JPWO2019167165A1 - イオンミリング装置及びイオンミリング装置のイオン源調整方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 試料に非集束のイオンビームを照射することにより、前記試料を加工するイオンミリング装置であって、
試料室と、
前記試料室に設置されるイオン源位置調整機構と、
前記イオン源位置調整機構を介して前記試料室に取り付けられ、前記イオンビームを射出するイオン源と、
回転中心を軸に回転する試料ステージとを有し、
前記イオンビームのイオンビーム中心と前記回転中心とが一致するときの前記回転中心の延在する方向をZ方向とし、前記Z方向と垂直な面をXY面とすると、前記イオン源位置調整機構は、前記イオン源の前記XY面上の位置及び前記Z方向の位置を調整可能とするイオンミリング装置。 - 請求項1において、
前記試料ステージに設置され、前記回転中心を含む範囲に導電材が設けられたターゲット板と、
前記導電材で受けたイオンビーム電流を計測する電流計とを有するイオンミリング装置。 - 請求項2において、
前記導電材は、前記回転中心を中心とする円形状を有するイオンミリング装置。 - 請求項2において、
前記導電材は、前記回転中心を中心として同心円状に配置された、円形状の第1の導電材と、前記第1の導電材よりも径の大きい円環形状の第2の導電材とを有し、
前記第1の導電材で受けたイオンビーム電流と前記第2の導電材で受けたイオンビーム電流とを独立して計測するイオンミリング装置。 - 請求項2において、
前記イオン源に所定の電圧を印加する電源部と、
制御部と、
表示部とを有し、
前記制御部は、前記電源部が前記イオン源に印加する放電電圧値、放電電流値、加速電圧値、前記電流計が計測するイオンビーム電流値を含むセンシングデータを収集し、前記表示部に表示するイオンミリング装置。 - 請求項2において、
前記イオン源に所定の電圧を印加する電源部と、
制御部と、
前記制御部は、前記電流計が計測するイオンビーム電流値に基づき、前記イオン源位置調整機構により、前記イオン源の前記XY面上の位置及び前記Z方向の位置を調整するイオンミリング装置。 - 請求項6において、
前記制御部は、前記イオン源位置調整機構による前記Z方向の位置の調整に代えて、または前記イオン源位置調整機構による前記Z方向の位置の調整に加えて、前記電源部が前記イオン源に印加する放電電圧を調整するイオンミリング装置。 - 試料室内に置かれた試料に非集束のイオンビームを照射することにより、前記試料を加工するイオンミリング装置のイオン源調整方法であって、
試料ステージ回転駆動源は、回転中心を含む範囲に導電材が設けられたターゲット板が設置された試料ステージを、前記回転中心を軸に回転させ、
イオン源は、前記ターゲット板に向けて前記イオンビームを照射し、
電流計は、前記導電材で受けたイオンビーム電流を計測し、
前記イオン源は、前記イオン源の位置を調整可能とするイオン源位置調整機構を介して前記試料室に取り付けられており、
前記イオン源位置調整機構により調整された前記イオン源の位置は、前記電流計により計測されるイオンビーム電流値が所定の目標を満たすように設定されるイオン源調整方法。 - 請求項8において、
前記イオンビームのイオンビーム中心と前記回転中心とが一致するときの前記回転中心の延在する方向をZ方向とし、前記Z方向と垂直な面をXY面とすると、前記イオン源位置調整機構により調整される前記イオン源の位置は、前記イオン源の前記XY面上の位置及び前記Z方向の位置を含むイオン源調整方法。 - 請求項8において、
前記イオン源の放電電圧の値は、前記電流計により計測されるイオンビーム電流値が前記所定の目標を満たすように設定されるイオン源調整方法。 - 請求項8において、
前記ターゲット板に向けて前記イオンビームを照射するときの前記イオン源の射出条件は、前記試料を加工するときの前記イオン源の射出条件と等しくされるイオン源調整方法。 - 請求項8において、
前記所定の目標として、前記イオンビーム電流の最大値または前回加工実施時におけるイオンビーム電流値とするイオン源調整方法。 - 試料室内に置かれた試料に非集束のイオンビームを照射することにより、前記試料を加工するイオンミリング装置のイオン源調整方法であって、
試料ステージ回転駆動源は、回転中心を含む範囲に鏡面部材が設置された試料ステージを、前記試料ステージの傾斜角を45°に傾けた状態で、前記回転中心を軸に回転させ、
イオン源は、前記鏡面部材に向けて前記イオンビームを照射し、
前記イオン源は、前記イオン源の位置を調整可能とするイオン源位置調整機構を介して前記試料室に取り付けられており、
前記イオン源位置調整機構により調整された前記イオン源の位置は、前記鏡面部材における前記回転中心近傍が、点状または円形状に光ってみえる状態に設定されるイオン源調整方法。 - 請求項13において、
前記鏡面部材に代えて、前記イオンビームに反応して発光する発光部材を前記試料ステージに設置するイオン源調整方法。 - 請求項13または請求項14において、
前記鏡面部材または前記発光部材に向けて前記イオンビームを照射するときの前記イオン源の射出条件は、前記試料を加工するときの前記イオン源の射出条件と等しくされるイオン源調整方法。
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