KR102532379B1 - Manufacturing method of optically anisotropic layer - Google Patents

Manufacturing method of optically anisotropic layer Download PDF

Info

Publication number
KR102532379B1
KR102532379B1 KR1020207035144A KR20207035144A KR102532379B1 KR 102532379 B1 KR102532379 B1 KR 102532379B1 KR 1020207035144 A KR1020207035144 A KR 1020207035144A KR 20207035144 A KR20207035144 A KR 20207035144A KR 102532379 B1 KR102532379 B1 KR 102532379B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
optically anisotropic
group
anisotropic layer
liquid crystal
Prior art date
Application number
KR1020207035144A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210006958A (en
Inventor
노부유키 아쿠타가와
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20210006958A publication Critical patent/KR20210006958A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102532379B1 publication Critical patent/KR102532379B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3016Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/02Liquid crystal materials characterised by optical, electrical or physical properties of the components, in general
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/10Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
    • C09K19/20Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers
    • C09K19/2007Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers the chain containing -COO- or -OCO- groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38Polymers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/08Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of polarising materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은, 우수한 내구성 및 필름 콘트라스트를 갖고, 우수한 패널 콘트라스트의 화상 표시 장치를 제작할 수 있는 광학 이방성층의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법은, 중합성 액정 화합물을 포함하는 미경화층을 형성하는 공정 A와, 상기 미경화층에 가열 처리를 실시하여, 네마틱상을 형성하는 공정 B와, 상기 네마틱상을 형성한 미경화층에 냉각 처리를 실시하여, 스멕틱상을 형성하는 공정 C와, 상기 스멕틱상을 형성한 미경화층에 대하여, 제1 노광 처리를 실시하여, 반경화층을 형성하는 공정 D와, 상기 제1 노광 처리 시의 온도보다 높은 온도 조건하에서, 상기 반경화층에 제2 노광 처리를 실시하여, 광학 이방성층을 형성하는 공정 E를 갖는다.The present invention provides a method for producing an optically anisotropic layer capable of producing an image display device having excellent durability and film contrast and excellent panel contrast. The method for producing an optically anisotropic layer of the present invention comprises: step A of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound; step B of forming a nematic phase by subjecting the uncured layer to heat treatment; Process C of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer in which the tick-like phase is formed to a cooling process, and process D of forming a semi-cured layer by performing a first exposure process on the uncured layer in which the smectic phase is formed and Step E of subjecting the semi-cured layer to a second exposure process under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure process to form an optically anisotropic layer.

Description

광학 이방성층의 제조 방법Manufacturing method of optically anisotropic layer

본 발명은, 광학 이방성층의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an optically anisotropic layer.

광학 보상 시트 및 위상차 필름 등의 광학 필름은, 화상 착색 해소 및/또는 시야각 확대를 위하여, 다양한 화상 표시 장치에서 이용되고 있다.Optical films such as an optical compensation sheet and a retardation film are used in various image display devices to eliminate image discoloration and/or to enlarge a viewing angle.

종래, 광학 필름으로서는 연신 복굴절 필름이 사용되고 있었지만, 최근 연신 복굴절 필름 대신에, 액정 화합물을 이용하여, 형성되는 광학 이방성층이 제안되고 있다.Conventionally, a stretched birefringent film has been used as an optical film, but recently, an optically anisotropic layer formed using a liquid crystal compound has been proposed instead of a stretched birefringent film.

예를 들면, 특허문헌 1에는, 스멕틱상(相)으로 고정화된 광학 이방성층을 제작하는 광학 이방성층의 제조 방법이 개시되어 있다. 특허문헌 1의 제조 방법에서는, 중합성 액정 조성물로 이루어지는 미경화층에 대한, 가열 공정, 냉각 가열 공정, 및 중합 공정을 거쳐 광학 이방성층이 제작된다(청구항 1).For example, Patent Document 1 discloses a method for manufacturing an optically anisotropic layer in which an optically anisotropic layer fixed in a smectic phase is produced. In the manufacturing method of Patent Document 1, an optically anisotropic layer is produced through a heating step, a cooling/heating step, and a polymerization step for an uncured layer made of a polymerizable liquid crystal composition (Claim 1).

일본 공개특허공보 2017-068005호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-068005

광학 이방성층은, 전자 기기류에 도입되어 사용되는 경우가 많다. 그 때문에, 광학 이방성층에는, 고온 등의 가혹한 환경하에서도, 장기간 안정된 성능을 나타낼 수 있는 내구성이 요구되고 있다.An optically anisotropic layer is introduced into and used in electronic devices in many cases. Therefore, the optically anisotropic layer is required to have durability capable of exhibiting stable performance for a long period of time even under harsh environments such as high temperatures.

또, 박형화의 관점에서 편광자 상에 직접 또는 다른 층(예를 들면, 배향막)을 개재하여 광학 이방성층을 형성하는 경우, 광학 이방성층에는 우수한 콘트라스트(이하, "필름 콘트라스트"라고 약기함)도 요구되고 있다.In addition, from the viewpoint of thinning, when an optically anisotropic layer is formed directly on a polarizer or through another layer (for example, an alignment film), an excellent contrast (hereinafter abbreviated as "film contrast") is also required for the optically anisotropic layer. It is becoming.

또한, 편광자와 광학 이방성층을 포함하는 편광판을 이용한 화상 표시 장치를 제작한 경우, 제작되는 화상 표시 장치에는 우수한 콘트라스트(이하, "패널 콘트라스트"라고 약기함)가 요구되고 있다.Further, when an image display device using a polarizing plate including a polarizer and an optically anisotropic layer is manufactured, excellent contrast (hereinafter abbreviated as "panel contrast") is required for the image display device to be manufactured.

그래서, 본 발명은, 우수한 내구성 및 필름 콘트라스트를 갖고, 우수한 패널 콘트라스트의 화상 표시 장치를 제작할 수 있는 광학 이방성층의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.Then, this invention has excellent durability and film contrast, and makes it a subject to provide the manufacturing method of the optically anisotropic layer which can manufacture the image display apparatus of excellent panel contrast.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아냈다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining to solve the said subject, the present inventors discovered that the said subject was solvable by the following structure.

〔1〕〔One〕

중합성 액정 화합물을 포함하는 미경화층을 형성하는 공정 A와,Step A of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound;

상기 미경화층에 가열 처리를 실시하여, 네마틱상을 형성하는 공정 B와,Step B of subjecting the uncured layer to heat treatment to form a nematic phase;

상기 네마틱상을 형성한 미경화층에 냉각 처리를 실시하여, 스멕틱상을 형성하는 공정 C와,Step C of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer in which the nematic phase is formed to a cooling treatment;

상기 스멕틱상을 형성한 미경화층에 대하여, 제1 노광 처리를 실시하여, 반(半)경화층을 형성하는 공정 D와,Step D of forming a semi-cured layer by subjecting the uncured layer in which the smectic phase is formed to a first exposure process;

상기 제1 노광 처리 시의 온도보다 높은 온도 조건하에서, 상기 반경화층에 제2 노광 처리를 실시하여, 광학 이방성층을 형성하는 공정 E를 갖는 광학 이방성층의 제조 방법.A method for producing an optically anisotropic layer having step E of subjecting the semi-cured layer to a second exposure treatment under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment to form an optically anisotropic layer.

〔2〕〔2〕

상기 공정 C에 있어서의 상기 미경화층의 강온 속도가, 1~100℃/분인, 〔1〕에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The manufacturing method of the optically anisotropic layer as described in [1], wherein the cooling rate of the uncured layer in the step C is 1 to 100°C/min.

〔3〕[3]

상기 공정 C에 있어서의 상기 미경화층의 강온 속도가, 1~60℃/분인, 〔1〕 또는〔2〕에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to [1] or [2], wherein the cooling rate of the uncured layer in step C is 1 to 60°C/min.

〔4〕〔4〕

상기 공정 C에 있어서 상기 미경화층의 온도가 점감(漸減)하는, 〔1〕 내지 〔3〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [3], wherein the temperature of the uncured layer gradually decreases in the step C.

〔5〕[5]

상기 제1 노광 처리에 이용되는 광이, 자외선인, 〔1〕 내지 〔4〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [4], wherein the light used for the first exposure treatment is an ultraviolet ray.

〔6〕[6]

상기 제1 노광 처리에 있어서의 노광량이, 1~60mJ/cm2인, 〔1〕 내지 〔5〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [5], wherein the exposure amount in the first exposure treatment is 1 to 60 mJ/cm 2 .

〔7〕[7]

상기 제1 노광 처리에 있어서의 노광량이, 10~30mJ/cm2인, 〔1〕 내지 〔6〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [6], wherein the exposure amount in the first exposure treatment is 10 to 30 mJ/cm 2 .

〔8〕〔8〕

상기 제2 노광 처리 시의 온도가 상기 중합성 액정 화합물의 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도보다 높은, 〔1〕 내지 〔7〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [7], wherein the temperature during the second exposure treatment is higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase of the polymerizable liquid crystal compound.

〔9〕[9]

상기 제1 노광 처리 시의 온도와, 상기 제2 노광 처리 시의 온도와의 차가, 20℃ 이상인, 〔1〕 내지 〔8〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [8], wherein a difference between the temperature during the first exposure process and the temperature during the second exposure process is 20°C or higher.

〔10〕[10]

상기 제1 노광 처리 시의 온도와, 상기 제2 노광 처리 시의 온도와의 차가, 40℃ 이상인, 〔1〕 내지 〔9〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [9], wherein a difference between the temperature during the first exposure process and the temperature during the second exposure process is 40°C or higher.

〔11〕[11]

상기 미경화층이 옥심에스터계 중합 개시제를 포함하는, 〔1〕 내지 〔10〕 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성층의 제조 방법.The method for producing an optically anisotropic layer according to any one of [1] to [10], wherein the uncured layer contains an oxime ester polymerization initiator.

본 발명에 의하면, 우수한 내구성 및 필름 콘트라스트를 갖고, 우수한 패널 콘트라스트의 화상 표시 장치를 제작할 수 있는 광학 이방성층의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optically anisotropic layer which has excellent durability and film contrast, and can produce an image display device with excellent panel contrast can be provided.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 한정되지 않는다.The description of the constitutional requirements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.

또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In addition, in this specification, the numerical range expressed using "-" means the range which includes the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.

본 명세서에 있어서, 층(후술하는 미경화층 등)의 온도로 언급하는 경우는, 층의 표면의 온도를 방사 온도계로 측정한 온도인 것을 의도한다.In this specification, when referring to the temperature of a layer (such as an uncured layer to be described later), it is intended that the temperature of the surface of the layer is measured with a radiation thermometer.

본 명세서에 있어서, 스멕틱상이란, 일 방향으로 정렬된 분자가 층 구조를 갖고 있는 상태를 말하고, 네마틱상이란, 그 구성 분자가 배향 질서를 갖지만, 3차원적인 위치 질서를 갖지 않는 상태를 말한다.In this specification, the smectic phase refers to a state in which molecules aligned in one direction have a layered structure, and the nematic phase refers to a state in which the constituent molecules have orientation order but no three-dimensional positional order. say

본 명세서에 있어서, 상전이 온도는, 배향막 상에 형성한 미경화층을, 센트럴 프로세서 FP90(Mettler TOLEDO)과 광학 현미경을 이용하여, 미경화층을 가열 또는 냉각하면서 관찰하고, 상의 변화가 발생한 온도를 상전이 온도로 했다.In the present specification, the phase transition temperature is observed while heating or cooling the uncured layer formed on the alignment film using a central processor FP90 (Mettler TOLEDO) and an optical microscope, and the temperature at which the phase change occurs It was set as the phase transition temperature.

미경화층에 대해서는 후술한다.The uncured layer will be described later.

본 발명에 있어서, Re(λ) 및 Rth(λ)는 각각, 파장 λ에 있어서의 면내의 리타데이션 및 두께 방향의 리타데이션을 나타낸다. 예를 들면, Re(450)은, 파장 450nm에 있어서의 면내 리타데이션을 나타낸다. 특별히 기재가 없을 때는, 파장 λ는, 550nm로 한다.In the present invention, Re(λ) and Rth(λ) respectively represent in-plane retardation and thickness direction retardation at wavelength λ. For example, Re(450) represents in-plane retardation at a wavelength of 450 nm. When there is no description in particular, the wavelength λ is 550 nm.

본 발명에 있어서, Re(λ) 및 Rth(λ)는 AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)에 있어서, 파장 λ로 측정한 값이다. AxoScan에서 평균 굴절률((nx+ny+nz)/3)과 막두께(d(μm))를 입력함으로써,In the present invention, Re(λ) and Rth(λ) are values measured at a wavelength λ in AxoScan OPMF-1 (manufactured by Opto Science). By entering the average refractive index ((nx + ny + nz) / 3) and film thickness (d (μm)) in AxoScan,

지상축(遲相軸) 방향(°)Slow axis direction (°)

Re(λ)=R0(λ)Re(λ)=R0(λ)

Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×dRth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d

가 산출된다.is calculated

또한, R0(λ)는, 특별한 기재가 없는 한, AxoScan OPMF-1에서 산출되는 수치로서 표시되는 것이지만, Re(λ)를 의미하고 있다.In addition, R0(λ) is expressed as a numerical value calculated by AxoScan OPMF-1 unless otherwise specified, but means Re(λ).

본 명세서에 있어서, 굴절률 nx, ny, 및 nz는, 아베 굴절률(NAR-4T, 아타고(주)제)을 사용하고, 광원에 나트륨 램프(λ=589nm)를 이용하여 측정한다. 또, 파장 의존성을 측정하는 경우는, 다파장 아베 굴절계 DR-M2(아타고(주)제)에서, 간섭 필터와의 조합으로 측정할 수 있다.In this specification, the refractive indices nx, ny, and nz are measured using an Abbe refractive index (NAR-4T, manufactured by Atago Co., Ltd.) and using a sodium lamp (λ = 589 nm) as a light source. In the case of measuring the wavelength dependence, it can be measured with a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.) in combination with an interference filter.

또, 폴리머 핸드북(JOHN WILEY&SONS, INC), 및 각종 광학 필름의 카탈로그의 값을 사용할 수 있다. 주된 광학 필름의 평균 굴절률의 값을 이하에 예시한다: 셀룰로스아실레이트(1.48), 사이클로올레핀 폴리머(1.52), 폴리카보네이트(1.59), 폴리메틸메타크릴레이트(1.49), 및 폴리스타이렌(1.59).In addition, values from the polymer handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and catalogs of various optical films can be used. The values of the average refractive index of the main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethylmethacrylate (1.49), and polystyrene (1.59).

또, 본 명세서에 있어서, 표기되는 2가의 기(예를 들면, -CO-O-)의 결합 방향은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 후술하는 일반식 (W) 중의 L1이 -CO-O-인 경우, P1 측에 결합하고 있는 위치를 *1, Sp1 측에 결합하고 있는 위치를 *2로 하면, L1은, *1-CO-O-*2여도 되고, *1-O-CO-*2여도 된다.In addition, in this specification, the bonding direction of the divalent group (for example, -CO-O-) shown is not specifically limited, For example, L1 in general formula (W) mentioned later is -CO-O In the case of -, if the position coupled to the P 1 side is *1 and the position coupled to the Sp 1 side is *2, L 1 may be *1-CO-O-*2, or *1-O It may be -CO-*2.

[광학 이방성층의 제조 방법][Method for producing optically anisotropic layer]

본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법은, 하기 공정 A~E를 갖는다.The manufacturing method of the optically anisotropic layer of this invention has the following steps A-E.

공정 A: 중합성 액정 화합물을 포함하는 미경화층을 형성하는 공정(층 형성 공정).Step A: Step of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound (layer formation step).

공정 B: 상기 미경화층에 가열 처리를 실시하여, 네마틱상을 형성하는 공정 B(네마틱상 형성 공정).Step B: Step B of forming a nematic phase by subjecting the uncured layer to heat treatment (nematic phase forming step).

공정 C: 상기 네마틱상을 형성한 미경화층에 냉각 처리를 실시하여, 스멕틱상을 형성하는 공정(냉각 공정).Step C: A step of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer in which the nematic phase is formed to a cooling treatment (cooling step).

공정 D: 상기 스멕틱상을 형성한 미경화층에 대하여, 제1 노광 처리를 실시하여, 반경화층을 형성하는 공정(제1 중합 공정).Step D: A step of forming a semi-cured layer by subjecting the uncured layer in which the smectic phase is formed to a first exposure treatment (first polymerization step).

공정 E: 상기 제1 노광 처리 시의 온도보다 높은 온도 조건하에서, 상기 반경화층에 제2 노광 처리를 실시하여, 광학 이방성층을 형성한다(제2 중합 공정).Step E: Under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment, the semi-cured layer is subjected to a second exposure treatment to form an optically anisotropic layer (second polymerization step).

이와 같은 구성을 취함으로써 본 발명의 과제를 해결할 수 있는 이유는 반드시 명확하지는 않지만, 본 발명자들은 이하와 같이 생각하고 있다.Although the reason why the subject of the present invention can be solved by taking such a structure is not necessarily clear, the present inventors think as follows.

먼저, 본 발명에서는, 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도 이하까지 냉각되어 스멕틱상 상태인 미경화층에 대하여 제1 노광 처리를 행함으로써, 스멕틱상이 우수한 배향성을 고정할 수 있어, 최종적으로 얻어지는 광학 이방성층의 분자의 패킹이 양호해진다. 그 때문에 본 발명의 광학 이방성층은 필름 콘트라스트가 우수하여, 화상 표시 장치에 도입하여 사용한 경우에 우수한 패널 콘트라스트의 화상 표시 장치가 얻어진다.First, in the present invention, by performing the first exposure treatment on an uncured layer in a smectic phase state after being cooled to a temperature below the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase, excellent orientation of the smectic phase can be fixed, and finally obtained Packing of molecules in the optically anisotropic layer becomes good. Therefore, the optically anisotropic layer of the present invention is excellent in film contrast, and when introduced into an image display device and used, an image display device having excellent panel contrast is obtained.

또, 제1 노광 처리에 의하여 미경화층을 반경화층으로 한 후, 제1 노광 처리를 할 때보다 고온에서 얻어진 반경화층에 대하여 제2 노광 처리를 실시함으로써, 간단히 제1 노광 처리에 있어서의 온도에서 노광을 계속하는 것보다, 중합율이 높고, 내구성이 우수한 광학 이방성층이 얻어졌다고 생각하고 있다.In addition, after making the uncured layer into a semi-cured layer by the first exposure treatment, the temperature in the first exposure treatment is simply performed by performing the second exposure treatment on the semi-cured layer obtained at a higher temperature than the first exposure treatment. It is thought that an optically anisotropic layer having a higher polymerization rate and excellent durability was obtained than by continuing the exposure.

이하, 본 발명의 광학 이방성층의 제조 방법이 갖는 각 공정에 대하여, 상세하게 설명한다.Hereinafter, each step of the manufacturing method of the optically anisotropic layer of the present invention will be described in detail.

〔광학 이방성층의 제조 공정〕[Manufacturing process of optically anisotropic layer]

<공정 A(층 형성 공정)><Process A (layer formation process)>

공정 A(층 형성 공정)는, 중합성 액정 화합물을 포함하는 미경화층을 형성하는 공정이다.Step A (layer formation step) is a step of forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound.

미경화층이란, 중합성 액정 화합물을 포함하고, 후술하는 제1 노광 처리 및 제2 노광 처리 등의 경화 처리가 실시되어 있지 않은 층이다. 후술하는 바와 같이, 미경화층은, 등방상(等方相)보다 저온 측에 네마틱상 및 스멕틱상을, 이 순서로 나타낸다.The uncured layer is a layer that contains a polymerizable liquid crystal compound and has not been subjected to curing treatment such as the first exposure treatment and the second exposure treatment described later. As will be described later, the uncured layer shows a nematic phase and a smectic phase in this order on the lower temperature side than the isotropic phase.

상기 미경화층을 형성할 때에는, 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물을 이용하여, 미경화층을 형성하는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는, 미경화층은, 예를 들면 기재(基材) 상에 중합성 액정 조성물을 도포하여, 미경화층을 형성하는 것이 바람직하다. 기재로서는, 지지체 및 편광자를 들 수 있다. 또한, 지지체 상에는, 배향막이 더 배치되어 있어도 된다.When forming the uncured layer, it is preferable to form the uncured layer using a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound. More specifically, the uncured layer is preferably formed by applying a polymerizable liquid crystal composition on a substrate, for example. As a base material, a support body and a polarizer are mentioned. Moreover, an orientation film may be further arrange|positioned on the support body.

중합성 액정 조성물에 포함되는 각 성분에 대해서는, 후단에서 상세히 설명한다.Each component included in the polymerizable liquid crystal composition will be described in detail in the latter part.

중합성 액정 조성물을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 스크린 인쇄법, 딥 코팅법, 스프레이 도포법, 스핀 코팅법, 잉크젯법, 그라비어 오프셋 인쇄법, 및 플렉소 인쇄법을 들 수 있다.The method of applying the polymerizable liquid crystal composition is not particularly limited, and a known method can be employed. For example, a screen printing method, a dip coating method, a spray coating method, a spin coating method, an ink jet method, a gravure offset printing method, and a flexographic printing method are exemplified.

또한, 중합성 액정 조성물을 도포 후, 필요에 따라 용제를 제거하기 위한 건조 처리를 실시해도 된다.In addition, after application of the polymerizable liquid crystal composition, a drying treatment for removing the solvent may be performed if necessary.

상기 중합성 액정 조성물의 도포량으로서는, 원하는 광학 이방성층의 두께에 따라 적절히 조정하면 된다. 예를 들면, 용제 등이 제거된 상태에 있어서의 미경화층의 두께가, 0.1~10μm가 되는 도부량이 바람직하고, 0.5~5μm가 되는 도부량이 보다 바람직하다.The application amount of the polymerizable liquid crystal composition may be appropriately adjusted according to the desired thickness of the optically anisotropic layer. For example, the coating amount at which the thickness of the uncured layer in a state in which the solvent or the like is removed is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm.

<공정 B(네마틱상 형성 공정)><Process B (nematic phase formation process)>

공정 B(네마틱상 형성 공정)는, 상기 미경화층에 가열 처리를 실시하여, 네마틱상을 형성하는 공정이다.Step B (nematic phase forming step) is a step of forming a nematic phase by subjecting the uncured layer to heat treatment.

네마틱상 형성 공정의 절차로서는, 미경화층의 온도를 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도 이상의 온도로까지 가열하여, 미경화층을 네마틱상으로 할 수 있으면 특별히 한정은 없다.The procedure of the nematic phase forming step is not particularly limited as long as the temperature of the uncured layer can be heated to a temperature equal to or higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase to form the uncured layer into a nematic phase.

상기 가열에 의하여 조정되는 미경화층의 온도(제1 가열 온도)는, 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도 이상이다. 제1 가열 온도는, 승온 시에 있어서의 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도에 대하여, 0~83℃ 높은 온도가 바람직하고, 2~53℃ 높은 온도가 보다 바람직하며, 2~37℃ 높은 온도가 더 바람직하다.The temperature of the uncured layer (first heating temperature) adjusted by the heating is equal to or higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase. The first heating temperature is preferably 0 to 83°C higher, more preferably 2 to 53°C higher, and 2 to 37°C higher than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase during heating. is more preferable

또, 미경화층은 네마틱상이 형성된 상태에서 일정 시간 유지되는 것이 바람직하다. 이와 같은 유지 시간은, 1초~10분이 바람직하고, 5초~5분 이하가 보다 바람직하며, 5~30초가 더 바람직하다. 유지 시간 중, 미경화층의 온도는 제1 가열 온도로부터 ±5℃의 범위 내로 유지되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the uncured layer is maintained for a certain period of time in a state in which a nematic phase is formed. Such holding time is preferably 1 second to 10 minutes, more preferably 5 seconds to 5 minutes or less, and still more preferably 5 to 30 seconds. During the holding time, the temperature of the uncured layer is preferably maintained within a range of ±5°C from the first heating temperature.

또한, 미경화층의 온도를 조정하는 수단에 특별히 한정은 없고, 예를 들면 핫플레이트를 이용해도 되고, 오븐을 이용해도 된다. 이하의 공정에 있어서 설명하는, 각 층의 온도 조작에 대해서도 동일하다.In addition, the means for adjusting the temperature of the uncured layer is not particularly limited, and for example, a hot plate may be used or an oven may be used. The same applies to the temperature operation of each layer described in the steps below.

<공정 C(냉각 공정)><Process C (cooling process)>

공정 C(냉각 공정)는, 공정 B(네마틱상 형성 공정)에 의하여 네마틱상을 형성한 미경화층에 냉각 처리를 실시하여, 스멕틱상을 형성하는 공정이다.Step C (cooling step) is a step of forming a smectic phase by performing a cooling treatment on the uncured layer in which the nematic phase has been formed in step B (nematic phase forming step).

냉각 공정에 있어서 냉각 처리가 실시된 미경화층의 온도(냉각 온도)는, 미경화층이 스멕틱상을 형성할 수 있는 온도이면 특별히 한정은 없고, 미경화층에 결정이 발생하기 시작하는 온도보다 높은 온도가 바람직하다. 냉각 온도는, 강온 시에 있어서의 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도에 대하여, 0~60℃ 낮은 온도가 바람직하고, 2~25℃ 낮은 온도가 보다 바람직하며, 5~15℃ 낮은 온도가 더 바람직하다.The temperature (cooling temperature) of the uncured layer subjected to the cooling process in the cooling step is not particularly limited as long as the uncured layer can form a smectic phase, and is higher than the temperature at which crystals start to form in the uncured layer. Higher temperatures are preferred. The cooling temperature is preferably 0 to 60°C lower than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase during temperature decrease, more preferably 2 to 25°C lower, and more preferably 5 to 15°C lower. desirable.

광학 이방성층의 필름 콘트라스트, 및 패널 콘트라스트가 보다 우수한 화상 표시 장치가 얻어지는 점에서, 냉각 공정에 있어서 냉각할 때의 미경화층의 강온 속도(강온 레이트)는, 0.5~200℃/분이 바람직하고, 1~100℃/분이 보다 바람직하며, 1~80℃/분이 더 바람직하고, 1~60℃/분이 특히 바람직하다.From the viewpoint of obtaining an image display device with better film contrast and panel contrast of the optically anisotropic layer, the cooling rate (cooling rate) of the uncured layer during cooling in the cooling step is preferably 0.5 to 200 ° C./min, 1-100 degreeC/min is more preferable, 1-80 degreeC/min is still more preferable, and 1-60 degreeC/min is especially preferable.

또한, 강온 레이트는, 상기 제1 가열 온도와 상기 냉각 온도와의 온도차를, 냉각 처리의 개시부터 냉각 온도에 도달할 때까지 걸린 시간으로 나누어 구할 수 있다.In addition, the cooling rate can be obtained by dividing the temperature difference between the first heating temperature and the cooling temperature by the time taken from the start of the cooling process to reaching the cooling temperature.

또, 냉각 공정에 있어서, 미경화층의 온도가 점감하는 것이 바람직하다. 또한, "온도가 점감한다"란, 냉각 공정에 있어서 미경화층의 온도가 전체적으로 저하되는 한편인 것을 의도한다. 바꾸어 말하면, 강온의 개시부터 냉각 온도에 도달할 때까지, 미경화층에 유의한 온도 상승이 발생하지 않는 것을 의도한다.Moreover, in the cooling process, it is preferable that the temperature of the uncured layer gradually decreases. In addition, "the temperature gradually decreases" means that the temperature of the uncured layer decreases as a whole in the cooling step. In other words, it is intended that no significant temperature rise occurs in the uncured layer from the start of the temperature decrease until the cooling temperature is reached.

냉각 처리의 방법에 특별히 한정은 없고, 네마틱층을 형성하고 있는 미경화층을 스멕틱상으로 할 수 있으면 된다. 예를 들면, 네마틱층을 형성하고 있는 미경화층을, 결정상과 스멕틱상과의 상전이 온도보다 높게, 또한 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도보다 낮게 설정한 핫플레이트 상에 두고, 미경화층에 스멕틱상을 형성하는 방법을 들 수 있다.The cooling treatment method is not particularly limited, as long as the uncured layer forming the nematic layer can be made into a smectic phase. For example, the uncured layer forming the nematic layer is placed on a hot plate set higher than the phase transition temperature between the crystalline phase and the smectic phase and lower than the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase, and placed on the uncured layer. A method of forming a smectic phase is exemplified.

<공정 D(제1 중합 공정)><Step D (first polymerization step)>

공정 D(제1 중합 공정)는, 공정 C에서 스멕틱상을 형성한 미경화층에 대하여, 제1 노광 처리를 실시하여, 반경화층을 형성하는 공정이다.Step D (first polymerization step) is a step of forming a semi-cured layer by performing a first exposure treatment on the uncured layer in which the smectic phase was formed in step C.

제1 노광 처리를 실시하는 시점에서, 미경화층 전체에서 스멕틱상이 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that a smectic phase is formed in the entire uncured layer at the time of performing the first exposure treatment.

제1 노광 처리에 이용되는 광은, 자외선이 바람직하고, 상기 자외선은 파장 365nm의 광을 포함하는 자외선이 바람직하다.The light used for the first exposure treatment is preferably an ultraviolet ray, and the ultraviolet ray is preferably an ultraviolet ray including light having a wavelength of 365 nm.

노광 광원으로서는, 예를 들면 메탈할라이드 램프, 수은등(중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등 등), 제논 램프, 카본 아크등, 형광등(자외용 형광등 등), LED(LED: light emitting diode, 자외 LED 등), 및 LD(LD: laser diode, 자외 LD 등)를 들 수 있다.Examples of the exposure light source include metal halide lamps, mercury lamps (medium pressure mercury lamps, high pressure mercury vapor lamps, ultra-high pressure mercury lamps, etc.), xenon lamps, carbon arc lamps, fluorescent lamps (ultraviolet fluorescent lamps, etc.), LEDs (light emitting diodes, ultraviolet LEDs, etc.) ), and LD (LD: laser diode, ultraviolet LD, etc.).

노광 광원으로부터 얻은 광에 대하여, 간섭 필터 또는 색 필터 등을 이용하여, 조사하는 파장 범위를 한정해도 된다. 또, 이와 같은 노광 광원으로부터의 광에 대하여, 편광 필터 또는 편광 프리즘 등을 이용하여 편광으로 해도 된다.With respect to the light obtained from the exposure light source, you may limit the wavelength range to irradiate using an interference filter or a color filter. Moreover, it is good also considering light from such an exposure light source as polarization using a polarization filter or a polarization prism.

제1 노광 처리에 있어서의 노광량은 특별히 한정되지 않고, 후술하는 바와 같이, 중합성 액정 화합물에 포함되는 일부의 중합성기를 중합시켜 반경화층을 형성할 수 있으면 된다. 그중에서도, 광학 이방성층의 내구성과 필름 콘트라스트, 및 광학 이방성층을 화상 표시 장치에 도입한 경우의 패널 콘트라스트가 밸런스 양호하게 우수한 점에서, 제1 노광 처리에 있어서의 노광량(바람직하게는 파장 300~390nm의 적산 노광량)은, 0.5~100mJ/cm2가 바람직하고, 1~60mJ/cm2가 보다 바람직하며, 10~30mJ/cm2가 더 바람직하다.The exposure amount in the first exposure treatment is not particularly limited, as long as the semi-cured layer can be formed by polymerizing some of the polymerizable groups contained in the polymerizable liquid crystal compound as will be described later. Among them, the durability of the optical anisotropic layer, the film contrast, and the panel contrast when the optically anisotropic layer is introduced into an image display device are well-balanced and the exposure amount in the first exposure process (preferably, the wavelength is 300 to 390 nm). The integrated exposure amount) is preferably 0.5 to 100 mJ/cm 2 , more preferably 1 to 60 mJ/cm 2 , and even more preferably 10 to 30 mJ/cm 2 .

또, 제1 노광 처리는, 균일한 중합 반응을 진행시키는 관점에서, 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to perform a 1st exposure process in an inert gas atmosphere, such as nitrogen gas, from a viewpoint of advancing a uniform polymerization reaction.

상술한 제1 노광 처리에 의하여, 반경화층이 얻어진다. 반경화층이란, 중합성 액정 화합물에 포함되는 일부의 중합성기를 중합시켜 얻어지는 층이며, 반경화층 중에는 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기가 잔존하고 있다. 그중에서도, 제1 노광 처리 후에 있어서의 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기의 잔존율은, 10% 이상이 바람직하고, 20% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 제2 노광 처리 후의 내구성을 양호하게 하기 위하여, 제1 노광 처리 후에 있어서의 중합성기의 잔존율은, 90% 이하의 경우가 바람직하고, 80% 이하가 보다 바람직하다.A semi-cured layer is obtained by the first exposure treatment described above. The semi-cured layer is a layer obtained by polymerizing some of the polymerizable groups contained in the polymerizable liquid crystal compound, and the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound remains in the semi-cured layer. Especially, the residual ratio of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound after the first exposure treatment is preferably 10% or more, and more preferably 20% or more. The upper limit is preferably 90% or less, and more preferably 80% or less, as for the residual ratio of the polymerizable group after the first exposure treatment, in order to improve the durability after the second exposure treatment.

상기 잔존율은, 제1 노광 처리 후의 반경화층 중에 있어서의 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기의 양과, 제1 노광 처리 전의 미경화층 중에 있어서의 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기의 양을 비교함으로써 산출된다. 구체적으로는, 적외 분광 광도계에 의하여, 미경화층 중에 있어서의, 중합성기 유래의 피크와, 노광 전후로 강도가 변화하지 않는 중합성 액정 화합물 중의 구조(예를 들면, 카보닐기) 유래의 피크와의 비 X를 산출한다. 동일하게, 반경화층 중에 있어서의, 중합성기 유래의 피크와, 노광 전후로 강도가 변화하지 않는 중합성 액정 화합물 중의 구조(예를 들면, 카보닐기) 유래의 피크와의 비 Y를 산출한다. 다음으로, 식: 비 Y/비 X×100에 의하여, 상기 잔존율을 산출할 수 있다.The residual ratio is obtained by comparing the amount of the polymerizable liquid crystal compound-derived polymerizable group in the semi-cured layer after the first exposure treatment with the amount of the polymerizable liquid crystal compound-derived polymerizable group in the uncured layer before the first exposure treatment. is calculated Specifically, by an infrared spectrophotometer, the peak derived from the polymerizable group in the uncured layer and the peak derived from the structure (eg, carbonyl group) in the polymerizable liquid crystal compound whose intensity does not change before and after exposure Calculate the ratio X. Similarly, the ratio Y of the peak derived from the polymerizable group in the semi-cured layer and the peak derived from the structure (for example, carbonyl group) in the polymerizable liquid crystal compound whose intensity does not change before and after exposure is calculated. Next, the residual rate can be calculated by the formula: Ratio Y/Ratio X×100.

<공정 E(제2 중합 공정)><Step E (second polymerization step)>

공정 E(제2 중합 공정)는, 제1 노광 처리 시의 온도보다 높은 온도 조건하에서, 상기 반경화층에 제2 노광 처리를 실시하여, 광학 이방성층을 형성하는 공정이다.Step E (second polymerization step) is a step of forming an optically anisotropic layer by subjecting the semi-cured layer to a second exposure treatment under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment.

제1 노광 처리 시의 온도보다 높은 온도 조건하란, 제2 노광 처리가 실시될 때의 반경화층의 온도가, 제1 노광 처리가 실시될 때의 미경화층의 온도보다 높은 상태가 되는 환경하이면 한정은 없다.The temperature condition higher than the temperature during the first exposure treatment is limited to an environment in which the temperature of the semi-cured layer when the second exposure treatment is performed is higher than the temperature of the uncured layer when the first exposure treatment is performed. there is no

통상, 상기 온도 조건을 달성하기 위하여, 제2 중합 공정에서는, 제1 중합 공정을 거쳐 얻어진 반경화층에 가열 처리(제2 가열 처리)가 실시된다. 제2 노광 처리는, 제2 가열 처리와 동시에 개시해도 되고, 제2 가열 처리에 의하여 반경화층이 소정의 온도가 되고 나서 실시해도 된다.Usually, in order to achieve the said temperature condition, in a 2nd polymerization process, heat processing (2nd heat processing) is given to the semi-cured layer obtained through the 1st polymerization process. The second exposure treatment may be started simultaneously with the second heat treatment, or may be performed after the semi-cured layer reaches a predetermined temperature by the second heat treatment.

제2 노광 처리는, 반경화층의 온도를 상승시키면서 실시해도 되고, 반경화층의 온도를 일정하게 유지하면서 실시해도 된다.The second exposure treatment may be performed while raising the temperature of the semi-cured layer, or may be performed while maintaining the temperature of the semi-cured layer constant.

제2 가열 처리에 의하여 상승하는 반경화층의 온도(제2 가열 처리 전후의 반경화층의 온도차. 바꾸어 말하면, 제1 노광 처리 시의 온도와, 제2 노광 처리 시의 온도와의 차)는, 얻어지는 광학 이방성층의 내구성이 보다 우수한 점에서, 10℃ 이상이 바람직하고, 20℃ 이상이 보다 바람직하며, 40℃ 이상이 더 바람직하다. 상한은, 160℃ 이하가 바람직하다.The temperature of the semi-cured layer increased by the second heat treatment (the temperature difference between the semi-cured layer before and after the second heat treatment. In other words, the difference between the temperature during the first exposure treatment and the temperature during the second exposure treatment) is obtained From the viewpoint of more excellent durability of the optically anisotropic layer, the temperature is preferably 10°C or higher, more preferably 20°C or higher, and still more preferably 40°C or higher. As for an upper limit, 160 degreeC or less is preferable.

제2 노광 처리 시의 반경화층의 온도(제2 가열 온도)는, 얻어지는 광학 이방성층의 내구성이 보다 우수한 점에서, 미경화층의 승온 시에 있어서의 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도 이상이 바람직하다.The temperature (second heating temperature) of the semi-cured layer during the second exposure treatment is higher than or equal to the phase transition temperature between the smectic phase and the nematic phase during the heating of the uncured layer, in view of the superior durability of the obtained optically anisotropic layer. desirable.

제2 가열 처리로 반경화층이 가열될 때의 승온 속도(승온 레이트)는, 0.5~250℃/분이 바람직하고, 50~200℃/분이 보다 바람직하며, 75~150℃/분이 더 바람직하다.The heating rate (heating rate) when the semi-cured layer is heated by the second heat treatment is preferably 0.5 to 250°C/minute, more preferably 50 to 200°C/minute, and still more preferably 75 to 150°C/minute.

또한, 승온 레이트는, 제2 가열 처리 전후의 반경화층의 온도차를, 제2 가열 처리에 걸린 시간으로 나누어 구할 수 있다.In addition, the temperature increase rate can be obtained by dividing the temperature difference between the semi-cured layer before and after the second heat treatment by the time required for the second heat treatment.

제2 노광 처리에 이용되는 광은, 자외선이 바람직하고, 상기 자외선은 파장 365nm의 광을 포함하는 자외선이 바람직하다.The light used in the second exposure treatment is preferably an ultraviolet ray, and the ultraviolet ray is preferably an ultraviolet ray including light having a wavelength of 365 nm.

노광 광원으로서는, 제1 노광 처리의 설명 중에서 들었던 것과 동일한 노광 광원이 예시된다.As the exposure light source, the same exposure light source as mentioned in the description of the first exposure process is exemplified.

노광 광원으로부터 얻은 광에 대하여, 간섭 필터 또는 색 필터 등을 이용하여, 조사하는 파장 범위를 한정해도 된다. 또, 이들 노광 광원으로부터의 광에 대하여, 편광 필터 또는 편광 프리즘 등을 이용하여 편광으로 해도 된다.With respect to the light obtained from the exposure light source, you may limit the wavelength range to irradiate using an interference filter or a color filter. Moreover, it is good also considering the light from these exposure light sources as polarization using a polarization filter or a polarization prism.

제2 노광 처리에 있어서의 노광량(바람직하게는 파장 300~390nm의 적산 노광량)은, 100~10000mJ/cm2가 바람직하고, 200~5000mJ/cm2가 보다 바람직하며, 400~1500mJ/cm2가 더 바람직하다.The exposure amount in the second exposure treatment (preferably the cumulative exposure amount at a wavelength of 300 to 390 nm) is preferably 100 to 10000 mJ/cm 2 , more preferably 200 to 5000 mJ/cm 2 , and 400 to 1500 mJ/cm 2 more preferable

또, 제2 노광 처리는, 균일한 중합 반응을 진행시키는 관점에서, 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시하는 것이 바람직하다.Further, the second exposure treatment is preferably performed under an inert gas atmosphere such as nitrogen gas from the viewpoint of advancing a uniform polymerization reaction.

상기 제2 노광 처리가 실시되어 얻어진 광학 이방성층 중에는, 실질적으로, 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기는 포함되어 있지 않다. 상기 "실질적으로"는, 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기의 잔존율이, 5% 이하인 것을 의미한다. 또한, 잔존율은, 광학 이방성층 중에 있어서의 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기의 양과, 제1 노광 처리 전의 미경화층 중에 있어서의 중합성 액정 화합물 유래의 중합성기의 양을 비교함으로써 산출된다. 구체적으로는, 상술한 적외 분광 광도계를 이용한 방법을 들 수 있다.In the optically anisotropic layer obtained by performing the second exposure treatment, substantially no polymerizable group derived from a polymerizable liquid crystal compound is contained. The above "substantially" means that the residual ratio of the polymerizable group derived from the polymerizable liquid crystal compound is 5% or less. The residual ratio is calculated by comparing the amount of polymerizable groups derived from the polymerizable liquid crystal compound in the optically anisotropic layer with the amount of polymerizable groups derived from the polymerizable liquid crystal compound in the uncured layer before the first exposure treatment. Specifically, the method using the infrared spectrophotometer mentioned above is mentioned.

〔중합성 액정 조성물〕[Polymerizable liquid crystal composition]

본 발명의 제조 방법에 있어서는, 중합성 액정 조성물을 사용하는 것이 바람직하다.In the production method of the present invention, it is preferable to use a polymerizable liquid crystal composition.

이하, 중합성 액정 조성물에 대하여 설명한다.Hereinafter, the polymerizable liquid crystal composition will be described.

<중합성 액정 화합물><Polymerizable liquid crystal compound>

중합성 액정 조성물은, 중합성 액정 화합물을 포함한다.A polymerizable liquid crystal composition contains a polymerizable liquid crystal compound.

여기에서 사용되는 중합성 액정 화합물의 1종 이상은, 네마틱상 및 스멕틱상을 발현할 수 있는 중합성 액정 화합물이 바람직하다.At least one type of the polymerizable liquid crystal compound used herein is preferably a polymerizable liquid crystal compound capable of expressing a nematic phase and a smectic phase.

중합성 액정 조성물은, 네마틱상 및 스멕틱상을 발현할 수 있는 중합성 액정 화합물 이외인 그 외의 중합성 액정 화합물을 포함해도 되지만, 중합성 액정 조성물 전체적으로는, 네마틱상 및 스멕틱상을 발현할 수 있는 미경화층을 형성할 수 있을 필요가 있다.The polymerizable liquid crystal composition may contain other polymerizable liquid crystal compounds other than the polymerizable liquid crystal compound capable of expressing a nematic phase and a smectic phase, but the polymerizable liquid crystal composition as a whole can express a nematic phase and a smectic phase. It is necessary to be able to form an uncured layer.

중합성 액정 화합물이란, 중합성기를 적어도 하나 이상 갖는 액정 화합물이다.A polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound having at least one polymerizable group.

일반적으로, 액정 화합물은 그 형상으로부터, 봉상 타입과 원반상 타입으로 분류할 수 있다. 또한 각각 저분자와 고분자의 타입이 있다. 고분자란 일반적으로 중합도가 100 이상인 화합물을 가리킨다(고분자 물리·상전이 다이내믹스, 도이 마사오저, 2페이지, 이와나미 쇼텐, 1992).In general, liquid crystal compounds can be classified into a rod-shaped type and a disk-shaped type based on their shapes. Also, there are types of low molecular weight and high molecular weight, respectively. Polymers generally refer to compounds with a polymerization degree of 100 or higher (Polymer Physics/Phase Transition Dynamics, Doi Masaozer, page 2, Iwanami Shoten, 1992).

중합성 액정 화합물은, 중합성기를 갖고, 스멕틱상을 발현할 수 있는 미경화층을 형성할 수 있는 한, 어느 것의 액정 화합물도 사용할 수 있다. 그중에서도, 봉상의 중합성 액정 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.As long as the polymerizable liquid crystal compound has a polymerizable group and can form an uncured layer capable of expressing a smectic phase, any liquid crystal compound can be used. Among them, it is preferable to use a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound.

중합성 액정 화합물은 1분자 중에 중합성기를 2 이상 갖는 것이 바람직하다. 또, 2종 이상의 중합성 액정 화합물을 사용하는 경우, 적어도 1종의 중합성 액정 화합물이, 1분자 중에 2 이상의 중합성기를 갖고 있는 것이 바람직하다.The polymerizable liquid crystal compound preferably has two or more polymerizable groups in one molecule. Moreover, when using 2 or more types of polymeric liquid crystal compounds, it is preferable that at least 1 type of polymerizable liquid crystal compound has 2 or more polymeric groups in 1 molecule.

또한, 액정 화합물이 중합에 의하여 고정된 후에 있어서는 이미 액정성을 나타낼 필요는 없지만, 이렇게 하여 형성된 층은 편의상 액정층으로 칭하는 경우가 있다.In addition, after the liquid crystal compound is fixed by polymerization, it is not necessary to already exhibit liquid crystallinity, but the layer formed in this way is sometimes referred to as a liquid crystal layer for convenience.

중합성 액정 화합물이 갖는, 중합성기의 종류는 특별히 한정되지 않고, 부가 중합 반응이 가능한 관능기가 바람직하고, 중합성 에틸렌성 불포화기 또는 환중합성기가 보다 바람직하다. 예를 들면, (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 알릴기, 에폭시기, 또는 옥세테인기가 바람직하고, 그중에서도 중합 반응이 고속인 점에서, (메트)아크릴로일기가 보다 바람직하다.The kind of polymerizable group that the polymerizable liquid crystal compound has is not particularly limited, and a functional group capable of undergoing an addition polymerization reaction is preferable, and a polymerizable ethylenically unsaturated group or ring polymerizable group is more preferable. For example, a (meth)acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, an allyl group, an epoxy group, or an oxetane group is preferable, and among them, a (meth)acryloyl group is more preferable because the polymerization reaction is fast.

(스멕틱상을 발현할 수 있는 중합성 액정 화합물)(Polymerizable liquid crystal compound capable of expressing smectic phase)

스멕틱상을 발현할 수 있는 중합성 액정 화합물로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2016-051178호, 일본 공개특허공보 2008-214269호, 일본 공개특허공보 2008-019240호, 및 일본 공개특허공보 2006-276821호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a polymeric liquid crystal compound capable of expressing a smectic phase, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-051178, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-214269, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-019240, and Japanese Unexamined Patent Publication 2006- and the compounds described in 276821.

또, 봉상의 중합성 액정 화합물로서, 파장 330~380nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 중합성 액정 화합물이 바람직하다.Moreover, as a rod-shaped polymeric liquid crystal compound, the polymeric liquid crystal compound which has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 330-380 nm is preferable.

또, 봉상의 중합성 액정 화합물은, 역파장 분산성의 중합성 액정 화합물이 바람직하다.Moreover, the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound is preferably a polymerizable liquid crystal compound having reverse wavelength dispersion.

여기에서, 본 명세서에 있어서, 중합성 액정 화합물이 역파장 분산성이라는 것은, 이와 같은 중합성 액정 화합물을 이용하여 제작된 위상차 필름(광학 이방성층 등)의 특정 파장(가시광 범위)에 있어서의 면내의 리타데이션(Re)값을 측정했을 때에, 측정 파장이 커짐에 따라 Re값이 동등 또는 높아지는 성질을 말한다.Here, in the present specification, the polymerizable liquid crystal compound having reverse wavelength dispersion means that the surface in a specific wavelength (visible light range) of the retardation film (optically anisotropic layer, etc.) produced using such a polymerizable liquid crystal compound When the retardation (Re) value is measured within, it refers to the property that the Re value becomes equal or higher as the measurement wavelength increases.

예를 들면, 하기 식을 충족시키는 광학 이방성층을 형성할 수 있는 중합성 액정 화합물이 바람직하다.For example, a polymerizable liquid crystal compound capable of forming an optically anisotropic layer satisfying the following formula is preferable.

Re(450)/Re(550)<1.00Re(450)/Re(550)<1.00

그중에서도, 중합성 액정 화합물로서는 일반식 (W)로 나타나는 화합물이 바람직하다.Especially, as a polymeric liquid crystal compound, the compound represented by General formula (W) is preferable.

P1-L1-Sp1-L2-(-A1-L3-)m-MG-(-L4-A2-)n-L5-Sp2-L6-P2 (W)P 1 -L 1 -Sp 1 -L 2 -(-A 1 -L 3 -) m -MG-(-L 4 -A 2 -) n -L 5 -Sp 2 -L 6 -P 2 (W)

일반식 (W) 중, m 및 n은, 각각 독립적으로 1~3의 정수를 나타낸다.In general formula (W), m and n represent the integer of 1-3 each independently.

일반식 (W) 중, L1, L2, L3, L4, L5, 및 L6은, 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다.In General Formula (W), L 1 , L 2 , L 3 , L 4 , L 5 , and L 6 each independently represent a single bond or a divalent linking group.

상기 2가의 연결기로서는, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR3R4-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR3R4-, -CR1R2-CO-O-CR3R4-, -NR1-CR2R3-, 또는 -CO-NR1-이 바람직하다. R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.As the divalent linking group, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR 1 R 2 -, -CR 1 R 2 -CR 3 R 4 -, -O-CR 1 R 2 -, - CR 1 R 2 -O-CR 3 R 4 -, -CO-O-CR 1 R 2 -, -O-CO-CR 1 R 2 -, -CR 1 R 2 -O-CO-CR 3 R 4 - , -CR 1 R 2 -CO-O-CR 3 R 4 -, -NR 1 -CR 2 R 3 -, or -CO-NR 1 - are preferred. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

L3이 복수 존재하는 경우, 복수 존재하는 L3은 각각 동일해도 되고 달라도 된다. L4가 복수 존재하는 경우, 복수 존재하는 L4는 각각 동일해도 되고 달라도 된다.When a plurality of L 3s are present, the plurality of L 3s may be the same or different. When a plurality of L 4 exist, the plurality of L 4 may be the same or different.

상기 일반식 (W) 중, A1 및 A2는, 각각 독립적으로 탄소수 6 이상의 방향환기, 또는 탄소수 5 이상(바람직하게는 탄소수 5~8)의 지환식 탄화 수소기를 나타낸다.In the general formula (W), A 1 and A 2 each independently represent an aromatic ring group having 6 or more carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 or more carbon atoms (preferably 5 to 8 carbon atoms).

상기 지환식 탄화 수소기를 구성하는 -CH2-의 하나 이상이 -O-, -S- 또는 -NH-로 치환되어 있어도 된다.One or more of -CH 2 - constituting the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with -O-, -S- or -NH-.

A1이 복수 존재하는 경우, 복수 존재하는 A1은 각각 동일해도 되고 달라도 된다. A2가 복수 존재하는 경우, 복수 존재하는 A2는 각각 동일해도 되고 달라도 된다.When a plurality of A 1 exists, the plurality of A 1 's may be the same or different. When a plurality of A 2 exists, the plurality of A 2 ' s may be the same or different.

상기 A1 및 A2가 나타내는 탄소수 5 이상의 지환식 탄화 수소기로서는, 5원환 또는 6원환의 기가 바람직하다. 또, 지환식 탄화 수소기는, 포화여도 되고 불포화여도 되지만 포화 지환식 탄화 수소기가 바람직하다.As the alicyclic hydrocarbon group having 5 or more carbon atoms represented by A 1 and A 2 , a 5- or 6-membered ring group is preferable. Moreover, although saturated or unsaturated may be sufficient as an alicyclic hydrocarbon group, a saturated alicyclic hydrocarbon group is preferable.

지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면 사이클로헥세인환기(사이클로헥산-1,4-다이일기 등) 및 사이클로헥센환기를 들 수 있다.As an alicyclic hydrocarbon group, a cyclohexane ring group (such as a cyclohexane-1,4-diyl group) and a cyclohexene ring group are mentioned, for example.

또, 지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2012-021068호의 단락 [0078]의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.In addition, as an alicyclic hydrocarbon group, description of Paragraph [0078] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-021068 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification, for example.

상기 A1 및 A2가 나타내는 탄소수 6 이상의 방향환으로서는, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 및 페난트롤린환 등의 방향족 탄화 수소환; 퓨란환, 피롤환, 싸이오펜환, 피리딘환, 싸이아졸환, 및 벤조싸이아졸환 등의 방향족 복소환을 들 수 있다. 그중에서도, 벤젠환(예를 들면, 1,4-페닐렌기 등)이 바람직하다.Examples of aromatic rings having 6 or more carbon atoms represented by A 1 and A 2 include aromatic hydrocarbon rings such as benzene rings, naphthalene rings, anthracene rings, and phenanthroline rings; Aromatic heterocycles, such as a furan ring, a pyrrole ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring, are mentioned. Especially, a benzene ring (for example, 1, 4-phenylene group etc.) is preferable.

일반식 (W) 중, Sp1 및 Sp2는, 각각 독립적으로 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2-의 하나 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은 -CO-에 치환된 2가의 연결기를 나타낸다. Q는, 치환기(알킬기, 알콕시기, 또는 할로젠 원자 등)를 나타낸다.In the general formula (W), Sp 1 and Sp 2 each independently constitute a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, or a linear or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms - One or more CH 2 - represents a divalent linking group substituted for -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, or -CO-. Q represents a substituent (such as an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom).

상기 Sp1 및 Sp2가 나타내는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기로서는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 또는 뷰틸렌기 등이 바람직하다.As a C1-C12 linear or branched alkylene group represented by said Sp1 and Sp2 , a methylene group, an ethylene group, a propylene group, or a butylene group etc. are preferable, for example.

일반식 (W) 중, P1 및 P2는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, P1 및 P2 중 적어도 일방은 중합성기를 나타낸다. 단, MG가, 후술하는 일반식 (Ar-3)으로 나타나는 방향환인 경우는, P1과 P2 및 일반식 (Ar-3) 중의 P3과 P4 중 적어도 하나가 중합성기를 나타낸다.In General Formula (W), P 1 and P 2 each independently represent a monovalent organic group, and at least one of P 1 and P 2 represents a polymerizable group. However, when MG is an aromatic ring represented by general formula (Ar-3) mentioned later, at least one of P 1 and P 2 and P 3 and P 4 in general formula (Ar-3) represents a polymerizable group.

상기 P1 및 P2가 나타내는 중합성기는 특별히 한정되지 않고, 라디칼 중합성기 또는 양이온 중합성기가 바람직하다.The polymerizable group represented by P 1 and P 2 is not particularly limited, and a radical polymerizable group or a cationic polymerizable group is preferable.

라디칼 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 라디칼 중합성기를 사용할 수 있다. 예를 들면, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 들 수 있다. 이 경우, 중합 속도는 일반적으로 아크릴로일기가 빨라, 생산성 향상의 관점에서 아크릴로일기가 바람직하다. 또, 메타크릴로일기도 고복굴절성 액정의 중합성기로서 동일하게 사용할 수 있다.As the radical polymerizable group, a generally known radical polymerizable group can be used. For example, an acryloyl group and a methacryloyl group are mentioned. In this case, the polymerization rate is generally high for the acryloyl group, and the acryloyl group is preferable from the viewpoint of productivity improvement. Moreover, a methacryloyl group can similarly be used as a polymeric group of a highly birefringent liquid crystal.

양이온 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 양이온 중합성을 사용할 수 있다. 예를 들면, 지환식 에터기, 환상 아세탈기, 환상 락톤기, 환상 싸이오에터기, 스파이로오쏘에스터기, 및 바이닐옥시기 등을 들 수 있다. 그중에서도, 지환식 에터기, 또는 바이닐옥시기가 바람직하고, 에폭시기, 옥세탄일기, 또는 바이닐옥시기가 보다 바람직하다.As the cationically polymerizable group, a generally known cationically polymerizable group can be used. Examples thereof include an alicyclic ether group, a cyclic acetal group, a cyclic lactone group, a cyclic thioether group, a spiro orthoester group, and a vinyloxy group. Especially, an alicyclic ether group or a vinyloxy group is preferable, and an epoxy group, an oxetanyl group, or a vinyloxy group is more preferable.

특히 바람직한 중합성기의 예로서는 하기를 들 수 있다.Examples of particularly preferred polymerizable groups include the following.

하기 중합성기 중, 흑색 동그라미는, 결합 위치를 나타낸다.Among the following polymerizable groups, black circles indicate bonding positions.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020132154226-pct00001
Figure 112020132154226-pct00001

일반식 (W) 중, MG는, 하기 일반식 (Ar-1)~(Ar-5)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타낸다. 또한, 하기 일반식 (Ar-1)~(Ar-5) 중, *1은 L3과의 결합 위치를 나타내고, *2는 L4와의 결합 위치를 나타낸다.In the general formula (W), MG represents any one of aromatic rings selected from the group consisting of groups represented by the following general formulas (Ar-1) to (Ar-5). In the following general formulas (Ar-1) to (Ar-5), *1 represents a bonding position with L 3 , and *2 represents a bonding position with L 4 .

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112020132154226-pct00002
Figure 112020132154226-pct00002

여기에서, 상기 일반식 (Ar-1) 중, Q1은, N 또는 CH를 나타내고, Q2는, -S-, -O-, 또는 -N(R5)-를 나타내며, R5는, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, Y1은, 치환기를 가져도 되는, 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기, 또는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기를 나타낸다.Here, in the general formula (Ar-1), Q 1 represents N or CH, Q 2 represents -S-, -O-, or -N(R 5 )-, and R 5 represents, A hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms is represented, and Y 1 represents an aromatic hydrocarbon group of 6 to 12 carbon atoms or an aromatic heterocyclic group of 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent.

R5가 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the C1-C6 alkyl group represented by R 5 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, and an n-hexyl group.

Y1이 나타내는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기로서는, 예를 들면 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 및 나프틸기 등의 아릴기를 들 수 있다.As a C6-C12 aromatic hydrocarbon group represented by Y <1> , aryl groups, such as a phenyl group, a 2, 6- diethylphenyl group, and a naphthyl group, are mentioned, for example.

Y1이 나타내는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기로서는, 예를 들면 싸이엔일기, 싸이아졸일기, 프릴기, 및 피리딜기 등의 헤테로아릴기를 들 수 있다.As a C3-C12 aromatic heterocyclic group represented by Y <1> , heteroaryl groups, such as a thienyl group, a thiazolyl group, a prill group, and a pyridyl group, are mentioned, for example.

또, Y1이 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면 알킬기, 알콕시기, 및 할로젠 원자 등을 들 수 있다.Moreover, as a substituent which Y 1 may have, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, etc. are mentioned, for example.

알킬기로서는, 예를 들면 탄소수 1~18의 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, t-뷰틸기, 및 사이클로헥실기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알킬기가 더 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 특히 바람직하다.As the alkyl group, for example, a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group) , isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, etc.) are more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable, and a methyl group or an ethyl group is particularly preferable.

알콕시기로서는, 예를 들면 탄소수 1~18의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알콕시기(예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, n-뷰톡시기, 및 메톡시에톡시기 등)가 보다 바람직하고, 탄소수 1~4의 알콕시기가 더 바람직하며, 메톡시기 또는 에톡시기가 특히 바람직하다.As the alkoxy group, for example, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms is preferable, and an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, n-butoxy group, and a methoxyethoxy group) is more Preferably, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is particularly preferable.

할로젠 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및 아이오딘 원자 등을 들 수 있고, 그중에서도 불소 원자, 또는 염소 원자가 바람직하다.As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom etc. are mentioned, for example, A fluorine atom or a chlorine atom is especially preferable.

또, 상기 일반식 (Ar-1)~(Ar-5) 중, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -NR6R7, 또는 -SR8을 나타내고, R6~R8은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.Further, in the general formulas (Ar-1) to (Ar-5), Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a hydrogen atom, a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and 3 to 20 carbon atoms. represents a monovalent alicyclic hydrocarbon group, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -NR 6 R 7 , or -SR 8 , and R 6 to R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms each independently, and Z 1 and Z 2 may combine with each other to form an aromatic ring.

탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기로서는, 탄소수 1~15의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기가 보다 바람직하며, 메틸기, 에틸기, 아이소프로필기, tert-펜틸기(1,1-다이메틸프로필기), tert-뷰틸기, 또는 1,1-다이메틸-3,3-다이메틸-뷰틸기가 더 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 또는 tert-뷰틸기가 특히 바람직하다.As the monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable. A methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a tert-pentyl group (1,1 -dimethylpropyl group), tert-butyl group, or 1,1-dimethyl-3,3-dimethyl-butyl group is more preferred, and methyl group, ethyl group, or tert-butyl group is particularly preferred.

탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 사이클로데실기, 메틸사이클로헥실기, 및 에틸사이클로헥실기 등의 단환식 포화 탄화 수소기; 사이클로뷰텐일기, 사이클로펜텐일기, 사이클로헥센일기, 사이클로헵텐일기, 사이클로옥텐일기, 사이클로데센일기, 사이클로펜타다이엔일기, 사이클로헥사다이엔일기, 사이클로옥타다이엔일기, 및 사이클로데카다이엔 등의 단환식 불포화 탄화 수소기; 바이사이클로[2.2.1]헵틸기, 바이사이클로[2.2.2]옥틸기, 트라이사이클로[5.2.1.02,6]데실기, 트라이사이클로[3.3.1.13,7]데실기, 테트라사이클로[6.2.1.13,6.02,7]도데실기, 및 아다만틸기 등의 다환식 포화 탄화 수소기 등을 들 수 있다.Examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclodecyl group, a methylcyclohexyl group, and monocyclic saturated hydrocarbon groups such as an ethylcyclohexyl group; Cyclobutenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, cycloheptenyl group, cyclooctenyl group, cyclodecenyl group, cyclopentadienyl group, cyclohexadienyl group, cyclooctadienyl group, and cyclodecadienyl group. a cyclic unsaturated hydrocarbon group; Bicyclo[2.2.1]heptyl group, bicyclo[2.2.2]octyl group, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decyl group, tricyclo[3.3.1.1 3,7 ]decyl group, tetracyclo[6.2 polycyclic saturated hydrocarbon groups such as .1.1 3,6 .0 2,7 ]dodecyl group and adamantyl group; and the like.

탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기로서는, 예를 들면 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 나프틸기, 및 바이페닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 6~12의 아릴기(특히 페닐기)가 바람직하다.Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a 2,6-diethylphenyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (especially a phenyl group) desirable.

할로젠 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 및 아이오딘 원자 등을 들 수 있고, 그중에서도 불소 원자, 염소 원자, 또는 브로민 원자가 바람직하다.As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom etc. are mentioned, for example, A fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom is especially preferable.

한편, R6~R8이 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있다.On the other hand, examples of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 6 to R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, An n-pentyl group, an n-hexyl group, etc. are mentioned.

또, 상기 일반식 (Ar-2) 및 (Ar-3) 중, A3 및 A4는, 각각 독립적으로 -O-, -N(R9)-, -S-, 및 -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R9는, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.In the general formulas (Ar-2) and (Ar-3), A 3 and A 4 each independently consist of -O-, -N(R 9 )-, -S-, and -CO-. represents a group selected from the group, and R 9 represents a hydrogen atom or a substituent.

R9가 나타내는 치환기로서는, 상기 일반식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the substituent represented by R 9 include the same groups as the substituents Y 1 in the general formula (Ar-1) may have.

또, 상기 일반식 (Ar-2) 중, X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합하고 있어도 되는 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.Further, in the general formula (Ar-2), X represents a hydrogen atom or a nonmetal atom of Groups 14 to 16 to which a substituent may be bonded.

또, X가 나타내는 제14~16족의 비금속 원자로서는, 예를 들면 산소 원자, 황 원자, 치환기를 갖는 질소 원자, 및 치환기를 갖는 탄소 원자를 들 수 있고, 치환기로서는, 예를 들면 알킬기, 알콕시기, 알킬 치환 알콕시기, 환상 알킬기, 아릴기(예를 들면, 페닐기, 나프틸기 등), 사이아노기, 아미노기, 나이트로기, 알킬카보닐기, 설포기, 및 수산기 등을 들 수 있다.Moreover, examples of the nonmetal atoms of Groups 14 to 16 represented by X include an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom having a substituent, and a carbon atom having a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group and an alkoxy group. group, an alkyl-substituted alkoxy group, a cyclic alkyl group, an aryl group (for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), a cyano group, an amino group, a nitro group, an alkylcarbonyl group, a sulfo group, and a hydroxyl group.

또, 상기 일반식 (Ar-3) 중, L7 및 L8은, 각각 독립적으로 단결합, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR3R4-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR3R4-, -CR1R2-CO-O-CR3R4-, -NR1-CR2R3-, 또는 -CO-NR1-을 나타낸다. R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.In Formula (Ar-3), L 7 and L 8 are each independently a single bond, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR 1 R 2 -, -CR 1 R 2 -CR 3 R 4 -, -O-CR 1 R 2 -, -CR 1 R 2 -O-CR 3 R 4 -, -CO-O-CR 1 R 2 -, -O-CO-CR 1 R 2 -, -CR 1 R 2 -O-CO-CR 3 R 4 -, -CR 1 R 2 -CO-O-CR 3 R 4 -, -NR 1 -CR 2 R 3 -, or -CO- NR 1 -. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

또, 상기 일반식 (Ar-3) 중, SP3 및 SP4는, 각각 독립적으로 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2-의 하나 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은 -CO-에 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 상기 일반식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 기를 들 수 있다.Further, in the general formula (Ar-3), SP 3 and SP 4 independently represent a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, or a linear or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. One or more of -CH 2 - constituting the rene group represents a divalent linking group substituted with -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, or -CO-, and Q represents a substituent. . As a substituent, the same group as the substituent which Y 1 in the said general formula (Ar-1) may have is mentioned.

또, 상기 일반식 (Ar-3) 중, P3 및 P4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내며, 중합성기가 바람직하다. 중합성기의 예는, 상술한 P1 및 P2에 관련하여 설명한 바와 같다. 단, 상술과 같이 MG가, 일반식 (Ar-3)으로 나타나는 방향환인 경우는, P1과 P2 및 일반식 (Ar-3) 중의 P3과 P4 중 적어도 하나가 중합성기를 나타낸다.Moreover, in the said general formula (Ar-3), P <3> and P <4> represent a monovalent organic group each independently, and a polymeric group is preferable. Examples of the polymerizable group are as described in relation to P 1 and P 2 described above. However, as described above, when MG is an aromatic ring represented by general formula (Ar-3), at least one of P 1 and P 2 and P 3 and P 4 in general formula (Ar-3) represents a polymerizable group.

또, 상기 일반식 (Ar-4)~(Ar-5) 중, Ax는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.Further, in the general formulas (Ar-4) to (Ar-5), Ax is an organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of aromatic hydrocarbon rings and aromatic heterocycles. indicate

또, 상기 일반식 (Ar-4)~(Ar-5) 중, Ay는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~6의 알킬기, 또는 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는, 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.Further, in the general formulas (Ar-4) to (Ar-5), Ay is selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, an aromatic hydrocarbon ring, and an aromatic heterocyclic ring. represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring.

여기에서, Ax 및 Ay에 있어서의 방향환은, 치환기를 갖고 있어도 되고, Ax와 Ay가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.Here, the aromatic rings in Ax and Ay may have a substituent, and Ax and Ay may combine to form a ring.

또, Q3은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.Moreover, Q 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.

Ax 및 Ay로서는, 특허문헌 3(국제 공개공보 제2014/010325호)의 단락 [0039]~[0095]에 기재된 기를 들 수 있다.Examples of Ax and Ay include groups described in paragraphs [0039] to [0095] of Patent Document 3 (International Publication No. 2014/010325).

또, Q3이 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있고, 치환기로서는, 상기 일반식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 기를 들 수 있다.Moreover, as a C1-C6 alkyl group which Q <3> represents, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pen A ethyl group, an n-hexyl group, etc. are mentioned, As a substituent, the same group as the substituent which Y <1> in the said general formula (Ar-1) may have is mentioned.

상기 일반식 (W)로 나타나는 액정 화합물의 바람직한 예를 이하에 나타내지만, 이들 액정 화합물에 한정되지 않는다. 또한, 하기 식 중의 1,4-사이클로헥실렌기는, 모두 트랜스-1,4-사이클로헥실렌기이다. 또, 하기 식 중 n은 1~12의 정수를 나타낸다.Preferred examples of the liquid crystal compound represented by the general formula (W) are shown below, but are not limited to these liquid crystal compounds. In addition, all 1, 4-cyclohexylene groups in the following formula are trans-1, 4-cyclohexylene groups. Moreover, in the following formula, n represents an integer of 1 to 12.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112020132154226-pct00003
Figure 112020132154226-pct00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112020132154226-pct00004
Figure 112020132154226-pct00004

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112020132154226-pct00005
Figure 112020132154226-pct00005

또한, 상기 식 중, "*"는 결합 위치를 나타낸다.In the above formula, "*" represents a bonding position.

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112020132154226-pct00006
Figure 112020132154226-pct00006

또한, 상기 식 II-2-8 및 II-2-9 중의 아크릴로일옥시기에 인접하는 기는, 프로필렌기(메틸기가 에틸렌기에 치환한 기)를 나타내고, 메틸기의 위치가 다른 위치 이성체의 혼합물을 나타낸다.In addition, the group adjacent to the acryloyloxy group in the above formulas II-2-8 and II-2-9 represents a propylene group (a group in which a methyl group is substituted with an ethylene group), and represents a mixture of positional isomers with different positions of the methyl group .

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112020132154226-pct00007
Figure 112020132154226-pct00007

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112020132154226-pct00008
Figure 112020132154226-pct00008

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112020132154226-pct00009
Figure 112020132154226-pct00009

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112020132154226-pct00010
Figure 112020132154226-pct00010

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112020132154226-pct00011
Figure 112020132154226-pct00011

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112020132154226-pct00012
Figure 112020132154226-pct00012

중합성 액정 조성물 중, 중합성 액정 화합물의 함유량은, 중합성 액정 조성물 중의 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 50~100질량%가 바람직하고, 60~98질량%가 보다 바람직하며, 65~95질량%가 더 바람직하다.The content of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 50 to 100% by mass, more preferably 60 to 98% by mass, and 65 to 95% by mass with respect to the total mass of the liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition. % is more preferred.

또한, 상기 액정 화합물의 전체 질량이란, 중합성 액정 조성물이 비중합성의 액정 화합물도 포함하는 경우는, 그 질량도 산입한 질량이다.In addition, when the polymeric liquid crystal composition also contains a non-polymerizable liquid crystal compound, the total mass of the said liquid crystal compound is the mass also calculated.

중합성 액정 화합물을 2종 이상 사용하는 경우는, 그 합계 함유량은, 상기 범위 내가 바람직하다.When using 2 or more types of polymerizable liquid crystal compounds, the total content is preferably within the above range.

중합성 액정 조성물 중, 중합성 액정 화합물의 함유량은, 중합성 액정 조성물의 전고형분의 질량에 대하여, 50~99.99질량%가 바람직하고, 65~99.9질량%가 보다 바람직하며, 80~99.5질량%가 더 바람직하다.The content of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 50 to 99.99% by mass, more preferably 65 to 99.9% by mass, and 80 to 99.5% by mass with respect to the total solid mass of the polymerizable liquid crystal composition. is more preferable

중합성 액정 화합물을 2종 이상 사용하는 경우는, 그 합계 함유량은, 상기 범위 내가 바람직하다.When using 2 or more types of polymerizable liquid crystal compounds, the total content is preferably within the above range.

또한, 전고형분이란, 광학 이방성층을 형성하는 성분을 의도하고, 용제는 포함되지 않는다. 또, 광학 이방성층을 형성하는 성분이면, 그 성상이 액체상이어도, 고형분으로 간주한다.In addition, a total solid content intends the component which forms an optically anisotropic layer, and a solvent is not contained. In addition, as long as it is a component that forms an optically anisotropic layer, even if the property is a liquid, it is regarded as a solid component.

<광중합 개시제><Photoinitiator>

중합성 액정 조성물은, 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.The polymerizable liquid crystal composition preferably contains a photopolymerization initiator.

사용하는 중합 개시제는, 자외선 조사에 의하여 중합 반응을 개시 가능한 광중합 개시제가 바람직하다.The polymerization initiator used is preferably a photopolymerization initiator capable of initiating a polymerization reaction by ultraviolet irradiation.

광중합 개시제로서는, 예를 들면 옥심에스터계 중합 개시제, α-카보닐계 중합 개시제(예를 들면, 미국 특허공보 제2367661호, 동 2367670호의 각 기재), 아실로인에터계 중합 개시제(예를 들면, 미국 특허공보 제2448828호 기재), α-탄화 수소 치환 방향족 아실로인계 중합 개시제(예를 들면, 미국 특허공보 제2722512호 기재), 다핵 퀴논계 중합 개시제(예를 들면, 미국 특허공보 제3046127호, 동 2951758호의 각 기재), 트라이아릴이미다졸 다이머와 p-아미노페닐케톤을 조합한 중합 개시제(예를 들면, 미국 특허공보 제3549367호 기재), 아크리딘 및 페나진계 중합 개시제(예를 들면, 일본 공개특허공보 소60-105667호, 미국 특허공보 제4239850호 기재), 옥사다이아졸계 중합 개시제(예를 들면, 미국 특허공보 제4212970호 기재), 및 아실포스핀옥사이드계 중합 개시제(예를 들면, 일본 공고특허공보 소63-040799호, 일본 공고특허공보 평5-029234호, 일본 공개특허공보 평10-095788호, 일본 공개특허공보 평10-029997호 기재) 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, for example, an oxime ester polymerization initiator, an α-carbonyl polymerization initiator (for example, US Patent Publication Nos. 2367661 and 2367670), an acyloinether polymerization initiator (for example, U.S. Patent Publication No. 2448828), α-hydrocarbon substituted aromatic acyloin-based polymerization initiators (eg, described in U.S. Patent Publication No. 2722512), polynuclear quinone-based polymerization initiators (eg, U.S. Patent Publication No. 3046127) , each description of No. 2951758), a polymerization initiator in which a triarylimidazole dimer and p-aminophenyl ketone are combined (for example, described in US Patent Publication No. 3549367), an acridine and phenazine-based polymerization initiator (for example, For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-105667, US Patent Publication No. 4239850), oxadiazole-based polymerization initiators (for example, described in US Patent Publication No. 4212970), and acylphosphine oxide-based polymerization initiators (eg For example, Japanese Patent Publication No. 63-040799, Japanese Patent Publication No. 5-029234, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-095788, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-029997), etc. are mentioned.

그중에서도, 노광되었을 때에 균일하게 경화가 진행되어, 보다 배향성이 우수한 광학 이방성층이 얻어지는 점에서, 옥심에스터계 중합 개시제가 바람직하다.Among them, oxime ester-based polymerization initiators are preferable from the viewpoint that curing proceeds uniformly when exposed to light and an optically anisotropic layer more excellent in orientation is obtained.

중합성 액정 조성물 중, 광중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 조성물 중의 중합성 액정 화합물의 전체 질량에 대하여, 0.01~20질량%가 바람직하고, 0.1~8질량%가 보다 바람직하다.The content of the photopolymerization initiator in the polymerizable liquid crystal composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 8% by mass, based on the total mass of the polymerizable liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition.

중합 개시제는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상 사용해도 된다.A polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types.

중합 개시제를 2종 이상 사용하는 경우는, 그 합계 함유량은, 상기 범위 내가 바람직하다.When using 2 or more types of polymerization initiators, the total content is preferably within the above range.

<계면활성제><Surfactant>

중합성 액정 조성물은, 미경화층을 형성했을 때의 공기 계면 측의 표면을 평활하게 유지하여, 보다 우수한 배향성의 광학 이방성층을 얻는 점에서, 계면활성제를 포함하는 것이 바람직하다.The polymerizable liquid crystal composition preferably contains a surfactant from the viewpoint of maintaining a smooth surface on the air interface side when an uncured layer is formed and obtaining an optically anisotropic layer with better orientation.

이와 같은 계면활성제로서는, 첨가량에 대한 레벨링 효과가 높은 이유에서, 불소계 계면활성제 또는 규소계 계면활성제가 바람직하고, 삼출(블룸, 블리드)을 일으키기 어려운 관점에서, 불소계 계면활성제가 보다 바람직하다.As such a surfactant, a fluorochemical surfactant or a silicon surfactant is preferable because of the high leveling effect with respect to the added amount, and a fluorochemical surfactant is more preferable from the viewpoint of less exudation (bloom, bleed).

계면활성제로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2007-069471호의 단락 [0079]~[0102]에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-047204호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히 단락 [0020]~[0032]에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2012-211306호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히 단락 [0022]~[0029]에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2002-129162호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 액정 배향 촉진제(특히 단락 [0076]~[0078] 및 단락 [0082]~[0084]에 기재된 화합물), 및 일본 공개특허공보 2005-099248호에 기재된 일반식 (I), (II) 및 (III)으로 나타나는 화합물(특히 단락 [0092]~[0096]에 기재된 화합물) 등을 들 수 있다.Examples of surfactants include compounds described in paragraphs [0079] to [0102] of JP-A-2007-069471 and compounds represented by general formula (I) described in JP-A-2013-047204 (especially paragraph [0020]). ] to compounds described in [0032]), compounds represented by general formula (I) described in JP-A-2012-211306 (especially compounds described in paragraphs [0022] to [0029]), JP-A-2002-129162 A liquid crystal alignment accelerator represented by the general formula (I) described in No. (particularly, the compounds described in paragraphs [0076] to [0078] and paragraphs [0082] to [0084]), and the general formula described in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-099248 Compounds represented by (I), (II) and (III) (especially the compounds described in paragraphs [0092] to [0096]) and the like.

<용제><Solvent>

중합성 액정 조성물은, 미경화층의 형성 시에 점도를 낮추는 등의 제조 적성을 개량하기 위하여, 용제를 포함하고 있어도 된다.The polymerizable liquid crystal composition may contain a solvent in order to improve production aptitude such as lowering the viscosity at the time of formation of the uncured layer.

용제로서는 특별히 한정은 되지 않지만, 케톤(사이클로펜탄온 등의 환상 케톤을 포함함), 에스터, 에터, 알코올, 알칸, 톨루엔, 클로로폼, 및 메틸렌클로라이드로 이루어지는 군의 적어도 1종으로부터 선택되는 것이 바람직하고, 케톤, 에스터, 에터, 알코올, 및 알칸으로 이루어지는 군의 적어도 1종으로부터 선택되는 것이 보다 바람직하며, 케톤, 에스터, 에터, 및 알코올로 이루어지는 군의 적어도 1종으로부터 선택되는 것이 더 바람직하다.The solvent is not particularly limited, but is preferably selected from at least one of the group consisting of ketones (including cyclic ketones such as cyclopentanone), esters, ethers, alcohols, alkanes, toluene, chloroform, and methylene chloride and is more preferably selected from at least one member of the group consisting of ketones, esters, ethers, alcohols, and alkanes, and more preferably selected from at least one member of the group consisting of ketones, esters, ethers, and alcohols.

<그 외의 성분><Other ingredients>

중합성 액정 화합물은, 상술한 것 이외의 그 외의 성분을 포함하고 있어도 된다.The polymerizable liquid crystal compound may contain other components other than those described above.

그 외의 성분으로서, 예를 들면 열중합 개시제를 포함하고 있어도 된다.As other components, a thermal polymerization initiator may be included, for example.

그 밖에도, 예를 들면 광학 이방성층의 배향성의 조정 등의 점에서, 카이랄제 등을 사용해도 된다.In addition, you may use a chiral agent etc. from the viewpoint of adjusting the orientation of an optically anisotropic layer, etc., for example.

또, 중합성 액정 조성물의 점도, 상전이 온도, 배향 균일성의 조정, 광학 이방성층의 막물성, 및 광학 특성의 조정 등의 관점에서, 비중합성의 액정 화합물을 사용해도 된다. 비중합성의 액정 화합물은, 저분자 액정 화합물이어도 된다. 또, 비중합성의 액정 화합물은, 주쇄형 액정 고분자 또는 측쇄형 액정 고분자여도 된다.In addition, from the viewpoint of adjusting the viscosity, phase transition temperature, and orientation uniformity of the polymerizable liquid crystal composition, film properties of the optically anisotropic layer, and adjusting optical properties, a non-polymerizable liquid crystal compound may be used. The non-polymerizable liquid crystal compound may be a low molecular liquid crystal compound. In addition, the non-polymerizable liquid crystal compound may be a main chain type liquid crystal polymer or a side chain type liquid crystal polymer.

중합성 액정 조성물의 포트 라이프 부여, 및 광학 이방성층의 내구성 향상 등의 관점에서, 중합 금지제, 산화 방지제, 및 자외선 흡수제 등을 사용해도 된다.You may use a polymerization inhibitor, an antioxidant, a ultraviolet absorber, etc. from a viewpoint of providing pot life of a polymeric liquid crystal composition, and improving durability of an optically anisotropic layer.

추가적인 기능 부여, 액물성의 조정, 및 막물성의 조정 등의 관점에서, 가소제, 리타데이션 조정제, 이색성 색소, 형광 색소, 포토 크로믹 색소, 서모 크로믹 색소, 광이성화 재료, 광이량화 재료, 나노 입자, 및 칙소제 등을 첨가해도 된다.From the viewpoint of imparting additional functions, adjusting liquid properties, and adjusting film properties, etc., plasticizers, retardation regulators, dichroic dyes, fluorescent dyes, photochromic dyes, thermochromic dyes, photoisomerization materials, photodimerization materials , nanoparticles, and a thixotropic agent may be added.

이와 같은 중합성 액정 조성물을 이용하여 형성되는 미경화층은, 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도가 80℃ 이하가 되는 것이 바람직하고, 예를 들면 필름 콘트라스트 및 패널 콘트라스트가 보다 양호해지는 관점에서 70℃ 이상 80℃ 미만이 되는 것이 보다 바람직하다.The uncured layer formed using such a polymerizable liquid crystal composition preferably has a phase transition temperature of 80° C. or lower between the smectic phase and the nematic phase, for example, from the viewpoint of improving film contrast and panel contrast, 70° C. It is more preferable to be more than °C and less than 80 °C.

〔광학 이방성층〕[Optical anisotropic layer]

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 0.1~10μm가 바람직하고, 0.5~5μm가 보다 바람직하다.Although the thickness of the optically anisotropic layer produced by the manufacturing method of this invention is not specifically limited, 0.1-10 micrometers are preferable, and 0.5-5 micrometers are more preferable.

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층은, 스멕틱상이 고정화되는 층인 것이 바람직하다.The optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention is preferably a layer in which a smectic phase is immobilized.

광학 이방성층의 적합 양태로서, 포지티브 A 플레이트를 들 수 있다. 포지티브 A 플레이트를 얻기 위해서는, 봉상의 중합성 액정 화합물을 수평 배향시켜 얻는 방법이 있다. 또한, 그 면내 리타데이션 Re(550)을 100~160nm(바람직하게는 120~150nm)로 하면, 양의 일축성 λ/4 플레이트로서 적합하게 사용할 수 있다. 또, Re(550)을 250~300nm의 범위로서 양의 일축성 λ/2 플레이트로서 사용할 수 있다. 여기에서, Re(550)는, 광학 이방성층의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션을 나타낸다. 면내 리타데이션의 값은, AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)을 이용하여 측정할 수 있다.As a preferred embodiment of the optically anisotropic layer, a positive A plate can be cited. In order to obtain a positive A plate, there is a method of horizontally aligning a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound. Further, when the in-plane retardation Re (550) is 100 to 160 nm (preferably 120 to 150 nm), it can be suitably used as a positive uniaxial λ/4 plate. In addition, Re (550) can be used as a positive uniaxial λ/2 plate in the range of 250 to 300 nm. Here, Re(550) represents the in-plane retardation of the optically anisotropic layer at a wavelength of 550 nm. The value of in-plane retardation can be measured using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Opto Science Co., Ltd.).

광학 이방성층 외의 적합 양태로서, 포지티브 C 플레이트를 들 수 있다. 포지티브 C 플레이트를 얻기 위해서는, 봉상의 중합성 액정 화합물을 수직 배향시켜 얻는 방법이 있다. 그 두께 방향 리타데이션 Rth(550)은, 예를 들면 20~200nm이며, 다양한 광학 보상 기능 및/또는 시야각 향상 기능 등을 부여하는 관점에서, 50~120nm가 바람직하다.As a suitable aspect other than the optically anisotropic layer, a positive C plate may be mentioned. In order to obtain a positive C plate, there is a method of vertically aligning rod-shaped polymerizable liquid crystal compounds. The thickness direction retardation Rth (550) is, for example, 20 to 200 nm, and is preferably 50 to 120 nm from the viewpoint of providing various optical compensation functions and/or viewing angle enhancement functions.

그 외에도, 광학 이방성층은, 네거티브 A 플레이트 또는 네거티브 C 플레이트 등이어도 된다.In addition, the optically anisotropic layer may be a negative A plate or a negative C plate.

또한, 본 명세서에 있어서, A 플레이트는 이하와 같이 정의된다.In addition, in this specification, A plate is defined as follows.

A 플레이트는, 포지티브 A 플레이트(양의 A 플레이트)와 네거티브 A 플레이트(음의 A 플레이트)와의 2종이 있고, 필름면 내의 지상축 방향(면내에서의 굴절률이 최대가 되는 방향)의 굴절률을 nx, 면내의 지상축과 면내에서 직교하는 방향의 굴절률을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz로 했을 때, 포지티브 A 플레이트는 식 (A1)의 관계를 충족시키는 것이며, 네거티브 A 플레이트는 식 (A2)의 관계를 충족시키는 것이다. 또한, 포지티브 A 플레이트는 Rth가 양의 값을 나타내고, 네거티브 A 플레이트는 Rth가 음의 값을 나타낸다.There are two types of A plate, positive A plate (positive A plate) and negative A plate (negative A plate), and the refractive index in the slow axis direction within the film plane (the direction in which the refractive index within the plane becomes the maximum) is nx, When the refractive index in the direction perpendicular to the in-plane slow axis and the in-plane direction is ny and the refractive index in the thickness direction is nz, the positive A plate satisfies the relationship of equation (A1), and the negative A plate has the relationship of equation (A2) is to satisfy In addition, the positive A plate shows a positive Rth value, and the negative A plate shows a negative Rth value.

식 (A1) nx>ny≒zEquation (A1) nx>ny≒z

식 (A2) ny<nx≒zEquation (A2) ny<nx≒z

또한, 상기 "≒"이란, 양자가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 양자가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. "실질적으로 동일"이란, 예를 들면 (ny-nz)×d(단, d는 필름의 두께임)가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "ny≒nz"에 포함되고, (nx-nz)×d가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "nx≒nz"에 포함된다.In addition, the said "≒" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. "Substantially the same" means "ny≒nz" even when (ny-nz) x d (where d is the thickness of the film) is -10 to 10 nm, preferably -5 to 5 nm, for example. In addition, the case where (nx-nz) x d is -10 to 10 nm, preferably -5 to 5 nm is also included in "nx ≈ nz".

C 플레이트는, 포지티브 C 플레이트(양의 C 플레이트)와 네거티브 C 플레이트(음의 C 플레이트)와의 2종이 있고, 포지티브 C 플레이트는 식 (C1)의 관계를 충족시키는 것이며, 네거티브 C 플레이트는 식 (C2)의 관계를 충족시키는 것이다. 또한, 포지티브 C 플레이트는 Rth가 음의 값을 나타내고, 네거티브 C 플레이트는 Rth가 양의 값을 나타낸다.There are two types of C plate, a positive C plate (positive C plate) and a negative C plate (negative C plate). ) to satisfy the relationship. In addition, the positive C plate shows a negative Rth value, and the negative C plate shows a positive Rth value.

식 (C1) nz>nx≒nyEquation (C1) nz>nx≒ny

식 (C2) nz<nx≒nyEquation (C2) nz<nx≒ny

또한, 상기 "≒"이란, 양자가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 양자가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. "실질적으로 동일"이란, 예를 들면 (nx-ny)×d(단, d는 필름의 두께임)가, 0~10nm, 바람직하게는 0~5nm인 경우도 "nx≒ny"에 포함된다.In addition, the said "≒" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. “Substantially the same” also includes “nx≒ny” when (nx−ny)×d (where d is the thickness of the film) is 0 to 10 nm, preferably 0 to 5 nm, for example. .

또, 중합성 액정 조성물에 사용하는 중합성 액정 화합물 및 그 외의 성분의 종류 및 사용량 등을 조정하여, 광학 이방성의 파장 분산성을 적절히 조정할 수 있다.In addition, the optical anisotropic wavelength dispersion can be appropriately adjusted by adjusting the type and usage amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition and other components.

또, 광학 이방성층은, 역파장 분산성을 나타내는 것이 바람직하다. 예를 들면, 광학 이방성층이, 하기 식 (II)의 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.Further, the optically anisotropic layer preferably exhibits reverse wavelength dispersion. For example, it is preferable that the optically anisotropic layer satisfy the relationship of the following formula (II).

Δn(450)/n(550)<1.00…(II)Δn(450)/n(550)<1.00... (II)

여기에서, 식 (II) 중, Δn(450)은, 광학 이방성층의 파장 450nm에 있어서의 굴절률 최대 방향과 그 직교 방향의 굴절률 차를 나타내고, Δn(550)은, 광학 이방성층의 파장 550nm에 있어서의 굴절률 최대 방향과 그 직교 방향의 굴절률 차를 나타낸다.Here, in Formula (II), Δn(450) represents the refractive index difference between the direction of the maximum refractive index in the optically anisotropic layer at a wavelength of 450 nm and the direction orthogonal thereto, and Δn(550) is the optically anisotropic layer at a wavelength of 550 nm Represents the difference in refractive index between the direction of maximum refractive index and the direction perpendicular thereto.

〔적층체〕[Laminate]

상술과 같이, 미경화층은, 지지체 등 상에 배치되어도 된다. 즉, 본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층은, 광학 이방성층 이외의 층과 함께, 적층체를 구성하고 있어도 된다.As described above, the uncured layer may be disposed on a support or the like. That is, the optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention may constitute a laminate together with layers other than the optically anisotropic layer.

<지지체><support>

지지체로서는 특별히 한정은 없고, 그중에서도 연속 생산을 가능하게 하는 점에서, 장척상의 폴리머 필름이 바람직하다.There is no limitation in particular as a support body, Among them, a long polymer film is preferable from the point which enables continuous production.

폴리머 필름으로서는, 폴리프로필렌, 및 노보넨계 폴리머 등의 폴리올레핀·환상 올레핀계 수지; 폴리바이닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리뷰틸렌테레프탈레이트, 및 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터 수지; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 폴리메타크릴산 에스터·폴리아크릴산 에스터; 트라이아세틸셀룰로스, 다이아세틸세룰로스, 및 세룰로스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로스에스터; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트 및, 이들의 공중합체 등을 필름화한 폴리머 필름을 들 수 있다. 이들 폴리머 필름은, 인장 탄성률, 휨 탄성율, 평행 광선 투과율, 헤이즈, 광학 이방성, 광학 등방성, 역박리성, 및 역접착성 등의 관점에 근거하여 적절히 선택할 수 있다.Examples of the polymer film include polyolefin/cyclic olefin resins such as polypropylene and norbornene polymers; polyvinyl alcohol; polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polymethacrylic acid ester/polyacrylic acid ester such as polymethyl methacrylate; cellulose esters such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; Polycarbonate and a polymer film obtained by forming a film of these copolymers and the like are exemplified. These polymer films can be appropriately selected based on viewpoints such as tensile modulus, flexural modulus, parallel light transmittance, haze, optical anisotropy, optical isotropy, reverse peelability, and easy adhesiveness.

본 발명에 있어서, 배향이 균일한 광학 이방성층을 얻는 점에서, 중합성 액정 조성물을 직접 지지체에 도포하여 광학 이방성층을 형성하는 경우에 있어서의, 지지체의 도포 측 표면은 평활한 것이 바람직하고, 그 표면 조도 Ra는 3~50nm가 바람직하다.In the present invention, in order to obtain an optically anisotropic layer having a uniform orientation, in the case of forming an optically anisotropic layer by directly applying a polymerizable liquid crystal composition to a supporter, the surface of the supporter on the application side is preferably smooth, The surface roughness Ra is preferably 3 to 50 nm.

또, 장척상의 폴리머 필름을 이용함에 있어서는, 제조한 적층체를 권취한 권회체의 상태에 있어서, 적층체의 표면끼리의 형상 전사 및 블로킹 현상 등을 방지하는 점에서, 지지체에 있어서의 중합성 액정 조성물을 도포한 면과는 반대 측의 표면에, 안티 블로킹 처리 또는 매트 처리 등을 행해도 된다. 또, 적층체의 단부(端部)에 나링을 마련해도 된다.In addition, in using a long polymer film, in the state of a winding body in which the manufactured laminate is wound, from the point of preventing shape transfer and blocking phenomenon between the surfaces of the laminate, the polymerizable liquid crystal in the support An anti-blocking treatment or a mat treatment may be performed on the surface on the opposite side of the surface to which the composition is applied. Moreover, you may provide a knurling at the edge part of a laminated body.

또, 지지체는, 박리 가능한 것도 바람직하다. 이때, 지지체 상에 광학 이방성층을 직접 마련하고 있는 경우는 지지체와 광학 이방성층과의 계면에서 박리할 수 있는 것이 바람직하다. 또, 지지체와 광학 이방성층의 사이에 후술하는 배향층 및/또는 그 외의 층(중간층)이 마련되어 있는 경우는, 지지체와 광학 이방성층의 사이의 임의의 계면 혹은 층 내에서 박리할 수 있는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the support body can be peeled off. At this time, when the optically anisotropic layer is directly provided on the support, it is preferable that the support and the optically anisotropic layer can be separated from the interface. In addition, when an orientation layer and/or other layers (intermediate layers) described below are provided between the support and the optically anisotropic layer, it is preferable that the support and the optically anisotropic layer can be separated at any interface or within the layer. do.

<배향막><Alignment layer>

배향성이 보다 우수한 광학 이방성층을 얻기 쉽다는 점에서, 지지체 상에 배향막을 마련하고, 배향막 상에 상술한 광학 이방성층을 더 마련하는 것이 바람직하다.It is preferable to provide an orientation film on a support and further provide the above-mentioned optically anisotropic layer on the orientation film from the viewpoint of easiness to obtain an optically anisotropic layer having better orientation.

배향막에는, 공지의 다양한 배향막을 사용할 수 있고, 예를 들면 폴리머 등의 유기 화합물로 이루어지는 러빙막(러빙 배향막), 무기 화합물의 사방 증착막, 마이크로 그루브를 갖는 막, 및 유기 화합물(예를 들면, ω-트리코산산, 다이옥타데실메틸암모늄클로라이드, 또는 스테아릴산 메틸 등)을 이용하여 랭뮤어·블로젯법으로 형성한 LB막(랭뮤어·블로젯막)을 누적시킨 막 등을 들 수 있다.As the alignment film, various well-known alignment films can be used. For example, a rubbing film made of an organic compound such as a polymer (rubbing alignment film), an inorganic compound deposited in all directions, a film having microgrooves, and an organic compound (for example, ω - a film in which an LB film (Langmuir-Blodgett film) formed by the Langmuir-Blodgett method using trichosanoic acid, dioctadecylmethylammonium chloride, or methyl stearate, etc., is stacked; and the like.

이물에 기인하는 배향 결함을 미리 방지하는 관점에서, 배향막으로서는, 광배향막도 바람직하다.A photo-alignment film is also preferable as the alignment film from the viewpoint of preventing alignment defects caused by foreign matter in advance.

러빙 배향막으로서는, 예를 들면 폴리이미드, 폴리바이닐알코올, 일본 공개특허공보 평9-152509호에 기재된 중합성기를 갖는 폴리머 등의 도막, 및 일본 공개특허공보 2005-097377호, 일본 공개특허공보 2005-099228호, 및 일본 공개특허공보 2005-128503호에 기재된 배향막 등을 들 수 있다.As the rubbing alignment film, for example, polyimide, polyvinyl alcohol, a coating film such as a polymer having a polymerizable group described in JP-A-9-152509, JP-A-2005-097377, JP-A-2005- Orientation film of No. 099228, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-128503, etc. are mentioned.

본 발명에 이용 가능한 광배향막에 이용되는 광배향막 형성용 조성물로서는, 다수의 문헌 등에 기재가 있다. 예를 들면, WO08/056597호, 일본 공개특허공보 2008-076839호, 및 일본 공개특허공보 2009-109831호에 기재된 아조 화합물을 이용한 재료; 일본 공개특허공보 2012-155308호, 일본 공개특허공보 2014-026261호, 일본 공개특허공보 2014-123091호, 및 일본 공개특허공보 2015-026050호에 기재된 광배향성 폴리오가노실록세인 복합 재료; 일본 공개특허공보 2012-234146에 기재된 신남산기 함유 셀룰로스에스터 재료; 일본 공개특허공보 2012-145660호, 및 일본 공개특허공보 2013-238717호에 기재된 광 프리스 전위 반응 혹은 그 유사 반응을 이용한 재료; 일본 공개특허공보 2016-071286호, 일본 특허공표공보 2013-518296호, 일본 특허공표공보 2014-533376호, 일본 특허공표공보 2016-535158호, WO10/150748호, WO11/126022호, WO13/054784호, WO14/104320호, 및 WO16/002722호에 기재된 광이량화 가능한 화합물(예를 들면, 신나메이트 화합물, 칼콘 화합물, 및/또는 쿠마린 화합물을 각종 폴리머에 팬던트시킨 재료) 등을, 광배향막 형성용 조성물에 사용할 수 있다.As a composition for forming a photo-alignment layer used in the photo-alignment layer that can be used in the present invention, there are descriptions in many literatures and the like. materials using an azo compound described in, for example, WO08/056597, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-076839, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-109831; photo-alignment polyorganosiloxane composite materials described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-155308, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-026261, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-123091, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-026050; The cellulose ester material containing a cinnamic acid group of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-234146; Materials using the optical fleece dislocation reaction described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-145660, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-238717 or similar reactions thereof; Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-071286, Japanese Patent Publication No. 2013-518296, Japanese Patent Publication No. 2014-533376, Japanese Patent Publication No. 2016-535158, WO10/150748, WO11/126022, WO13/054784 , WO14/104320, and WO16/002722 for photodimerization-capable compounds (for example, cinnamate compounds, chalcone compounds, and/or coumarin compounds pendant materials in various polymers), etc., for forming photo-alignment films. can be used in the composition.

그중에서도, 광배향에 필요한 조사 에너지 및 배향 규제력 등의 관점에서, 아조기의 광이성화 반응을 이용하는 광배향막, 또는 신나메이트 화합물의 광반응을 이용하는 광배향막이 바람직하다.Among them, from the viewpoint of irradiation energy required for photo-alignment, orientation control force, etc., a photo-alignment film using a photoisomerization reaction of an azo group or a photo-alignment film using a photoreaction of a cinnamate compound is preferable.

배향막 형성용 조성물은, 필요에 따라 가교제, 바인더, 가소제, 증감제, 가교 촉매, 밀착력 조정제, 및 레벨링제 등을 포함하고 있어도 된다.The composition for forming an alignment film may contain a crosslinking agent, a binder, a plasticizer, a sensitizer, a crosslinking catalyst, an adhesion modifier, a leveling agent, and the like as needed.

배향막의 두께는 특별히 한정은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들면 10~1000nm가 바람직하고, 10~300nm가 보다 바람직하다. 배향막의 표면 조도는 상술한 바와 같다.The thickness of the alignment film is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and is, for example, preferably 10 to 1000 nm, and more preferably 10 to 300 nm. The surface roughness of the alignment layer is as described above.

<그 외의 층(중간층)><Other floors (middle floors)>

상기 적층체는, 필요에 따라 그 외의 층을 더 포함해도 된다. 예를 들면, 평활화층, 역접착층, 역박리층, 차광층, 착색층, 형광층, 산소 배리어층, 및 수증기 배리어층 등을 들 수 있다. 이와 같은 층의 기능을 하나 이상 갖는 층을 중간층이라고 총칭한다. 중간층은, 상술한 바와 같은 기능 이외의 기능을 갖는 층이어도 된다.The said layered product may further contain other layers as needed. For example, a smoothing layer, an easy adhesion layer, a reverse peeling layer, a light shielding layer, a coloring layer, a fluorescent layer, an oxygen barrier layer, and a water vapor barrier layer. A layer having one or more of the functions of such a layer is collectively referred to as an intermediate layer. The intermediate layer may be a layer having functions other than those described above.

중간층을, 예를 들면 지지체와 광학 이방성층의 사이, 및/또는 지지체와 상술한 배향막의 사이 등에 마련하고, 다양한 기능을 발현시킬 수 있다.An intermediate layer can be provided between the support and the optically anisotropic layer, and/or between the support and the above-mentioned alignment film, for example, to express various functions.

〔편광판〕[Polarizer]

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층은, 편광판에 도입하여 사용하는 것도 바람직하다. 바꾸어 말하면, 상기 적층체가 편광판인 것도 바람직하다.It is also preferable to use the optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention by introducing it into a polarizing plate. In other words, it is also preferable that the laminate is a polarizing plate.

상기 편광판은, 적어도 본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층과 편광자를 갖는다. 상기 편광판은, 원편광판이어도 된다.The said polarizing plate has at least the optically anisotropic layer manufactured by the manufacturing method of this invention, and a polarizer. The polarizing plate may be a circular polarizing plate.

<편광자><Polarizer>

편광자는, 광을 특정의 직선 편광으로 변환하는 기능을 갖는 부재이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 흡수형 편광자 및 반사형 편광자를 이용할 수 있다.The polarizer is not particularly limited as long as it is a member having a function of converting light into specific linearly polarized light, and conventionally known absorption-type polarizers and reflection-type polarizers can be used.

흡수형 편광자로서는, 아이오딘계 편광자, 이색성 염료를 이용한 염료계 편광자, 및 폴리엔계 편광자 등이 이용된다. 아이오딘계 편광자 및 염료계 편광자에는, 도포형 편광자와 연신형 편광자가 있으며, 모두 적용할 수 있지만, 폴리바이닐알코올에 아이오딘 또는 이색성 염료를 흡착시켜, 연신하여 제작되는 편광자가 바람직하다.As the absorption type polarizer, an iodine-based polarizer, a dye-based polarizer using a dichroic dye, a polyene-based polarizer, and the like are used. An iodine-based polarizer and a dye-based polarizer include a coating type polarizer and a stretching type polarizer, and both can be applied, but a polarizer produced by adsorbing iodine or a dichroic dye to polyvinyl alcohol and stretching is preferable.

또, 기재 상에 폴리바이닐알코올층을 형성한 적층 필름 상태에서 연신 및 염색을 실시하여 편광자를 얻는 방법으로서, 일본 특허공보 제5048120호, 일본 특허공보 제5143918호, 일본 특허공보 제5048120호, 일본 특허공보 제4691205호, 일본 특허공보 제4751481호, 및 일본 특허공보 제4751486호 등을 들 수 있고, 이들 편광자에 관한 공지의 기술도 바람직하게 이용할 수 있다.In addition, as a method of obtaining a polarizer by performing stretching and dyeing in the state of a laminated film in which a polyvinyl alcohol layer is formed on a substrate, Japanese Patent Publication No. 5048120, Japanese Patent Publication No. 5143918, Japanese Patent Publication No. 5048120, Japan Patent Publication No. 4691205, Japanese Patent Publication No. 4751481, Japanese Patent Publication No. 4751486, etc. are mentioned, and well-known techniques concerning these polarizers can also be used suitably.

반사형 편광자로서는, 복굴절이 다른 박막을 적층한 편광자, 와이어 그리드형 편광자, 선택 반사역을 갖는 콜레스테릭 액정과 1/4파장판을 조합한 편광자 등이 이용된다.As the reflective polarizer, a polarizer in which thin films having different birefringences are laminated, a wire-grid polarizer, a polarizer in which a cholesteric liquid crystal having a selective reflection region and a quarter-wave plate are combined, and the like are used.

편광자의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 3~60μm가 바람직하고, 5~30μm가 보다 바람직하며, 5~15μm가 더 바람직하다.Although the thickness of a polarizer is not specifically limited, 3-60 micrometers are preferable, 5-30 micrometers are more preferable, and 5-15 micrometers are more preferable.

<편광판이 갖는 광학 이방성층><Optical anisotropic layer of polarizing plate>

상기 편광판은, 2종 이상의 광학 이방성층을 갖고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the said polarizing plate has 2 or more types of optically anisotropic layers.

이 경우, 편광자가 갖는, 상기 2종 이상의 광학 이방성층 중 적어도 1종이 본 발명의 제조 방법으로 제조된 광학 이방성층이면 되고, 그 이외의 광학 이방성층은, 본 발명의 제조 방법 이외의 방법으로 제조된 광학 이방성층("그 외의 광학 이방성층"이라고도 함)이어도 된다.In this case, at least one of the two or more optically anisotropic layers of the polarizer may be an optically anisotropic layer produced by the production method of the present invention, and the other optically anisotropic layers are manufactured by a method other than the production method of the present invention. may be an optically anisotropic layer (also referred to as “other optically anisotropic layer”).

예를 들면, 편광판이, 포지티브 A 플레이트와 포지티브 C 플레이트를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 포지티브 A 플레이트는, 본 발명의 제조 방법으로 제조된 광학 이방성층이 바람직하고, 상기 포지티브 C 플레이트는, 본 발명의 제조 방법으로 제조된 광학 이방성층 또는 그 외의 광학 이방성층이 바람직하다.For example, it is preferable that the polarizing plate has a positive A plate and a positive C plate. In this case, the positive A plate is preferably an optically anisotropic layer manufactured by the manufacturing method of the present invention, and the positive C plate is preferably an optically anisotropic layer manufactured by the manufacturing method of the present invention or another optically anisotropic layer. .

또한, 상기 포지티브 A 플레이트와 포지티브 C 플레이트를 갖는 편광판이, 다른 광학 이방성층을 더 갖고 있어도 된다.Moreover, the polarizing plate which has the said positive A plate and positive C plate may further have another optically anisotropic layer.

편광판을 제조함에 있어서, 편광자 상에 중합성 액정 조성물을 도포하는 등 하여, 편광자 상에 직접, 광학 이방성층을 배치해도 된다.In manufacturing a polarizing plate, you may arrange|position an optically anisotropic layer directly on a polarizer by apply|coating a polymeric liquid crystal composition on a polarizer, etc.

또, 예를 들면 편광자와 광학 이방성층이, 하나 이상의 다른 층(접착층 또는 그 외의 광학 이방성층 등)을 개재하여 접합되어 있어도 된다.Moreover, for example, the polarizer and the optically anisotropic layer may be bonded through one or more other layers (adhesive layer or other optically anisotropic layer, etc.).

〔화상 표시 장치〕[Image display device]

본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층은, 화상 표시 장치에 사용되어도 된다. 광학 이방성층은 상기 편광판에 도입된 형태로 사용되어도 된다.The optically anisotropic layer produced by the manufacturing method of the present invention may be used for an image display device. The optically anisotropic layer may be used in the form introduced into the polarizing plate.

상기 화상 표시 장치에 이용되는 표시 소자는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 액정 셀, 유기 일렉트로 루미네선스(이하, "EL"이라고 약기함) 패널, 및 플라즈마 디스플레이 패널 등을 들 수 있다.The display element used in the image display device is not particularly limited, and examples thereof include a liquid crystal cell, an organic electroluminescence (hereinafter abbreviated as "EL") panel, and a plasma display panel.

이들 중, 액정 셀 또는 유기 EL 표시 패널이 바람직하다. 즉, 상기 화상 표시 장치로서는, 표시 소자로서 액정 셀을 이용한 액정 표시 장치, 또는 표시 소자로서 유기 EL 패널을 이용한 유기 EL 표시 장치가 바람직하다.Among these, a liquid crystal cell or an organic EL display panel is preferable. That is, as the image display device, a liquid crystal display device using a liquid crystal cell as a display element or an organic EL display device using an organic EL panel as a display element is preferable.

<액정 표시 장치><Liquid crystal display device>

화상 표시 장치의 일례인 액정 표시 장치는, 예를 들면 상술한 편광판과, 액정 셀을 갖는 액정 표시 장치가 바람직하다.The liquid crystal display device that is an example of the image display device is preferably a liquid crystal display device having, for example, the above-described polarizing plate and a liquid crystal cell.

액정 셀은, VA(Virtical Alignment) 모드, OCB(Optical Compensated Bend) 모드, IPS(In-Place-Switching) 모드, 또는 TN(Twisted Nematic) 등을 들 수 있다. 또 그 이외의 방식이어도 된다. 액정 셀에 맞춘 광학 보상 구성 및/또는 휘도 향상 구성에, 본 발명의 제조 방법으로 제조되는 광학 이방성층을 적용하여 조합하여, 우수한 광시야각 특성, 흑표시의 광누출 방지, 및 고휘도 표시 등을 실현할 수 있다.As for a liquid crystal cell, VA (Virtical Alignment) mode, OCB (Optical Compensated Bend) mode, IPS (In-Place-Switching) mode, TN (Twisted Nematic), etc. are mentioned. Moreover, a method other than that may be sufficient. By combining an optical compensation structure and/or a luminance enhancement structure tailored to a liquid crystal cell by applying an optically anisotropic layer produced by the manufacturing method of the present invention, excellent wide viewing angle characteristics, light leakage prevention of black display, and high luminance display can be realized. can

또한, 상기 화상 표시 장치에 있어서는, 액정 셀의 양측에 마련되는 편광판 중, 프론트 측의 편광판으로서 상기 편광판을 이용하는 것이 바람직하고, 프론트 측 및 리어 측의 편광판으로서 상기 편광판을 이용하는 것이 보다 바람직하다.In the image display device, among the polarizing plates provided on both sides of the liquid crystal cell, it is preferable to use the polarizing plate as the front-side polarizing plate, and more preferably to use the polarizing plate as the front-side and rear-side polarizing plates.

<유기 EL 표시 장치><Organic EL display device>

화상 표시 장치의 일례인 유기 EL 표시 장치는, 유기 EL 표시 패널과, 유기 EL 표시 패널 상에 배치된 원편광판을 포함하는 유기 EL 표시 장치가 바람직하다. 여기에서 사용되는 원편광판은, 상술한 편광판의 일 형태이다.An organic EL display device, which is an example of an image display device, is preferably an organic EL display device including an organic EL display panel and a circularly polarizing plate disposed on the organic EL display panel. The circular polarizing plate used here is one type of the polarizing plate described above.

상기 원편광판을 가짐으로써, 외부광이 유기 EL 패널의 전극 등에 반사되어 표시 콘트라스트를 저하시키는 현상을 억제하여 고화질의 표시를 가능하게 할 수 있다.By having the circular polarizing plate, it is possible to suppress a phenomenon in which external light is reflected on the electrodes of the organic EL panel and thereby lower the display contrast, thereby enabling high-quality display.

유기 EL 패널로서는 공지의 구성을 널리 이용할 수 있다. 또, 터치 패널을 더 구비하고 있어도 된다.A well-known structure can be used widely as an organic electroluminescent panel. Moreover, you may be provided with the touchscreen further.

실시예Example

이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 및 처리 절차 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 실시예에 의하여 한정적으로 해석되지 않는다.The present invention will be described in more detail below based on examples. The materials, usage amount, ratio, processing contents, processing procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limitedly interpreted by the examples shown below.

[실시예 1][Example 1]

<광배향막의 형성><Formation of photo-alignment layer>

(셀룰로스아실레이트 필름 1의 제작)(Production of Cellulose Acylate Film 1)

·코어층 셀룰로스아실레이트 도프의 제작Production of core layer cellulose acylate dope

하기의 조성물을 믹싱 탱크에 투입하여, 교반하고, 각 성분을 용해하여, 코어층 셀룰로스아실레이트 도프로서 이용하는 셀룰로스아세테이트 용액을 조제했다.The following composition was put into a mixing tank, stirred, each component was dissolved, and a cellulose acetate solution used as a core layer cellulose acylate dope was prepared.

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

코어층 셀룰로스아실레이트 도프Core layer cellulose acylate dope

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

·아세틸 치환도 2.88의 셀룰로스아세테이트 100질량부100 parts by mass of cellulose acetate having an acetyl substitution degree of 2.88

·일본 공개특허공보 2015-227955호의 실시예에・In the embodiment of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-227955

기재된 폴리에스터 화합물 B 12질량부12 parts by mass of the described polyester compound B

·하기의 화합물 G 2질량부2 parts by mass of the following compound G

·메틸렌클로라이드(제1 용매) 430질량부・Methylene chloride (first solvent) 430 parts by mass

·메탄올(제2 용제) 64질량부・Methanol (second solvent) 64 parts by mass

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

화합물 Gcompound G

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112020132154226-pct00013
Figure 112020132154226-pct00013

·외층 셀룰로스아실레이트 도프의 제작・Production of outer layer cellulose acylate dope

상기의 코어층 셀룰로스아실레이트 도프 90질량부에 하기의 매트제 용액을 10질량부 첨가하고, 외층 셀룰로스아실레이트 도프로서 이용하는 셀룰로스아세테이트 용액을 조제했다.10 parts by mass of the following mat agent solution was added to 90 parts by mass of the core layer cellulose acylate dope, and a cellulose acetate solution used as an outer layer cellulose acylate dope was prepared.

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

매트제 용액mat solution

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

평균 입자 사이즈 20nm의 실리카 입자Silica particles with an average particle size of 20 nm

(AEROSIL R972, 일본 에어로질(주)제) 2질량부(AEROSIL R972, Nippon Aerosil Co., Ltd.) 2 parts by mass

메틸렌클로라이드(제1 용매) 76질량부76 parts by mass of methylene chloride (first solvent)

메탄올(제2 용제) 11질량부11 parts by mass of methanol (second solvent)

상기의 코어층 셀룰로스아실레이트 도프 1질량부1 part by mass of the above core layer cellulose acylate dope

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

상기 코어층 셀룰로스아실레이트 도프와 상기 외층 셀룰로스아실레이트 도프를 평균 구멍 직경 34μm의 여과지 및 평균 구멍 직경 10μm의 소결 금속 필터로 여과한 후, 상기 코어층 셀룰로스아실레이트 도프와 그 양측에 외층 셀룰로스아실레이트 도프를 3층 동시에 유연구로부터 20℃의 드럼상으로 유연했다(밴드 유연기). 용제 함유율 대략 20질량%의 상태로 박리하여, 필름의 폭방향의 양단을 텐터 클립으로 고정하고, 횡방향으로 연신 배율 1.1배로 연신하면서 건조했다. 그 후, 얻어진 필름을 열처리 장치의 롤 사이를 반송함으로써, 더 건조하여, 두께 40μm의 광학 필름을 제작하고, 이것을 셀룰로스아실레이트 필름 1로 했다. 셀룰로스아실레이트 필름 1의 코어층은 두께 36μm, 코어층의 양측에 배치된 외층은 각각 두께 2μm였다. 얻어진 셀룰로스아실레이트 필름 1의 파장 550nm에 있어서의 면내 리타데이션은 0nm였다.After filtering the core layer cellulose acylate dope and the outer layer cellulose acylate dope with a filter paper having an average pore size of 34 μm and a sintered metal filter having an average pore size of 10 μm, the core layer cellulose acylate dope and the outer layer cellulose acylates on both sides thereof Three layers of dope were simultaneously casted in a drum shape at 20°C from the casting process (band casting machine). It peeled off in the state of about 20 mass % of solvent content, fixed the both ends of the width direction of the film with tenter clips, and dried, extending|stretching at a draw ratio of 1.1 times in the transverse direction. Then, by conveying the obtained film between the rolls of a heat treatment apparatus, it further dried, produced the optical film of 40 micrometers in thickness, and made this the cellulose acylate film 1. The core layer of the cellulose acylate film 1 had a thickness of 36 µm, and the outer layers arranged on both sides of the core layer had a thickness of 2 µm, respectively. The in-plane retardation in the wavelength of 550 nm of the obtained cellulose acylate film 1 was 0 nm.

얻어진 셀룰로스아실레이트 필름 1을 형성용 가지지체로 했다.The obtained cellulose acylate film 1 was made into the temporary support body for formation.

(광배향막의 제작)(Manufacture of photo-alignment layer)

형성용 가지지체인 셀룰로스아실레이트 필름 1의 표면에, 하기의 광배향막 형성용 도포액을 #2 와이어 바로 도포하고, 60℃의 온풍으로 60초 건조하여, 도막을 제작했다.On the surface of cellulose acylate film 1, which is a temporary support for formation, the following coating liquid for forming an optical alignment film was applied with a #2 wire bar, and dried for 60 seconds with warm air at 60°C to prepare a coating film.

750mW/cm2의 초고압 수은 램프(UL750, HOYA CANDEO OPTRONICS 주식회사제)를 이용하여, 공기하에서, 제작한 도막에 자외선을 수직으로 조사했다. 또한, 자외선의 조도는 UV-A 영역(파장 320~380nm의 적산)에 있어서 5mW/cm2, 조사량은 UV-A 영역에 있어서 50mJ/cm2로 했다.Using a 750 mW/cm 2 ultra-high pressure mercury lamp (UL750, manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.), ultraviolet rays were vertically irradiated to the produced coating film in air. In addition, the illuminance of the ultraviolet rays was 5 mW/cm 2 in the UV-A region (integration of wavelengths 320 to 380 nm), and the irradiation amount was 50 mJ/cm 2 in the UV-A region.

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

광배향막 형성용 도포액Coating solution for forming an optical alignment layer

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

하기 광배향용 소재 1질량부1 part by mass of the material for photo-alignment described below

물 16질량부16 parts by mass of water

뷰톡시에탄올 42질량부42 parts by mass of butoxyethanol

프로필렌글라이콜모노메틸에터 42질량부42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

광배향용 소재: Materials for photo-alignment:

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112020132154226-pct00014
Figure 112020132154226-pct00014

<광학 이방성층 A-1의 제작><Production of optically anisotropic layer A-1>

하기의 중합성 액정 조성물 A를 슬라이드 글라스의 표면에 도포하고, 중합성 액정 조성물 A로부터 형성된 미경화층을 가열하면서 편광 현미경으로 관찰했다. 그 결과, 미경화층의 강온 시에 있어서의 아이소트로픽(등방상)-네마틱상의 전이 온도(이하, "TNI"라고도 표기함)는 128℃, 네마틱상-스멕틱상의 상전이 온도(이하, "TSmN"라고도 표기함)는 73℃였다. 또, 50℃ 이하의 온도로 유지하는 것에 의하여, 서서히 결정이 발생했다. 또, 승온 시에 있어서의, TSmN은 74℃였다.The following polymerizable liquid crystal composition A was applied to the surface of a slide glass, and the uncured layer formed from the polymerizable liquid crystal composition A was observed under a polarizing microscope while heating. As a result, the transition temperature of the isotropic (isotropic phase)-nematic phase (hereinafter also referred to as "TNI") at the time of temperature reduction of the uncured layer is 128 ° C., the phase transition temperature of the nematic phase-smectic phase (hereinafter referred to as "TNI"). TSmN") was 73°C. In addition, by maintaining the temperature at 50°C or lower, crystals were gradually generated. Moreover, TSmN at the time of temperature increase was 74 degreeC.

또한, X선 회절(X­ray diffraction: XRD) 측정으로부터, 이 스멕틱상은, 층 구조와 액정 화합물이 직교하고, 층 내에서 질서를 갖지 않는 스멕틱 A상이었다.Further, from an X-ray diffraction (XRD) measurement, this smectic phase was a smectic A phase in which the layer structure and the liquid crystal compound were orthogonal and had no order in the layer.

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

중합성 액정 조성물 APolymeric liquid crystal composition A

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

하기 액정 화합물 L-1 57.5질량부57.5 parts by mass of the following liquid crystal compound L-1

하기 액정 화합물 L-2 30질량부30 parts by mass of the following liquid crystal compound L-2

하기 액정 화합물 L-3 12.5질량부12.5 parts by mass of the following liquid crystal compound L-3

광중합 개시제 1(하기 화합물 PI-1) 0.5질량부Photopolymerization initiator 1 (compound PI-1 below) 0.5 parts by mass

하기 함불소 화합물 F-1 0.2질량부0.2 parts by mass of the following fluorine-containing compound F-1

사이클로펜탄온 227.1질량부Cyclopentanone 227.1 parts by mass

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

[화학식 15][Formula 15]

Figure 112020132154226-pct00015
Figure 112020132154226-pct00015

화합물 PI-1Compound PI-1

[화학식 16][Formula 16]

Figure 112020132154226-pct00016
Figure 112020132154226-pct00016

스핀 코터를 이용하여 광배향막 상에 중합성 액정 조성물 A를 도포하고, 미경화층을 형성했다(층 형성 공정). 또한, 회전수는 1000~5000rpm의 사이에서, 원하는 두께가 되도록 조절했다.The polymerizable liquid crystal composition A was applied on the photo-alignment layer using a spin coater to form an uncured layer (layer formation step). In addition, rotation speed was adjusted so that it might become desired thickness between 1000-5000 rpm.

이어서, 핫플레이트를 이용하여 미경화층을 80℃(제1 가열 온도)로 가온하여, 네마틱상을 형성하고, 그 온도에서 10초간(제1 가열 유지 시간) 유지했다(네마틱상 형성 공정).Next, the uncured layer was heated to 80° C. (first heating temperature) using a hot plate to form a nematic phase, and maintained at that temperature for 10 seconds (first heating holding time) (nematic phase forming step).

이어서, 핫플레이트를 이용하여, 미경화층을 제1 가열 온도부터 강온 레이트 40℃/분으로 65℃(냉각 온도)까지 냉각하여, 스멕틱상을 형성했다(냉각 공정).Next, using a hot plate, the uncured layer was cooled from the first heating temperature to 65°C (cooling temperature) at a cooling rate of 40°C/min to form a smectic phase (cooling step).

그 후, 냉각 유지 시간을 10초간으로 하고 그 온도에서 유지했다.Thereafter, the cooling holding time was set to 10 seconds and maintained at that temperature.

이어서, 65℃(냉각 온도)의 미경화층에 대하여, 질소 분위기하에서 공랭 메탈할라이드 램프(아이그래픽스(주)제)를 이용하여 30mJ/cm2(파장 300~390nm의 적산 노광량)의 자외선을 조사(제1 노광 처리)하고 반경화층으로 했다(제1 중합 공정).Next, the uncured layer at 65°C (cooling temperature) is irradiated with ultraviolet rays of 30 mJ/cm 2 (integrated exposure amount with a wavelength of 300 to 390 nm) using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) in a nitrogen atmosphere. (1st exposure process), and it was set as the semi-hardened layer (1st polymerization process).

이어서, 질소 분위기하에 유지한 채로, 핫플레이트를 이용하여, 평균 승온 레이트 100℃/분으로, 반경화층을 120℃(제2 가열 온도)로 가온하고, 제2 가열 온도를 유지한 상태에서 공랭 메탈할라이드 램프(아이그래픽스(주)제)를 더 이용하여, 500mJ/cm2(파장 300~390nm의 적산 노광량)의 자외선을 조사(제2 노광 처리)하며 액정상의 배향 상태를 고정했다(제2 중합 공정). 이로써, 형성용 가지지체, 광배향막, 및 광학 이방성층 A-1을 포함하는 필름 A-1(필름 1)을 얻었다.Subsequently, while maintaining in a nitrogen atmosphere, using a hot plate, the semi-cured layer was heated to 120 ° C. (second heating temperature) at an average heating rate of 100 ° C./min, and the air-cooled metal was heated while maintaining the second heating temperature. A halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) was further used, and ultraviolet rays of 500 mJ/cm 2 (a cumulative dose of a wavelength of 300 to 390 nm) were irradiated (second exposure treatment) to fix the alignment state of the liquid crystal phase (second polymerization). process). Thus, a film A-1 (film 1) containing the temporary support for formation, the photo-alignment film, and the optically anisotropic layer A-1 was obtained.

형성한 광학 이방성층 A-1의 두께는 2.3μm였다. 또, 형성한 광학 이방성층 A-1을 AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)을 이용하여 광학 이방성을 측정했는데, Re(550)이 144nm, Rth(550)이 72nm, Re(450)/Re(550)이 0.87이었다.The thickness of the formed optically anisotropic layer A-1 was 2.3 µm. In addition, the optical anisotropy of the formed optical anisotropic layer A-1 was measured using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Opto Science), Re (550) was 144 nm, Rth (550) was 72 nm, Re (450) / Re ( 550) was 0.87.

[실시예 2~19, 비교예 1~5(광학 이방성층 A-2~A-24의 제작)][Examples 2 to 19, Comparative Examples 1 to 5 (production of optically anisotropic layers A-2 to A-24)]

각 절차의 조건을 후단에 나타내는 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 필름 1의 제작 절차에 따라, 광학 이방성층 A-2~A-24를 각각 포함하는 필름 A-2~A-24(필름 2~24)를 제작했다.Except for changing the conditions of each procedure as shown in Table 1 shown later, according to the production procedure of Film 1, films A-2 to A-24 (film 2) each containing optically anisotropic layers A-2 to A-24. ~24) was produced.

또한, 비교예 1에서는, 제1 노광 처리로 광학 이방성층의 제작을 완료했다.In Comparative Example 1, the first exposure treatment completed the preparation of the optically anisotropic layer.

비교예 2에서는 네마틱상 형성 공정 후, 냉각 공정을 거치지 않고, 즉시 노광을 행하여 광학 이방성층의 제작을 완료했다.In Comparative Example 2, exposure was performed immediately after the nematic phase formation step without passing through the cooling step, and preparation of the optically anisotropic layer was completed.

얻어진 광학 이방성층의 두께, Re(550), Rth(550), 및 Re(450)/Re(550)을 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the thickness, Re(550), Rth(550), and Re(450)/Re(550) of the obtained optically anisotropic layer.

[비교예 6(광학 이방성층 A-25의 제작)][Comparative Example 6 (manufacture of optically anisotropic layer A-25)]

<광학 이방성층의 제작><Production of optically anisotropic layer>

하기의 중합성 액정 조성물 B를 조제했다. 또한, 화합물 L-4는 일본 공개특허공보 2011-207765호의 방법에 따라 합성했다.The following polymerizable liquid crystal composition B was prepared. In addition, compound L-4 was synthesized according to the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-207765.

이어서, 중합성 액정 조성물 B를 슬라이드 글라스의 표면에 도포하고, 중합성 액정 조성물 B로부터 형성된 미경화층을 가열하면서 편광 현미경으로 관찰했다. 그 결과, 미경화층의 승온 시에 있어서, 105℃에서 137℃까지 점성이 높은 중간상을 나타냈다. 액정상의 판별은 곤란했지만, 137℃ 이상에서 명확한 네마틱 액정상을 나타냈다. 네마틱 액정상은 180℃ 이상까지 있으며, 강온 시에 있어서는, 61℃까지 네마틱상을 나타내고 결정화했다.Next, the polymerizable liquid crystal composition B was applied to the surface of the slide glass, and the uncured layer formed from the polymerizable liquid crystal composition B was observed under a polarizing microscope while heating. As a result, when the temperature of the uncured layer was raised, a highly viscous intermediate phase was exhibited from 105°C to 137°C. Although it was difficult to determine the liquid crystal phase, a clear nematic liquid crystal phase was shown at 137°C or higher. The nematic liquid crystal phase existed up to 180°C or higher, and when the temperature fell, the nematic phase was exhibited and crystallized up to 61°C.

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

중합성 액정 조성물 BPolymeric liquid crystal composition B

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

하기 액정 화합물 L-4 29.1질량부29.1 parts by mass of the following liquid crystal compound L-4

광중합 개시제 1(이르가큐어 819, BASF사제) 0.87질량부Photopolymerization initiator 1 (Irgacure 819, manufactured by BASF) 0.87 parts by mass

상기 함불소 화합물 F-1 0.02질량부0.02 parts by mass of the above fluorine-containing compound F-1

사이클로펜탄온 70질량부70 parts by mass of cyclopentanone

------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- ---------------

(액정 화합물 L-4)(liquid crystal compound L-4)

[화학식 17][Formula 17]

Figure 112020132154226-pct00017
Figure 112020132154226-pct00017

스핀 코터를 이용하여 광배향막 상에 중합성 액정 조성물 B를 도포하고, 미경화층을 형성했다(층 형성 공정).The polymerizable liquid crystal composition B was applied on the photo-alignment layer using a spin coater to form an uncured layer (layer formation step).

얻어진 미경화층을 이용하여, 각 절차의 조건을 후단에 나타내는 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 필름 1의 제작 절차에 따라, 광학 이방성층 A-25를 포함하는 필름 A-25(필름 25)를 제작했다.Film A-25 (Film 25) containing the optically anisotropic layer A-25 according to the production procedure of Film 1, except that the conditions of each procedure were changed as shown in Table 1 shown later using the obtained uncured layer. has produced

얻어진 광학 이방성층의 두께, Re(550), Rth(550), 및 Re(450)/Re(550)을 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the thickness, Re(550), Rth(550), and Re(450)/Re(550) of the obtained optically anisotropic layer.

〔포지티브 C 플레이트의 제작〕[Production of positive C plate]

일본 공개특허공보 2015-200861호의 단락 [0124]에 기재된 포지티브 C 플레이트와 동일한 방법으로, 형성용 가지지체 상에 마련한 포지티브 C 플레이트 C-1을 갖는 전사 필름 C1, 형성용 가지지체 상에 마련한 포지티브 C 플레이트 C-2를 갖는 전사 필름 C2를 제작했다. AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)을 이용하여 위상차를 측정했는데, 포지티브 C 플레이트 C-1은 Re(550)=0nm, Rth(550)=-112nm이며, 포지티브 C 플레이트 C-2는 Re(550)=0nm, Rth(550)=-69nm였다. 포지티브 C 플레이트 C-1 및 포지티브 C 플레이트 C-2의 위상차 값의 조정은, 두께를 조정하여 행했다.In the same manner as the positive C plate described in paragraph [0124] of Japanese Laid-open Patent Publication No. 2015-200861, the transfer film C1 having the positive C plate C-1 provided on the temporary support for formation, and the positive C provided on the temporary support for formation. A transfer film C2 having plate C-2 was produced. The phase difference was measured using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Opto Science). Positive C plate C-1 had Re (550) = 0 nm and Rth (550) = -112 nm, and positive C plate C-2 had Re (550 nm). ) = 0 nm, Rth (550) = -69 nm. The phase difference values of the positive C plate C-1 and the positive C plate C-2 were adjusted by adjusting the thickness.

〔편광판의 제작〕[Production of polarizing plate]

지지체인 TD80UL(후지필름사제)의 표면을, 알칼리 비누화 처리했다. 구체적으로는, 상기 지지체를 1.5 규정의 수산화 나트륨 수용액에 55℃에서 2분간 침지하여, 취출한 지지체를 실온의 수세 욕조 중에서 세정하고, 30℃에서 0.1 규정의 황산을 이용하여, 중화했다. 그 후, 재차, 얻어진 지지체를 실온의 수세 욕조 중에서 세정하고, 100℃의 온풍으로 더 건조했다.The surface of TD80UL (manufactured by Fujifilm Corporation) as a support was subjected to alkali saponification treatment. Specifically, the support was immersed in a 1.5N sodium hydroxide aqueous solution at 55°C for 2 minutes, and the taken out support was washed in a room temperature water bath and neutralized at 30°C using 0.1N sulfuric acid. Thereafter, the obtained support was washed again in a water washing bath at room temperature, and further dried with warm air at 100°C.

계속해서, 아이오딘 수용액 중에서 두께 80μm의 롤상 폴리바이닐알코올 필름을 연속해서 5배로 연신하고, 연신 후의 필름을 건조하여, 두께 20μm의 편광자를 얻었다.Subsequently, the roll-shaped polyvinyl alcohol film with a thickness of 80 μm was continuously stretched 5 times in an iodine aqueous solution, and the film after stretching was dried to obtain a polarizer with a thickness of 20 μm.

얻어진 편광자와, 알칼리 비누화 처리가 실시된 지지체(TD80UL)를 첩합하여, 편측에 편광자가 노출된 편광판 0를 얻었다.The obtained polarizer and the alkali saponification treated support (TD80UL) were bonded together to obtain a polarizing plate 0 in which the polarizer was exposed on one side.

다음으로, 상기 편광판 0의 편광자와, 광학 이방성층 A-1이 대향하도록, 편광판 0와 필름 1을 점착제를 이용하여 첩합했다. 이때, 편광자의 흡수축과 광학 이방성층 A-1의 지상축이 직교하도록 했다.Next, polarizing plate 0 and film 1 were bonded together using an adhesive so that the polarizer of the polarizing plate 0 and the optically anisotropic layer A-1 faced each other. At this time, the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the optically anisotropic layer A-1 were orthogonal.

계속해서, 첩합된 필름 1로부터, 형성용 가지지체 및 광배향막을 박리하고, 광학 이방성층 A-1만을 편광판 상에 전사했다.Then, from the bonded film 1, the temporary support for formation and the photo-alignment film were peeled off, and only the optically anisotropic layer A-1 was transferred onto the polarizing plate.

또한, 상기 광학 이방성층 A-1과 포지티브 C 플레이트 C-1이 대향하도록, 상기 광학 이방성층 상에 점착제를 개재하여 전사 필름 1을 첩합했다. 계속해서, 첩합된 전사 필름 1로부터, 형성용 가지지체를 박리하고, 지지체/편광자/점착제/광학 이방성층/점착제/포지티브 C 플레이트 C-1이 이 순서로 적층된 편광판 P-1을 얻었다.Further, transfer film 1 was bonded on the optically anisotropic layer with an adhesive so that the optically anisotropic layer A-1 and the positive C plate C-1 faced each other. Then, the temporary support for formation was peeled off from the bonded transfer film 1, and the polarizing plate P-1 in which the support/polarizer/adhesive/optically anisotropic layer/adhesive/positive C plate C-1 was laminated in this order was obtained.

상기 필름 1 대신에, 광학 이방성층 A-2~A-25를 각각 포함하는 필름 2~25를 이용하여, 상기와 동일한 절차에 따라, 편광판 P-2~P-25를 얻었다.Instead of Film 1, using Films 2 to 25 each containing optically anisotropic layers A-2 to A-25, polarizers P-2 to P-25 were obtained according to the same procedure as above.

〔액정 표시 장치의 제작〕[Production of liquid crystal display device]

iPad(등록상표, Apple사제)의 액정 셀로부터 시인 측의 편광판을 박리하고, IPS 모드의 액정 셀로 하여 이용했다.The polarizing plate on the viewing side was peeled off from the liquid crystal cell of iPad (registered trademark, manufactured by Apple Inc.), and used as a liquid crystal cell in IPS mode.

박리한 편광판 대신에, 상기에서 제작한 편광판 P-1~P-25를 액정 셀에 첩합하여, 액정 표시 장치를 제작했다.Instead of the peeled polarizing plate, the polarizing plates P-1 to P-25 produced above were bonded together to the liquid crystal cell to produce a liquid crystal display device.

이때, 액정 셀 기판면에 대하여 수직인 방향에서 관찰했을 때, 각 편광판 P-1~P-25 중의 편광자의 흡수축과, 액정 셀 내의 액정층의 광축이 수직인 방향이 되도록 첩합했다.At this time, when observed in a direction perpendicular to the liquid crystal cell substrate surface, the absorption axis of the polarizer in each of the polarizing plates P-1 to P-25 and the optical axis of the liquid crystal layer in the liquid crystal cell were bonded in a direction perpendicular to the direction.

〔평가〕〔evaluation〕

표시 성능의 측정은, 시판 중인 액정 시야각, 색도 특성 측정 장치 Ezcontrast(ELDIM사제)를 사용하고, 상기에서 제작한 액정 표시 장치를 사용했다. 또한, 제작한 액정 표시 장치 중에 있어서, 상기에서 제작한 편광판을 첩합한 액정 셀을, 광학 이방성층이 백라이트 측과 반대 측으로 되도록, 설치하고 측정을 행했다. 결과를 하기 표 1에 나타낸다.For the measurement of display performance, a commercially available liquid crystal viewing angle and chromaticity characteristic measuring apparatus Ezcontrast (manufactured by ELDIM) was used, and the liquid crystal display device produced above was used. Moreover, in the produced liquid crystal display device, the liquid crystal cell to which the polarizing plate produced above was bonded was installed and measured so that an optically anisotropic layer might become the side opposite to the backlight side. The results are shown in Table 1 below.

<패널 콘트라스트><Panel Contrast>

상방향(방위각 0~175°, 5°단위) 및 하방향(방위각 180~355°, 5°단위)의 각각의 흑휘도(Cd/m2)의 최댓값을 평균한 값(휘도 max)을 구했다. 휘도 max의 수치가 작을수록 흑표시의 광누출이 적어, 패널 콘트라스트가 양호한 것을 나타내고, 하기의 A, B의 2단계에서 평가했다.The average value (luminance max) of the maximum values of each black luminance (Cd/m 2 ) in the upward direction (azimuth angle 0 to 175°, 5° increments) and downward direction (azimuth angle 180 to 355°, 5° increments) was obtained. . The smaller the value of the luminance max, the smaller the light leakage of the black display and the better the panel contrast, and evaluated in two stages of A and B below.

A: 0.70 이하A: 0.70 or less

B: 0.70 초과B: greater than 0.70

<필름 콘트라스트><Film Contrast>

테이블 상에, 아래에서부터 순서대로 직하형 형광관 백라이트 광원, 상측 편광판, 시료(상기에서 제작한 필름 A-1~A-25 중 어느 하나), 하측 편광판을 각 면이 수평이 되도록 설치했다. 이때, 시료와 상측 편광판은 회전 가능하게 했다. 광원으로부터 출사하여, 상측 편광판, 시료, 하측 편광판으로 순서대로 투과한 광을 수직 방향으로부터 휘도계(예를 들면, BM-5A(TOPCON제))를 이용하여 휘도를 측정했다. 또한, 상측 편광판과 하측 편광판에는, 각각 편광도 99.995% 이상의 것을 사용했다.On the table, in order from the bottom, a direct fluorescent tube backlight source, an upper polarizer, a sample (any one of the films A-1 to A-25 prepared above), and a lower polarizer were placed so that each surface was level. At this time, the sample and the upper polarizing plate were rotatable. The luminance of the light emitted from the light source and sequentially passed through the upper polarizer, the sample, and the lower polarizer was measured in the vertical direction using a luminance meter (eg BM-5A (manufactured by TOPCON)). In addition, the polarization degree of 99.995% or more was used for the upper polarizing plate and the lower polarizing plate, respectively.

측정은, 먼저 시료가 없는 상태에서 상측 편광판을 회전시켜 가장 휘도가 어두워지는 위치에 맞추었다(크로스 니콜의 상태).In the measurement, first, the upper polarizer was rotated in the absence of the sample to adjust the position to the darkest luminance (cross Nicols state).

시료를 삽입하고, 크로스 니콜하에서 시료를 회전시켜 최소가 되는 휘도를 측정했다. 다음으로 상측 편광판과 하측 편광판의 2매의 편광판을 평행 니콜 배치로 하고, 시료를 회전시켜 최대가 되는 휘도를 측정했다.After inserting the sample, the sample was rotated under crossed Nicols to measure the minimum luminance. Next, the two polarizing plates, the upper polarizing plate and the lower polarizing plate, were set in a parallel Nicol arrangement, and the sample was rotated to measure the maximum luminance.

상측 편광판 및 하측 편광판에 기인하는 휘도 누출의 기여를 제거하기 위하여, 하기 식에 의하여 구해지는 값을, 필름의 콘트라스트로 정의한다. 결과를 하기 표 1에 나타낸다.In order to eliminate the contribution of the luminance leakage due to the upper polarizer and the lower polarizer, a value obtained by the following formula is defined as the contrast of the film. The results are shown in Table 1 below.

콘트라스트=1/〔{(시료 설치 시의 크로스 니콜하에 있어서의 최소 휘도)/(시료 설치 시의 평행 니콜하에 있어서의 최대 휘도)}-{(시료가 없는 상태에서의 크로스 니콜하에 있어서의 최소 휘도)/(시료가 없는 상태에서의 평행 니콜하에 있어서의 최대 휘도)}〕Contrast = 1/[{(minimum luminance under crossed nicols when the sample is placed)/(maximum luminance under parallel nicols when the sample is placed)}-{(minimum luminance under crossed nicols when no sample is present) )/(Maximum luminance under parallel Nicols in the absence of sample)}]

산출된 콘트라스트의 값에 근거하여, 하기 기준에 비추어 필름 콘트라스트를 평가했다. 또한, 상기 콘트라스트의 값이 클수록 필름 콘트라스트가 양호하다.Based on the value of the calculated contrast, the film contrast was evaluated in light of the following criteria. In addition, the higher the value of the contrast, the better the film contrast.

A: 콘트라스트가 10만 이상A: Contrast is over 100,000

B: 콘트라스트가 7만 이상 10만 미만B: Contrast is 70,000 or more and less than 100,000

C: 콘트라스트가 4만 이상 7만 미만C: Contrast between 40,000 and 70,000

D: 콘트라스트가 4만 미만D: Contrast less than 40,000

<광학 이방성층의 내구성><Durability of optically anisotropic layer>

점착제를 이용하여, 필름 1을 유리판 상에 첩합했다. 이어서, 첩합된 필름 1로부터 형성용 가지지체 및 광배향막을 박리하고, 유리판/점착제/광학 이방성층의 순서로 적층된 적층체를 얻었다. 이 적층체를 AxoScan OPMF-1(옵토 사이언스사제)을 이용하여 광학 이방성을 정량했다(Re(550)a). 또한, 동일한 적층체를 80℃ 건조 조건하에서 500시간 경과시킨 후, 경과 전과 동일하게 하여 광학 이방성을 정량했다(Re(550)b). 하기 식에서 산출되는 위상차 변화율에 대하여, 하기 A~C의 평가 기준으로 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Film 1 was bonded together on the glass plate using the adhesive. Then, the temporary support for formation and the photo-orientation film were peeled off from the bonded film 1, and a laminate was obtained in the order of glass plate/adhesive/optically anisotropic layer. The optical anisotropy of this laminate was quantified using AxoScan OPMF-1 (manufactured by Opto Science) (Re(550)a). Further, after passing the same layered product under 80°C drying conditions for 500 hours, the optical anisotropy was quantified in the same manner as before the passage (Re(550)b). The phase difference change rate calculated from the following formula was evaluated according to the following evaluation criteria A to C. The results are shown in Table 1.

(위상차 변화율)=|Re(550)a-Re(550)b|÷Re(550)a(rate of phase difference change) =|Re(550)a-Re(550)b|÷Re(550)a

A: 위상차 변화율이 0.02 이하이다A: phase difference change rate is 0.02 or less

B: 위상차 변화율이 0.02보다 크고, 0.04보다 작다B: phase difference change rate is larger than 0.02 and smaller than 0.04

C: 위상차 변화율이 0.04 이상이다C: phase difference change rate is 0.04 or more

결과를 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1.

표 1 중, "상승 온도폭"의 란은, 제2 가열 처리 전후의 반경화층의 온도의 차를 나타낸다.In Table 1, the column of "rising temperature range" shows the difference in temperature of the semi-cured layer before and after the second heat treatment.

"승온 시 TSmN 온도차"의 란은, 제1 가열 온도와 미경화층의 승온 시에 있어서의 TSmN과의 온도차를 나타낸다.The column "Temperature difference between TSmN during temperature rise" shows the temperature difference between the first heating temperature and TSmN during temperature rise of the uncured layer.

"강온 시 TSmN 온도차"의 란은, 냉각 온도와 미경화층의 강온 시에 있어서의 TSmN과의 온도차를 나타낸다.The column "Temperature difference of TSmN during temperature decrease" shows the temperature difference between the cooling temperature and TSmN during temperature decrease of the uncured layer.

[표 1][Table 1]

Figure 112020132154226-pct00018
Figure 112020132154226-pct00018

표 1에 나타내는 결과로부터, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 우수한 내구성 및 필름 콘트라스트를 갖고, 우수한 패널 콘트라스트의 화상 표시 장치를 제작할 수 있는 광학 이방성층이 얻어지는 것이 확인되었다.From the results shown in Table 1, it was confirmed that according to the manufacturing method of the present invention, an optically anisotropic layer having excellent durability and film contrast, and capable of producing an image display device with excellent panel contrast was obtained.

그중에서도, 제1 노광 처리에 있어서의 노광량이 10mJ/cm2 이상인 경우, 광학 이방성층의 필름 콘트라스트가 보다 우수한 것이 확인되었다(실시예 9와 10의 비교).Among them, when the exposure amount in the first exposure treatment was 10 mJ/cm 2 or more, it was confirmed that the film contrast of the optically anisotropic layer was more excellent (comparison between Examples 9 and 10).

제1 노광 처리에 있어서의 노광량이 30mJ/cm2 이하인 경우, 광학 이방성층의 내구성이 보다 우수한 것이 확인되었다(실시예 1, 11, 및 12의 비교).When the exposure amount in the first exposure treatment was 30 mJ/cm 2 or less, it was confirmed that the durability of the optically anisotropic layer was more excellent (comparison of Examples 1, 11, and 12).

냉각 공정에 있어서의 강온 레이트가, 80℃/분 이하(보다 바람직하게는 60℃/분 이하)인 경우, 광학 이방성층의 필름 콘트라스트가 보다 우수한 것이 확인되었다(실시예 17~19의 비교).When the cooling rate in the cooling step was 80°C/min or less (more preferably 60°C/min or less), it was confirmed that the optically anisotropic layer had better film contrast (comparison of Examples 17 to 19).

제1 노광 처리 시의 미경화층의 온도와, 제2 노광 처리 시의 반경화층의 온도와의 차가 40℃ 이상인 경우, 광학 이방성층의 내구성이 보다 우수한 것이 확인되었다(실시예 1과 3의 비교).When the difference between the temperature of the uncured layer during the first exposure treatment and the temperature of the semi-cured layer during the second exposure treatment was 40 ° C. or more, it was confirmed that the durability of the optically anisotropic layer was more excellent (comparison between Examples 1 and 3). ).

제2 노광 처리에 있어서의 노광량이 200mJ/cm2 이상인 경우, 광학 이방성층의 내구성이 보다 우수한 것이 확인되었다(실시예 6과 7의 비교).When the exposure amount in the second exposure treatment was 200 mJ/cm 2 or more, it was confirmed that the durability of the optically anisotropic layer was more excellent (comparison between Examples 6 and 7).

[실시예 101,102][Examples 101 and 102]

〔포지티브 C 플레이트 포함 원편광판의 제작〕[Production of circular polarizing plate with positive C plate]

상기에서 제작한 편광판 0의 편광자의 흡수축과, 광학 이방성층의 지상축이 45°로 교차하도록, 상기 편광판 0의 편광자와 상기에서 제작한 필름 1에 있어서의 광학 이방성층의 표면을 점착제를 이용하여 첩합했다. 계속해서 형성용 가지지체 및 광배향막을 첩합된 필름 1 중으로부터 박리하고, 광학 이방성층만을 편광판 0 상에 전사했다.The surface of the polarizer of the polarizer 0 and the optically anisotropic layer of the film 1 prepared above is coated with an adhesive so that the absorption axis of the polarizer of the prepared polarizer 0 and the slow axis of the optically anisotropic layer intersect at 45°. so it was conjoined. Subsequently, the temporary support for formation and the photo-alignment film were peeled from the bonded film 1, and only the optically anisotropic layer was transferred onto the polarizing plate 0.

또한, 포지티브 C 플레이트 C-2의 표면을, 점착제를 이용하여 상술한 광학 이방성층의 표면 상에 첩합하고, 계속해서 형성용 가지지체를 편광판으로부터 박리하여, 지지체/편광자/점착제/광학 이방성층/점착제/포지티브 C 플레이트 C-2가 이 순서로 적층된 원편광판 CP-1을 얻었다.Further, the surface of the positive C plate C-2 is bonded onto the surface of the above-described optically anisotropic layer using an adhesive, and then the temporary support for formation is peeled off from the polarizing plate, and the support/polarizer/adhesive/optically anisotropic layer/ A circularly polarizing plate CP-1 was obtained in which the pressure-sensitive adhesive/positive C plate C-2 was laminated in this order.

〔유기 EL 표시 장치의 제작〕[Production of organic EL display device]

유기 EL 표시 패널 탑재의 SAMSUNG사제 GALAXY S IV(유기 EL 표시 장치)를 분해하여, 원편광판을 박리하고, 원편광판 CP-1을 각각 유기 EL 표시 패널 상에 첩합하여, 유기 EL 표시 장치를 제작했다.SAMSUNG GALAXY S IV (organic EL display device) equipped with an organic EL display panel was disassembled, the circular polarizing plate was peeled off, and the circular polarizing plate CP-1 was bonded onto the organic EL display panel, respectively, to prepare an organic EL display device. .

〔평가〕〔evaluation〕

<반사 색조><Reflection Color>

분해 전의 유기 EL 표시 장치와, 각각의 원편광판으로 변경한 유기 EL 표시 장치를 이용하여, 자연광하에서의 흑표시 시의 패널 반사 색조를 정면 및 극각 45°방향에서 시인에 의하여 관찰하고 이하의 기준으로 평가했다.Using the organic EL display device before disassembly and the organic EL display device changed to each circular polarizing plate, the reflection color tone of the panel during black display under natural light was observed by viewing from the front and the polar angle direction of 45°, and evaluated based on the following criteria. did.

A: 분해 전의 유기 EL 패널에 비하여, 반사 색조가 동등하거나 뉴트럴인 흑색에 가깝다A: Compared to the organic EL panel before decomposition, the reflective color tone is equal to or close to neutral black.

B: 분해 전의 유기 EL 패널에 비하여, 색조 포함이 보인다B: Compared to the organic EL panel before disassembly, inclusion of color is seen

결과를 표 2에 나타낸다.The results are shown in Table 2.

표 중 "정면 반사"의 란은, 정면에서 시인에 의하여 관찰했을 때의 반사 색조의 평가 결과를 나타낸다.The column of "frontal reflection" in the table shows the evaluation result of the reflection color tone when observed by visual recognition from the front.

"45°반사"의 란은, 극각 45°방향에서 시인에 의하여 관찰했을 때의 반사 색조의 평가 결과를 나타낸다.The column "45° reflection" shows the evaluation result of reflection color tone when observed by a viewer in the direction of the polar angle 45°.

[표 2][Table 2]

Figure 112020132154226-pct00019
Figure 112020132154226-pct00019

표 2에 나타내는 결과로부터, 본 발명의 제조 방법으로 얻어지는 광학 이방성층은, 유기 EL 표시 장치에도 바람직하게 사용할 수 있는 것이 확인되었다.From the results shown in Table 2, it was confirmed that the optically anisotropic layer obtained by the production method of the present invention can be suitably used also in an organic EL display device.

Claims (12)

지지체 상에 광배향막을 형성하고, 상기 광배향막 상에, 역파장 분산성의 중합성 액정 화합물을 포함하는 미경화층을 형성하는 공정 A와,
상기 미경화층에 가열 처리를 실시하여, 네마틱상을 형성하는 공정 B와,
상기 네마틱상을 형성한 미경화층에 냉각 처리를 실시하여, 스멕틱상을 형성하는 공정 C와,
상기 스멕틱상을 형성한 미경화층에 대하여, 제1 노광 처리를 실시하여, 반경화층을 형성하는 공정 D와,
상기 제1 노광 처리 시의 온도보다 높은 온도 조건이 되도록 가열 처리를 실시하고, 상기 가열 처리 후에, 상기 제1 노광 처리시의 온도보다 높은 온도 조건 하에서, 상기 반경화층에 제2 노광 처리를 실시하여, 광학 이방성층을 형성하는 공정 E를 갖는 광학 이방성층의 제조 방법.
Step A of forming an optical alignment film on a support and forming an uncured layer containing a polymerizable liquid crystal compound having reverse wavelength dispersion on the optical alignment film;
Step B of subjecting the uncured layer to heat treatment to form a nematic phase;
Step C of forming a smectic phase by subjecting the uncured layer in which the nematic phase is formed to a cooling treatment;
Step D of forming a semi-cured layer by subjecting the uncured layer in which the smectic phase is formed to a first exposure process;
Heat treatment is performed so as to be a temperature condition higher than the temperature during the first exposure treatment, and after the heat treatment, a second exposure treatment is performed on the semi-cured layer under a temperature condition higher than the temperature during the first exposure treatment, , A method for producing an optically anisotropic layer having a step E of forming the optically anisotropic layer.
청구항 1에 있어서,
상기 공정 E가, 노광 처리를 실시하지 않고, 상기 제1 노광 처리시의 온도보다 높은 온도 조건이 되도록 가열 처리를 실시하고, 상기 가열 처리 후에, 상기 제1 노광 처리시의 온도보다 높은 온도 조건 하에서 상기 반경화층에 제2 노광 처리를 실시하여, 광학 이방성층을 형성하는 공정인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method of claim 1,
In the step E, without performing exposure treatment, heat treatment is performed so as to be a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment, and after the heat treatment, under a temperature condition higher than the temperature at the time of the first exposure treatment A method for producing an optically anisotropic layer, which is a step of forming an optically anisotropic layer by subjecting the semi-cured layer to a second exposure process.
청구항 1에 있어서,
상기 공정 C에 있어서의 상기 미경화층의 강온 속도가, 1~100℃/분인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method of claim 1,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer, wherein the cooling rate of the uncured layer in the step C is 1 to 100°C/min.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공정 C에 있어서의 상기 미경화층의 강온 속도가, 1~60℃/분인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer, wherein the cooling rate of the uncured layer in the step C is 1 to 60°C/min.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공정 C에 있어서 상기 미경화층의 온도가 점감하는, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing an optically anisotropic layer in which the temperature of the uncured layer gradually decreases in the step C.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 노광 처리에 이용되는 광이, 자외선인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the light used in the first exposure treatment is an ultraviolet ray.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 노광 처리에 있어서의 노광량이, 1~60mJ/cm2인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the exposure amount in the first exposure treatment is 1 to 60 mJ/cm 2 .
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 노광 처리에 있어서의 노광량이, 10~30mJ/cm2인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein the exposure amount in the first exposure treatment is 10 to 30 mJ/cm 2 .
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 노광 처리 시의 온도가 상기 중합성 액정 화합물의 스멕틱상과 네마틱상과의 상전이 온도보다 높은, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A method for producing an optically anisotropic layer wherein a temperature during the second exposure treatment is higher than a phase transition temperature between a smectic phase and a nematic phase of the polymerizable liquid crystal compound.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 노광 처리 시의 온도와 상기 제2 노광 처리 시의 온도와의 차가, 20℃ 이상인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer, wherein the difference between the temperature during the first exposure process and the temperature during the second exposure process is 20°C or higher.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 노광 처리 시의 온도와 상기 제2 노광 처리 시의 온도와의 차가, 40℃ 이상인, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing an optically anisotropic layer, wherein a difference between a temperature during the first exposure process and a temperature during the second exposure process is 40°C or higher.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 미경화층이 옥심에스터계 중합 개시제를 포함하는, 광학 이방성층의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The manufacturing method of the optically anisotropic layer in which the said uncured layer contains an oxime ester type polymerization initiator.
KR1020207035144A 2018-06-12 2019-06-07 Manufacturing method of optically anisotropic layer KR102532379B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018111864 2018-06-12
JPJP-P-2018-111864 2018-06-12
PCT/JP2019/022783 WO2019240048A1 (en) 2018-06-12 2019-06-07 Method for manufacturing optically anisotropic layer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210006958A KR20210006958A (en) 2021-01-19
KR102532379B1 true KR102532379B1 (en) 2023-05-12

Family

ID=68841956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207035144A KR102532379B1 (en) 2018-06-12 2019-06-07 Manufacturing method of optically anisotropic layer

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7182627B2 (en)
KR (1) KR102532379B1 (en)
WO (1) WO2019240048A1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7128932B1 (en) 2021-04-15 2022-08-31 住友化学株式会社 optical laminate
US11635559B2 (en) * 2021-08-19 2023-04-25 Fujifilm Corporation Optical film, circularly polarizing plate, and display device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004145071A (en) * 2002-10-25 2004-05-20 Fuji Photo Film Co Ltd Optical retardation plate and its manufacturing method
JP2015087472A (en) 2013-10-29 2015-05-07 日本ゼオン株式会社 Production method of article, and counterfeit preventive medium
JP2015200861A (en) 2013-09-11 2015-11-12 富士フイルム株式会社 Optically anisotropic layer and production method of the same, laminate and production method of laminate, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic electroluminescence display device
JP2016184013A (en) * 2015-03-25 2016-10-20 林テレンプ株式会社 Retardation film, manufacturing method for the same, and optical member including the retardation film

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003177243A (en) * 2001-12-10 2003-06-27 Dainippon Printing Co Ltd Optical element
JP2004191832A (en) * 2002-12-13 2004-07-08 Dainippon Printing Co Ltd Optical retardation element, display element provided with the same, and production method of optical retardation element
JP4293882B2 (en) * 2003-03-31 2009-07-08 日東電工株式会社 Broadband cholesteric liquid crystal film manufacturing method, circularly polarizing plate, linearly polarizing element, illumination device, and liquid crystal display device
KR101247822B1 (en) * 2003-04-08 2013-03-26 메르크 파텐트 게엠베하 Polymerised liquid crystal film with retardation or orientation pattern
JP2008009403A (en) * 2006-05-30 2008-01-17 Nippon Oil Corp Elliptical polarizing plate, method for production of the same, and liquid crystal display device
JP4687909B2 (en) * 2006-10-05 2011-05-25 富士フイルム株式会社 Optical film manufacturing method and apparatus
JP4911297B2 (en) * 2006-10-16 2012-04-04 大日本印刷株式会社 Optical element, liquid crystal display device, and method of manufacturing optical element
CN104030969B (en) * 2006-12-20 2016-09-07 三菱化学株式会社 Oxime ester based compound, Photoepolymerizationinitiater initiater, optical polymerism composition, colour filter and liquid crystal indicator
JP2009251411A (en) * 2008-04-09 2009-10-29 Nippon Oil Corp Method for manufacturing optical film, and liquid crystal display element using the film
JP5282267B2 (en) * 2008-05-23 2013-09-04 コニカミノルタ株式会社 Method for producing optical compensation film
JP2009069839A (en) * 2008-10-22 2009-04-02 Dainippon Printing Co Ltd Optical element
JP2010262098A (en) * 2009-05-01 2010-11-18 Fujifilm Corp Crystal display apparatus
JP2015127793A (en) * 2013-11-26 2015-07-09 Jnc株式会社 Optical anisotropic material and liquid crystal display
JP6149078B2 (en) * 2014-08-29 2017-06-14 富士フイルム株式会社 Retardation film, production method of retardation film, laminate, composition, polarizing plate and liquid crystal display device
JP6507072B2 (en) 2015-09-30 2019-04-24 富士フイルム株式会社 Method of manufacturing optically anisotropic layer and method of manufacturing polarizing plate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004145071A (en) * 2002-10-25 2004-05-20 Fuji Photo Film Co Ltd Optical retardation plate and its manufacturing method
JP2015200861A (en) 2013-09-11 2015-11-12 富士フイルム株式会社 Optically anisotropic layer and production method of the same, laminate and production method of laminate, polarizing plate, liquid crystal display device, and organic electroluminescence display device
JP2015087472A (en) 2013-10-29 2015-05-07 日本ゼオン株式会社 Production method of article, and counterfeit preventive medium
JP2016184013A (en) * 2015-03-25 2016-10-20 林テレンプ株式会社 Retardation film, manufacturing method for the same, and optical member including the retardation film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210006958A (en) 2021-01-19
JPWO2019240048A1 (en) 2021-06-10
WO2019240048A1 (en) 2019-12-19
JP7182627B2 (en) 2022-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102443875B1 (en) Retardation film, production method of retardation film, laminate, composition, polarizing plate and liquid crystal display device
JP5723077B1 (en) Retardation plate, elliptically polarizing plate and display device using the same
WO2019009255A1 (en) Liquid crystal film, optical laminate, circularly polarizing plate, and organic electroluminescent display device
JPWO2018164126A1 (en) Organic electroluminescence display device, retardation film, circular polarizer
JP6375381B2 (en) Optical film, illumination device and image display device
KR20100072038A (en) Laminated optical film, liquid crystal panel, and liquid crystal display
WO2006100901A1 (en) Liquid crystal panel, liquid crystal television, and liquid crystal display device
JPWO2015141818A1 (en) Composition, light reflecting film, brightness enhancement film, backlight unit, and liquid crystal display device
JP6303006B2 (en) Brightness-enhancement film transfer material, transfer material production method, brightness-enhancement film, optical sheet member manufacturing method using transfer material, and optical sheet member
WO2018186500A1 (en) Polarizing element, circularly polarizing plate and image display device
JP2008009403A (en) Elliptical polarizing plate, method for production of the same, and liquid crystal display device
JP6507072B2 (en) Method of manufacturing optically anisotropic layer and method of manufacturing polarizing plate
KR102532379B1 (en) Manufacturing method of optically anisotropic layer
JP2009288440A (en) Retardation film, method for manufacturing retardation film, polarizing plate, and liquid crystal display
JP2008209872A (en) Elliptically polarizing plate for vertically aligned liquid crystal display device and vertically aligned liquid crystal display device using the same
KR102467640B1 (en) laminate
JP2007140127A (en) Polarizer, method for manufacturing the same, optical film and image display device
JP2017068111A (en) Polarizing plate and liquid crystal display
JP5274928B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device
WO2014157182A1 (en) Laminated polarizing plate and horizontal alignment liquid crystal display device
JP2009294521A (en) Retardation film, method for manufacturing retardation film, sheet polarizer and liquid crystal display device
JP4413117B2 (en) Retardation film, polarizing plate, liquid crystal panel, liquid crystal display device and method for producing retardation film
JP5274929B2 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device
CN115315644A (en) Optically anisotropic layer, optical film, polarizing plate, and image display device
JP2008077043A (en) Optical compensation sheet, polarizing plate, and liquid crystal display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant