5]
前記ナノ構造二重層が固体材料によって規定される、態様1~4のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様6]
前記パターン高分子層を前記可とう性高分子膜の前記第一の主表面から分離するエッチングストップ層を更に含む、態様1~5のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様7]
態様1~6のいずれか一項に記載の光メタ表面膜であって、前記屈折率コントラスト材料が、第一の屈折率値を有し、前記パターン高分子層は前記第一の屈折率値よりも少なくとも0.25、又は0.5、又は0.75、又は1.0、又は1.4の差がある第二の屈折率値を有する、光メタ表面膜。
[態様8]
前記ナノ構造二重層が、前記屈折率コントラスト層の中に埋め込まれた複数のナノ構造によって規定される、前記態様1~7のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様9]
前記屈折率コントラスト材料が、金属酸化物又は金属窒化物を含む、態様1~8のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様10]
態様1~9のいずれか一項に記載の光メタ表面膜であって、前記屈折率コントラスト材料が、チタン、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、ニオブ、亜鉛、若しくはセリウム;酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、若しくは酸化セリウム;窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化タンタル、窒化ハフニウム、窒化ニオブ、窒化亜鉛、若しくは窒化セリウム;硫化チタン、硫化ジルコニウム、硫化タンタル、硫化ハフニウム、硫化ニオブ、硫化亜鉛、若しくは硫化セリウム;又はこれらの組み合わせの中から少なくとも1つを含む、光メタ表面膜。
[態様11]
前記パターン高分子層が、フッ素ポリマー、(メタ)アクリレート(コ)ポリマー、又はシリカ含有ポリマーを含む、態様1~10のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様12]
前記パターン高分子層が、フルオロアクリレートを含み、前記屈折率コントラスト材料が二酸化チタンを含む、態様1~11のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様13]
前記パターン高分子層が、(メタ)アクリレートを含み、前記屈折率コントラスト材料が二酸化チタンを含む、態様1~12のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様14]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、少なくとも約1:1、約2:1、約5:1、約10:1、又は約15:1のアスペクト比を有する、態様1~13のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様15]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約1~10°、約2~10°、約3~10°、約4~10°、約1~6°、約2~6°、又は約3~6°の範囲での角度を有するテーパー側壁を規定する、態様1~14のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様16]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約0~10°、約0~6°、約0~3°、約0~2°、約0~1°、又は0°の範囲での角度を有するテーパー側壁を規定する、態様1~15のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様17]
前記可とう性高分子膜が、約5μm~約300μmの範囲での平均厚さを有する、態様1~16のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様18]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が5μm以下、又は約100nm~約3000nm、又は約500nm~約1500nmの範囲の高さを有する、態様1~17のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様19]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、600nm以下、又は500nm以下、又は400nm以下の平均ピッチを有する、態様1~18のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様20]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約400nm以下、又は約20nm~約400nm、又は約50nm~約300nmの範囲で、互いにそれぞれ分離されている、態様1~19のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様21]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、約600nm以下、又は約10nm~約400nm、又は約50nm~約350nmの範囲で、ナノ構造特徴部の高さに直交する横方向の寸法を有する、態様1~20のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様22]
前記光の位相変化が、可視光波長範囲で生じる、態様1~21のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様23]
前記光の位相変化が、近赤外線波長範囲で生じる、態様1~22のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様24]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する方向を有する、態様1~23のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様25]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する空間配置を有する、態様1~24のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様26]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する形状を有する、態様1~25のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様27]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化するアスペクト比を有する、態様1~26のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様28]
前記光メタ表面膜が、可視光又は近赤外線光を透過する、態様1~27のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様29]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、平面方向に対して幾何学的に異方的である、態様1~28のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様30]
前記ナノ構造表面を形成するナノ構造がが、平面方向に対して幾何学的に等方的である、態様1~29のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
[態様31]
前記光メタ表面膜が、約300mm超の、又は約400mm超の、又は約500mm超の少なくとも1つの横方向の寸法を有する、態様1~30のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
Claims (10)
- 光メタ表面膜であって、
第一の主表面を有する可とう性高分子膜と、
前記可とう性高分子膜の前記第一の主表面に近接する第一の表面、及び前記第一の表面の反対側に第二のナノ構造表面を有するパターン高分子層と、
ナノ構造界面を有するナノ構造二重層を形成する前記パターン高分子層の前記ナノ構造表面に隣接する屈折率コントラスト材料を含む屈折率コントラスト層と
を含み、前記ナノ構造二重層は、前記可とう性高分子膜上に配置された複数のナノ構造を含み、前記ナノ構造二重層は、光の振幅、位相、偏光、又はこれらの組み合わせに局所的に作用し、前記可とう性高分子膜の前記ナノ構造二重層の位置の関数として変化する光の位相変化を与え、前記ナノ構造二重層の前記光の位相変化は、前記光メタ表面膜の所定の操作位相プロファイルを規定する、光メタ表面膜。 - 前記ナノ構造二重層が、光の振幅に局所的に作用する、請求項1に記載の光メタ表面膜。
- 前記ナノ構造二重層が、光の位相に局所的に作用する、請求項1又は2に記載の光メタ表面膜。
- 前記ナノ構造二重層が、光の偏光に局所的に作用する、請求項1~3のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
- 前記ナノ構造二重層が固体材料によって規定される、請求項1~4のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
- 前記パターン高分子層を前記可とう性高分子膜の前記第一の主表面から分離するエッチングストップ層を更に含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
- 請求項1~6のいずれか一項に記載の光メタ表面膜であって、前記屈折率コントラスト材料が、第一の屈折率値を有し、前記パターン高分子層は前記第一の屈折率値よりも少なくとも0.25、又は0.5、又は0.75、又は1.0、又は1.4の差がある第二の屈折率値を有する、光メタ表面膜。
- 前記ナノ構造二重層が、前記屈折率コントラスト層の中に埋め込まれた複数のナノ構造によって規定される、請求項1~7のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
- 前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する方向を有する、請求項1~8のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
- 前記ナノ構造表面を形成するナノ構造が、前記可とう性高分子膜上の前記個々のナノ構造の位置に依存する、変化する空間配置を有する、請求項1~9のいずれか一項に記載の光メタ表面膜。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962942386P | 2019-12-02 | 2019-12-02 | |
US62/942,386 | 2019-12-02 | ||
PCT/IB2020/061332 WO2021111300A1 (en) | 2019-12-02 | 2020-12-01 | Optical metasurface films |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023503697A JP2023503697A (ja) | 2023-01-31 |
JPWO2021111300A5 true JPWO2021111300A5 (ja) | 2023-11-22 |
Family
ID=76221511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022532637A Pending JP2023503697A (ja) | 2019-12-02 | 2020-12-01 | 光メタ表面膜 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220404525A1 (ja) |
EP (1) | EP4070135A4 (ja) |
JP (1) | JP2023503697A (ja) |
KR (1) | KR20220107266A (ja) |
CN (1) | CN114829986A (ja) |
TW (1) | TW202136029A (ja) |
WO (1) | WO2021111300A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113959984A (zh) * | 2021-10-28 | 2022-01-21 | 深圳迈塔兰斯科技有限公司 | 一种薄膜折射率检测装置及检测方法 |
CN114488365A (zh) * | 2022-02-18 | 2022-05-13 | 深圳迈塔兰斯科技有限公司 | 一种远红外超透镜及其加工方法 |
CN114779373B (zh) * | 2022-03-14 | 2024-03-26 | 清华大学 | 光功率分束器及其制备方法 |
CN116661240B (zh) * | 2023-07-31 | 2023-10-03 | 无锡邑文电子科技有限公司 | 纳米圆台偏振结构的超表面透镜的制备方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7129016B2 (en) * | 2004-11-12 | 2006-10-31 | International Business Machines Corporation | Positive resist containing naphthol functionality |
US8027086B2 (en) * | 2007-04-10 | 2011-09-27 | The Regents Of The University Of Michigan | Roll to roll nanoimprint lithography |
EP2769252A4 (en) * | 2011-10-21 | 2015-12-02 | Hewlett Packard Development Co | DIFFRACTION NETWORK COUPLERS EQUIPPED WITH NON-UNIFORM DEEP GROWTH DIFFRACTION NETWORKS |
KR102089661B1 (ko) * | 2013-08-27 | 2020-03-17 | 삼성전자주식회사 | 와이어 그리드 편광판 및 이를 구비하는 액정 표시패널 및 액정 표시장치 |
JP5960319B1 (ja) * | 2015-04-30 | 2016-08-02 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光素子 |
WO2018080830A1 (en) * | 2016-10-28 | 2018-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Nanostructured article |
KR102052200B1 (ko) * | 2017-02-14 | 2019-12-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 명암비 개선 광학필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
US10838110B2 (en) * | 2017-03-03 | 2020-11-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Metasurface optical coupling elements for a display waveguide |
US10795168B2 (en) * | 2017-08-31 | 2020-10-06 | Metalenz, Inc. | Transmissive metasurface lens integration |
CN108490509B (zh) * | 2018-04-08 | 2019-10-11 | 武汉大学 | 低深宽比的电介质几何相位超表面材料及其结构优化方法 |
CN110501772A (zh) * | 2019-08-02 | 2019-11-26 | 济南大学 | 基于氢化非晶硅超表面的超高分辨率彩色滤光片及其制备方法和应用 |
-
2020
- 2020-12-01 WO PCT/IB2020/061332 patent/WO2021111300A1/en unknown
- 2020-12-01 CN CN202080081707.3A patent/CN114829986A/zh active Pending
- 2020-12-01 KR KR1020227022253A patent/KR20220107266A/ko unknown
- 2020-12-01 EP EP20895624.3A patent/EP4070135A4/en active Pending
- 2020-12-01 US US17/777,211 patent/US20220404525A1/en active Pending
- 2020-12-01 JP JP2022532637A patent/JP2023503697A/ja active Pending
- 2020-12-02 TW TW109142451A patent/TW202136029A/zh unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2005116696A1 (ja) | 反射防止膜 | |
Li et al. | Polymer thin films for antireflection coatings | |
KR101245897B1 (ko) | Ar 코팅물용으로서 내구성을 지닌 고굴절율의 나노복합체 | |
KR102047392B1 (ko) | 나노구조화된 재료 및 그의 제조방법 | |
JP6363072B2 (ja) | 低表面エネルギー基及びヒドロキシル基を含む添加剤、並びにコーティング組成物 | |
US6649266B1 (en) | Substrates provided with a microstructured surface, methods for the production thereof, and their use | |
KR20140126353A (ko) | 나노구조화된 재료 및 그 제조 방법 | |
KR20090021166A (ko) | 반사방지 필름의 저굴절률층에 적합한 플루오로(메트)아크릴레이트 중합체 조성물 | |
KR20090018951A (ko) | 내구성 반사방지 필름 | |
US20150235745A1 (en) | Magnetic particle having a highly reflective protective film, and method for manufacturing same | |
TW201037375A (en) | Wire grid polarizer and manufacturing method thereof | |
TW201106022A (en) | Antiglare films comprising microstructured surface | |
KR20110033254A (ko) | 가요성 고굴절률 반사 방지 필름 | |
CN104302693B (zh) | 制品及其制造方法 | |
ATE507266T1 (de) | Dielektrische optisch variable pigmente | |
KR20190063470A (ko) | 나노구조화된 물품 | |
KR20100080788A (ko) | 표면 개질된 고굴절률 나노입자를 포함하는 자기-조립 반사방지 코팅 | |
JP5201537B2 (ja) | 撥水性構造及び撥水性構造体 | |
JPWO2021111300A5 (ja) | ||
JP6215403B2 (ja) | 有機無機複合粒子、それを含有する分散液及び樹脂組成物 | |
TW200937052A (en) | Wire grid polarizer and manufacturing method thereof | |
AU2023274092A1 (en) | Configuring optical layers in imprint lithography processes | |
CN105308482A (zh) | 具备防反射膜的光学部件 | |
WO2007053772A1 (en) | Optical films comprising high refractive index and antireflective coatings | |
Phillips et al. | Engineered Biomimicry: Chapter 12. Biomimetic Antireflection Surfaces |