JPWO2019240048A1 - Method for manufacturing optically anisotropic layer - Google Patents

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Abstract

本発明は、優れた耐久性およびフィルムコントラストを有し、優れたパネルコントラストの画像表示装置を作製できる光学異方性層の製造方法を提供する。本発明の光学異方性層の製造方法は、重合性液晶化合物を含む未硬化層を形成する工程Aと、上記未硬化層に加熱処理を施して、ネマチック相を形成する工程Bと、上記ネマチック相を形成した未硬化層に冷却処理を施して、スメクチック相を形成する工程Cと、上記スメクチック相を形成した未硬化層に対して、第1露光処理を施し、半硬化層を形成する工程Dと、上記第1露光処理時の温度よりも高い温度条件下にて、上記半硬化層に第2露光処理を施し、光学異方性層を形成する工程Eと、を有する。The present invention provides a method for producing an optically anisotropic layer, which has excellent durability and film contrast and can produce an image display device having excellent panel contrast. The method for producing an optically anisotropic layer of the present invention includes a step A of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound, a step B of heat-treating the uncured layer to form a nematic phase, and the above. The uncured layer on which the nematic phase is formed is subjected to a cooling treatment to form a smectic phase, and the uncured layer on which the smectic phase is formed is subjected to a first exposure treatment to form a semi-cured layer. It includes a step D and a step E in which the semi-cured layer is subjected to a second exposure treatment under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment to form an optically anisotropic layer.

Description

本発明は、光学異方性層の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an optically anisotropic layer.

光学補償シートおよび位相差フィルム等の光学フィルムは、画像着色解消および/または視野角拡大のために、様々な画像表示装置で用いられている。
従来、光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶化合物を用いて形成される光学異方性層が提案されている。
Optical films such as adaptive optics sheets and retardation films are used in various image display devices for image tinting elimination and / or viewing angle enlargement.
Conventionally, a stretched birefringent film has been used as an optical film, but in recent years, an optically anisotropic layer formed by using a liquid crystal compound has been proposed in place of the stretched birefringent film.

例えば、特許文献1には、スメクチック相で固定化された光学異方性層を作製する光学異方性層の製造方法が開示されている。特許文献1の製造方法では、重合性液晶組成物からなる未硬化層に対する、加熱工程、冷却加熱工程、および、重合工程を経て光学異方性層を作製される(請求項1)。 For example, Patent Document 1 discloses a method for producing an optically anisotropic layer that is immobilized with a smectic phase. In the production method of Patent Document 1, an optically anisotropic layer is produced on an uncured layer made of a polymerizable liquid crystal composition through a heating step, a cooling heating step, and a polymerization step (claim 1).

特開2017−068005号公報JP-A-2017-068005

光学異方性層は、電子機器類に組み込まれて使用される場合が多い。そのため、光学異方性層には、高温等の過酷な環境下でも、長期間安定した性能を示せる耐久性が求められている。
また、薄型化の観点から偏光子上に直接または他の層(例えば、配向膜)を介して光学異方性層を形成する場合、光学異方性層には優れたコントラスト(以下、「フィルムコントラスト」と略す。)も求められている。
さらに、偏光子と光学異方性層とを含む偏光板を用いた画像表示装置を作製した場合、作製される画像表示装置には優れたコントラスト(以下、「パネルコントラスト」と略す。)が求められている。
The optically anisotropic layer is often used by being incorporated in electronic devices. Therefore, the optically anisotropic layer is required to have durability that can exhibit stable performance for a long period of time even in a harsh environment such as a high temperature.
Further, when an optically anisotropic layer is formed directly on the polarizer or via another layer (for example, an alignment film) from the viewpoint of thinning, the optically anisotropic layer has excellent contrast (hereinafter, "film"). "Contrast" is also required.
Further, when an image display device using a polarizing plate including a polarizer and an optically anisotropic layer is manufactured, excellent contrast (hereinafter, abbreviated as "panel contrast") is required for the manufactured image display device. Has been done.

そこで、本発明は、優れた耐久性およびフィルムコントラストを有し、優れたパネルコントラストの画像表示装置を作製できる光学異方性層の製造方法を提供することを課題とする。 Therefore, it is an object of the present invention to provide a method for producing an optically anisotropic layer, which has excellent durability and film contrast and can produce an image display device having excellent panel contrast.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following configuration.

〔1〕
重合性液晶化合物を含む未硬化層を形成する工程Aと、
上記未硬化層に加熱処理を施して、ネマチック相を形成する工程Bと、
上記ネマチック相を形成した未硬化層に冷却処理を施して、スメクチック相を形成する工程Cと、
上記スメクチック相を形成した未硬化層に対して、第1露光処理を施し、半硬化層を形成する工程Dと、
上記第1露光処理時の温度よりも高い温度条件下にて、上記半硬化層に第2露光処理を施し、光学異方性層を形成する工程Eと、を有する光学異方性層の製造方法。
〔2〕
上記工程Cにおける上記未硬化層の降温速度が、1〜100℃/分である、〔1〕に記載の光学異方性層の製造方法。
〔3〕
上記工程Cにおける上記未硬化層の降温速度が、1〜60℃/分である、〔1〕または〔2〕に記載の光学異方性層の製造方法。
〔4〕
上記工程Cにおいて上記未硬化層の温度が漸減する、〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔5〕
上記第1露光処理に用いられる光が、紫外線である、〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔6〕
上記第1露光処理における露光量が、1〜60mJ/cmである、〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔7〕
上記第1露光処理における露光量が、10〜30mJ/cmである、〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔8〕
上記第2露光処理時の温度が上記重合性液晶化合物のスメクチック相とネマチック相との相転移温度よりも高い、〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔9〕
上記第1露光処理時の温度と、上記第2露光処理時の温度との差が、20℃以上である、〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔10〕
上記第1露光処理時の温度と、上記第2露光処理時の温度との差が、40℃以上である、〔1〕〜〔9〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
〔11〕
上記未硬化層がオキシムエステル系重合開始剤を含む、〔1〕〜〔10〕のいずれかに記載の光学異方性層の製造方法。
[1]
Step A of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound,
Step B, in which the uncured layer is heat-treated to form a nematic phase,
Step C of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer on which the nematic phase is formed to a cooling treatment,
Step D, in which the uncured layer having the smectic phase formed is subjected to the first exposure treatment to form a semi-cured layer,
Production of an optically anisotropic layer having a step E of performing a second exposure treatment on the semi-cured layer to form an optically anisotropic layer under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment. Method.
[2]
The method for producing an optically anisotropic layer according to [1], wherein the temperature lowering rate of the uncured layer in the step C is 1 to 100 ° C./min.
[3]
The method for producing an optically anisotropic layer according to [1] or [2], wherein the temperature lowering rate of the uncured layer in the step C is 1 to 60 ° C./min.
[4]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [3], wherein the temperature of the uncured layer gradually decreases in the step C.
[5]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [4], wherein the light used in the first exposure treatment is ultraviolet rays.
[6]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [5], wherein the exposure amount in the first exposure process is 1 to 60 mJ / cm 2.
[7]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [6], wherein the exposure amount in the first exposure process is 10 to 30 mJ / cm 2.
[8]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [7], wherein the temperature during the second exposure treatment is higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase of the polymerizable liquid crystal compound. ..
[9]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [8], wherein the difference between the temperature during the first exposure treatment and the temperature during the second exposure treatment is 20 ° C. or higher. ..
[10]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [9], wherein the difference between the temperature during the first exposure treatment and the temperature during the second exposure treatment is 40 ° C. or higher. ..
[11]
The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [10], wherein the uncured layer contains an oxime ester-based polymerization initiator.

本発明によれば、優れた耐久性およびフィルムコントラストを有し、優れたパネルコントラストの画像表示装置を作製できる光学異方性層の製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing an optically anisotropic layer having excellent durability and film contrast and capable of producing an image display device having excellent panel contrast.

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、層(後述する未硬化層等)の温度に言及する場合は、層の表面の温度を放射温度計で測定した温度であることを意図する。
本明細書において、スメクチック相とは、一方向にそろった分子が層構造を有している状態をいい、ネマチック相とは、その構成分子が配向秩序を持つが、三次元的な位置秩序を持たない状態をいう。
本明細書において、相転移温度は、配向膜上に形成した未硬化層を、セントラルプロセッサー FP90(Mettler TOLEDO)と光学顕微鏡とを用いて、未硬化層を加熱又は冷却しながら観察し、相の変化が生じた温度を相転移温度とした。
未硬化層については後述する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The description of the constituent elements described below may be based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
In the present specification, the numerical range represented by using "~" means a range including the numerical values before and after "~" as the lower limit value and the upper limit value.
When referring to the temperature of a layer (such as an uncured layer described later) in the present specification, it is intended that the temperature of the surface of the layer is the temperature measured by a radiation thermometer.
In the present specification, the smectic phase refers to a state in which molecules aligned in one direction have a layered structure, and the nematic phase means a state in which the constituent molecules have an orientation order but a three-dimensional positional order. The state of not having it.
In the present specification, the phase transition temperature is determined by observing the uncured layer formed on the alignment film while heating or cooling the uncured layer using a central processor FP90 (Mettler TORDO) and an optical microscope. The temperature at which the change occurred was defined as the phase transition temperature.
The uncured layer will be described later.

本発明において、Re(λ)およびRth(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚み方向のレターデーションを表す。例えば、Re(450)は、波長450nmにおける面内レターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、550nmとする。
本発明において、Re(λ)およびRth(λ)はAxoScan OPMF−1(オプトサイエンス社製)において、波長λで測定した値である。AxoScanにて平均屈折率((nx+ny+nz)/3)と膜厚(d(μm))を入力することにより、
遅相軸方向(°)
Re(λ)=R0(λ)
Rth(λ)=((nx+ny)/2−nz)×d
が算出される。
なお、R0(λ)は、特段の記載がない限り、AxoScan OPMF−1で算出される数値として表示されるものであるが、Re(λ)を意味している。
In the present invention, Re (λ) and Rth (λ) represent in-plane retardation and thickness direction retardation at wavelength λ, respectively. For example, Re (450) represents in-plane retardation at a wavelength of 450 nm. Unless otherwise specified, the wavelength λ is 550 nm.
In the present invention, Re (λ) and Rth (λ) are values measured at a wavelength λ in AxoScan OPMF-1 (manufactured by Optoscience). By inputting the average refractive index ((nx + ny + nz) / 3) and film thickness (d (μm)) in AxoScan,
Slow phase axial direction (°)
Re (λ) = R0 (λ)
Rth (λ) = ((nx + ny) /2-nz) × d
Is calculated.
Unless otherwise specified, R0 (λ) is displayed as a numerical value calculated by AxoScan OPMF-1, but means Re (λ).

本明細書において、屈折率nx、ny、および、nzは、アッベ屈折率(NAR−4T、アタゴ(株)製)を使用し、光源にナトリウムランプ(λ=589nm)を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計DR−M2(アタゴ(株)製)にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、および、ポリスチレン(1.59)。
In the present specification, the refractive indexes nx, ny, and nz are measured using an Abbe refractive index (NAR-4T, manufactured by Atago Co., Ltd.) and a sodium lamp (λ = 589 nm) as a light source. Further, when measuring the wavelength dependence, it can be measured with a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.) in combination with an interference filter.
In addition, the values in the Polymer Handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and the catalogs of various optical films can be used. The values of the average refractive index of the main optical films are illustrated below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethylmethacrylate (1.49), And polystyrene (1.59).

また、本明細書において、表記される二価の基(例えば、−CO−O−)の結合方向は特に限定されず、例えば、後述する一般式(W)中のLが−CO−O−である場合、P側に結合している位置を*1、Sp側に結合している位置を*2とすると、Lは、*1−CO−O−*2であってもよく、*1−O−CO−*2であってもよい。Further, in the present specification, the bonding direction of the divalent group (for example, -CO-O-) described is not particularly limited, and for example, L 1 in the general formula (W) described later is -CO-O. In the case of −, if the position bonded to the P 1 side is * 1 and the position bonded to the Sp 1 side is * 2, L 1 can be * 1-CO-O- * 2. Often, it may be * 1-O-CO- * 2.

[光学異方性層の製造方法]
本発明の光学異方性層の製造方法は、下記工程A〜Eを有する。
工程A:重合性液晶化合物を含む未硬化層を形成する工程(層形成工程)。
工程B:上記未硬化層に加熱処理を施して、ネマチック相を形成する工程B(ネマチック相形成工程)。
工程C:上記ネマチック相を形成した未硬化層に冷却処理を施して、スメクチック相を形成する工程(冷却工程)。
工程D:上記スメクチック相を形成した未硬化層に対して、第1露光処理を施し、半硬化層を形成する工程(第1重合工程)。
工程E:上記第1露光処理時の温度よりも高い温度条件下にて、上記半硬化層に第2露光処理を施し、光学異方性層を形成する(第2重合工程)。
[Manufacturing method of optically anisotropic layer]
The method for producing an optically anisotropic layer of the present invention has the following steps A to E.
Step A: A step of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound (layer forming step).
Step B: A step B (nematic phase forming step) in which the uncured layer is heat-treated to form a nematic phase.
Step C: A step (cooling step) of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer on which the nematic phase is formed to a cooling treatment.
Step D: A step of subjecting the uncured layer on which the smectic phase is formed to a first exposure treatment to form a semi-cured layer (first polymerization step).
Step E: Under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment, the semi-cured layer is subjected to the second exposure treatment to form an optically anisotropic layer (second polymerization step).

このような構成をとることで本発明の課題を解決できる理由は必ずしも明らかではないが、本発明者らは以下のように考えている。
まず、本発明では、スメクチック相とネマチック相との相転移温度以下まで冷却されてスメクチック相の状態である未硬化層に対して第1露光処理を行うことで、スメクチック相の優れた配向性を固定でき、最終的に得られる光学異方性層の分子のパッキングが良好となる。そのため本発明の光学異方性層はフィルムコントラストに優れ、画像表示装置に組み込んで使用した場合に優れたパネルコントラストの画像表示装置を得られる。
また、第1露光処理によって未硬化層を半硬化層とした後、第1露光処理をする際よりも高温で得られた半硬化層に対して第2露光処理を施すことで、単に、第1露光処理における温度で露光を続けるよりも、重合率が高く、耐久性に優れる光学異方性層が得られたと考えている。
以下、本発明の光学異方性層の製造方法が有する各工程について、詳細に説明する。
The reason why the problem of the present invention can be solved by adopting such a configuration is not necessarily clear, but the present inventors consider as follows.
First, in the present invention, the uncured layer, which is cooled to the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase and is in the state of the smectic phase, is subjected to the first exposure treatment to obtain excellent orientation of the smectic phase. It can be fixed, and the packing of the molecules of the finally obtained optically anisotropic layer is good. Therefore, the optically anisotropic layer of the present invention has excellent film contrast, and an image display device having excellent panel contrast can be obtained when used by incorporating it into an image display device.
Further, after the uncured layer is made into a semi-cured layer by the first exposure treatment, the semi-cured layer obtained at a higher temperature than the first exposure treatment is subjected to the second exposure treatment, thereby simply performing the first exposure treatment. It is considered that an optically anisotropic layer having a higher polymerization rate and excellent durability was obtained as compared with the case where the exposure was continued at the temperature in one exposure treatment.
Hereinafter, each step of the method for producing an optically anisotropic layer of the present invention will be described in detail.

〔光学異方性層の製造工程〕
<工程A(層形成工程)>
工程A(層形成工程)は、重合性液晶化合物を含む未硬化層を形成する工程である。
未硬化層とは、重合性液晶化合物を含み、後述する第1露光処理および第2露光処理等の硬化処理が施されていない層である。後述するように、未硬化層は、等方相よりも低温側にネマチック相およびスメクチック相を、この順に示す。
[Manufacturing process of optically anisotropic layer]
<Step A (layer formation step)>
Step A (layer formation step) is a step of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound.
The uncured layer is a layer containing a polymerizable liquid crystal compound and not subjected to a curing treatment such as a first exposure treatment and a second exposure treatment described later. As will be described later, in the uncured layer, the nematic phase and the smectic phase are shown in this order on the lower temperature side than the isotropic phase.

上記未硬化層を形成する際には、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を用いて、未硬化層を形成することが好ましい。より具体的には、未硬化層は、例えば、基材上に重合性液晶組成物を塗布して、未硬化層を形成することが好ましい。基材としては、支持体および偏光子が挙げられる。なお、支持体上には、さらに配向膜が配置されていてもよい。
重合性液晶組成物に含まれる各成分については、後段で詳述する。
重合性液晶組成物を塗布する方法は特に限定されず、公知の方法を採用できる。例えば、スクリーン印刷法、ディップコーティング法、スプレー塗布法、スピンコーティング法、インクジェット法、グラビアオフセット印刷法、および、フレキソ印刷法が挙げられる。
なお、重合性液晶組成物を塗布後、必要に応じて、溶剤を除去するための乾燥処理を実施してもよい。
上記重合性液晶組成物の塗布量としては、所望する光学異方性層の厚みに応じて適宜調整すればよい。例えば、溶剤等が除去された状態における未硬化層の厚みが、0.1〜10μmとなる塗付量が好ましく、0.5〜5μmとなる塗付量がより好ましい。
When forming the uncured layer, it is preferable to form the uncured layer by using a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound. More specifically, for the uncured layer, for example, it is preferable to apply a polymerizable liquid crystal composition on a substrate to form the uncured layer. Examples of the base material include a support and a polarizer. An alignment film may be further arranged on the support.
Each component contained in the polymerizable liquid crystal composition will be described in detail later.
The method for applying the polymerizable liquid crystal composition is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, a screen printing method, a dip coating method, a spray coating method, a spin coating method, an inkjet method, a gravure offset printing method, and a flexographic printing method can be mentioned.
After applying the polymerizable liquid crystal composition, a drying treatment for removing the solvent may be carried out, if necessary.
The coating amount of the polymerizable liquid crystal composition may be appropriately adjusted according to the desired thickness of the optically anisotropic layer. For example, the thickness of the uncured layer in the state where the solvent or the like is removed is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm.

<工程B(ネマチック相形成工程)>
工程B(ネマチック相形成工程)は、上記未硬化層に加熱処理を施して、ネマチック相を形成する工程である。
ネマチック相形成工程の手順としては、未硬化層の温度をスメクチック相とネマチック相との相転移温度以上の温度にまで加熱して、未硬化層をネマチック相にできれば特に限定はない。
<Step B (nematic phase forming step)>
Step B (nematic phase forming step) is a step of heat-treating the uncured layer to form a nematic phase.
The procedure of the nematic phase forming step is not particularly limited as long as the uncured layer can be made into a nematic phase by heating the temperature of the uncured layer to a temperature equal to or higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase.

上記加熱によって調整される未硬化層の温度(第1加熱温度)は、スメクチック相とネマチック相との相転移温度以上である。第1加熱温度は、昇温時におけるスメクチック相とネマチック相との相転移温度に対し、0〜83℃高い温度が好ましく、2〜53℃高い温度がより好ましく、2〜37℃高い温度がさらに好ましい。
また、未硬化層はネマチック相が形成された状態で一定時間保持されるのが好ましい。このような保持時間は、1秒〜10分が好ましく、5秒〜5分以下がより好ましく、5〜30秒がさらに好ましい。保持時間中、未硬化層の温度は第1加熱温度から±5℃の範囲内に維持されることが好ましい。
The temperature of the uncured layer (first heating temperature) adjusted by the heating is equal to or higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase. The first heating temperature is preferably 0 to 83 ° C. higher, more preferably 2 to 53 ° C. higher, and further 2 to 37 ° C. higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase at the time of temperature rise. preferable.
Further, the uncured layer is preferably held for a certain period of time in a state where the nematic phase is formed. Such a holding time is preferably 1 second to 10 minutes, more preferably 5 seconds to 5 minutes or less, and even more preferably 5 to 30 seconds. During the holding time, the temperature of the uncured layer is preferably maintained within a range of ± 5 ° C. from the first heating temperature.

なお、未硬化層の温度を調整する手段に特に限定はなく、例えば、ホットプレートを用いてもよく、オーブンを用いてもよい。以下の工程において説明する、各層の温度操作についても同様である。 The means for adjusting the temperature of the uncured layer is not particularly limited, and for example, a hot plate may be used or an oven may be used. The same applies to the temperature control of each layer described in the following steps.

<工程C(冷却工程)>
工程C(冷却工程)は、工程B(ネマチック相形成工程)によってネマチック相を形成した未硬化層に冷却処理を施して、スメクチック相を形成する工程である。
冷却工程において冷却処理を施された未硬化層の温度(冷却温度)は、未硬化層がスメクチック相を形成できる温度であれば特に限定はなく、未硬化層に結晶が発生しだす温度より高い温度が好ましい。冷却温度は、降温時におけるスメクチック相とネマチック相との相転移温度に対し、0〜60℃低い温度が好ましく、2〜25℃低い温度がより好ましく、5〜15℃低い温度がさらに好ましい。
光学異方性層のフィルムコントラスト、および、パネルコントラストがより優れる画像表示装置を得られる点から、冷却工程において冷却する際の未硬化層の降温速度(降温レート)は、0.5〜200℃/分が好ましく、1〜100℃/分がより好ましく、1〜80℃/分がさらに好ましく、1〜60℃/分が特に好ましい。
なお、降温レートは、上記第1加熱温度と上記冷却温度との温度差を、冷却処理の開始から冷却温度に到達するまでかかった時間で除して求められる。
また、冷却工程において、未硬化層の温度が漸減するのが好ましい。なお、「温度が漸減する」とは、冷却工程において未硬化層の温度が全体として低下する一方であることを意図する。言い換えると、降温の開始から冷却温度に到達するまで、未硬化層に有意な温度上昇が生じないことを意図する。
<Process C (cooling process)>
Step C (cooling step) is a step of forming a smectic phase by performing a cooling treatment on the uncured layer in which the nematic phase is formed by step B (nematic phase forming step).
The temperature (cooling temperature) of the uncured layer that has been cooled in the cooling step is not particularly limited as long as the uncured layer can form a smectic phase, and is higher than the temperature at which crystals start to form in the uncured layer. Is preferable. The cooling temperature is preferably 0 to 60 ° C. lower, more preferably 2 to 25 ° C. lower, and even more preferably 5 to 15 ° C. lower than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase during temperature reduction.
The temperature lowering rate (lowering rate) of the uncured layer during cooling in the cooling step is 0.5 to 200 ° C. from the viewpoint that an image display device having better film contrast and panel contrast of the optically anisotropic layer can be obtained. / Minute is preferable, 1 to 100 ° C./min is more preferable, 1 to 80 ° C./min is further preferable, and 1 to 60 ° C./min is particularly preferable.
The temperature lowering rate is obtained by dividing the temperature difference between the first heating temperature and the cooling temperature by the time taken from the start of the cooling process to the arrival at the cooling temperature.
Further, in the cooling step, it is preferable that the temperature of the uncured layer gradually decreases. In addition, "the temperature gradually decreases" means that the temperature of the uncured layer is decreasing as a whole in the cooling step. In other words, it is intended that there will be no significant temperature rise in the uncured layer from the onset of temperature reduction until the cooling temperature is reached.

冷却処理の方法に特に限定はなく、ネマチック層を形成している未硬化層をスメクチック相にできればよい。例えば、ネマチック層を形成している未硬化層を、結晶相とスメクチック相との相転移温度よりも高く、かつ、スメクチック相とネマチック相との相転移温度よりも低く設定したホットプレート上に置いて、未硬化層にスメクチック相を形成する方法が挙げられる。 The cooling treatment method is not particularly limited, and it is sufficient that the uncured layer forming the nematic layer can be used as the smectic phase. For example, the uncured layer forming the nematic layer is placed on a hot plate set higher than the phase transition temperature between the crystalline phase and the smectic phase and lower than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase. Then, a method of forming a smectic phase in the uncured layer can be mentioned.

<工程D(第1重合工程)>
工程D(第1重合工程)は、工程Cでスメクチック相を形成した未硬化層に対して、第1露光処理を施し、半硬化層を形成する工程である。
第1露光処理を実施する時点で、未硬化層全体でスメクチック相が形成されるのが好ましい。
<Step D (first polymerization step)>
Step D (first polymerization step) is a step of subjecting the uncured layer having the smectic phase formed in step C to the first exposure treatment to form a semi-cured layer.
At the time of performing the first exposure treatment, it is preferable that a smectic phase is formed in the entire uncured layer.

第1露光処理に用いられる光は、紫外線が好ましく、上記紫外線は波長365nmの光を含む紫外線が好ましい。
露光光源としては、例えば、メタルハライドランプ、水銀灯(中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯等)、キセノンランプ、カーボンアーク灯、蛍光灯(紫外用蛍光灯等)、LED(LED:light emitting diode、紫外LED等)、および、LD(LD:laser diode、紫外LD等)が挙げられる。
露光光源から得た光に対して、干渉フィルタまたは色フィルタ等を用いて、照射する波長範囲を限定してもよい。また、これらの露光光源からの光に対して、偏光フィルタまたは偏光プリズム等を用いて偏光としてもよい。
第1露光処理における露光量は特に限定されず、後述するように、重合性液晶化合物に含まれる一部の重合性基を重合させて半硬化層を形成できればよい。中でも、光学異方性層の耐久性およびフィルムコントラスト、並びに、光学異方性層を画像表示装置に組み込んで場合のパネルコントラストがバランス良く優れる点から、第1露光処理における露光量(好ましくは波長300〜390nmの積算露光量)は、0.5〜100mJ/cmが好ましく、1〜60mJ/cmがより好ましく、10〜30mJ/cmがさらに好ましい。
また、第1露光処理は、均一な重合反応を進行させる観点から、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で実施するのが好ましい。
The light used in the first exposure treatment is preferably ultraviolet rays, and the above-mentioned ultraviolet rays are preferably ultraviolet rays containing light having a wavelength of 365 nm.
Examples of the exposure light source include metal halide lamps, mercury lamps (medium pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, etc.), xenon lamps, carbon arc lamps, fluorescent lamps (fluorescent lamps for ultraviolet rays, etc.), LEDs (LEDs: light emitting dimension, etc.). (Ultraviolet LED, etc.) and LD (LD: laser diode, ultraviolet LD, etc.) can be mentioned.
The wavelength range to irradiate the light obtained from the exposure light source may be limited by using an interference filter, a color filter, or the like. Further, the light from these exposure light sources may be polarized by using a polarizing filter, a polarizing prism, or the like.
The amount of exposure in the first exposure treatment is not particularly limited, and as will be described later, it is sufficient that some polymerizable groups contained in the polymerizable liquid crystal compound can be polymerized to form a semi-cured layer. Above all, the exposure amount (preferably wavelength) in the first exposure process is excellent in that the durability and film contrast of the optically anisotropic layer and the panel contrast when the optically anisotropic layer is incorporated in the image display device are well-balanced and excellent. integrated exposure amount 300~390Nm) is preferably 0.5~100mJ / cm 2, more preferably 1~60mJ / cm 2, more preferably 10~30mJ / cm 2.
Further, the first exposure treatment is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas from the viewpoint of advancing the uniform polymerization reaction.

上述した第1露光処理によって、半硬化層が得られる。半硬化層とは、重合性液晶化合物に含まれる一部の重合性基を重合させて得られる層であり、半硬化層中には重合性液晶化合物由来の重合性基が残存している。中でも、第1露光処理後における重合性液晶化合物由来の重合性基の残存率は、10%以上が好ましく、20%以上がより好ましい。上限は第2露光処理後の耐久性を良化させるために、第1露光処理後における重合性基の残存率は、90%以下の場合が好ましく、80%以下がより好ましい。
上記残存率は、第1露光処理後の半硬化層中における重合性液晶化合物由来の重合性基の量と、第1露光処理前の未硬化層中における重合性液晶化合物由来の重合性基の量とを比較することにより算出される。具体的には、赤外分光光度計によって、未硬化層中における、重合性基由来のピークと、露光前後で強度が変化しない重合性液晶化合物中の構造(例えば、カルボニル基)由来のピークとの比Xを算出する。同様に、半硬化層中における、重合性基由来のピークと、露光前後で強度が変化しない重合性液晶化合物中の構造(例えば、カルボニル基)由来のピークとの比Yを算出する。次に、式:比Y/比X×100により、上記残存率を算出できる。
The semi-cured layer is obtained by the first exposure treatment described above. The semi-cured layer is a layer obtained by polymerizing a part of the polymerizable groups contained in the polymerizable liquid crystal compound, and the polymerizable groups derived from the polymerizable liquid crystal compound remain in the semi-cured layer. Above all, the residual ratio of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound after the first exposure treatment is preferably 10% or more, more preferably 20% or more. The upper limit is that the residual ratio of the polymerizable group after the first exposure treatment is preferably 90% or less, more preferably 80% or less, in order to improve the durability after the second exposure treatment.
The residual ratio is the amount of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound in the semi-cured layer after the first exposure treatment and the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound in the uncured layer before the first exposure treatment. Calculated by comparing with the amount. Specifically, an infrared spectrophotometer shows a peak derived from a polymerizable group in the uncured layer and a peak derived from a structure (for example, a carbonyl group) in a polymerizable liquid crystal compound whose intensity does not change before and after exposure. The ratio X of is calculated. Similarly, the ratio Y of the peak derived from the polymerizable group in the semi-cured layer and the peak derived from the structure (for example, carbonyl group) in the polymerizable liquid crystal compound whose intensity does not change before and after exposure is calculated. Next, the residual rate can be calculated by the formula: ratio Y / ratio X × 100.

<工程E(第2重合工程)>
工程E(第2重合工程)は、第1露光処理時の温度よりも高い温度条件下にて、上記半硬化層に第2露光処理を施し、光学異方性層を形成する工程である。
第1露光処理時の温度よりも高い温度条件下とは、第2露光処理が施される際の半硬化層の温度が、第1露光処理が施される際の未硬化層の温度よりも高い状態となる環境下であれば限定はない。
通常、上記温度条件を達成するために、第2重合工程では、第1重合工程を経て得られた半硬化層に加熱処理(第2加熱処理)が施される。第2露光処理は、第2加熱処理と同時に開始してもよいし、第2加熱処理によって半硬化層が所定の温度になってから実施してもよい。
第2露光処理は、半硬化層の温度を上昇させながら実施してもよいし、半硬化層の温度を一定に保ちながら実施してもよい。
<Step E (second polymerization step)>
Step E (second polymerization step) is a step of subjecting the semi-cured layer to the second exposure treatment under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment to form an optically anisotropic layer.
The temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment means that the temperature of the semi-cured layer at the time of the second exposure treatment is higher than the temperature of the uncured layer at the time of the first exposure treatment. There is no limit as long as the environment is high.
Usually, in order to achieve the above temperature conditions, in the second polymerization step, the semi-cured layer obtained through the first polymerization step is heat-treated (second heat treatment). The second exposure treatment may be started at the same time as the second heat treatment, or may be carried out after the semi-cured layer reaches a predetermined temperature by the second heat treatment.
The second exposure treatment may be carried out while raising the temperature of the semi-cured layer, or may be carried out while keeping the temperature of the semi-cured layer constant.

第2加熱処理によって上昇する半硬化層の温度(第2加熱処理前後の半硬化層の温度差。言い換えれば、第1露光処理時の温度と、第2露光処理時の温度との差。)は、得られる光学異方性層の耐久性がより優れる点から、10℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましく、40℃以上がさらに好ましい。上限は、160℃以下が好ましい。
第2露光処理時の半硬化層の温度(第2加熱温度)は、得られる光学異方性層の耐久性がより優れる点から、未硬化層の昇温時におけるスメクチック相とネマチック相との相転移温度以上が好ましい。
第2加熱処理で半硬化層が加熱される際の昇温速度(昇温レート)は、0.5〜250℃/分が好ましく、50〜200℃/分がより好ましく、75〜150℃/分がさらに好ましい。
なお、昇温レートは、第2加熱処理前後の半硬化層の温度差を、第2加熱処理にかかった時間で除して求められる。
The temperature of the semi-cured layer that rises due to the second heat treatment (the temperature difference between the semi-cured layers before and after the second heat treatment. In other words, the difference between the temperature during the first exposure treatment and the temperature during the second exposure treatment). Is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, still more preferably 40 ° C. or higher, from the viewpoint of more excellent durability of the obtained optically anisotropic layer. The upper limit is preferably 160 ° C. or lower.
The temperature of the semi-cured layer during the second exposure treatment (second heating temperature) is the difference between the smectic phase and the nematic phase when the temperature of the uncured layer is raised, because the obtained optically anisotropic layer is more durable. It is preferably above the phase transition temperature.
The heating rate (heating rate) when the semi-cured layer is heated in the second heat treatment is preferably 0.5 to 250 ° C./min, more preferably 50 to 200 ° C./min, and 75 to 150 ° C./min. Minutes are even more preferred.
The temperature rise rate is obtained by dividing the temperature difference between the semi-cured layers before and after the second heat treatment by the time required for the second heat treatment.

第2露光処理に用いられる光は、紫外線が好ましく、上記紫外線は波長365nmの光を含む紫外線が好ましい。
露光光源としては、第1露光処理の説明の中で挙げたのと同様の露光光源が例示される。
露光光源から得た光に対して、干渉フィルタまたは色フィルタ等を用いて、照射する波長範囲を限定してもよい。また、これらの露光光源からの光に対して、偏光フィルタまたは偏光プリズム等を用いて偏光としてもよい。
第2露光処理における露光量(好ましくは波長300〜390nmの積算露光量)は、100〜10000mJ/cmが好ましく、200〜5000mJ/cmがより好ましく、400〜1500mJ/cmがさらに好ましい。
また、第2露光処理は、均一な重合反応を進行させる観点から、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で実施するのが好ましい。
The light used in the second exposure treatment is preferably ultraviolet rays, and the above-mentioned ultraviolet rays are preferably ultraviolet rays containing light having a wavelength of 365 nm.
As the exposure light source, the same exposure light source as mentioned in the description of the first exposure process is exemplified.
The wavelength range to irradiate the light obtained from the exposure light source may be limited by using an interference filter, a color filter, or the like. Further, the light from these exposure light sources may be polarized by using a polarizing filter, a polarizing prism, or the like.
Exposure amount in the second exposure process (integrated exposure amount of preferably wavelength 300~390Nm) is preferably 100~10000mJ / cm 2, more preferably 200~5000mJ / cm 2, more preferably 400~1500mJ / cm 2.
Further, the second exposure treatment is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas from the viewpoint of advancing the uniform polymerization reaction.

上記第2露光処理が施されて得られた光学異方性層中には、実質的に、重合性液晶化合物由来の重合性基は含まれていない。上記「実質的に」は、重合性液晶化合物由来の重合性基の残存率が、5%以下であることを意味する。なお、残存率は、光学異方性層中における重合性液晶化合物由来の重合性基の量と、第1露光処理前の未硬化層中における重合性液晶化合物由来の重合性基の量とを比較することにより算出される。具体的には、上述した赤外分光光度計を用いた方法が挙げられる。 The optically anisotropic layer obtained by performing the second exposure treatment does not substantially contain a polymerizable group derived from a polymerizable liquid crystal compound. The above "substantially" means that the residual ratio of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound is 5% or less. The residual ratio is the amount of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound in the optically anisotropic layer and the amount of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound in the uncured layer before the first exposure treatment. Calculated by comparison. Specifically, a method using the above-mentioned infrared spectrophotometer can be mentioned.

〔重合性液晶組成物〕
本発明の製造方法においては、重合性液晶組成物を使用することが好ましい。
以下、重合性液晶組成物について説明する。
[Polymerizable liquid crystal composition]
In the production method of the present invention, it is preferable to use a polymerizable liquid crystal composition.
Hereinafter, the polymerizable liquid crystal composition will be described.

<重合性液晶化合物>
重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物を含む。
ここで使用される重合性液晶化合物の1種以上は、ネマチック相およびスメクチック相を発現できる重合性液晶化合物が好ましい。
重合性液晶組成物は、ネマチック相およびスメクチック相を発現できる重合性液晶化合物以外であるその他の重合性液晶化合物を含んでもよいが、重合性液晶組成物全体としては、ネマチック相およびスメクチック相を発現できる未硬化層を形成できる必要がある。
<Polymerizable liquid crystal compound>
The polymerizable liquid crystal composition contains a polymerizable liquid crystal compound.
As one or more of the polymerizable liquid crystal compounds used here, a polymerizable liquid crystal compound capable of expressing a nematic phase and a smectic phase is preferable.
The polymerizable liquid crystal composition may contain other polymerizable liquid crystal compounds other than the polymerizable liquid crystal compound capable of expressing the nematic phase and the smectic phase, but the polymerizable liquid crystal composition as a whole expresses the nematic phase and the smectic phase. It is necessary to be able to form an uncured layer that can be formed.

重合性液晶化合物とは、重合性基を少なくとも1つ以上有する液晶化合物である。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプとに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子とタイプがある。高分子とは一般に重合度が100以上の化合物を指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。
重合性液晶化合物は、重合性基を有し、スメクチック相を発現できる未硬化層を形成できる限り、いずれの液晶化合物も使用できる。中でも、棒状の重合性液晶化合物を用いるのが好ましい。
The polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound having at least one polymerizable group.
Generally, liquid crystal compounds can be classified into rod-shaped type and disk-shaped type according to their shape. In addition, there are low molecular weight and high molecular weight types, respectively. A polymer generally refers to a compound having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer Physics / Phase Transition Dynamics, Masao Doi, p. 2, Iwanami Shoten, 1992).
As the polymerizable liquid crystal compound, any liquid crystal compound can be used as long as it has a polymerizable group and can form an uncured layer capable of expressing a smectic phase. Above all, it is preferable to use a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound.

重合性液晶化合物は1分子中に重合性基を2以上有するのが好ましい。また、2種以上の重合性液晶化合物を使用する場合、少なくとも1種の重合性液晶化合物が、1分子中に2以上の重合性基を有しているのが好ましい。
なお、液晶化合物が重合によって固定された後においてはもはや液晶性を示す必要はないが、こうして形成された層は便宜上液晶層と称する場合がある。
The polymerizable liquid crystal compound preferably has two or more polymerizable groups in one molecule. When two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds are used, it is preferable that at least one kind of polymerizable liquid crystal compound has two or more polymerizable groups in one molecule.
After the liquid crystal compound is fixed by polymerization, it is no longer necessary to exhibit liquid crystal properties, but the layer thus formed may be referred to as a liquid crystal layer for convenience.

重合性液晶化合物が有する、重合性基の種類は特に限定されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましい。例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基、エポキシ基、または、オキセタン基が好ましく、中でも重合反応が高速である点で、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。 The type of the polymerizable group contained in the polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited, and a functional group capable of an addition polymerization reaction is preferable, and a polymerizable ethylenically unsaturated group or a ring-polymerizable group is more preferable. For example, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, an allyl group, an epoxy group, or an oxetane group is preferable, and a (meth) acryloyl group is more preferable because the polymerization reaction is fast.

(スメクチック相を発現できる重合性液晶化合物)
スメクチック相を発現できる重合性液晶化合物としては、例えば、特開2016−51178号公報、特開2008−214269号公報、特開2008−19240号公報、および、特開2006−276821号公報に記載の化合物が挙げられる。
(Polymerizable liquid crystal compound capable of expressing a smectic phase)
Examples of the polymerizable liquid crystal compound capable of expressing the smectic phase are described in JP-A-2016-51178, JP-A-2008-214269, JP-A-2008-19240, and JP-A-2006-276821. Examples include compounds.

また、棒状の重合性液晶化合物として、波長330〜380nmの範囲に極大吸収波長を有する重合性液晶化合物が好ましい。
また、棒状の重合性液晶化合物は、逆波長分散性の重合性液晶化合物が好ましい。
ここで、本明細書において、重合性液晶化合物が逆波長分散性であるとは、このような重合性液晶化合物を用いて作製された位相差フィルム(光学異方性層等)の特定波長(可視光範囲)における面内のレターデーション(Re)値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてRe値が同等または高くなる性質をいう。
例えば、下記式を満たす光学異方性層を形成できる重合性液晶化合物が好ましい。
Re(450)/Re(550)<1.00
Further, as the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound, a polymerizable liquid crystal compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 330 to 380 nm is preferable.
Further, as the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound, a reverse wavelength dispersible polymerizable liquid crystal compound is preferable.
Here, in the present specification, the fact that the polymerizable liquid crystal compound has inverse wavelength dispersibility means that the retardation film (optically anisotropic layer or the like) produced by using such a polymerizable liquid crystal compound has a specific wavelength (optically anisotropic layer or the like). When the in-plane retardation (Re) value in the visible light range) is measured, the Re value becomes equal or higher as the measurement wavelength increases.
For example, a polymerizable liquid crystal compound capable of forming an optically anisotropic layer satisfying the following formula is preferable.
Re (450) / Re (550) <1.00

中でも、重合性液晶化合物としては一般式(W)で表される化合物が好ましい。
−L−Sp−L−(−A−L−)−MG−(−L−A−)−L−Sp−L−P (W)
Among them, as the polymerizable liquid crystal compound, a compound represented by the general formula (W) is preferable.
P 1- L 1- Sp 1- L 2- (-A 1- L 3- ) m -MG- (-L 4- A 2- ) n- L 5- Sp 2- L 6- P 2 (W)

一般式(W)中、mおよびnは、それぞれ独立に、1〜3の整数を表す。 In the general formula (W), m and n each independently represent an integer of 1 to 3.

一般式(W)中、L、L、L、L、L、および、Lは、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表す。
上記2価の連結基としては、−CO−O−、−C(=S)O−、−CR−、−CR−CR−、−O−CR−、−CR−O−CR−、−CO−O−CR−、−O−CO−CR−、−CR−O−CO−CR−、−CR−CO−O−CR−、−NR−CR−、または、−CO−NR−が好ましい。R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。
が複数存在する場合、複数存在するLはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Lが複数存在する場合、複数存在するLはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
In the general formula (W), L 1 , L 2 , L 3 , L 4 , L 5 , and L 6 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
As the divalent linking group, -CO-O -, - C (= S) O -, - CR 1 R 2 -, - CR 1 R 2 -CR 3 R 4 -, - O-CR 1 R 2 -, - CR 1 R 2 -O -CR 3 R 4 -, - CO-O-CR 1 R 2 -, - O-CO-CR 1 R 2 -, - CR 1 R 2 -O-CO-CR 3 R 4 -, - CR 1 R 2 -CO-O-CR 3 R 4 -, - NR 1 -CR 2 R 3 -, or, -CO-NR 1 - is preferred. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
When a plurality of L 3s are present, the plurality of L 3s may be the same or different from each other. If L 4 there are a plurality, or different is L 4 there are a plurality of each identical.

上記一般式(W)中、AおよびAは、それぞれ独立に、炭素数6以上の芳香環基、または、炭素数5以上(好ましくは炭素数5〜8)の脂環式炭化水素基を表す。
上記脂環式炭化水素基を構成する−CH−の1個以上が−O−、−S−または−NH−で置換されていてもよい。
が複数存在する場合、複数存在するAはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Aが複数存在する場合、複数存在するAはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
In the above general formula (W), A 1 and A 2 are independently aromatic ring groups having 6 or more carbon atoms or alicyclic hydrocarbon groups having 5 or more carbon atoms (preferably 5 to 8 carbon atoms). Represents.
One or more of -CH 2- constituting the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with -O-, -S- or -NH-.
If the A 1 there are plural, A 1 may be different from each other in the same presence of a plurality. If A 2 there are a plurality, or different is A 2 there are a plurality of each identical.

上記AおよびAが表す炭素数5以上の脂環式炭化水素基としては、5員環または6員環の基が好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロヘキサン環基(シクロヘキサン−1,4−ジイル基等)およびシクロヘキセン環基が挙げられる。
また、脂環式炭化水素基としては、例えば、特開2012−21068号公報の段落[0078]の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
As the alicyclic hydrocarbon group having 5 or more carbon atoms represented by A 1 and A 2 , a 5-membered ring or a 6-membered ring group is preferable. The alicyclic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, but a saturated alicyclic hydrocarbon group is preferable.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclohexane ring group (cyclohexane-1,4-diyl group, etc.) and a cyclohexene ring group.
Further, as the alicyclic hydrocarbon group, for example, the description in paragraph [0078] of JP2012-21068A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.

上記AおよびAが示す炭素数6以上の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、および、フェナンスロリン環等の芳香族炭化水素環;フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、および、ベンゾチアゾール環等の芳香族複素環;が挙げられる。中でも、ベンゼン環(例えば、1,4−フェニレン基等)が好ましい。Examples of the aromatic ring having 6 or more carbon atoms shown in A 1 and A 2 include an aromatic hydrocarbon ring such as a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a phenanthroline ring; a furan ring, a pyrrole ring, and a thiophene. Aromatic heterocycles such as a ring, a pyridine ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring; Of these, a benzene ring (for example, a 1,4-phenylene group or the like) is preferable.

一般式(W)中、SpおよびSpは、それぞれ独立に、単結合、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−CH−の1個以上が−O−、−S−、−NH−、−N(Q)−、もしくは、−CO−に置換された2価の連結基を表す。Qは、置換基(アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子等)を表す。In the general formula (W), Sp 1 and Sp 2 are independently single-bonded, linear or branched alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, or linear or branched having 1 to 12 carbon atoms, respectively. A divalent linking group in which one or more of -CH 2- constituting the alkylene group in the form is substituted with -O-, -S-, -NH-, -N (Q)-, or -CO-. Represent. Q represents a substituent (alkyl group, alkoxy group, halogen atom, etc.).

上記SpおよびSpが示す炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、または、ブチレン基等が好ましい。As the linear or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms represented by Sp 1 and Sp 2 , for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group and the like are preferable.

一般式(W)中、PおよびPは、それぞれ独立に、1価の有機基を表し、PおよびPの少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、MGが、後述の一般式(Ar−3)で表される芳香環である場合は、PおよびPならびに一般式(Ar−3)中のPおよびPの少なくとも1つが重合性基を表す。In the general formula (W), P 1 and P 2 each independently represent a monovalent organic group, and at least one of P 1 and P 2 represents a polymerizable group. However, when MG is an aromatic ring represented by the general formula (Ar-3) described later, at least one of P 1 and P 2 and P 3 and P 4 in the general formula (Ar-3) is polymerized. Represents a sex group.

上記PおよびPが示す重合性基は特に限定されず、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を使用できる。例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基が挙げられる。この場合、重合速度は一般的にアクリロイル基が速く、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましい。また、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を使用できる。例えば、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基等が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
下記重合性基中、黒丸は、結合位置を表す。
The polymerizable group represented by P 1 and P 2 is not particularly limited, and a radical polymerizable group or a cationically polymerizable group is preferable.
As the radically polymerizable group, a generally known radically polymerizable group can be used. For example, acryloyl group and methacryloyl group can be mentioned. In this case, the polymerization rate is generally high for acryloyl groups, and acryloyl groups are preferable from the viewpoint of improving productivity. Further, the methacryloyl group can also be used as the polymerizable group of the highly birefringent liquid crystal.
As the cationically polymerizable group, a generally known cationically polymerizable group can be used. For example, an alicyclic ether group, a cyclic acetal group, a cyclic lactone group, a cyclic thioether group, a spiroorthoester group, a vinyloxy group and the like can be mentioned. Of these, an alicyclic ether group or a vinyloxy group is preferable, and an epoxy group, an oxetanyl group, or a vinyloxy group is more preferable.
Examples of particularly preferable polymerizable groups include the following.
In the following polymerizable groups, black circles represent bond positions.

Figure 2019240048
Figure 2019240048

一般式(W)中、MGは、下記一般式(Ar−1)〜(Ar−5)で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記一般式(Ar−1)〜(Ar−5)中、*1はLとの結合位置を表し、*2はLとの結合位置を表す。In the general formula (W), MG represents any aromatic ring selected from the group consisting of the groups represented by the following general formulas (Ar-1) to (Ar-5). In the following general formulas (Ar-1) to (Ar-5), * 1 represents the bonding position with L 3 and * 2 represents the bonding position with L 4 .

Figure 2019240048
Figure 2019240048

ここで、上記一般式(Ar−1)中、Qは、NまたはCHを表し、Qは、−S−、−O−、または、−N(R)−を表し、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表し、Yは、置換基を有してもよい、炭素数6〜12の芳香族炭化水素基、または、炭素数3〜12の芳香族複素環基を表す。
が示す炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、および、n−ヘキシル基等が挙げられる。
が示す炭素数6〜12の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、および、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。
が示す炭素数3〜12の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、および、ピリジル基等のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Yが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、および、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数1〜18の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、および、シクロヘキシル基等)がより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数1〜18のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基等)がより好ましく、炭素数1〜4のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。
Here, in the above general formula (Ar-1), Q 1 represents N or CH, Q 2 represents -S-, -O-, or -N (R 5 )-, and R 5 represents. represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Y 1 may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, or aromatic having 3 to 12 carbon atoms Represents a heterocyclic group.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms indicated by R 5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. Groups, n-hexyl groups and the like can be mentioned.
Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms indicated by Y 1 include an aryl group such as a phenyl group, a 2,6-diethylphenyl group, and a naphthyl group.
Examples of the aromatic heterocyclic group having 3 to 12 carbon atoms indicated by Y 1 include heteroaryl groups such as a thienyl group, a thiazolyl group, a frill group, and a pyridyl group.
Examples of the substituent that Y 1 may have include an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom.
As the alkyl group, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an isopropyl group) is preferable. , N-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, etc.) is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is further preferable, and a methyl group or an ethyl group is particularly preferable.
As the alkoxy group, for example, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-butoxy group, a methoxyethoxy group, etc.) is more preferable. , Alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms are more preferable, and methoxy groups or ethoxy groups are particularly preferable.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like, and among them, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable.

また、上記一般式(Ar−1)〜(Ar−5)中、Z、ZおよびZは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の1価の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−NR、または、−SRを表し、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表し、ZおよびZは、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数1〜20の1価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜15のアルキル基が好ましく、炭素数1〜8のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ペンチル基(1,1−ジメチルプロピル基)、tert−ブチル基、または、1,1−ジメチル−3,3−ジメチル−ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、tert−ブチル基が特に好ましい。
炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基;シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基;ビシクロ[2.2.1]ヘプチル基、ビシクロ[2.2.2]オクチル基、トリシクロ[5.2.1.02,6]デシル基、トリシクロ[3.3.1.13,7]デシル基、テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデシル基、および、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基;等が挙げられる。
炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基等が挙げられ、炭素数6〜12のアリール基(特にフェニル基)が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
一方、R〜Rが示す炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、および、n−ヘキシル基等が挙げられる。
Further, in the above general formulas (Ar-1) to (Ar-5), Z 1 , Z 2 and Z 3 are independently hydrogen atoms and monovalent aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms. Monovalent alicyclic hydrocarbon group with 3 to 20 carbon atoms, monovalent aromatic hydrocarbon group with 6 to 20 carbon atoms, halogen atom, cyano group, nitro group, -NR 6 R 7 , or -SR It represents 8, R 6 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Z 1 and Z 2 may form an aromatic ring bonded to each other.
As the monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, and a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and tert are preferable. -Pentyl group (1,1-dimethylpropyl group), tert-butyl group, or 1,1-dimethyl-3,3-dimethyl-butyl group is more preferable, and methyl group, ethyl group, or tert-butyl group. Is particularly preferable.
Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclodecyl group, a methylcyclohexyl group, and the like. Monocyclic saturated hydrocarbon groups such as ethylcyclohexyl group; cyclobutenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, cycloheptenyl group, cyclooctenyl group, cyclodecenyl group, cyclopentadienyl group, cyclohexadienyl group, cyclooctadienyl group, And monocyclic unsaturated hydrocarbon groups such as cyclodecadien; bicyclo [2.2.1] heptyl group, bicyclo [2.2.2] octyl group, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] Decyl group, tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decyl group, tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] Dodecyl group, polycyclic saturated hydrocarbon group such as adamantyl group; and the like.
Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a 2,6-diethylphenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and the like, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. (Especially a phenyl group) is preferable.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like, and among them, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom is preferable.
On the other hand, examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 6 to R 8 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group and tert-butyl. Examples include a group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like.

また、上記一般式(Ar−2)および(Ar−3)中、AおよびAは、それぞれ独立に、−O−、−N(R)−、−S−、および、−CO−からなる群から選択される基を表し、Rは、水素原子または置換基を表す。
が示す置換基としては、上記一般式(Ar−1)中のYが有していてもよい置換基と同様の基が挙げられる。
Further, in the above general formula (Ar-2) and (Ar-3), A 3 and A 4 are each independently, -O -, - N (R 9) -, - S-, and, -CO- Represents a group selected from the group consisting of, where R 9 represents a hydrogen atom or substituent.
Examples of the substituent represented by R 9 include a group similar to the substituent that Y 1 in the general formula (Ar-1) may have.

また、上記一般式(Ar−2)中、Xは、水素原子または置換基が結合していてもよい第14〜16族の非金属原子を表す。
また、Xが示す第14〜16族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基等が挙げられる。
Further, in the above general formula (Ar-2), X represents a non-metal atom of Group 14 to 16 to which a hydrogen atom or a substituent may be bonded.
Examples of the non-metal atoms of Groups 14 to 16 indicated by X include an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom having a substituent, and a carbon atom having a substituent. Examples of the substituent include a carbon atom having a substituent. , Alkyl group, alkoxy group, alkyl substituted alkoxy group, cyclic alkyl group, aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, etc.), cyano group, amino group, nitro group, alkylcarbonyl group, sulfo group, hydroxyl group, etc. Can be mentioned.

また、上記一般式(Ar−3)中、LおよびLは、それぞれ独立に、単結合、−CO−O−、−C(=S)O−、−CR−、−CR−CR−、−O−CR−、−CR−O−CR−、−CO−O−CR−、−O−CO−CR−、−CR−O−CO−CR−、−CR−CO−O−CR−、−NR−CR−、または、−CO−NR−を表す。R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。Further, in the above general formula (Ar-3), L 7 and L 8 are independently single-bonded, -CO-O-, -C (= S) O-, -CR 1 R 2- , -CR, respectively. 1 R 2 -CR 3 R 4 - , - O-CR 1 R 2 -, - CR 1 R 2 -O-CR 3 R 4 -, - CO-O-CR 1 R 2 -, - O-CO-CR 1 R 2 -, - CR 1 R 2 -O-CO-CR 3 R 4 -, - CR 1 R 2 -CO-O-CR 3 R 4 -, - NR 1 -CR 2 R 3 -, or - Represents CO-NR 1-. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

また、上記一般式(Ar−3)中、SPおよびSPは、それぞれ独立に、単結合、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−CH−の1個以上が−O−、−S−、−NH−、−N(Q)−、もしくは、−CO−に置換された2価の連結基を表し、Qは、置換基を表す。置換基としては、上記一般式(Ar−1)中のYが有していてもよい置換基と同様の基が挙げられる。Further, in the above general formula (Ar-3), SP 3 and SP 4 are independently single-bonded, linear or branched alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms. One or more of -CH 2- constituting a linear or branched alkylene group is substituted with -O-, -S-, -NH-, -N (Q)-, or -CO- 2 It represents a valent linking group and Q represents a substituent. Examples of the substituent include a group similar to the substituent that Y 1 in the general formula (Ar-1) may have.

また、上記一般式(Ar−3)中、PおよびPは、それぞれ独立に1価の有機基を表し、重合性基が好ましい。重合性基の例は、上述のPおよびPに関連して説明した通りである。ただし、上述の通りMGが、一般式(Ar−3)で表される芳香環である場合は、PおよびPならびに一般式(Ar−3)中のPおよびPの少なくとも1つが重合性基を表す。Further, in the above general formula (Ar-3), P 3 and P 4 each independently represent a monovalent organic group, and a polymerizable group is preferable. Examples of the polymerizable groups are as described in relation to P 1 and P 2 described above. However, as MG described above, when an aromatic ring represented by general formula (Ar-3), at least one of P 3 and P 4 in P 1 and P 2 and formula (Ar-3) Represents a polymerizable group.

また、上記一般式(Ar−4)〜(Ar−5)中、Axは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも1つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。
また、上記一般式(Ar−4)〜(Ar−5)中、Ayは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも1つの芳香環を有する、炭素数2〜30の有機基を表す。
ここで、AxおよびAyにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、AxとAyとが結合して環を形成していてもよい。
また、Qは、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。
AxおよびAyとしては、特許文献3(国際公開第2014/010325号)の段落[0039]〜[0095]に記載された基が挙げられる。
また、Qが示す炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、および、n−ヘキシル基等が挙げられ、置換基としては、上記一般式(Ar−1)中のYが有していてもよい置換基と同様の基が挙げられる。
Further, in the above general formulas (Ar-4) to (Ar-5), Ax has at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle, and has 2 to 30 carbon atoms. Represents an organic group of.
Further, in the above general formulas (Ar-4) to (Ar-5), Ay is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic hydrocarbon ring. Represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of aromatic heterocycles.
Here, the aromatic ring in Ax and Ay may have a substituent, or Ax and Ay may be bonded to form a ring.
Further, Q 3 represents a hydrogen atom or may have a substituent alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of Ax and Ay include the groups described in paragraphs [0039] to [0995] of Patent Document 3 (International Publication No. 2014/010325).
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by Q 3, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, isobutyl group, sec- butyl group, tert- butyl radical, n -Pentyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned, and examples of the substituent include a group similar to the substituent that Y 1 in the above general formula (Ar-1) may have.

上記一般式(W)で表される液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に限定されない。なお、下記式中の1,4−シクロヘキシレン基は、いずれもトランス−1,4−シクロヘキシレン基である。また、下記式中nは1〜12の整数を表す。 Preferred examples of the liquid crystal compound represented by the general formula (W) are shown below, but the present invention is not limited to these liquid crystal compounds. The 1,4-cyclohexylene groups in the following formulas are all trans-1,4-cyclohexylene groups. Further, n in the following formula represents an integer of 1 to 12.

Figure 2019240048
Figure 2019240048

Figure 2019240048
Figure 2019240048

Figure 2019240048

なお、上記式中、「*」は結合位置を表す。
Figure 2019240048

In the above formula, "*" represents the bonding position.

Figure 2019240048

なお、上記式II−2−8およびII−2−9中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基(メチル基がエチレン基に置換した基)を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
Figure 2019240048

The group adjacent to the acryloyloxy group in the above formulas II-2-8 and II-2-9 represents a propylene group (a group in which a methyl group is replaced with an ethylene group), and the positions of the methyl groups are different. Represents a mixture of bodies.

Figure 2019240048
Figure 2019240048

Figure 2019240048
Figure 2019240048

Figure 2019240048
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Figure 2019240048
Figure 2019240048

Figure 2019240048
Figure 2019240048

Figure 2019240048
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重合性液晶組成物中、重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物中の液晶化合物の全質量に対して、50〜100質量%が好ましく、60〜98質量%がより好ましく、65〜95質量%がさらに好ましい。
なお、上記液晶化合物の全質量とは、重合性液晶組成物が非重合性の液晶化合物をも含む場合は、その質量をも算入した質量である。
重合性液晶化合物を2種以上使用する場合は、その合計含有量は、上記範囲内が好ましい。
The content of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 60 to 98% by mass, and more preferably 65, based on the total mass of the liquid crystal compounds in the polymerizable liquid crystal composition. ~ 95% by mass is more preferable.
When the polymerizable liquid crystal composition also contains a non-polymerizable liquid crystal compound, the total mass of the liquid crystal compound is the mass including the mass thereof.
When two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds are used, the total content thereof is preferably within the above range.

重合性液晶組成物中、重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の全固形分の質量に対して、50〜99.99質量%が好ましく、65〜99.9質量%がより好ましく、80〜99.5質量%がさらに好ましい。
重合性液晶化合物を2種以上使用する場合は、その合計含有量は、上記範囲内が好ましい。
なお、全固形分とは、光学異方性層を形成する成分を意図し、溶剤は含まれない。また、光学異方性層を形成する成分であれば、その性状が液体状であっても、固形分とみなす。
The content of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 50 to 99.99% by mass, more preferably 65 to 99.9% by mass, based on the mass of the total solid content of the polymerizable liquid crystal composition. It is preferable, and 80 to 99.5% by mass is more preferable.
When two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds are used, the total content thereof is preferably within the above range.
The total solid content is intended as a component that forms an optically anisotropic layer, and does not contain a solvent. Further, if the component forms an optically anisotropic layer, it is regarded as a solid content even if the property is liquid.

<光重合開始剤>
重合性液晶組成物は、光重合開始剤を含むのが好ましい。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル系重合開始剤、α−カルボニル系重合開始剤(例えば、米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル系重合開始剤(例えば、米国特許第2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン系重合開始剤(例えば、米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン系重合開始剤(例えば、米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせた重合開始剤(例えば、米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン系重合開始剤(例えば、特開昭60−105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載)、オキサジアゾール系重合開始剤(例えば、米国特許第4212970号明細書記載)、および、アシルフォスフィンオキシド系重合開始剤(例えば、特公昭63−40799号公報、特公平5−29234号公報、特開平10−95788号公報、特開平10−29997号公報記載)等が挙げられる。
中でも、露光された際に均一に硬化が進行し、より配向性に優れる光学異方性層を得られる点から、オキシムエステル系重合開始剤が好ましい。
重合性液晶組成物中、光重合開始剤の含有量は、重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物の全質量に対して、0.01〜20質量%が好ましく、0.1〜8質量%がより好ましい。
重合開始剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上使用してもよい。
重合開始剤を2種以上使用する場合は、その合計含有量は、上記範囲内が好ましい。
<Photopolymerization initiator>
The polymerizable liquid crystal composition preferably contains a photopolymerization initiator.
The polymerization initiator used is preferably a photopolymerization initiator capable of initiating a polymerization reaction by irradiation with ultraviolet rays.
Examples of the photopolymerization initiator include an oxime ester-based polymerization initiator, an α-carbonyl-based polymerization initiator (for example, described in US Pat. Nos. 2,376,661 and 236,670), and an acyloin ether-based polymerization initiator (described in each specification of the same). For example, US Pat. No. 2,448,828 (described in US Pat. No. 2,448,828), α-carbohydrate-substituted aromatic acyloin-based polymerization initiator (for example, described in US Pat. No. 2,725,212), polynuclear quinone-based polymerization initiator (for example, US Pat. No. 3,406127). (No. 2951758), a polymerization initiator in combination with a triarylimidazole dimer and a p-aminophenyl ketone (for example, described in US Pat. No. 3,549,637), an acridin and a phenazine-based polymerization initiator (for example, described in US Pat. No. 3,549,678). For example, JP-A-60-105667, US Pat. No. 4,239,850 (described in US Pat. No. 4,239,850), an oxadiazole-based polymerization initiator (for example, described in US Pat. No. 4,212,970), and acylphosphine oxide-based polymerization initiator. Examples thereof include agents (described in, for example, Japanese Patent Publication No. 63-40799, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-29234, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-95788, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-29997) and the like.
Of these, an oxime ester-based polymerization initiator is preferable because curing proceeds uniformly when exposed and an optically anisotropic layer having more excellent orientation can be obtained.
The content of the photopolymerization initiator in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 0.01 to 20% by mass, preferably 0.1 to 8% by mass, based on the total mass of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition. % Is more preferable.
The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
When two or more kinds of polymerization initiators are used, the total content thereof is preferably within the above range.

<界面活性剤>
重合性液晶組成物は、未硬化層を形成した際の空気界面側の表面を平滑に保ち、より優れた配向性の光学異方性層を得る点から、界面活性剤を含むのが好ましい。
このような界面活性剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系界面活性剤またはケイ素系界面活性剤が好ましく、泣き出し(ブルーム、ブリード)を起こしにくい観点から、フッ素系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤としては、例えば、特開2007−069471号公報の段落[0079]〜[0102]の記載に記載された化合物、特開2013−047204号公報に記載された一般式(I)で表される化合物(特に段落[0020]〜[0032]に記載された化合物)、特開2012−211306号公報に記載された一般式(I)で表される化合物(特に段落[0022]〜[0029]に記載された化合物)、特開2002−129162号公報に記載された一般式(I)で表される液晶配向促進剤(特に段落[0076]〜[0078]および段落[0082]〜[0084]に記載された化合物)、並びに、特開2005−099248号公報に記載された一般式(I)、(II)および(III)で表される化合物(特に段落[0092]〜[0096]に記載された化合物)等が挙げられる。
<Surfactant>
The polymerizable liquid crystal composition preferably contains a surfactant from the viewpoint of keeping the surface on the air interface side when the uncured layer is formed smooth and obtaining an optically anisotropic layer having more excellent orientation.
As such a surfactant, a fluorine-based surfactant or a silicon-based surfactant is preferable because it has a high leveling effect on the amount of addition, and from the viewpoint of preventing crying (bloom, bleeding), the fluorine-based surfactant is active. The agent is more preferred.
Examples of the surfactant include the compounds described in paragraphs [0079] to [0102] of JP-A-2007-069471, and the general formula (I) described in JP-A-2013-047204. (In particular, the compounds described in paragraphs [0020] to [0032]), and the compounds represented by the general formula (I) described in JP2012-221306A (particularly, paragraphs [0022] to [0029]. ], A liquid crystal orientation promoter represented by the general formula (I) described in JP-A-2002-129162 (particularly paragraphs [0076] to [0078] and paragraphs [0082] to [0084]. ], And the compounds represented by the general formulas (I), (II) and (III) described in JP-A-2005-09948 (particularly in paragraphs [0092] to [0996]. The described compounds) and the like can be mentioned.

<溶剤>
重合性液晶組成物は、未硬化層の形成時に粘度を下げる等の製造適性を改良するため、溶剤を含んでいてもよい。
溶剤としては特に限定はされないが、ケトン(シクロペンタノン等の環状ケトンを含む)、エステル、エーテル、アルコール、アルカン、トルエン、クロロホルム、および、メチレンクロライドからなる群の少なくとも1種から選択されるのが好ましく、ケトン、エステル、エーテル、アルコール、および、アルカンからなる群の少なくとも1種から選択されるのがより好ましく、ケトン、エステル、エーテル、および、アルコールからなる群の少なくとも1種から選択されるのがさらに好ましい。
<Solvent>
The polymerizable liquid crystal composition may contain a solvent in order to improve the manufacturing suitability such as lowering the viscosity at the time of forming the uncured layer.
The solvent is not particularly limited, but is selected from at least one of the group consisting of ketones (including cyclic ketones such as cyclopentanone), esters, ethers, alcohols, alkanes, toluene, chloroform, and methylene chloride. Is preferable, and it is more preferably selected from at least one of the group consisting of ketones, esters, ethers, alcohols, and alcohols, and more preferably selected from at least one of the groups consisting of ketones, esters, ethers, and alcohols. Is even more preferable.

<その他の成分>
重合性液晶化合物は、上述した以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分として、例えば、熱重合開始剤を含んでいてもよい。
他にも、例えば、光学異方性層の配向性の調整等の点から、カイラル剤等を使用してもよい。
また、重合性液晶組成物の粘度、相転移温度、配向均一性の調整、光学異方性層の膜物性、および、光学特性の調整等の観点から、非重合性の液晶化合物を使用してもよい。非重合性の液晶化合物は、低分子液晶化合物であってもよい。また、非重合性の液晶化合物は、主鎖型液晶高分子または側鎖型液晶高分子であってもよい。
重合性液晶組成物のポットライフ付与、および、光学異方性層の耐久性向上等の観点から、重合禁止剤、酸化防止剤、および、紫外線吸収剤等を使用してもよい。
さらなる機能付与、液物性の調整、および、膜物性の調整等の観点から、可塑剤、レターデーション調整剤、二色性色素、蛍光色素、フォトクロミック色素、サーモクロミック色素、光異性化材料、光二量化材料、ナノ粒子、および、チキソ剤等を添加してもよい。
<Other ingredients>
The polymerizable liquid crystal compound may contain other components other than those described above.
As other components, for example, a thermal polymerization initiator may be contained.
In addition, for example, a chiral agent or the like may be used from the viewpoint of adjusting the orientation of the optically anisotropic layer.
Further, from the viewpoints of adjusting the viscosity, phase transition temperature, orientation uniformity, film physical characteristics of the optically anisotropic layer, and adjusting the optical characteristics of the polymerizable liquid crystal composition, a non-polymerizable liquid crystal compound is used. May be good. The non-polymerizable liquid crystal compound may be a low molecular weight liquid crystal compound. Further, the non-polymerizable liquid crystal compound may be a main chain type liquid crystal polymer or a side chain type liquid crystal polymer.
From the viewpoint of imparting pot life to the polymerizable liquid crystal composition and improving the durability of the optically anisotropic layer, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber and the like may be used.
Plasticizers, retardation modifiers, dichroic dyes, fluorescent dyes, photochromic dyes, thermochromic dyes, photoisomerizing materials, photodimerization from the viewpoints of further functioning, adjusting liquid physical properties, and adjusting film physical characteristics. Materials, nanoparticles, thixotropic agents and the like may be added.

このような重合性液晶組成物を用いて形成される未硬化層は、スメクチック相とネマチック相との相転移温度が80℃以下となるのが好ましく、例えば、フィルムコントラストおよびパネルコントラストがより良好となる観点から70℃以上80℃未満となるのがより好ましい。 The uncured layer formed by using such a polymerizable liquid crystal composition preferably has a phase transition temperature of 80 ° C. or lower between the smectic phase and the nematic phase, and for example, the film contrast and the panel contrast are better. From this point of view, it is more preferable that the temperature is 70 ° C. or higher and lower than 80 ° C.

〔光学異方性層〕
本発明の製造方法で製造される光学異方性層の厚みは特に限定されないが、0.1〜10μmが好ましく、0.5〜5μmがより好ましい。
本発明の製造方法で製造される光学異方性層は、スメクチック相が固定化されてなる層であるのが好ましい。
[Optically anisotropic layer]
The thickness of the optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm.
The optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention is preferably a layer in which the smectic phase is immobilized.

光学異方性層の好適様態として、ポジティブAプレートが挙げられる。ポジティブAプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を水平配向させて得る方法がある。さらに、その面内レターデーションRe(550)を100〜160nm(好ましくは120〜150nm)とすると、正の一軸性λ/4プレートとして好適に使用できる。また、Re(550)を250〜300nmの範囲として、正の一軸性λ/2プレートとして使用できる。ここで、Re(550)は、光学異方性層の波長550nmにおける面内レターデーションを表す。面内レターデーションの値は、AxoScan OPMF−1(オプトサイエンス社製)を用いて測定できる。 A positive A plate is mentioned as a preferable mode of the optically anisotropic layer. To obtain a positive A plate, there is a method of horizontally orienting a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound. Further, when the in-plane retardation Re (550) is 100 to 160 nm (preferably 120 to 150 nm), it can be suitably used as a positive uniaxial λ / 4 plate. Further, Re (550) can be used as a positive uniaxial λ / 2 plate in the range of 250 to 300 nm. Here, Re (550) represents the in-plane retardation of the optically anisotropic layer at a wavelength of 550 nm. The in-plane retardation value can be measured using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Optoscience).

光学異方性層の他の好適様態として、ポジティブCプレートが挙げられる。ポジティブCプレートを得るには、棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させて得る方法がある。その厚さ方向レターデーションRth(550)は、例えば、20〜200nmであり、種々の光学補償機能および/または視野角向上機能等を付与する観点から、50〜120nmが好ましい。 Another preferred mode of the optically anisotropic layer is a positive C plate. To obtain a positive C plate, there is a method of vertically orienting a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound. The thickness direction retardation Rth (550) is, for example, 20 to 200 nm, and is preferably 50 to 120 nm from the viewpoint of imparting various optical compensation functions and / or viewing angle improving functions.

その他にも、光学異方性層は、ネガティブAプレートまたはネガティブCプレート等であってもよい。 In addition, the optically anisotropic layer may be a negative A plate, a negative C plate, or the like.

なお、本明細書において、Aプレートは以下のように定義される。
Aプレートは、ポジティブAプレート(正のAプレート)とネガティブAプレート(負のAプレート)との2種があり、フィルム面内の遅相軸方向(面内での屈折率が最大となる方向)の屈折率をnx、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、ポジティブAプレートは式(A1)の関係を満たすものであり、ネガティブAプレートは式(A2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブAプレートはRthが正の値を示し、ネガティブAプレートはRthが負の値を示す。
式(A1) nx>ny≒nz
式(A2) ny<nx≒nz
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(ny−nz)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、−10〜10nm、好ましくは−5〜5nmの場合も「ny≒nz」に含まれ、(nx−nz)×dが、−10〜10nm、好ましくは−5〜5nmの場合も「nx≒nz」に含まれる。
Cプレートは、ポジティブCプレート(正のCプレート)とネガティブCプレート(負のCプレート)との2種があり、ポジティブCプレートは式(C1)の関係を満たすものであり、ネガティブCプレートは式(C2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブCプレートはRthが負の値を示し、ネガティブCプレートはRthが正の値を示す。
式(C1) nz>nx≒ny
式(C2) nz<nx≒ny
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(nx−ny)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、0〜10nm、好ましくは0〜5nmの場合も「nx≒ny」に含まれる。
In this specification, the A plate is defined as follows.
There are two types of A plates, a positive A plate (positive A plate) and a negative A plate (negative A plate), and the slow axis direction in the film plane (the direction in which the refractive index in the plane is maximized). ) Is nx, the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis in the plane is ny, and the refractive index in the thickness direction is nz, the positive A plate satisfies the relationship of the equation (A1). The negative A plate satisfies the relation of the formula (A2). The positive A plate shows a positive value for Rth, and the negative A plate shows a negative value for Rth.
Equation (A1) nx> ny≈nz
Equation (A2) ny <nx≈nz
The above "≈" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. “Substantially the same” means, for example, “ny ≈ nz” when (ny−nz) × d (where d is the thickness of the film) is -10 to 10 nm, preferably -5 to 5 nm. In the case where (nx-nz) × d is −10 to 10 nm, preferably −5 to 5 nm, it is also included in “nx≈nz”.
There are two types of C plates, a positive C plate (positive C plate) and a negative C plate (negative C plate). The positive C plate satisfies the relationship of the formula (C1), and the negative C plate is It satisfies the relation of the formula (C2). The positive C plate shows a negative value of Rth, and the negative C plate shows a positive value of Rth.
Equation (C1) nz> nx≈ny
Equation (C2) nz <nx≈ny
The above "≈" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. “Substantially the same” means, for example, that (nx−ny) × d (where d is the thickness of the film) is included in “nx≈ny” even when it is 0 to 10 nm, preferably 0 to 5 nm. Is done.

また、重合性液晶組成物に使用する重合性液晶化合物およびその他の成分の種類および使用量等を調整して、光学異方性の波長分散性を適宜調整できる。 Further, the wavelength dispersibility of optical anisotropy can be appropriately adjusted by adjusting the type and amount of the polymerizable liquid crystal compound and other components used in the polymerizable liquid crystal composition.

また、光学異方性層は、逆波長分散性を示すのが好ましい。例えば、光学異方性層が、下記式(II)の関係を満たすのが好ましい。
Δn(450)/Δn(550)<1.00 ・・・(II)
ここで、式(II)中、Δn(450)は、光学異方性層の波長450nmにおける屈折率最大方向とその直交方向の屈折率差を表し、Δn(550)は、光学異方性層の波長550nmにおける屈折率最大方向とその直交方向の屈折率差を表す。
Further, the optically anisotropic layer preferably exhibits reverse wavelength dispersibility. For example, the optically anisotropic layer preferably satisfies the relationship of the following formula (II).
Δn (450) / Δn (550) <1.00 ... (II)
Here, in the formula (II), Δn (450) represents the difference between the maximum refractive index of the optically anisotropic layer at a wavelength of 450 nm and the refractive index in the direction orthogonal to the maximum refractive index, and Δn (550) is the optically anisotropic layer. Represents the difference in refractive index between the maximum refractive index direction and the orthogonal direction thereof at a wavelength of 550 nm.

〔積層体〕
上述の通り、未硬化層は、支持体等の上に配置されてもよい。つまり、本発明の製造方法で製造される光学異方性層は、光学異方性層以外の層とともに、積層体を構成していてもよい。
[Laminated body]
As described above, the uncured layer may be placed on a support or the like. That is, the optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention may form a laminate together with a layer other than the optically anisotropic layer.

<支持体>
支持体としては特に限定はなく、中でも、連続生産を可能とする点で、長尺状のポリマーフィルムが好ましい。
ポリマーフィルムとしては、ポリプロピレン、および、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン・環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、および、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂;ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル酸エステル・ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、および、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;並びに、これらの共重合体等をフィルム化したポリマーフィルムが挙げられる。これらのポリマーフィルムは、引張弾性率、曲げ弾性率、平行光線透過率、ヘイズ、光学異方性、光学等方性、易剥離性、および、易接着性等の観点に基づいて適宜選択できる。
<Support>
The support is not particularly limited, and among them, a long polymer film is preferable in that continuous production is possible.
Examples of the polymer film include polypropylene and polyolefin / cyclic olefin resins such as norbornene polymers; polyvinyl alcohol; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polymethacrylic acid esters such as polymethylmethacrylate. -Polyacrylic acid ester; cellulose ester such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; and a polymer film obtained by filming a copolymer of these. These polymer films can be appropriately selected from the viewpoints of tensile elastic modulus, flexural modulus, parallel light transmittance, haze, optical anisotropy, optical isotropic property, easy peeling property, easy adhesive property and the like.

本発明において、配向が均一な光学異方性層を得る点から、重合性液晶組成物を直接支持体に塗布して光学異方性層を形成する場合における、支持体の塗布側表面は平滑なのが好ましく、その表面粗さRaは3〜50nmが好ましい。 In the present invention, from the viewpoint of obtaining an optically anisotropic layer having a uniform orientation, the coated surface of the support is smooth when the polymerizable liquid crystal composition is directly applied to the support to form the optically anisotropic layer. The surface roughness Ra is preferably 3 to 50 nm.

また、長尺状のポリマーフィルムを用いるにあたっては、製造した積層体を巻き取った巻回体の状態において、積層体の表面同士の形状転写およびブロッキング現象等を防ぐ点から、支持体における重合性液晶組成物を塗布した面とは逆側の表面に、アンチブロッキング処理またはマット処理等を行ってもよい。また、積層体の端部にナーリングを設けてもよい。 Further, when using a long polymer film, in the state of a wound body in which the manufactured laminated body is wound, the polymerizable property in the support is from the viewpoint of preventing shape transfer between the surfaces of the laminated body and a blocking phenomenon. An anti-blocking treatment, a matte treatment, or the like may be performed on the surface opposite to the surface on which the liquid crystal composition is applied. Further, knurling may be provided at the end of the laminated body.

また、支持体は、剥離可能であるのも好ましい。この際、支持体上に光学異方性層を直接設けている場合は支持体と光学異方性層との界面にて剥離できるのが好ましい。また、支持体と光学異方性層との間に後述する配向層および/またはその他の層(中間層)が設けられている場合は、支持体と光学異方性層との間の任意の界面もしくは層内で剥離できるのが好ましい。 It is also preferable that the support can be peeled off. At this time, when the optically anisotropic layer is directly provided on the support, it is preferable that the optically anisotropic layer can be peeled off at the interface between the support and the optically anisotropic layer. Further, when an orientation layer and / or another layer (intermediate layer) described later is provided between the support and the optically anisotropic layer, any arbitrary layer between the support and the optically anisotropic layer is provided. It is preferable that it can be peeled off at the interface or in the layer.

<配向膜>
配向性がより優れる光学異方性層を得やすいという点から、支持体上に配向膜を設け、さらに配向膜上に上述の光学異方性層を設けるのが好ましい。
<Alignment film>
From the viewpoint that it is easy to obtain an optically anisotropic layer having better orientation, it is preferable to provide an alignment film on the support and further provide the above-mentioned optically anisotropic layer on the alignment film.

配向膜には、公知の種々の配向膜を使用でき、例えば、ポリマー等の有機化合物からなるラビング膜(ラビング配向膜)、無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、および、有機化合物(例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、または、ステアリル酸メチル等)を用いてラングミュア・ブロジェット法で形成したLB膜(ラングミュア・ブロジェット膜)を累積させた膜等が挙げられる。
異物に起因する配向欠陥を未然に防ぐ観点から、配向膜としては、光配向膜も好ましい。
Various known alignment films can be used as the alignment film. For example, a rubbing film (rubbing alignment film) made of an organic compound such as a polymer, an oblique vapor deposition film of an inorganic compound, a film having microgrooves, and an organic compound. Examples thereof include a membrane obtained by accumulating LB membranes (Langmuir-Blogette membranes) formed by the Langmuir-Bloget method using (for example, ω-tricosanoic acid, dioctadecylmethylammonium chloride, methyl stearyllate, etc.). ..
A photo-alignment film is also preferable as the alignment film from the viewpoint of preventing orientation defects caused by foreign substances.

ラビング配向膜としては、例えば、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平9−152509号公報に記載された重合性基を有するポリマー等の塗膜、並びに、特開2005−97377号公報、特開2005−99228号公報、および、特開2005−128503号公報記載の配向膜等が挙げられる。 Examples of the rubbing alignment film include a coating film of polyimide, polyvinyl alcohol, a polymer having a polymerizable group described in JP-A-9-152509, and JP-A-2005-97377 and JP-A-2005-99228. Examples thereof include the alignment film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-128503.

本発明に利用可能な光配向膜に用いられる光配向膜形成用組成物としては、多数の文献等に記載がある。例えば、WO08/056597号公報、特開2008−76839号公報、および、特開2009−109831号公報に記載のアゾ化合物を利用した材料;特開2012−155308号公報、特開2014−26261号公報、特開2014−123091号公報、および、特開2015−26050号公報に記載の光配向性ポリオルガノシロキサン複合材料;特開2012−234146に記載の桂皮酸基含有セルロースエステル材料;特開2012−145660号公報、および、特開2013−238717号公報に記載の光フリース転位反応もしくはその類似反応を利用した材料;特開2016−71286号公報、特表2013−518296号公報、特表2014−533376号公報、特表2016−535158号公報、WO10/150748号公報、WO11/126022号公報、WO13/054784号公報、WO14/104320号公報、および、WO16/002722号公報に記載の光二量化可能な化合物(例えば、シンナメート化合物、カルコン化合物、および/または、クマリン化合物を各種ポリマーにペンダントさせた材料)等を、光配向膜形成用組成物に使用できる。
中でも、光配向に要する照射エネルギーおよび配向規制力等の観点から、アゾ基の光異性化反応を用いる光配向膜、または、シンナメート化合物の光反応を用いる光配向膜が好ましい。
The composition for forming a photoalignment film used for the photoalignment film that can be used in the present invention has been described in many documents and the like. For example, a material using an azo compound described in WO08 / 056597, JP2008-76839, and JP2009-109831; JP2012-155308, JP2014-26261. , JP-A-2014-123091, and JP-A-2015-26050, a photo-oriented polyorganosiloxane composite material; JP-A-2012-234146, a cinnamic acid group-containing cellulose ester material; JP-A-2012- Materials utilizing the optical Fries rearrangement reaction or a reaction similar thereto described in JP-A-145660 and JP-A-2013-238717; JP-A-2016-71286, JP-A-2013-518296, JP-A-2014-533376. No., JP-A-2016-535158, WO10 / 150748, WO11 / 126022, WO13 / 054784, WO14 / 104320, and WO16 / 002722. (For example, a synnamate compound, a chalcone compound, and / or a material in which a coumarin compound is pendant on various polymers) and the like can be used in the composition for forming a photoalignment film.
Among them, a photoalignment film using a photoisomerization reaction of an azo group or a photoalignment film using a photoreaction of a synnamate compound is preferable from the viewpoint of irradiation energy required for photoalignment, orientation regulating power, and the like.

配向膜形成用組成物は、必要に応じ、架橋剤、バインダー、可塑剤、増感剤、架橋触媒、密着力調整剤、および、レベリング剤等を含んでいてもよい。 The composition for forming an alignment film may contain a cross-linking agent, a binder, a plasticizer, a sensitizer, a cross-linking catalyst, an adhesion adjusting agent, a leveling agent, and the like, if necessary.

配向膜の厚みは特に限定はなく、目的に応じて適宜選択でき、例えば、10〜1000nmが好ましく、10〜300nmがより好ましい。配向膜の表面粗さは先述したとおりである。 The thickness of the alignment film is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, 10 to 1000 nm is preferable, and 10 to 300 nm is more preferable. The surface roughness of the alignment film is as described above.

<その他の層(中間層)>
上記積層体は、必要に応じさらにその他の層を含んでもよい。例えば、平滑化層、易接着層、易剥離層、遮光層、着色層、蛍光層、酸素バリア層、および、水蒸気バリア層等が挙げられる。このような層の機能を1つ以上有する層を中間層と総称する。中間層は、上述したような機能以外の機能を有する層であってもよい。
中間層を、例えば、支持体と光学異方性層との間、および/または、支持体と上述の配向膜との間等に設けて、種々の機能を発現させられる。
<Other layers (intermediate layer)>
The laminate may further contain other layers, if desired. For example, a smoothing layer, an easy-adhesion layer, an easy-release layer, a light-shielding layer, a colored layer, a fluorescent layer, an oxygen barrier layer, a water vapor barrier layer, and the like can be mentioned. Layers having one or more such layer functions are collectively referred to as intermediate layers. The intermediate layer may be a layer having a function other than the above-mentioned functions.
An intermediate layer can be provided, for example, between the support and the optically anisotropic layer and / or between the support and the above-mentioned alignment film to exhibit various functions.

〔偏光板〕
本発明の製造方法で製造される光学異方性層は、偏光板に組み込んで使用するのも好ましい。言い換えると、上記積層体が偏光板であるのも好ましい。
上記偏光板は、少なくとも本発明の製造方法で製造される光学異方性層と偏光子とを有する。上記偏光板は、円偏光板であってもよい。
〔Polarizer〕
The optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention is also preferably used by being incorporated into a polarizing plate. In other words, it is also preferable that the laminate is a polarizing plate.
The polarizing plate has at least an optically anisotropic layer and a polarizer produced by the production method of the present invention. The polarizing plate may be a circular polarizing plate.

<偏光子>
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用できる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子等が用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施して偏光子を得る方法として、特許第5048120号公報、特許第5143918号公報、特許第5048120号公報、特許第4691205号公報、特許第4751481号公報、および、特許第4751486号公報等を挙げられ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用できる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と1/4波長板とを組み合わせた偏光子等が用いられる。
<Polarizer>
The polarizer is not particularly limited as long as it is a member having a function of converting light into specific linearly polarized light, and conventionally known absorption-type polarizers and reflection-type polarizers can be used.
As the absorption type polarizer, an iodine-based polarizer, a dye-based polarizer using a dichroic dye, a polyene-based polarizer, and the like are used. Iodine-based polarized light and dye-based polarized light include coated and stretched polarized light, and both can be applied. However, polarized light produced by adsorbing iodine or a dichroic dye on polyvinyl alcohol and stretching it. Children are preferred.
Further, as a method for obtaining a polarizer by stretching and dyeing a laminated film having a polyvinyl alcohol layer formed on a substrate, Japanese Patent No. 5048120, Japanese Patent No. 5143918, Japanese Patent No. 5048120, Japanese Patent No. Examples thereof include Japanese Patent No. 46910205, Japanese Patent No. 4751481, Japanese Patent No. 4751486, and the like, and known techniques relating to these polarizers can also be preferably used.
As the reflective polarizer, a polarizer in which thin films having different birefringences are laminated, a wire grid type polarizer, a polarizer in which a cholesteric liquid crystal having a selective reflection region and a 1/4 wave plate are combined, and the like are used.

偏光子の厚みは特に限定されないが、3〜60μmが好ましく、5〜30μmがより好ましく、5〜15μmがさらに好ましい。 The thickness of the polarizer is not particularly limited, but is preferably 3 to 60 μm, more preferably 5 to 30 μm, and even more preferably 5 to 15 μm.

<偏光板が有する光学異方性層>
上記偏光板は、2種以上の光学異方性層を有しているのが好ましい。
この場合、偏光子が有する、上記2種以上の光学異方性層のうちの少なくとも1種が本発明の製造方法で製造された光学異方性層であればよく、それ以外の光学異方性層は、本発明の製造方法以外の方法で製造された光学異方性層(「その他の光学異方性層」ともいう)であってもよい。
例えば、偏光板が、ポジティブAプレートとポジティブCプレートとを有しているのが好ましい。この場合、上記ポジティブAプレートは、本発明の製造方法で製造された光学異方性層が好ましく、上記ポジティブCプレートは、本発明の製造方法で製造された光学異方性層またはその他の光学異方性層が好ましい。
なお、上記ポジティブAプレートとポジティブCプレートとを有する偏光板が、さらに別の光学異方性層を有していてもよい。
<Optical anisotropic layer of polarizing plate>
The polarizing plate preferably has two or more kinds of optically anisotropic layers.
In this case, at least one of the above two or more kinds of optically anisotropic layers possessed by the polarizer may be an optically anisotropic layer manufactured by the manufacturing method of the present invention, and the other optically anisotropic layers may be used. The sex layer may be an optically anisotropic layer (also referred to as “other optically anisotropic layer”) produced by a method other than the production method of the present invention.
For example, it is preferable that the polarizing plate has a positive A plate and a positive C plate. In this case, the positive A plate is preferably an optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention, and the positive C plate is an optically anisotropic layer or other optical produced by the production method of the present invention. An anisotropic layer is preferable.
The polarizing plate having the positive A plate and the positive C plate may have another optically anisotropic layer.

偏光板を製造するにあたって、偏光子上に重合性液晶組成物を塗布する等して、偏光子上に直接、光学異方性層を配置してもよい。
また、例えば、偏光子と光学異方性層とが、1以上の他の層(接着層またはその他の光学異方性層等)を介して接合されていてもよい。
In producing the polarizing plate, the optically anisotropic layer may be arranged directly on the polarizing element by applying a polymerizable liquid crystal composition on the polarizer or the like.
Further, for example, the polarizer and the optically anisotropic layer may be bonded via one or more other layers (adhesive layer or other optically anisotropic layer, etc.).

〔画像表示装置〕
本発明の製造方法で製造される光学異方性層は、画像表示装置に使用されてもよい。光学異方性層は上記偏光板に組み込まれた形態で使用されてもよい。
上記画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス(以下、「EL」と略す。)パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機EL表示パネルが好ましい。すなわち、上記画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、または、表示素子として有機ELパネルを用いた有機EL表示装置が好ましい。
[Image display device]
The optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention may be used in an image display device. The optically anisotropic layer may be used in a form incorporated in the above-mentioned polarizing plate.
The display element used in the image display device is not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal cell, an organic electroluminescence (hereinafter abbreviated as “EL”) panel, and a plasma display panel.
Of these, a liquid crystal cell or an organic EL display panel is preferable. That is, as the image display device, a liquid crystal display device using a liquid crystal cell as a display element or an organic EL display device using an organic EL panel as a display element is preferable.

<液晶表示装置>
画像表示装置の一例である液晶表示装置は、例えば、上述した偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置が好ましい。
液晶セルは、VA(Virtical Alignment)モード、OCB(Optical Compensated Bend)モード、IPS(In−Place−Switching)モード、またはTN(Twisted Nematic)等が挙げられる。またそれ以外の方式であってもよい。液晶セルに合わせた光学補償構成および/または輝度向上構成に、本発明の製造方法で製造される光学異方性層を適用して組み合わせて、優れた広視野角特性、黒表示の光漏れ防止、および、高輝度表示等を実現できる。
なお、上記画像表示装置においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として上記偏光板を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として上記偏光板を用いるのがより好ましい。
<Liquid crystal display device>
As the liquid crystal display device which is an example of the image display device, for example, a liquid crystal display device having the above-mentioned polarizing plate and a liquid crystal cell is preferable.
Examples of the liquid crystal cell include a VA (Virtual Optical) mode, an OCB (Optical Compensated Bend) mode, an IPS (In-Place-Switching) mode, and a TN (Twisted Nematic) mode. Further, other methods may be used. An optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention is applied and combined with an optical compensation configuration and / or a brightness improvement configuration suitable for a liquid crystal cell to provide excellent wide viewing angle characteristics and prevent light leakage in black display. , And high-brightness display can be realized.
In the image display device, among the polarizing plates provided on both sides of the liquid crystal cell, it is preferable to use the polarizing plate on the front side, and the polarizing plate on the front side and the rear side is used. Is more preferable.

<有機EL表示装置>
画像表示装置の一例である有機EL表示装置は、有機EL表示パネルと、有機EL表示パネル上に配置された円偏光板と、を含む有機EL表示装置が好ましい。ここで使用される円偏光板は、上述した偏光板の一形態である。
上記円偏光板を有することで、外部光が有機ELパネルの電極等に反射して表示コントラストを低下させる現象を抑制し高画質の表示を可能にできる。
有機ELパネルとしては公知の構成を広く利用できる。また、さらにタッチパネルを具備していてもよい。
<Organic EL display device>
The organic EL display device as an example of the image display device is preferably an organic EL display device including an organic EL display panel and a circularly polarizing plate arranged on the organic EL display panel. The circularly polarizing plate used here is a form of the above-mentioned polarizing plate.
By having the circularly polarizing plate, it is possible to suppress the phenomenon that external light is reflected by the electrodes of the organic EL panel and lower the display contrast, and it is possible to display high image quality.
As an organic EL panel, a known configuration can be widely used. Further, a touch panel may be further provided.

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されない。 The present invention will be described in more detail below based on examples. The materials, amounts used, ratios, treatment contents, treatment procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed as long as they do not deviate from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not construed as limiting by the examples shown below.

[実施例1]
<光配向膜の形成>
[Example 1]
<Formation of photoalignment film>

(セルロースアシレートフィルム1の作製)
・コア層セルロースアシレートドープの作製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度2.88のセルロースアセテート 100質量部
・特開2015−227955号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物B 12質量部
・下記の化合物G 2質量部
・メチレンクロライド(第1溶媒) 430質量部
・メタノール(第2溶剤) 64質量部
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(Preparation of Cellulose Achillate Film 1)
-Preparation of Core Layer Cellulose Acetate Dope The following composition was put into a mixing tank and stirred to dissolve each component to prepare a cellulose acetate solution to be used as the core layer cellulose acylate dope.
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Core layer Cellulose acylate dope -------------
100 parts by mass of cellulose acetate having an acetyl substitution degree of 2.88 ・ 12 parts by mass of the polyester compound B described in Examples of JP-A-2015-227955 ・ 2 parts by mass of the following compound G ・ Methylene chloride (first solvent) 430 parts by mass, methanol (second solvent) 64 parts by mass -------------

化合物G Compound G

Figure 2019240048
Figure 2019240048

・外層セルロースアシレートドープの作製
上記のコア層セルロースアシレートドープ90質量部に下記のマット剤溶液を10質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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マット剤溶液
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平均粒子サイズ20nmのシリカ粒子
(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製) 2質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 76質量部
メタノール(第2溶剤) 11質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ 1質量部
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-Preparation of outer layer cellulose acylate dope 10 parts by mass of the following matting agent solution was added to 90 parts by mass of the above core layer cellulose acylate dope to prepare a cellulose acetate solution to be used as the outer layer cellulose acylate dope.
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Matte solution −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−–
Silica particles with an average particle size of 20 nm (AEROSIL R972, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 2 parts by mass Methylene chloride (first solvent) 76 parts by mass Methanol (second solvent) 11 parts by mass The above core layer cellulose acylate dope 1 part by mass Part −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径34μmのろ紙および平均孔径10μmの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを3層同時に流延口から20℃のドラム上に流延した(バンド流延機)。溶剤含有率略20質量%の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率1.1倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み40μmの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム1とした。セルロースアシレートフィルム1のコア層は厚み36μm、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み2μmであった。得られたセルロースアシレートフィルム1の波長550nmにおける面内レターデーションは0nmであった。
得られたセルロースアシレートフィルム1を形成用仮支持体とした。
The core layer cellulose acylate dope and the outer layer cellulose acylate dope are filtered through a filter paper having an average pore size of 34 μm and a sintered metal filter having an average pore size of 10 μm, and then the core layer cellulose acylate dope and the outer layer cellulose acylate dope on both sides thereof. And three layers were simultaneously cast on a drum at 20 ° C. from the casting port (band casting machine). The film was peeled off with a solvent content of about 20% by mass, both ends of the film in the width direction were fixed with tenter clips, and the film was dried while being stretched in the lateral direction at a stretching ratio of 1.1 times. Then, the obtained film was further dried by transporting it between the rolls of the heat treatment apparatus to prepare an optical film having a thickness of 40 μm, which was used as a cellulose acylate film 1. The core layer of the cellulose acylate film 1 had a thickness of 36 μm, and the outer layers arranged on both sides of the core layer had a thickness of 2 μm, respectively. The in-plane retardation of the obtained cellulose acylate film 1 at a wavelength of 550 nm was 0 nm.
The obtained cellulose acylate film 1 was used as a temporary support for formation.

(光配向膜の作製)
形成用仮支持体であるセルロースアシレートフィルム1の表面に、下記の光配向膜形成用塗布液を#2ワイヤーバーで塗布し、60℃の温風で60秒乾燥し、塗膜を作製した。
750mW/cmの超高圧水銀ランプ(UL750,HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社製)を用いて、空気下にて、作製した塗膜に紫外線を垂直に照射した。なお、紫外線の照度はUV−A領域(波長320〜380nmの積算)において5mW/cm、照射量はUV−A領域において50mJ/cmとした。
(Preparation of photo-alignment film)
The following coating liquid for forming a photoalignment film was applied to the surface of the cellulose acylate film 1 which is a temporary support for forming with a # 2 wire bar, and dried with warm air at 60 ° C. for 60 seconds to prepare a coating film. ..
Using an ultra-high pressure mercury lamp (UL750, manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) of 750 mW / cm 2, the prepared coating film was vertically irradiated with ultraviolet rays under air. The illuminance of ultraviolet rays was 5 mW / cm 2 in the UV-A region (integration of wavelengths of 320 to 380 nm), and the irradiation amount was 50 mJ / cm 2 in the UV-A region.

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光配向膜形成用塗布液
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下記光配向用素材 1質量部
水 16質量部
ブトキシエタノール 42質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 42質量部
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Coating liquid for forming a photo-alignment film −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
Materials for photo-alignment below 1 part by mass Water 16 parts by mass Butoxyethanol 42 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 42 parts by mass ------------- −−−−−−−

光配向用素材: Material for photo-alignment:

Figure 2019240048
Figure 2019240048

<光学異方性層A−1の作製>
下記の重合性液晶組成物Aをスライドガラスの表面に塗布し、重合性液晶組成物Aから形成された未硬化層を加熱しながら偏光顕微鏡で観察した。その結果、未硬化層の降温時におけるアイソトロピック(等方相)−ネマチック相の転移温度(以下、「TNI」とも表記する。)は128℃、ネマチック相−スメクチック相の相転移温度(以下、「TSmN」とも表記する。)は73℃であった。また、50℃以下の温度に保つことにより、徐々に結晶が発生した。また、昇温時における、TSmNは74℃であった。
なお、X線回折(X‐ray diffraction:XRD)測定より、このスメクチック相は、層構造と液晶化合物とが直交し、層内で秩序を持たないスメクチックA相であった。
<Preparation of optically anisotropic layer A-1>
The following polymerizable liquid crystal composition A was applied to the surface of the slide glass, and the uncured layer formed from the polymerizable liquid crystal composition A was observed with a polarizing microscope while heating. As a result, the isotropic (isotropy) -nematic phase transition temperature (hereinafter, also referred to as “TNI”) at the time of lowering the temperature of the uncured layer is 128 ° C., and the phase transition temperature of the nematic phase-smetic phase (hereinafter, also referred to as “TNI”). (Also referred to as “TSmN”) was 73 ° C. Further, by keeping the temperature below 50 ° C., crystals were gradually generated. The TSmN was 74 ° C. at the time of temperature rise.
According to X-ray diffraction (XRD) measurement, this smectic phase was a smectic A phase in which the layer structure and the liquid crystal compound were orthogonal to each other and there was no order in the layer.

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重合性液晶組成物A
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下記液晶化合物L−1 57.5質量部
下記液晶化合物L−2 30質量部
下記液晶化合物L−3 12.5質量部
光重合開始剤1(下記化合物PI−1) 0.5質量部
下記含フッ素化合物F−1 0.2質量部
シクロペンタノン 227.1質量部
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Polymerizable liquid crystal composition A
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The following liquid crystal compound L-1 57.5 parts by mass The following liquid crystal compound L-2 30 parts by mass The following liquid crystal compound L-3 12.5 parts by mass Photopolymerization initiator 1 (the following compound PI-1) 0.5 parts by mass The following is included Fluorine compound F-1 0.2 parts by mass Cyclopentanone 227.1 parts by mass ------------- −

Figure 2019240048
Figure 2019240048

化合物PI−1 Compound PI-1

Figure 2019240048
Figure 2019240048

スピンコーターを用いて光配向膜上に重合性液晶組成物Aを塗布し、未硬化層を形成した(層形成工程)。なお、回転数は1000〜5000rpmの間で、所望の厚みとなるように調節した。
次いで、ホットプレートを用いて未硬化層を80℃(第1加熱温度)に加温して、ネマチック相を形成して、その温度で10秒間(第1加熱保持時間)維持した(ネマチック相形成工程)。
次いで、ホットプレートを用いて、未硬化層を第1加熱温度から降温レート40℃/分で65℃(冷却温度)まで冷却し、スメクチック相を形成した(冷却工程)。
その後、冷却保持時間を10秒間としてその温度で保持した。
次いで、65℃(冷却温度)の未硬化層に対して、窒素雰囲気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて30mJ/cm(波長300〜390nmの積算露光量)の紫外線を照射(第1露光処理)して半硬化層とした(第1重合工程)。
次いで、窒素雰囲気下に保ったまま、ホットプレートを用いて、平均昇温レート100℃/分で、半硬化層を120℃(第2加熱温度)に加温して、さらに第2加熱温度を維持した状態で空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて500mJ/cm(波長300〜390nmの積算露光量)の紫外線を照射(第2露光処理)して液晶相の配向状態を固定した(第2重合工程)。これによって、形成用仮支持体、光配向膜、および、光学異方性層A−1を含むフィルムA−1(フィルム1)を得た。
形成した光学異方性層A−1の厚みは2.3μmであった。また、形成した光学異方性層A−1をAxoScan OPMF−1(オプトサイエンス社製)を用いて光学異方性を測定したところ、Re(550)が144nm、Rth(550)が72nm、Re(450)/Re(550)が0.87であった。
The polymerizable liquid crystal composition A was applied onto the photoalignment film using a spin coater to form an uncured layer (layer forming step). The rotation speed was adjusted to a desired thickness between 1000 and 5000 rpm.
Next, the uncured layer was heated to 80 ° C. (first heating temperature) using a hot plate to form a nematic phase, which was maintained at that temperature for 10 seconds (first heating holding time) (nematic phase formation). Process).
Then, using a hot plate, the uncured layer was cooled from the first heating temperature to 65 ° C. (cooling temperature) at a temperature lowering rate of 40 ° C./min to form a smectic phase (cooling step).
Then, the cooling holding time was set to 10 seconds and held at that temperature.
Next, for the uncured layer at 65 ° C. (cooling temperature), 30 mJ / cm 2 (integrated exposure at a wavelength of 300 to 390 nm) using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere. Was irradiated with ultraviolet rays (first exposure treatment) to form a semi-cured layer (first polymerization step).
Next, the semi-cured layer is heated to 120 ° C. (second heating temperature) at an average heating rate of 100 ° C./min using a hot plate while maintaining the nitrogen atmosphere, and the second heating temperature is further increased. While maintaining this, an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) is used to irradiate ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 (integrated exposure at a wavelength of 300 to 390 nm) (second exposure treatment) to determine the orientation of the liquid crystal phase. Was fixed (second polymerization step). As a result, a film A-1 (film 1) containing a temporary support for formation, a photoalignment film, and an optically anisotropic layer A-1 was obtained.
The thickness of the formed optically anisotropic layer A-1 was 2.3 μm. Further, when the optical anisotropy of the formed optically anisotropy layer A-1 was measured using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Optoscience), Re (550) was 144 nm, Rth (550) was 72 nm, and Re. (450) / Re (550) was 0.87.

[実施例2〜19、比較例1〜5(光学異方性層A−2〜A−24の作製)]
各手順の条件を後段に示す表1のように変更した以外は、フィルム1の作製手順に従って、光学異方性層A−2〜A−24をそれぞれ含むフィルムA−2〜A−24(フィルム2〜24)を作製した。
なお、比較例1では、第1露光処理で光学異方性層の作製を完了した。
比較例2ではネマチック相形成工程の後、冷却工程を経ずに、直ちに露光を行って光学異方性層の作製を完了した。
得られた光学異方性層の厚み、Re(550)、Rth(550)、および、Re(450)/Re(550)を表1に示す。
[Examples 2 to 19 and Comparative Examples 1 to 5 (Preparation of optically anisotropic layers A-2 to A-24)]
Films A-2 to A-24 (films) containing optically anisotropic layers A-2 to A-24, respectively, according to the production procedure of film 1, except that the conditions of each procedure were changed as shown in Table 1 shown in the latter part. 2 to 24) were prepared.
In Comparative Example 1, the production of the optically anisotropic layer was completed by the first exposure treatment.
In Comparative Example 2, after the nematic phase forming step, exposure was immediately performed without going through the cooling step to complete the preparation of the optically anisotropic layer.
The thickness of the obtained optically anisotropic layer, Re (550), Rth (550), and Re (450) / Re (550) are shown in Table 1.

[比較例6(光学異方性層A−25の作製)]
<光学異方性層の作製>
下記の重合性液晶組成物Bを調製した。なお、化合物L−4は特開2011−207765号公報の方法によって合成した。
次いで、重合性液晶組成物Bをスライドガラスの表面に塗布し、重合性液晶組成物Bから形成された未硬化層を加熱しながら偏光顕微鏡で観察した。その結果、未硬化層の昇温時において、105℃から137℃まで粘性の高い中間相を示した。液晶相の判別は困難であったが、137℃以上で明確なネマチック液晶相を呈した。ネマチック液晶相は180℃以上まであり、降温時においては、61℃までネマチック相を呈し結晶化した。
[Comparative Example 6 (Preparation of Optically Anisotropy Layer A-25)]
<Preparation of optically anisotropic layer>
The following polymerizable liquid crystal composition B was prepared. Compound L-4 was synthesized by the method of JP2011-207765A.
Next, the polymerizable liquid crystal composition B was applied to the surface of the slide glass, and the uncured layer formed from the polymerizable liquid crystal composition B was observed with a polarizing microscope while heating. As a result, when the temperature of the uncured layer was raised, a highly viscous intermediate phase was exhibited from 105 ° C to 137 ° C. Although it was difficult to distinguish the liquid crystal phase, a clear nematic liquid crystal phase was exhibited at 137 ° C. or higher. The nematic liquid crystal phase was up to 180 ° C. or higher, and when the temperature was lowered, the nematic liquid crystal phase exhibited and crystallized up to 61 ° C.

−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
重合性液晶組成物B
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
下記液晶化合物L−4 29.1質量部
光重合開始剤1(イルガキュア819、BASF社製) 0.87質量部
上記含フッ素化合物F−1 0.02質量部
シクロペンタノン 70質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−–
Polymerizable liquid crystal composition B
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−–
The following liquid crystal compound L-4 29.1 parts by mass Photopolymerization initiator 1 (Irgacure 819, manufactured by BASF) 0.87 parts by mass The above-mentioned fluorine-containing compound F-1 0.02 parts by mass Cyclopentanone 70 parts by mass --- −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−–

(液晶化合物L−4) (Liquid crystal compound L-4)

Figure 2019240048
Figure 2019240048

スピンコーターを用いて光配向膜上に重合性液晶組成物Bを塗布し、未硬化層を形成した(層形成工程)。
得られた未硬化層を用いて、各手順の条件を後段に示す表1のように変更した以外は、フィルム1の作製手順に従って、光学異方性層A−25を含むフィルムA−25(フィルム25)を作製した。
得られた光学異方性層の厚み、Re(550)、Rth(550)、および、Re(450)/Re(550)を表1に示す。
The polymerizable liquid crystal composition B was applied onto the photoalignment film using a spin coater to form an uncured layer (layer formation step).
Using the obtained uncured layer, the film A-25 (containing the optically anisotropic layer A-25) was prepared according to the production procedure of the film 1, except that the conditions of each procedure were changed as shown in Table 1 shown in the latter part. Film 25) was produced.
The thickness of the obtained optically anisotropic layer, Re (550), Rth (550), and Re (450) / Re (550) are shown in Table 1.

〔ポジティブCプレートの作製〕
特開2015−200861号公報の段落[0124]に記載のポジティブCプレートと同様の方法で、形成用仮支持体上に設けたポジティブCプレートC−1を有する転写フィルムC1、形成用仮支持体上に設けたポジティブCプレートC−2を有する転写フィルムC2を作製した。AxoScan OPMF−1(オプトサイエンス社製)を用いて位相差を測定したところ、ポジティブCプレートC−1はRe(550)=0nm、Rth(550)=−112nmであり、ポジティブCプレートC−2はRe(550)=0nm、Rth(550)=−69nmであった。ポジティブCプレートC−1およびポジティブCプレートC−2の位相差値の調整は、厚みを調整して行った。
[Preparation of positive C plate]
A transfer film C1 having a positive C plate C-1 provided on a temporary support for formation, a temporary support for formation, in the same manner as the positive C plate described in paragraph [0124] of JP-A-2015-200861. A transfer film C2 having a positive C plate C-2 provided above was produced. When the phase difference was measured using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Optoscience), the positive C plate C-1 had Re (550) = 0 nm and Rth (550) = -112 nm, and the positive C plate C-2. Was Re (550) = 0 nm and Rth (550) = −69 nm. The phase difference values of the positive C plate C-1 and the positive C plate C-2 were adjusted by adjusting the thickness.

〔偏光板の作製〕
支持体であるTD80UL(富士フイルム社製)の表面を、アルカリ鹸化処理した。具体的には、上記支持体を1.5規定の水酸化ナトリウム水溶液に55℃で2分間浸漬し、取り出した支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1規定の硫酸を用いて中和した。その後、再度、得られた支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに100℃の温風で乾燥した。
続いて、ヨウ素水溶液中で厚み80μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムを連続して5倍に延伸し、延伸後のフィルムを乾燥して、厚み20μmの偏光子を得た。
得られた偏光子と、アルカリ鹸化処理が施された支持体(TD80UL)とを貼り合わせ、片側に偏光子が露出した偏光板0を得た。
次に、上記偏光板0の偏光子と、光学異方性層A−1とが対向するように、偏光板0とフィルム1とを粘着剤を用いて貼り合わせた。この際、偏光子の吸収軸と光学異方性層A−1の遅相軸とが直交するようにした。
続いて、貼り合わされたフィルム1から、形成用仮支持体および光配向膜を剥離して、光学異方性層A−1のみを偏光板上に転写した。
さらに、上記光学異方性層A−1とポジティブCプレートC−1とが対向するように、上記光学異方性層上に粘着剤を介して転写フィルム1を貼り合わせた。続いて、貼り合わされた転写フィルム1から、形成用仮支持体を剥離して、支持体/偏光子/粘着剤/光学異方性層/粘着剤/ポジティブCプレートC−1がこの順で積層された偏光板P−1を得た。
上記フィルム1の代わりに、光学異方性層A−2〜A−25をそれぞれ含むフィルム2〜25を用いて、上記と同様の手順に従って、偏光板P−2〜P−25を得た。
[Preparation of polarizing plate]
The surface of the support TD80UL (manufactured by FUJIFILM Corporation) was subjected to alkali saponification treatment. Specifically, the support is immersed in a 1.5-standard sodium hydroxide aqueous solution at 55 ° C. for 2 minutes, the removed support is washed in a water-washing bathtub at room temperature, and 0.1-standard sulfuric acid is washed at 30 ° C. Neutralized with. Then, the obtained support was washed again in a water washing bath at room temperature, and further dried with warm air at 100 ° C.
Subsequently, a roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an aqueous iodine solution, and the stretched film was dried to obtain a polarizer having a thickness of 20 μm.
The obtained polarizing element was bonded to a support (TD80UL) subjected to an alkali saponification treatment to obtain a polarizing plate 0 in which the polarizing element was exposed on one side.
Next, the polarizing plate 0 and the film 1 were bonded together using an adhesive so that the polarizing element of the polarizing plate 0 and the optically anisotropic layer A-1 faced each other. At this time, the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optically anisotropic layer A-1 are orthogonal to each other.
Subsequently, the temporary support for formation and the photoalignment film were peeled off from the bonded film 1, and only the optically anisotropic layer A-1 was transferred onto the polarizing plate.
Further, the transfer film 1 was bonded onto the optically anisotropic layer via an adhesive so that the optically anisotropic layer A-1 and the positive C plate C-1 face each other. Subsequently, the temporary support for formation is peeled off from the bonded transfer film 1, and the support / polarizer / adhesive / optically anisotropic layer / adhesive / positive C plate C-1 are laminated in this order. The obtained polarizing plate P-1 was obtained.
Instead of the film 1, films 2 to 25 containing optically anisotropic layers A-2 to A-25 were used to obtain polarizing plates P-2 to P-25 according to the same procedure as described above.

〔液晶表示装置の作製〕
iPad(登録商標、Apple社製)の液晶セルから視認側の偏光板を剥し、IPSモードの液晶セルとして利用した。
剥がした偏光板の代わりに、上記で作製した偏光板P−1〜P−25を液晶セルに貼合し、液晶表示装置を作製した。
このとき、液晶セル基板面に対して垂直な方向から観察したとき、各偏光板P−1〜P−25中の偏光子の吸収軸と、液晶セル内の液晶層の光軸とが垂直な方向になるように貼り合わせた。
[Manufacturing of liquid crystal display device]
The polarizing plate on the visual side was peeled off from the liquid crystal cell of iPad (registered trademark, manufactured by Apple Inc.) and used as a liquid crystal cell in IPS mode.
Instead of the peeled polarizing plate, the polarizing plates P-1 to P-25 prepared above were bonded to a liquid crystal cell to prepare a liquid crystal display device.
At this time, when observed from a direction perpendicular to the liquid crystal cell substrate surface, the absorption axis of the polarizer in each of the polarizing plates P-1 to P-25 and the optical axis of the liquid crystal layer in the liquid crystal cell are perpendicular to each other. They were pasted together so that they were oriented in the same direction.

〔評価〕
表示性能の測定は、市販の液晶視野角、色度特性測定装置Ezcontrast(ELDIM社製)を使用し、上記で作製した液晶表示装置を使用した。なお、作製した液晶表示装置中において、上記で作製した偏光板を貼り合わせた液晶セルを、光学異方性層がバックライト側と反対側になるように、設置して測定を行った。結果を下記表1に示す。
[Evaluation]
For the measurement of the display performance, a commercially available liquid crystal viewing angle and chromaticity characteristic measuring device Ezcontlast (manufactured by ELDIM) was used, and the liquid crystal display device produced above was used. In the produced liquid crystal display device, the liquid crystal cell to which the polarizing plate produced above was attached was installed so that the optically anisotropic layer was on the opposite side to the backlight side, and the measurement was performed. The results are shown in Table 1 below.

<パネルコントラスト>
上方向(方位角0〜175°、5°刻み)および下方向(方位角180〜355°、5°刻み)のそれぞれの黒輝度(Cd/m2)の最大値を平均した値(輝度max)を求めた。輝度maxの数値が小さいほど黒表示の光漏れが少なく、パネルコントラストが良いこと示し、下記のA、Bの2段階で評価した。
A:0.70以下
B:0.70を超える
<Panel contrast>
The average value (brightness max) of the maximum black brightness (Cd / m 2 ) in the upward direction (azimuth 0 to 175 ° in 5 ° increments) and downward (azimuth 180 to 355 ° in 5 ° increments). ) Was asked. The smaller the numerical value of the brightness max, the less the light leakage of the black display and the better the panel contrast, and the evaluation was made in the following two stages, A and B.
A: 0.70 or less B: More than 0.70

<フィルムコントラスト>
テーブル上に、下から順に直下型蛍光管バックライト光源、上側偏光板、試料(上記で作製したフィルムA−1〜A−25のいずれか)、下側偏光板、を各面が水平になるように設置した。この時、試料と上側偏光板は回転可能とした。光源から出射し、上側偏光板、試料、下側偏光板と順に透過した光を垂直方向から輝度計(例えば、BM−5A(TOPCON製))を用いて輝度を測定した。なお、上側偏光板と下側偏光板には、それぞれ偏光度99.995%以上のものを使用した。
<Film contrast>
On the table, in order from the bottom, the direct type fluorescent tube backlight source, the upper polarizing plate, the sample (any of the films A-1 to A-25 produced above), and the lower polarizing plate are placed horizontally on each surface. I installed it like this. At this time, the sample and the upper polarizing plate were made rotatable. The brightness of the light emitted from the light source and transmitted through the upper polarizing plate, the sample, and the lower polarizing plate in this order was measured from the vertical direction using a luminance meter (for example, BM-5A (manufactured by TOPCON)). As the upper polarizing plate and the lower polarizing plate, those having a degree of polarization of 99.995% or more were used.

測定は、まず試料のない状態で上側偏光板を回転させて最も輝度が暗くなる位置に合わせた(クロスニコルの状態)。
試料を挿入し、クロスニコル下で試料を回転させて最小となる輝度を測定した。次に上側偏光板と下側偏光板の2枚の偏光板を平行ニコル配置にして、試料を回転させて最大となる輝度を測定した。
上側偏光板および下側偏光板に起因する輝度漏れの寄与を除去するため、下記式により求められる値を、フィルムのコントラストと定義する。結果を下記表1に示す。
コントラスト=1/〔{(試料設置時のクロスニコル下における最小輝度)/(試料設置時の平行ニコル下における最大輝度)}−{(試料のない状態でのクロスニコル下における最小輝度)/(試料のない状態での平行ニコル下における最大輝度)}〕
算出されたコントラストの値に基づき、下記基準に照らしてフィルムコントラストを評価した。なお、上記コントラストの値が大きいほどフィルムコントラストが良好である。
A:コントラストが10万以上
B:コントラストが7万以上10万未満
C:コントラストが4万以上7万未満
D:コントラストが4万未満
In the measurement, the upper polarizing plate was first rotated in the absence of a sample to adjust to the position where the brightness became the darkest (cross Nicol state).
The sample was inserted and the sample was rotated under cross Nicol to measure the minimum brightness. Next, two polarizing plates, an upper polarizing plate and a lower polarizing plate, were arranged in a parallel Nicol arrangement, and the sample was rotated to measure the maximum brightness.
In order to eliminate the contribution of luminance leakage caused by the upper polarizing plate and the lower polarizing plate, the value obtained by the following formula is defined as the film contrast. The results are shown in Table 1 below.
Contrast = 1 / [{(minimum brightness under cross Nicol when sample is placed) / (maximum brightness under parallel Nicol when sample is placed)}-{(minimum brightness under cross Nicol without sample) / ( Maximum brightness under parallel Nicol without sample)}]
Based on the calculated contrast value, the film contrast was evaluated against the following criteria. The larger the contrast value, the better the film contrast.
A: Contrast is 100,000 or more B: Contrast is 70,000 or more and less than 100,000 C: Contrast is 40,000 or more and less than 70,000 D: Contrast is less than 40,000

<光学異方性層の耐久性>
粘着剤を用いて、フィルム1をガラス板上に貼り合わせた。次いで、貼り合わされたフィルム1から形成用仮支持体および光配向膜を剥離して、ガラス板/粘着剤/光学異方性層の順に積層された積層体を得た。この積層体をAxoScan OPMF−1(オプトサイエンス社製)を用いて光学異方性を定量した(Re(550)a)。さらに、同じ積層体を80℃乾燥条件下で500時間経過させた後、経過前と同様にして光学異方性を定量した(Re(550)b)。下記式で算出される位相差変化率に対して、下記A〜Cの評価基準で評価を行った。結果を表1に示す。
(位相差変化率)=|Re(550)a−Re(550)b|÷Re(550)a
A:位相差変化率が0.02以下である
B:位相差変化率が0.02より大きく、0.04より小さい
C:位相差変化率が0.04以上である
<Durability of optically anisotropic layer>
The film 1 was bonded onto a glass plate using an adhesive. Next, the temporary support for formation and the photoalignment film were peeled off from the bonded film 1 to obtain a laminated body in which a glass plate / adhesive / optically anisotropic layer was laminated in this order. The optical anisotropy of this laminate was quantified using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Optoscience) (Re (550) a). Further, after allowing the same laminate to elapse for 500 hours under a drying condition of 80 ° C., the optical anisotropy was quantified in the same manner as before the elapse (Re (550) b). The phase difference change rate calculated by the following formula was evaluated according to the following evaluation criteria A to C. The results are shown in Table 1.
(Phase difference rate of change) = | Re (550) a-Re (550) b | ÷ Re (550) a
A: Phase difference change rate is 0.02 or less B: Phase difference change rate is larger than 0.02 and less than 0.04 C: Phase difference change rate is 0.04 or more

結果を表1に示す。
表1中、「上昇温度幅」の欄は、第2加熱処理前後の半硬化層の温度の差を示す。
「昇温時TSmN温度差」の欄は、第1加熱温度と未硬化層の昇温時におけるTSmNとの温度差を示す。
「降温時TSmN温度差」の欄は、冷却温度と未硬化層の降温時におけるTSmNとの温度差を示す。
The results are shown in Table 1.
In Table 1, the column of "rising temperature range" shows the difference in temperature of the semi-cured layer before and after the second heat treatment.
The column of "TSmN temperature difference at the time of temperature rise" indicates the temperature difference between the first heating temperature and the TSmN at the time of raising the temperature of the uncured layer.
The column of "TSmN temperature difference at the time of temperature decrease" indicates the temperature difference between the cooling temperature and the TSmN at the time of temperature decrease of the uncured layer.

Figure 2019240048
Figure 2019240048

表1に示す結果から、本発明の製造方法によれば、優れた耐久性およびフィルムコントラストを有し、優れたパネルコントラストの画像表示装置を作製できる光学異方性層を得られることが確認された。
中でも、第1露光処理における露光量が10mJ/cm以上である場合、光学異方性層のフィルムコントラストがより優れることが確認された(実施例9と10との比較)。
第1露光処理における露光量が30mJ/cm以下である場合、光学異方性層の耐久性がより優れることが確認された(実施例1、11、および、12の比較)。
冷却工程における降温レートが、80℃/分以下(より好ましくは60℃/分以下)である場合、光学異方性層のフィルムコントラストがより優れることが確認された(実施例17〜19の比較)。
第1露光処理の際の未硬化層の温度と、第2露光処理の際の半硬化層の温度の差が40℃以上である場合、光学異方性層の耐久性がより優れることが確認された(実施例1と3との比較)。
第2露光処理における露光量が200mJ/cm以上である場合、光学異方性層の耐久性がより優れることが確認された(実施例6と7との比較)。
From the results shown in Table 1, it was confirmed that according to the production method of the present invention, an optically anisotropic layer having excellent durability and film contrast and capable of producing an image display device having excellent panel contrast can be obtained. It was.
Above all, when the exposure amount in the first exposure treatment was 10 mJ / cm 2 or more, it was confirmed that the film contrast of the optically anisotropic layer was more excellent (comparison between Examples 9 and 10).
It was confirmed that the durability of the optically anisotropic layer was more excellent when the exposure amount in the first exposure treatment was 30 mJ / cm 2 or less (comparison of Examples 1, 11 and 12).
It was confirmed that the film contrast of the optically anisotropic layer was more excellent when the temperature lowering rate in the cooling step was 80 ° C./min or less (more preferably 60 ° C./min or less) (comparison of Examples 17 to 19). ).
It was confirmed that the durability of the optically anisotropic layer is more excellent when the difference between the temperature of the uncured layer during the first exposure treatment and the temperature of the semi-cured layer during the second exposure treatment is 40 ° C. or more. (Comparison with Examples 1 and 3).
It was confirmed that when the exposure amount in the second exposure process was 200 mJ / cm 2 or more, the durability of the optically anisotropic layer was more excellent (comparison with Examples 6 and 7).

[実施例101、102]
〔ポジティブCプレート付き円偏光板の作製〕
上記で作製した偏光板0の偏光子の吸収軸と、光学異方性層の遅相軸とが45°で交差するように、上記偏光板0の偏光子と上記で作製したフィルム1における光学異方性層の表面とを粘着剤を用いて貼り合わせた。続いて形成用仮支持体および光配向膜を貼り合わされたフィルム1中から剥離して、光学異方性層のみを偏光板0上に転写した。
さらに、ポジティブCプレートC−2の表面を、粘着剤を用いて上述の光学異方性層の表面上に貼り合わせ、続いて形成用仮支持体を偏光板から剥離して、支持体/偏光子/粘着剤/光学異方性層/粘着剤/ポジティブCプレートC−2がこの順で積層された円偏光板CP−1を得た。
[Examples 101 and 102]
[Preparation of circularly polarizing plate with positive C plate]
The optics of the polarizing plate of the polarizing plate 0 and the film 1 produced above so that the absorption axis of the polarizing element of the polarizing plate 0 produced above and the slow axis of the optically anisotropic layer intersect at 45 °. The surface of the anisotropic layer was bonded to the surface using an adhesive. Subsequently, the temporary support for formation and the photoalignment film were peeled off from the bonded film 1, and only the optically anisotropic layer was transferred onto the polarizing plate 0.
Further, the surface of the positive C plate C-2 is bonded onto the surface of the above-mentioned optically anisotropic layer using an adhesive, and then the temporary support for formation is peeled off from the polarizing plate to support / polarized light. A circularly polarizing plate CP-1 in which a child / adhesive / optically anisotropic layer / adhesive / positive C plate C-2 was laminated in this order was obtained.

〔有機EL表示装置の作製〕
有機EL表示パネル搭載のSAMSUNG社製GALAXY S IV(有機EL表示装置)を分解し、円偏光板を剥離して、円偏光板CP−1をそれぞれ有機EL表示パネル上に貼合し、有機EL表示装置を作製した。
[Manufacturing of organic EL display device]
GALAXY S IV (organic EL display device) manufactured by SAMSUNG, which is equipped with an organic EL display panel, is disassembled, the circular polarizing plate is peeled off, and the circular polarizing plate CP-1 is bonded onto the organic EL display panel, respectively, and the organic EL is displayed. A display device was manufactured.

〔評価〕
<反射色味>
分解前の有機EL表示装置と、それぞれの円偏光板に換えた有機EL表示装置とを用い、自然光下での黒表示時のパネル反射色味を正面および極角45°方向から視認により観察して以下の基準で評価した。
A:分解前の有機ELパネルに比べ、反射色味が同等かよりニュートラルな黒に近い
B:分解前の有機ELパネルに比べ、色味付きが見られる
[Evaluation]
<Reflective color>
Using the organic EL display device before disassembly and the organic EL display device replaced with each circular polarizing plate, the panel reflection color at the time of black display under natural light can be visually observed from the front and the polar angle of 45 °. The evaluation was made according to the following criteria.
A: Compared to the organic EL panel before decomposition, the reflected color is the same or closer to neutral black. B: Coloring is seen compared to the organic EL panel before decomposition.

結果を表2に示す。
表中「正面反射」の欄は、正面から視認により観察した際の反射色味の評価結果を示す。
「45°反射」の欄は、極角45°方向から視認により観察した際の反射色味の評価結果を示す。
The results are shown in Table 2.
The column of "specular reflection" in the table shows the evaluation result of the reflected color when visually observed from the front.
The column of "45 ° reflection" shows the evaluation result of the reflected tint when visually observed from the polar angle 45 ° direction.

Figure 2019240048
Figure 2019240048

表2に示す結果から、本発明の製造方法で得られる光学異方性層は、有機EL表示装置にも好ましく使用できることが確認された。 From the results shown in Table 2, it was confirmed that the optically anisotropic layer obtained by the production method of the present invention can be preferably used for an organic EL display device.

Claims (11)

重合性液晶化合物を含む未硬化層を形成する工程Aと、
前記未硬化層に加熱処理を施して、ネマチック相を形成する工程Bと、
前記ネマチック相を形成した未硬化層に冷却処理を施して、スメクチック相を形成する工程Cと、
前記スメクチック相を形成した未硬化層に対して、第1露光処理を施し、半硬化層を形成する工程Dと、
前記第1露光処理時の温度よりも高い温度条件下にて、前記半硬化層に第2露光処理を施し、光学異方性層を形成する工程Eと、を有する光学異方性層の製造方法。
Step A of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound,
Step B, in which the uncured layer is heat-treated to form a nematic phase,
Step C of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer on which the nematic phase is formed to a cooling treatment,
In step D, the uncured layer on which the smectic phase is formed is subjected to the first exposure treatment to form a semi-cured layer.
Production of an optically anisotropic layer having a step E of subjecting the semi-cured layer to a second exposure treatment to form an optically anisotropic layer under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment. Method.
前記工程Cにおける前記未硬化層の降温速度が、1〜100℃/分である、請求項1に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to claim 1, wherein the temperature lowering rate of the uncured layer in the step C is 1 to 100 ° C./min. 前記工程Cにおける前記未硬化層の降温速度が、1〜60℃/分である、請求項1または2に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to claim 1 or 2, wherein the temperature lowering rate of the uncured layer in the step C is 1 to 60 ° C./min. 前記工程Cにおいて前記未硬化層の温度が漸減する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the temperature of the uncured layer gradually decreases in the step C. 前記第1露光処理に用いられる光が、紫外線である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 4, wherein the light used in the first exposure treatment is ultraviolet light. 前記第1露光処理における露光量が、1〜60mJ/cmである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 5, wherein the exposure amount in the first exposure process is 1 to 60 mJ / cm 2. 前記第1露光処理における露光量が、10〜30mJ/cmである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 6, wherein the exposure amount in the first exposure process is 10 to 30 mJ / cm 2. 前記第2露光処理時の温度が前記重合性液晶化合物のスメクチック相とネマチック相との相転移温度よりも高い、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 7, wherein the temperature during the second exposure treatment is higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase of the polymerizable liquid crystal compound. .. 前記第1露光処理時の温度と、前記第2露光処理時の温度との差が、20℃以上である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 8, wherein the difference between the temperature at the time of the first exposure treatment and the temperature at the time of the second exposure treatment is 20 ° C. or more. .. 前記第1露光処理時の温度と、前記第2露光処理時の温度との差が、40℃以上である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 9, wherein the difference between the temperature at the time of the first exposure treatment and the temperature at the time of the second exposure treatment is 40 ° C. or more. .. 前記未硬化層がオキシムエステル系重合開始剤を含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学異方性層の製造方法。 The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 10, wherein the uncured layer contains an oxime ester-based polymerization initiator.
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