JPWO2020162449A1 - 光学構造体およびアーティファクト低減方法 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、以下では、光学構造体10がエンボス層に加えて、反射層、粘着層、および、キャリアを備える光学構造体10の製造方法を説明する。
Claims (15)
- エンボス面上に複数のプリーツ構造からなるセルが規則的に互いに接して整列されてなる光学構造体であって、
前記プリーツ構造は互いに平行な複数の斜面を有し、前記プリーツ構造は斜面端部によって形成される直線状の稜線を有し、前記各稜線は、滑らかな曲線を近似した直線と平行であり、隣接するセルのプリーツ構造の深さは均一であり、セル内の稜線の間隔は隣接するセル間で連続的に変化し、整列された各セルの斜面群は、前記斜面の反射光により滑らかな曲面の外観を表示し、各セルの所定の基準点からの前記セル内の前記各稜線のうち最も前記基準点に近い稜線の距離は人工のゆらぎを有することを特徴とする、光学構造体。 - 前記人工のゆらぎは、前記稜線が、前記複数のセルのうちの何れかのセルにおいて、乱数によって決定されるシフト量、平行にシフトされることによって実現されることを特徴とする、請求項1に記載の光学構造体。
- 前記シフト量は、同一セル内において隣接する稜線間の間隔以下の範囲で、擬似乱数を用いて計算されることを特徴とする、請求項2に記載の光学構造体。
- 前記シフト量は、前記セル毎に計算されることを特徴とする、請求項2または3に記載の光学構造体。
- 前記エンボス面上において所定距離離れた各セル同士が、同一のグループに属するように、前記複数のセルがそれぞれグルーピングされ、
前記シフト量は、前記グループ毎に計算されることを特徴とする、請求項2または3に記載の光学構造体。 - 前記所定距離は、グルーピングされたセルの繰り返しによる濃淡をアーティファクトとして認識しない隔離距離であることを特徴とする、請求項5に記載の光学構造体。
- 前記隔離距離は10cm以上であることを特徴とする、請求項6に記載の光学構造体。
- エンボス面上に複数のプリーツ構造からなるセルが規則的に互いに接して整列されてなる光学構造体であって、
前記プリーツ構造は互いに平行な複数の斜面を有し、前記プリーツ構造は斜面端部によって形成される直線状の稜線を有し、前記各稜線は、滑らかな曲線を近似した直線と平行であり、セル内の斜面の角度は隣接するセル間で連続的に変化し、整列された各セルの斜面群は、前記斜面の反射光により滑らかな曲面の外観を表示し、各セル間のプリーツ構造の稜線の間隔深さが異なるセルを有していることを特徴とする、光学構造体。 - エンボス面上に複数のプリーツ構造からなるセルが規則的に互いに接して整列されてなる光学構造体におけるアーティファクトを低減するための方法であって、
前記光学構造体では、
前記プリーツ構造は互いに平行な複数の斜面を有し、前記プリーツ構造は斜面端部によって形成される直線状の稜線を有し、前記各稜線は、滑らかな曲線を近似した直線と平行であり、隣接するセルのプリーツ構造の深さは均一であり、セル内の稜線の間隔は隣接するセル間で連続的に変化し、整列された各セルの斜面群は、前記斜面の反射光により滑らかな曲面の外観を表示し、各セルの所定の基準点からの前記セル内の前記各稜線のうち最も前記基準点に近い稜線の距離は人工のゆらぎを有することを特徴とする、アーティファクト低減方法。 - 前記人工のゆらぎは、前記稜線が、前記複数のセルのうちの何れかのセルにおいて、乱数によって決定されるシフト量、平行にシフトされることによって実現されることを特徴とする、請求項9に記載のアーティファクト低減方法。
- 前記シフト量は、同一セル内において隣接する稜線間の間隔以下の範囲内で、擬似乱数を用いて計算されることを特徴とする、請求項10に記載のアーティファクト低減方法。
- 前記シフト量は、前記セル毎に計算されることを特徴とする、請求項10または11に記載のアーティファクト低減方法。
- 前記エンボス面上において所定距離離れた各セル同士が、同一のグループに属するように、前記複数のセルをそれぞれグルーピングし、
前記シフト量を、前記グループ毎に計算することを特徴とする、請求項10または11に記載のアーティファクト低減方法。 - 前記所定距離を、グルーピングされたセルの繰り返しによる濃淡をアーティファクトとして認識しない隔離距離としたことを特徴とする、請求項13に記載のアーティファクト低減方法。
- 前記隔離距離を10cm(センチメートル)としたことを特徴とする、請求項14に記載のアーティファクト低減方法。
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