JPWO2019163843A1 - 位相差フィルムの製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜を形成する第２工程と、塗膜に紫外線を照射する第３工程と、紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程と、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する第５工程と、を有する位相差フィルムの製造方法及び製造装置。
Description
本開示は、位相差フィルムの製造方法及び製造装置に関するものである。
液晶ディスプレイ等に用いられる位相差フィルムとして、支持体上に配向層及び液晶層が設けられたものが知られている。
位相差フィルムの製造方法の１例として、特開２００７−５２０４９号公報には、「連続走行する長尺状フィルムの上に少なくとも１層の光学異方性層を形成する第１の工程と、少なくとも１層の光学異方性層が形成された長尺状フィルムを巻き取る第２の工程とを含み、第１の工程の後、第２の工程の前に、少なくとも１層の光学異方性層を有する長尺フィルムのレターデーションを連続して測定することを特徴とする光学補償シートの製造方法」が開示されている。
また、特開２０１４−１９９３２１号公報には、表面に光反応性の配向膜が塗布された透明な帯状の支持体を連続搬送し、その搬送中に配向膜に幅方向では一定幅で交互に繰り替えされ、搬送方向では一連となる複数本のライン状のパターン露光を与えて配向膜に偏光特性を発現する樹脂層を塗布した後、樹脂層に光照射を行って硬化処理が行われるパターン位相差フィルムの製造方法において、パターン露光を与えてから硬化処理を終了するまでの間、支持体を幅方向の収縮率が０．０２％以下となる張力で一連に搬送するとともに、硬化処理の開始時から終了時までの期間中に光照射の強度を変化させ、樹脂層に付与された偏光特性を所望数値範囲内に収めつつライン状パターンの変動を所望数値範囲内に抑える温度履歴を与えることを特徴とするパターン位相差フィルムの製造方法が開示されている。
位相差フィルムにおいて、レターデーションは最も重要とされる物性である。近年、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムが望まれている。
位相差フィルムは、生産性向上のため、連続フィルム支持体を用い、ロールトゥロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式での連続プロセスによって製造される。
より具体的には、位相差フィルムは、配向層を備えた連続フィルム支持体の配向層上に、液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して得られた塗膜（以降、「液晶層用塗膜」ともいう）に対し、紫外線をあてて液晶化合物の配向を固定化する、という方法にて製造される。
液晶化合物を含む液晶層形成用材料の塗布の際、連続フィルム支持体の幅方向に、ごく僅かではあるが塗布厚みのムラが生じてしまう。特に、カーテンコーティング法等の塗布手段を用いる場合には、塗布厚みのムラは、搬送方向に継続してしまうことが多い。
そして、この塗布厚みのムラが、主として、位相差フィルムのレターデーションのムラの要因となる。
なお、特開２００７−５２０４９号公報では、レターデーションの測定結果を元に、目標値にくるように、塗布工程及び加熱工程における条件での微調整をおこなっているが、この方法では、位相差フィルムの幅方向におけるレターデーションの調整は困難であり、レターデーションの面内分布を小さくするのには限界がある。
また、特開２０１４−１９９３２１号公報では、位相差フィルムのレターデーションの調整は行っていない。
位相差フィルムは、生産性向上のため、連続フィルム支持体を用い、ロールトゥロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式での連続プロセスによって製造される。
より具体的には、位相差フィルムは、配向層を備えた連続フィルム支持体の配向層上に、液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して得られた塗膜（以降、「液晶層用塗膜」ともいう）に対し、紫外線をあてて液晶化合物の配向を固定化する、という方法にて製造される。
液晶化合物を含む液晶層形成用材料の塗布の際、連続フィルム支持体の幅方向に、ごく僅かではあるが塗布厚みのムラが生じてしまう。特に、カーテンコーティング法等の塗布手段を用いる場合には、塗布厚みのムラは、搬送方向に継続してしまうことが多い。
そして、この塗布厚みのムラが、主として、位相差フィルムのレターデーションのムラの要因となる。
なお、特開２００７−５２０４９号公報では、レターデーションの測定結果を元に、目標値にくるように、塗布工程及び加熱工程における条件での微調整をおこなっているが、この方法では、位相差フィルムの幅方向におけるレターデーションの調整は困難であり、レターデーションの面内分布を小さくするのには限界がある。
また、特開２０１４−１９９３２１号公報では、位相差フィルムのレターデーションの調整は行っていない。
そこで、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、上記事情に鑑みてなされたものであり、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用いつつも、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムの製造方法を提供することにある。
また、本発明の別の一実施形態が解決しようとする課題は、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用いつつも、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムの製造装置を提供することにある。
また、本発明の別の一実施形態が解決しようとする課題は、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用いつつも、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムの製造装置を提供することにある。
上記課題を解決するための手段は、以下の実施形態を含む。
＜１＞ 連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程と、
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜を形成する第２工程と、
塗膜に紫外線を照射する第３工程と、
紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程と、
求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する第５工程と、
を有する位相差フィルムの製造方法。
＜１＞ 連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程と、
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜を形成する第２工程と、
塗膜に紫外線を照射する第３工程と、
紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程と、
求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する第５工程と、
を有する位相差フィルムの製造方法。
＜２＞ 第５工程が、事前に取得した、塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係から得られた調整量にて、塗膜に照射する紫外線の照度を調整する工程である、＜１＞に記載の位相差フィルムの製造方法。
＜３＞ 第３工程が、複数個の発光ダイオード素子を備えるユニットを連続フィルム支持体の幅方向に沿って複数個並列したモジュール光源により行われる、＜１＞又は＜２＞に記載の位相差フィルムの製造方法。
＜４＞ 第２工程における液晶層形成用材料の塗布が、カーテンコーティング法又はダイコーティング法により行われる、＜１＞〜＜３＞のいずれか１に記載の位相差フィルムの製造方法。
＜５＞ 第４工程後に、紫外線が照射された塗膜に対し、高圧水銀光源又はメタルハライド光源により更に紫外線を照射する第６工程を有する、＜１＞〜＜４＞のいずれか１に記載の位相差フィルムの製造方法。
＜６＞ 連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する塗布手段と、
塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して塗膜を形成する乾燥手段と、
塗膜に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定するレターデーション測定手段と、
測定されたレターデーションの測定値から求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する制御を行う制御手段と、
を有する位相差フィルムの製造装置。
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する塗布手段と、
塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して塗膜を形成する乾燥手段と、
塗膜に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定するレターデーション測定手段と、
測定されたレターデーションの測定値から求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する制御を行う制御手段と、
を有する位相差フィルムの製造装置。
＜７＞ 制御手段が、事前に取得した、塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係から得られた調整量にて、塗膜に照射する紫外線の照度を調整する制御を行う、＜６＞に記載の位相差フィルムの製造装置。
＜８＞ 紫外線照射手段が、複数個の発光ダイオード素子を備えるユニットを連続フィルム支持体の幅方向に沿って複数個並列したモジュール光源である、＜６＞又は＜７＞に記載の位相差フィルムの製造装置。
＜９＞ 塗布手段が、カーテンコーティング法又はダイコーティング法を用いた手段である、＜６＞〜＜８＞のいずれか１に記載の位相差フィルムの製造装置。
＜１０＞ 紫外線照射手段に対し、連続フィルム支持体の搬送方向下流側に、高圧水銀光源又はメタルハライド光源により塗膜に紫外線を照射する別の紫外線照射手段を有する、＜６＞〜＜９＞のいずれか１に記載の位相差フィルムの製造装置。
本発明の一実施形態によれば、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用いつつも、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムの製造方法が提供される。
本発明の別の一実施形態によれば、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用いつつも、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムの製造装置が提供される。
本発明の別の一実施形態によれば、ロールトゥロール方式での連続プロセスを用いつつも、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムの製造装置が提供される。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法及び製造装置の一実施形態について説明する。但し、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示にて示す各図面における各要素は必ずしも正確な縮尺ではなく、本開示の原理を明確に示すことに主眼が置かれており、強調がなされている箇所もある。
また、各図面において、同一機能を有する構成要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示にて示す各図面における各要素は必ずしも正確な縮尺ではなく、本開示の原理を明確に示すことに主眼が置かれており、強調がなされている箇所もある。
また、各図面において、同一機能を有する構成要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
≪位相差フィルムの製造方法及び製造装置≫
本発明者らは、ロールトゥロール方式での連続プロセスでの位相差フィルムの製造方法について検討を行ったところ、液晶層用塗膜に対して照射する紫外線の照度を調整することで、位相差フィルムのレターデーションの値が変化することに着目し、以下の方法にて、位相差フィルムのレターデーションのムラを抑制する方法を見出した。
即ち、まず、液晶層用塗膜に対して紫外線が照射された後、連続フィルム支持体の幅方向についてレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する（例えば、紫外線の照度を上げる又は下げる）。
ここで、「測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜」は、測定位置に相当する連続フィルム支持体の幅方向における位置を搬送されている紫外線未照射の液晶層用塗膜を意味する。そのため、上記の方法を採用する位相差フィルムの製造方法では、連続フィルム支持体の搬送方向に対し、下流側にレターデーションの測定位置があり、その測定位置よりも上流側に紫外線の照射位置がある。そして、この紫外線の照射位置では、上記のように、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整することができる。
このように、レターデーションの測定結果を、液晶層用塗膜に対する紫外線の照度の調整に用いることで、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムを得ることができる。
なお、製造された位相差フィルムにおいては、先端側にレターデーションの測定位置があり、その測定位置よりも末端側に紫外線の照度を調整された位置が存在するということになる。
この方法により、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムが得られる。
本発明者らは、ロールトゥロール方式での連続プロセスでの位相差フィルムの製造方法について検討を行ったところ、液晶層用塗膜に対して照射する紫外線の照度を調整することで、位相差フィルムのレターデーションの値が変化することに着目し、以下の方法にて、位相差フィルムのレターデーションのムラを抑制する方法を見出した。
即ち、まず、液晶層用塗膜に対して紫外線が照射された後、連続フィルム支持体の幅方向についてレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する（例えば、紫外線の照度を上げる又は下げる）。
ここで、「測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜」は、測定位置に相当する連続フィルム支持体の幅方向における位置を搬送されている紫外線未照射の液晶層用塗膜を意味する。そのため、上記の方法を採用する位相差フィルムの製造方法では、連続フィルム支持体の搬送方向に対し、下流側にレターデーションの測定位置があり、その測定位置よりも上流側に紫外線の照射位置がある。そして、この紫外線の照射位置では、上記のように、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整することができる。
このように、レターデーションの測定結果を、液晶層用塗膜に対する紫外線の照度の調整に用いることで、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムを得ることができる。
なお、製造された位相差フィルムにおいては、先端側にレターデーションの測定位置があり、その測定位置よりも末端側に紫外線の照度を調整された位置が存在するということになる。
この方法により、レターデーションの面内分布が小さい位相差フィルムが得られる。
以上のことから、一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜（即ち、液晶層用塗膜）を形成する第２工程と、塗膜に紫外線を照射する第３工程と、紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程と、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜（即ち、液晶層用塗膜）に照射する紫外線の照度を調整する第５工程と、を有する。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、例えば、以下に示す、一実施形態の位相差フィルムの製造装置により行われる。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、例えば、以下に示す、一実施形態の位相差フィルムの製造装置により行われる。
一実施形態の位相差フィルムの製造装置は、連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する塗布手段と、塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して塗膜を形成する乾燥手段と、塗膜（即ち、液晶層用塗膜）に紫外線を照射する紫外線照射手段と、紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定するレターデーション測定手段と、測定されたレターデーションの測定値から求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜（即ち、液晶層用塗膜）に照射する紫外線の照度を調整する制御を行う制御手段と、を有する。
以下、一実施形態の位相差フィルムの製造方法の詳細について、一実施形態の位相差フィルムの製造装置と合わせて説明する。
以下、一実施形態の位相差フィルムの製造方法の詳細について、一実施形態の位相差フィルムの製造装置と合わせて説明する。
〔第１工程〕
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程を有する。
第１工程において、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する方法は、特に制限はなく、ラビング方式を用いてもよいし、光配向方式を用いてもよい。
ここで、ラビング方式とは、配向層形成用材料を含む塗膜に対してラビング布を巻いたロールを一定圧力で押し込みながら回転移動させて、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。
また、光配向方式とは、配向層形成用材料の塗膜に対し偏光（例えば、偏光紫外線）を照射して、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。
近年は、塗膜の摩擦によって、微細な粉塵が生じたり、静電気が発生したりすることが問題視されることがあるため、第１工程では、塗膜の摩擦が必要ない光配向方式を採用することが好ましい。
以下、光配向方式を用いた第１工程について説明する。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程を有する。
第１工程において、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する方法は、特に制限はなく、ラビング方式を用いてもよいし、光配向方式を用いてもよい。
ここで、ラビング方式とは、配向層形成用材料を含む塗膜に対してラビング布を巻いたロールを一定圧力で押し込みながら回転移動させて、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。
また、光配向方式とは、配向層形成用材料の塗膜に対し偏光（例えば、偏光紫外線）を照射して、塗膜に液晶化合物に対する配向規制力を与える方式である。
近年は、塗膜の摩擦によって、微細な粉塵が生じたり、静電気が発生したりすることが問題視されることがあるため、第１工程では、塗膜の摩擦が必要ない光配向方式を採用することが好ましい。
以下、光配向方式を用いた第１工程について説明する。
第１工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、巻回された連続フィルム支持体Ｆは、その先端が送り出されると、まず、配向層形成用材料の塗布手段１により配向層形成用材料の塗布が行われ、その後、配向層形成用材料の乾燥手段２による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体上には、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して得られる塗膜（以降、「配向層用塗膜」ともいう）が形成される。
続いて、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた領域にて、配向層用塗膜に偏光紫外線を照射して、配向規制力を備えた配向層を形成する。
具体的には、図１に示すように、連続フィルム支持体Ｆ上に配向層用塗膜が形成された後は、連続フィルム支持体Ｆをバックアップロール３ｂに巻き掛けた領域にて、光配向装置３ａにより配向層用塗膜に偏光紫外線が照射される。
図１に示すように、巻回された連続フィルム支持体Ｆは、その先端が送り出されると、まず、配向層形成用材料の塗布手段１により配向層形成用材料の塗布が行われ、その後、配向層形成用材料の乾燥手段２による乾燥領域にて乾燥される。こうして、連続フィルム支持体上には、配向層形成用材料を塗布及び乾燥して得られる塗膜（以降、「配向層用塗膜」ともいう）が形成される。
続いて、バックアップロールに連続フィルム支持体を巻き掛けた領域にて、配向層用塗膜に偏光紫外線を照射して、配向規制力を備えた配向層を形成する。
具体的には、図１に示すように、連続フィルム支持体Ｆ上に配向層用塗膜が形成された後は、連続フィルム支持体Ｆをバックアップロール３ｂに巻き掛けた領域にて、光配向装置３ａにより配向層用塗膜に偏光紫外線が照射される。
−連続フィルム支持体−
連続フィルム支持体としては、ポリマーフィルムを用いることが好ましい。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース、屈折率１．４８）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ（メタ）アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー（例えば、ノルボルネン系樹脂（商品名「アートン（登録商標）」、ＪＳＲ社）、非晶質ポリオレフィン（例えば、商品名「ゼオネックス（登録商標）」、日本ゼオン社））などが挙げられる。
このうち、光学異方性の低さ等の観点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（即ち、ＰＥＴ）、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
連続フィルム支持体としては、ポリマーフィルムを用いることが好ましい。
連続フィルム支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース、屈折率１．４８）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリ（メタ）アクリルニトリル、脂環式構造を有するポリマー（例えば、ノルボルネン系樹脂（商品名「アートン（登録商標）」、ＪＳＲ社）、非晶質ポリオレフィン（例えば、商品名「ゼオネックス（登録商標）」、日本ゼオン社））などが挙げられる。
このうち、光学異方性の低さ等の観点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（即ち、ＰＥＴ）、及び脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
連続フィルム支持体の厚みとしては、１０μｍ〜２５０μｍの範囲が好ましい。連続フィルム支持体の厚みは、バックアップロールへの巻き掛けに対する適用性が高い観点等から、１５μｍ以上がより好ましく、３０μｍ以上が更に好ましい。連続フィルム支持体の厚みは、材料コストの観点からは、１５０μｍ以下が好ましく、１２０μｍ以下がより好ましい。
−配向層形成用材料−
光配向方式に適用される配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報に記載の光配向性を示す構成単位を有する多官能マレイミド誘導体とアルケニル置換ナジイミド化合物、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性基と重合性マレイミド基とを有する重合性単量体、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド酸、又はこれらのエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、国際公開第２０１０／１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物（特に、シンナメート化合物、カルコン化合物、又はクマリン化合物）等が挙げられる。
これらの中でも特に好ましい例としては、上記公報に記載のアゾ化合物、上記公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はこれらエステル、上記公報に記載のシンナメート化合物、又はカルコン化合物等が挙げられる。
光配向方式に適用される配向層の形成に用いられる配向層形成用材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報に記載の光配向性を示す構成単位を有する多官能マレイミド誘導体とアルケニル置換ナジイミド化合物、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性基と重合性マレイミド基とを有する重合性単量体、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド酸、又はこれらのエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、国際公開第２０１０／１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物（特に、シンナメート化合物、カルコン化合物、又はクマリン化合物）等が挙げられる。
これらの中でも特に好ましい例としては、上記公報に記載のアゾ化合物、上記公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はこれらエステル、上記公報に記載のシンナメート化合物、又はカルコン化合物等が挙げられる。
−塗布方法−
配向層形成用材料の塗布手段１には、公知の塗布装置が適用される。
塗布装置として、具体的には、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した装置が挙げられる。
配向層形成用材料の塗布手段１には、公知の塗布装置が適用される。
塗布装置として、具体的には、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等を利用した装置が挙げられる。
−乾燥方法−
配向層形成用材料の乾燥手段２には、公知の乾燥手段が適用される。
乾燥手段として、具体的には、オーブン、温風機、赤外線（ＩＲ）ヒーター等を用いる方法が挙げられる。
温風機による乾燥においては、連続フィルム支持体の配向層形成用材料が塗布された面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗布された配向層形成用材料の表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、用いた配向層形成用材料の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、３０℃〜１４０℃の範囲で、１０秒〜１０分間行うことが好ましい。
配向層形成用材料の乾燥手段２には、公知の乾燥手段が適用される。
乾燥手段として、具体的には、オーブン、温風機、赤外線（ＩＲ）ヒーター等を用いる方法が挙げられる。
温風機による乾燥においては、連続フィルム支持体の配向層形成用材料が塗布された面とは反対の面から温風を当てる構成でもよく、塗布された配向層形成用材料の表面が温風にて流動しないよう、拡散板を設置した構成としてもよい。
乾燥条件は、用いた配向層形成用材料の種類、塗布量、搬送速度等に応じて決定されればよく、例えば、３０℃〜１４０℃の範囲で、１０秒〜１０分間行うことが好ましい。
以上のようにして、配向層用塗膜が形成される。
形成された配向層用塗膜の膜厚は、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．２μｍ〜１μｍがより好ましい。
形成された配向層用塗膜の膜厚は、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．２μｍ〜１μｍがより好ましい。
−偏光紫外線の照射及び光配向装置−
続いて、連続フィルム支持体Ｆに形成された配向層用塗膜に対し、偏光紫外線を照射する。
図１によれば、バックアップロール３ｂに、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体Ｆを巻き掛けた領域にて、光配向装置３ａにより配向層用塗膜に偏光紫外線が照射される。
バックアップロール３ｂにて連続フィルム支持体Ｆを支える形態での、偏光紫外線の照射は、バックアップロール３ｂの形状に沿って張架した状態の連続フィルム支持体に対して行うことができる観点、及び、バックアップロール３ｂによる連続フィルム支持体Ｆの温調がし易い観点から好ましい。
なお、第１工程における偏光紫外線の照射は、連続フィルム支持体Ｆの裏面（即ち、配向層用塗膜が形成される面とは反対の面）をバックアップロール３ｂにて支える形態のみならず、連続フィルム支持体Ｆの裏面を平面ベルト又は平面ガイドにて支える形態で行われてもよい。
また、第１工程における偏光紫外線の照射は、配向層用塗膜の平面性が確保できていれば、連続フィルム支持体Ｆの裏面を支える平面ベルト又は平面ガイドがなくともよい。
続いて、連続フィルム支持体Ｆに形成された配向層用塗膜に対し、偏光紫外線を照射する。
図１によれば、バックアップロール３ｂに、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体Ｆを巻き掛けた領域にて、光配向装置３ａにより配向層用塗膜に偏光紫外線が照射される。
バックアップロール３ｂにて連続フィルム支持体Ｆを支える形態での、偏光紫外線の照射は、バックアップロール３ｂの形状に沿って張架した状態の連続フィルム支持体に対して行うことができる観点、及び、バックアップロール３ｂによる連続フィルム支持体Ｆの温調がし易い観点から好ましい。
なお、第１工程における偏光紫外線の照射は、連続フィルム支持体Ｆの裏面（即ち、配向層用塗膜が形成される面とは反対の面）をバックアップロール３ｂにて支える形態のみならず、連続フィルム支持体Ｆの裏面を平面ベルト又は平面ガイドにて支える形態で行われてもよい。
また、第１工程における偏光紫外線の照射は、配向層用塗膜の平面性が確保できていれば、連続フィルム支持体Ｆの裏面を支える平面ベルト又は平面ガイドがなくともよい。
以下、偏光紫外線の照射に用いられる光配向装置の一例について、図２〜図４を参照して説明する。
図２に示すように、光配向装置３ａは、棒状光源１０と、棒状光源１０からの光を垂直方向に効率良くワイヤーグリッド偏光子３０側へ反射させる凹面反射鏡１１と、棒状光源１０の長手方向に配列された複数の平行板２１からなるルーバー２０と、ルーバー２０によって平行光化された光を直線偏光するワイヤーグリッド偏光子３０と、から構成される。
そして、ワイヤーグリッド偏光子３０を通して発せられる偏光紫外線が配向層用塗膜に照射される。
図２に示すように、光配向装置３ａは、棒状光源１０と、棒状光源１０からの光を垂直方向に効率良くワイヤーグリッド偏光子３０側へ反射させる凹面反射鏡１１と、棒状光源１０の長手方向に配列された複数の平行板２１からなるルーバー２０と、ルーバー２０によって平行光化された光を直線偏光するワイヤーグリッド偏光子３０と、から構成される。
そして、ワイヤーグリッド偏光子３０を通して発せられる偏光紫外線が配向層用塗膜に照射される。
・棒状光源
棒状光源１０としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
棒状光源１０から発せられる紫外線のピーク波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。
棒状光源１０としては、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管等を挙げることができる。
棒状光源１０から発せられる紫外線のピーク波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。
・ルーバー
ルーバー２０は、図２に示すように、平行板２１はバックアップロール３ｂの長手方向Ｘ（即ち、バックアップロール３ｂの周方向）に、等間隔で配列されており、棒状光源１０とワイヤーグリッド偏光子３０との間に配置される。ルーバー２０を設置することによって、棒状光源１０からの光を平行光化して、ワイヤーグリッド偏光子３０に入射する光の広がりを抑え、バックアップロールに対して真正面からの光にすることができる。
また、平行板２１は、図２では、バックアップロールの長手方向Ｘに直交する角度で配置されているが、直交に限らず斜め方向に平行して配置されていてもよい。平行板２１は、不図示の連動機構によって、ピッチと角度とを調整することができる。
ルーバー２０は、図２に示すように、平行板２１はバックアップロール３ｂの長手方向Ｘ（即ち、バックアップロール３ｂの周方向）に、等間隔で配列されており、棒状光源１０とワイヤーグリッド偏光子３０との間に配置される。ルーバー２０を設置することによって、棒状光源１０からの光を平行光化して、ワイヤーグリッド偏光子３０に入射する光の広がりを抑え、バックアップロールに対して真正面からの光にすることができる。
また、平行板２１は、図２では、バックアップロールの長手方向Ｘに直交する角度で配置されているが、直交に限らず斜め方向に平行して配置されていてもよい。平行板２１は、不図示の連動機構によって、ピッチと角度とを調整することができる。
なお、図２では、ルーバー２０が、バックアップロール３ｂの長手方向に配列された平行板からなる場合を示したが、ルーバー２０の構成はこれに限られない。ルーバー２０の別の構成としては、例えば、断面が多角形又は円形である複数の筒部から構成され、筒の中心軸がバックアップロールの中心軸に垂直な方向に配置したものでもよく、筒を構成する面に無反射膜を有していてもよい。
また、ルーバー２０は棒状光源１０とできるだけ近接させて、ルーバー２０からの光漏れがないように設置するのが好ましい。光漏れを抑止するには、ルーバー２０と棒状光源１０を接触させてもよいし、隙間を他の部材で遮蔽してもよい。
また、ルーバー２０とワイヤーグリッド偏光子３０との隙間についても同様である。
また、ルーバー２０とワイヤーグリッド偏光子３０との隙間についても同様である。
ルーバー２０の材質は、ステンレス又はアルミニウムのような耐熱性のある材料を用いることができる。
ルーバー２０の表面は、照射光の照射効率を高めるために、平滑化して反射率を向上させたものであってもよい。また、ルーバー２０は、照射光の直進性を高めるために、表面に凹凸を付与する、又は無反射膜で覆って反射率を低減させてもよい。ルーバー２０の表面の反射率を低減させる場合は、ルーバー２０の平行板２１の表面には、光吸収部材が設けられていることが好ましい。
ルーバー２０の表面は、照射光の照射効率を高めるために、平滑化して反射率を向上させたものであってもよい。また、ルーバー２０は、照射光の直進性を高めるために、表面に凹凸を付与する、又は無反射膜で覆って反射率を低減させてもよい。ルーバー２０の表面の反射率を低減させる場合は、ルーバー２０の平行板２１の表面には、光吸収部材が設けられていることが好ましい。
・ワイヤーグリッド偏光子
図２及び図３に示すように、ワイヤーグリッド偏光子３０は、複数のワイヤーグリッド偏光素子３２が枠３１に保持されてなる。
そして、各ワイヤーグリッド偏光素子３２は、基板３３上に複数の直線状の電気導体からなるワイヤーグリッド３４が配列されている。
ワイヤーグリッド偏光素子３２は、ワイヤーグリッド３４の長手方向と平行な偏波（偏光）成分は反射し、直交する偏波（偏光）成分は通過する。直交する偏波成分を通過する方向を透過軸という。
電気導体としては、クロム、アルミニウム等の金属線が挙げられる。
図２及び図３に示すように、ワイヤーグリッド偏光子３０は、複数のワイヤーグリッド偏光素子３２が枠３１に保持されてなる。
そして、各ワイヤーグリッド偏光素子３２は、基板３３上に複数の直線状の電気導体からなるワイヤーグリッド３４が配列されている。
ワイヤーグリッド偏光素子３２は、ワイヤーグリッド３４の長手方向と平行な偏波（偏光）成分は反射し、直交する偏波（偏光）成分は通過する。直交する偏波成分を通過する方向を透過軸という。
電気導体としては、クロム、アルミニウム等の金属線が挙げられる。
ワイヤーグリッド３４の配列角度θは、図３に示すように、バックアップロール３ｂの長手方向Ｘの直交方向（即ち、図３中の点線で示す方向）に対して０°＜θ＜９０°を満たすことが好ましい。つまり、ワイヤーグリッド３４の配列角度θは、バックアップロール３ｂの長手方向Ｘに対して直交又は平行ではない角度が好ましいということになる。
・光配向装置による偏光紫外線の照射角度
次に、バックアップロール３ｂ上での偏光紫外線の照射角度について図４を用いて説明する。
図４に示すように、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏに垂直な面内において、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏを通りワイヤーグリッド偏光子３０の基板面３８に垂直な線を基準線Ｌ１とし、基準線Ｌ１と、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏと連続フィルム支持体Ｆ上における偏光紫外線の照射領域Ａの搬送方向上流端Ｍとを結ぶ線Ｌ２とがなす角度をθ１とし、基準線Ｌ１と、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏと連続フィルム支持体Ｆ上における偏光紫外線の照射領域Ａの搬送方向下流端Ｎとを結ぶ線Ｌ３とがなす角度をθ２としたときに、｜θ１−θ２｜＜１０°を満たすことが好ましい。
より好ましくは、｜θ１−θ２｜＜７°であり、更に好ましくは、｜θ１−θ２｜＝０°である。
｜θ１−θ２｜＜１０°とすることにより、バックアップロール３ｂの曲面に対し、真正面から偏光紫外線を照射することができ、液晶化合物の配向軸のバラツキを低減させることができる。
次に、バックアップロール３ｂ上での偏光紫外線の照射角度について図４を用いて説明する。
図４に示すように、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏに垂直な面内において、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏを通りワイヤーグリッド偏光子３０の基板面３８に垂直な線を基準線Ｌ１とし、基準線Ｌ１と、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏと連続フィルム支持体Ｆ上における偏光紫外線の照射領域Ａの搬送方向上流端Ｍとを結ぶ線Ｌ２とがなす角度をθ１とし、基準線Ｌ１と、バックアップロール３ｂの軸中心Ｏと連続フィルム支持体Ｆ上における偏光紫外線の照射領域Ａの搬送方向下流端Ｎとを結ぶ線Ｌ３とがなす角度をθ２としたときに、｜θ１−θ２｜＜１０°を満たすことが好ましい。
より好ましくは、｜θ１−θ２｜＜７°であり、更に好ましくは、｜θ１−θ２｜＝０°である。
｜θ１−θ２｜＜１０°とすることにより、バックアップロール３ｂの曲面に対し、真正面から偏光紫外線を照射することができ、液晶化合物の配向軸のバラツキを低減させることができる。
−バックアップロール−
バックアップロール３ｂは、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロール３ｂとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から４０μｍ〜６０μｍが好ましい。
また、バックアップロール３ｂの表面粗さは、連続フィルム支持体Ｆとバックアップロール３ｂとの摩擦力のバラツキを低減させる観点から、表面粗さＲａにて０．１μｍ以下が好ましい。
バックアップロール３ｂは、特に制限無く、公知のものを用いることができる。
バックアップロール３ｂとしては、例えば、表面が、ハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。
メッキの厚みは、導電性と強度とを確保する観点から４０μｍ〜６０μｍが好ましい。
また、バックアップロール３ｂの表面粗さは、連続フィルム支持体Ｆとバックアップロール３ｂとの摩擦力のバラツキを低減させる観点から、表面粗さＲａにて０．１μｍ以下が好ましい。
バックアップロール３ｂの温度は、２５℃〜１００℃に維持されることが好ましく、２５℃〜５０℃がより好ましい。
バックアップロール３ｂを上記の温度に維持することで、巻き掛けられる連続フィルム支持体Ｆの温度制御を行うことができる。
バックアップロール３ｂを上記の温度に維持することで、巻き掛けられる連続フィルム支持体Ｆの温度制御を行うことができる。
バックアップロール３ｂは、表面温度を検知し、その温度に基づいて表面温度の制御を行う温度制御手段によってバックアップロール３ｂの表面温度が維持されることが好ましい。
バックアップロール３ｂの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水が用いられる。
バックアップロール３ｂの温度制御手段には、加熱手段及び冷却手段がある。加熱手段としては、誘導加熱、水加熱、油加熱等が用いられ、冷却手段としては、冷却水が用いられる。
バックアップロール３ｂの直径としては、連続フィルム支持体が巻き掛け易い観点、偏光紫外線の照射が容易な観点、及び、バックアップロール３ｂの製造コストの観点から、１００ｍｍ〜１０００ｍｍが好ましく、１００ｍｍ〜８００ｍｍがより好ましく、２００ｍｍ〜７００ｍｍがより好ましい。
第１工程では、偏光紫外線の照射を張架した状態の連続フィルム支持体Ｆに対して行うため、図１に示すように、例えば、バックアップロール３ｂが巻き掛けられた連続フィルム支持体Ｆに対して長手方向にテンションが掛けられていることが好ましい。
テンションが掛かっているときの連続フィルム支持体Ｆの幅（Ｆｗ２とする）は、テンションが掛かっていないときの連続フィルム支持体Ｆの幅（Ｆｗ１とする）に比べて小さくなる。
バックアップロール３ｂ上での連続フィルム支持体Ｆの幅の縮み率は、以下の式（１）から求められ、０．０５％〜１．００％であることが好ましく、０．０７％〜０．３０％であることがより好ましい。
式（１） 縮み率（％）＝（Ｆｗ１−Ｆｗ２）／Ｆｗ１×１００
（Ｆｗ１は、テンションが掛かっていないときの連続フィルム支持体の幅を示し、Ｆｗ２は、バックアップロール上でテンションが掛かっているときの連続フィルム支持体の幅を示す。）
上記のような縮み率になるよう、バックアップロール３ｂ上では連続フィルム支持体Ｆに対しテンションを掛ければよい。具体的には、上記の縮み率を達成するため、バックアップロール３ｂ上で連続フィルム支持体Ｆに掛けるテンションとしては、１００Ｎ／ｍ〜６００Ｎ／ｍが好ましい。
テンションが掛かっているときの連続フィルム支持体Ｆの幅（Ｆｗ２とする）は、テンションが掛かっていないときの連続フィルム支持体Ｆの幅（Ｆｗ１とする）に比べて小さくなる。
バックアップロール３ｂ上での連続フィルム支持体Ｆの幅の縮み率は、以下の式（１）から求められ、０．０５％〜１．００％であることが好ましく、０．０７％〜０．３０％であることがより好ましい。
式（１） 縮み率（％）＝（Ｆｗ１−Ｆｗ２）／Ｆｗ１×１００
（Ｆｗ１は、テンションが掛かっていないときの連続フィルム支持体の幅を示し、Ｆｗ２は、バックアップロール上でテンションが掛かっているときの連続フィルム支持体の幅を示す。）
上記のような縮み率になるよう、バックアップロール３ｂ上では連続フィルム支持体Ｆに対しテンションを掛ければよい。具体的には、上記の縮み率を達成するため、バックアップロール３ｂ上で連続フィルム支持体Ｆに掛けるテンションとしては、１００Ｎ／ｍ〜６００Ｎ／ｍが好ましい。
バックアップロール３ｂ上での連続フィルム支持体Ｆの搬送速度は、生産性の確保の観点、及び、偏光紫外線の照射の正確性を高める観点から、１０ｍ／ｍｉｎ以上１００ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましく、２０ｍ／ｍｉｎ以上６０ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。
また、バックアップロール３ｂに対する連続フィルム支持体Ｆのラップ角は、６０°以上が好ましく、９０°以上がより好ましい。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体Ｆがバックアップロール３ｂに接触するときの連続フィルム支持体Ｆの搬送方向と、バックアップロール３ｂから連続フィルム支持体Ｆが離間するときの連続フィルム支持体Ｆの搬送方向と、からなる角度をいう。
なお、ラップ角とは、連続フィルム支持体Ｆがバックアップロール３ｂに接触するときの連続フィルム支持体Ｆの搬送方向と、バックアップロール３ｂから連続フィルム支持体Ｆが離間するときの連続フィルム支持体Ｆの搬送方向と、からなる角度をいう。
以上のようにして、配向層用塗膜に偏光紫外線を照射することで、配向層形成用材料に光反応を生じさせ、その結果、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層が形成される。
〔第２工程〕
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第１工程後、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜（即ち、液晶層用塗膜）を形成する第２工程を有する。
第２工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、バックアップロール３ｂ上での配向層用塗膜に対する偏光紫外線の照射が終了すると、続いて、液晶層形成用材料の塗布手段４にて液晶化合物を含む液晶層形成用材料の塗布が行われ、その後、液晶層形成用材料の乾燥手段５による乾燥領域にて乾燥される。
こうして、連続フィルム支持体の配向層上には液晶層用塗膜が形成される。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第１工程後、配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜（即ち、液晶層用塗膜）を形成する第２工程を有する。
第２工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、バックアップロール３ｂ上での配向層用塗膜に対する偏光紫外線の照射が終了すると、続いて、液晶層形成用材料の塗布手段４にて液晶化合物を含む液晶層形成用材料の塗布が行われ、その後、液晶層形成用材料の乾燥手段５による乾燥領域にて乾燥される。
こうして、連続フィルム支持体の配向層上には液晶層用塗膜が形成される。
−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、更に、重合性化合物、架橋性化合物、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物又は円盤状液晶化合物を含有し、更に、重合性化合物、架橋性化合物、キラル剤、配向制御剤、重合開始剤、配向助剤等の公知のその他の成分を含有していてもよい。
・棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
棒状液晶化合物は、重合によって配向を固定することがより好ましく、そのため、重合性基を有する棒状液晶化合物を用いることが好ましい。
重合性を有する棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号公報、同５６２２６４８号公報、同５７７０１０７号公報、国際公開第９５／２２５８６号、同第９５／２４４５５号、同第９７／００６００号、同第９８／２３５８０号、同第９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報、特開２００７−２７９６８８号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
重合性を有する棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号公報、同５６２２６４８号公報、同５７７０１０７号公報、国際公開第９５／２２５８６号、同第９５／２４４５５号、同第９７／００６００号、同第９８／２３５８０号、同第９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が挙げられる。
更に、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報、特開２００７−２７９６８８号公報等に記載のものも好ましく用いることができる。
・円盤状液晶化合物
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。
−塗布方法及び乾燥方法−
液晶層形成用材料の塗布及び乾燥には、第１工程における塗布及び乾燥と同様の方法を用いることができるため、ここでは、詳細な説明は省略する。
但し、第２工程における液晶層形成用材料の塗布は、カーテンコーティング法又はダイコーティング法により行われることが好ましい。
このような塗布の方法を採用した場合であっても、後述の第４工程及び第５工程があることで、レターデーションの面内分布の小さな位相差フィルムが得られる。
液晶層形成用材料の塗布及び乾燥には、第１工程における塗布及び乾燥と同様の方法を用いることができるため、ここでは、詳細な説明は省略する。
但し、第２工程における液晶層形成用材料の塗布は、カーテンコーティング法又はダイコーティング法により行われることが好ましい。
このような塗布の方法を採用した場合であっても、後述の第４工程及び第５工程があることで、レターデーションの面内分布の小さな位相差フィルムが得られる。
ここで、第２工程に用いられる液晶化合物を含む液晶層形成用材料（即ち、上述の塗布に適用する塗布液）の固形分濃度は、５質量％〜４０質量％であることが好ましい。
また、液晶化合物を含む液晶層形成用材料（即ち、上述の塗布に適用する塗布液）の２５℃における粘度としては、０．５ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
また、液晶化合物を含む液晶層形成用材料（即ち、上述の塗布に適用する塗布液）の２５℃における粘度としては、０．５ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
−液晶化合物の配向−
後述する第３工程において、液晶化合物の配向を固定する前には、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させる、又は加熱することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
後述する第３工程において、液晶化合物の配向を固定する前には、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温等により乾燥させる、又は加熱することにより行うことができる。
配向処理で形成される液晶は、サーモトロピック性をもつ液晶化合物の場合、一般に温度又は圧力の変化により転移させることができる。また、リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法でスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶が得られる。
棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、1０秒間〜３分間が更に好ましく、1０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間が更に好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間が更に好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。
液晶化合物の配向は、第２工程における乾燥にて行われてもよい。つまり、第２工程における乾燥にて、配向層上に塗布された液晶層形成用材料の乾燥と液晶化合物の配向との両方を行ってもよい。
勿論、液晶化合物の配向を、第２工程における乾燥とは別に行ってもよい。その場合、図１に示す乾燥手段５の連続フィルム支持体Ｆの搬送方向下流側に、液晶化合物の配向のための乾燥手段又は加熱手段を備えていればよい。
勿論、液晶化合物の配向を、第２工程における乾燥とは別に行ってもよい。その場合、図１に示す乾燥手段５の連続フィルム支持体Ｆの搬送方向下流側に、液晶化合物の配向のための乾燥手段又は加熱手段を備えていればよい。
〔第３工程〕
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第２工程の後、液晶層用塗膜に紫外線を照射する第３工程を有する。
第３工程により、液晶層用塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する。
第３工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、連続フィルム支持体Ｆの配向層上に液晶層用塗膜が形成された後、この液晶層用塗膜に対し、紫外線照射手段６にて紫外線の照射を行う。この紫外線の照射により、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成する。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第２工程の後、液晶層用塗膜に紫外線を照射する第３工程を有する。
第３工程により、液晶層用塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する。
第３工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、連続フィルム支持体Ｆの配向層上に液晶層用塗膜が形成された後、この液晶層用塗膜に対し、紫外線照射手段６にて紫外線の照射を行う。この紫外線の照射により、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成する。
−液晶化合物の配向の固定−
第３工程では、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向を固定する。
液晶化合物の配向の固定は、熱重合又は活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した、液晶化合物が有する重合性基又は重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。
製造適性等を考慮すると、図１に示すような、紫外線照射手段６から照射された紫外線による重合反応を好ましく用いることができる。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、紫外線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が５％以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用塗膜の厚みにもよるが、紫外線照射量は、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
第３工程では、液晶層用塗膜中の液晶化合物の配向を固定する。
液晶化合物の配向の固定は、熱重合又は活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した、液晶化合物が有する重合性基又は重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。
製造適性等を考慮すると、図１に示すような、紫外線照射手段６から照射された紫外線による重合反応を好ましく用いることができる。
重合性を有する液晶化合物を用いる場合、紫外線の照射量が少ないと、未重合の液晶化合物が残存し、光学特性の温度変化、経時劣化等の起きる原因となる。そのため、残存する未重合の液晶化合物の割合が５％以下になるように照射条件を決めることが好ましい。
照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用塗膜の厚みにもよるが、紫外線照射量は、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
その他、液晶層及びその形成方法の詳細は、特開２００８−２２５２８１号公報及び特開２００８−０２６７３０号公報の記載を参酌できる。
〔第４工程〕
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第３工程にて紫外線が照射された液晶層用塗膜（即ち、形成された液晶層）に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程を有する。
第４工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、紫外線照射手段６にて紫外線の照射された液晶層用塗膜（液晶層）に対し、レターデーション測定装置７にて、連続フィルム支持体Ｆの幅方向に沿ってレターデーションを測定する。そして、レターデーション測定装置７にて測定された測定値に基づいて、制御部（即ち、制御手段）８にて、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める。
ここで、レターデーションの測定値の幅方向分布とは、連続フィルム支持体の幅方向に沿って測定したレターデーションの測定値の集合を指す。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第３工程にて紫外線が照射された液晶層用塗膜（即ち、形成された液晶層）に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程を有する。
第４工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、紫外線照射手段６にて紫外線の照射された液晶層用塗膜（液晶層）に対し、レターデーション測定装置７にて、連続フィルム支持体Ｆの幅方向に沿ってレターデーションを測定する。そして、レターデーション測定装置７にて測定された測定値に基づいて、制御部（即ち、制御手段）８にて、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める。
ここで、レターデーションの測定値の幅方向分布とは、連続フィルム支持体の幅方向に沿って測定したレターデーションの測定値の集合を指す。
レターデーション測定手段であるレターデーション測定装置７としては、特に制限はなく、搬送中の連続フィルム支持体Ｆ上の液晶層用塗膜（液晶層）のレターデーションを、連続フィルム支持体Ｆの幅方向に沿って測定できるものであればよい。
レターデーション測定装置７として具体的には、王子計測機器社の自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ等を用いることができる。
レターデーション測定装置７として具体的には、王子計測機器社の自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社のＡｘｏＳｃａｎ等を用いることができる。
レターデーションの測定は、図５Ａに示すように、連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚにそって複数個（図５Ａ中では１０個）並列したレターデーション測定装置７ａにて行ってもよい。また、レターデーションの測定は、図５Ｂに示すように、１つのレターデーション測定装置７ｂを連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚに沿って移動させつつ行ってもよい。
レターデーション測定装置７ａの場合、複数あるレターデーションの測定点（図５Ａ中のＰ）は、連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚにそって並列することとなる。
また、レターデーション測定装置７ｂの場合、複数あるレターデーションの測定点（図５Ｂ中のＰ）は、連続フィルム支持体Ｆを上面視した場合、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙに対し角度をもって、一定の間隔を空けて連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚに並ぶことになる。
ここで、図５Ａ及び図５Ｂ中、Ｐは、レターデーション測定装置にて測定された測定点を指し、Ｑは、レターデーション測定装置にて測定されるであろう測定目標点を指す。
測定目標点Ｑは、測定の間隔（即ち、図５Ａ中のＤａ又は図５Ｂ中のＤｂ）によって決定されればよい。例えば、図５Ａであれば、測定目標点Ｑは、レターデーションの測定点Ｐに対し、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙの上流側に間隔Ｄａを空けた箇所に該当する。そのため、図５Ａにおける測定目標点Ｑは、連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚにそって並列することとなる。また、図５Ｂであれば、測定目標点Ｑは、レターデーションの測定点Ｐに対し、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙの上流側に間隔Ｄｂを空けた箇所に該当する。そのため、図５Ｂにおける測定目標点Ｑも、連続フィルム支持体Ｆを上面視した場合、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙに対し角度をもって、一定の間隔を空けて連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚに並ぶことになる。
レターデーション測定装置７ａの場合、複数あるレターデーションの測定点（図５Ａ中のＰ）は、連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚにそって並列することとなる。
また、レターデーション測定装置７ｂの場合、複数あるレターデーションの測定点（図５Ｂ中のＰ）は、連続フィルム支持体Ｆを上面視した場合、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙに対し角度をもって、一定の間隔を空けて連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚに並ぶことになる。
ここで、図５Ａ及び図５Ｂ中、Ｐは、レターデーション測定装置にて測定された測定点を指し、Ｑは、レターデーション測定装置にて測定されるであろう測定目標点を指す。
測定目標点Ｑは、測定の間隔（即ち、図５Ａ中のＤａ又は図５Ｂ中のＤｂ）によって決定されればよい。例えば、図５Ａであれば、測定目標点Ｑは、レターデーションの測定点Ｐに対し、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙの上流側に間隔Ｄａを空けた箇所に該当する。そのため、図５Ａにおける測定目標点Ｑは、連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚにそって並列することとなる。また、図５Ｂであれば、測定目標点Ｑは、レターデーションの測定点Ｐに対し、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙの上流側に間隔Ｄｂを空けた箇所に該当する。そのため、図５Ｂにおける測定目標点Ｑも、連続フィルム支持体Ｆを上面視した場合、連続フィルム支持体Ｆの搬送方向Ｙに対し角度をもって、一定の間隔を空けて連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚに並ぶことになる。
図５Ａ及び図５Ｂでは、連続フィルム支持体Ｆの幅方向Ｚにおけるレターデーションの測定点の数を１０個としているが、これに限定されない。連続フィルム支持体Ｆの幅方向におけるレターデーションの測定点の数は、レターデーションの測定装置の大きさ、連続フィルム支持体Ｆの幅、後述する紫外線の照度の調整可能な幅等に応じて、決定されればよい。
また、連続フィルム支持体Ｆの長手方向におけるレターデーションの測定点の数は、図５Ａ及び図５Ｂに示すように１個であってもよいし、複数個であってもよい。連続フィルム支持体Ｆの長手方向におけるレターデーションの測定点の数が複数個、例えば、５個である場合、その５個の値の平均値を用いて、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めればよい。
また、連続フィルム支持体Ｆの長手方向におけるレターデーションの測定点の数は、図５Ａ及び図５Ｂに示すように１個であってもよいし、複数個であってもよい。連続フィルム支持体Ｆの長手方向におけるレターデーションの測定点の数が複数個、例えば、５個である場合、その５個の値の平均値を用いて、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めればよい。
測定された測定値は、制御部８内に格納される。そして、制御部８は、測定された測定値を用いてレターデーションの測定値の幅方向分布を求める。
第４工程におけるレターデーションの測定は、連続フィルム支持体Ｆの搬送距離に対し一定の間隔（例えば、図５Ａ中のＤａ又は図５Ｂ中のＤｂ）で行うことが好ましい。
間隔が短いほど、位相差フィルムのレターデーションの面内分布をより少なくし易い。
例えば、連続フィルム支持体Ｆの搬送距離（即ち、図５Ａ中のＤａ又は図５Ｂ中のＤｂ）であれば、生産性等の点から、１０ｍ〜１００ｍの範囲内毎に行うことが好ましく、０．１ｍ〜１ｍの範囲内毎に行うことがより好ましい。
なお、レターデーションの測定は、制御部８により制御された自動計測であってもよいし、製造者、作業者等による手動計測であってもよい。
間隔が短いほど、位相差フィルムのレターデーションの面内分布をより少なくし易い。
例えば、連続フィルム支持体Ｆの搬送距離（即ち、図５Ａ中のＤａ又は図５Ｂ中のＤｂ）であれば、生産性等の点から、１０ｍ〜１００ｍの範囲内毎に行うことが好ましく、０．１ｍ〜１ｍの範囲内毎に行うことがより好ましい。
なお、レターデーションの測定は、制御部８により制御された自動計測であってもよいし、製造者、作業者等による手動計測であってもよい。
〔第５工程〕
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第４工程にて求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する第５工程を有する。
つまり、第５工程では、第４工程にて求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値がなければ、紫外線の照度の調整は行われない。
なお、照度（単位：ｍＷ／ｃｍ２）は、液晶層用塗膜に対する紫外線照射量（単位：ｍＪ／ｃｍ２）を制御することで調整されることが好ましい。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法は、第４工程にて求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する第５工程を有する。
つまり、第５工程では、第４工程にて求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値がなければ、紫外線の照度の調整は行われない。
なお、照度（単位：ｍＷ／ｃｍ２）は、液晶層用塗膜に対する紫外線照射量（単位：ｍＪ／ｃｍ２）を制御することで調整されることが好ましい。
第５工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、制御部８にて、レターデーションの測定値の幅方向分布が求められると、同じく、制御部８にて、幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があるかどうかが判断される。そして、制御部８が、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったと判断したとき、紫外線照射手段６において、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する。
このように、第５工程により、第３工程での紫外線の照射における照度が調整される。そして、第３工程の調整された照度は、次に、第５工程にて照度の調整が行われるまで維持される。
図１に示すように、制御部８にて、レターデーションの測定値の幅方向分布が求められると、同じく、制御部８にて、幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があるかどうかが判断される。そして、制御部８が、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったと判断したとき、紫外線照射手段６において、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する。
このように、第５工程により、第３工程での紫外線の照射における照度が調整される。そして、第３工程の調整された照度は、次に、第５工程にて照度の調整が行われるまで維持される。
ここで、「所定範囲」としては、位相差フィルムに求められるレターデーションのムラの許容値、及び、生産性に応じて決定されればよい。
具体的には、所定範囲とは、レターデーションの測定値の幅方向分布において、好ましくは、目標値から±１．５％以下をいい、より好ましくは、目標値から±０．５％以下をいい、更に好ましくは、目標値から±０．２５％以下をいう。
つまり、第５工程では、例えば、レターデーションの測定値の幅方向分布において、目標値から±１．５％を超えた測定値があるかどうかが判断される。
ここで、目標値とは、製造される位相差フィルムに求められるレターデーションの値に相当する。
具体的には、所定範囲とは、レターデーションの測定値の幅方向分布において、好ましくは、目標値から±１．５％以下をいい、より好ましくは、目標値から±０．５％以下をいい、更に好ましくは、目標値から±０．２５％以下をいう。
つまり、第５工程では、例えば、レターデーションの測定値の幅方向分布において、目標値から±１．５％を超えた測定値があるかどうかが判断される。
ここで、目標値とは、製造される位相差フィルムに求められるレターデーションの値に相当する。
制御部８は、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があった判断したとき、紫外線照射手段６を制御し、所定範囲から外れた測定値の測定位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を調整する。
紫外線照射手段６に用いる光源としては、第３工程に記載の紫外線照射量が達成できれば制限はなく、例えば、発光ダイオード（light emitting diode:ＬＥＤ）、キセノンランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等のショートアークランプが好ましいものとして挙げられる。中でも、紫外線の照度を調整し易い点から、発光ダイオードを用いることが好ましい。
より細かな照度の調整を可能とするため、紫外線照射手段６に用いる光源としては、複数個の発光ダイオード素子を備えるユニットを連続フィルム支持体の幅方向に沿って複数個並列したモジュール光源（以降、「ＬＥＤモジュール」ともいう）であることが好ましい。
より細かな照度の調整を可能とするため、紫外線照射手段６に用いる光源としては、複数個の発光ダイオード素子を備えるユニットを連続フィルム支持体の幅方向に沿って複数個並列したモジュール光源（以降、「ＬＥＤモジュール」ともいう）であることが好ましい。
複数個のＬＥＤ素子を備えるユニットとは、複数個（例えば、１０個〜２０個）のＬＥＤ素子をまとめてユニット化したものを指す。
この複数個のＬＥＤ素子を備えるユニットを複数個（例えば、５個〜１５個）並列したモジュール光源は、ユニット毎に照度の調整が可能である。
この複数個のＬＥＤ素子を備えるユニットを複数個（例えば、５個〜１５個）並列したモジュール光源は、ユニット毎に照度の調整が可能である。
具体的な照度の調整方法について、以下に説明する。
位相差フィルムのレターデーション（Ｒｅ）は、Ｒｅ＝Δｎ×液晶層用塗膜の膜厚の関係を満たす（Δｎは複屈折）。
そのため、液晶層用塗膜の膜厚が大きい箇所はレターデーションの値が大きくなる傾向があるため、紫外線の照度を上げて（即ち、液晶層用塗膜の温度を上げて）Δｎを小さくすればよい。
また、液晶層用塗膜の膜厚が小さい箇所は、レターデーションの値が小さくなる傾向があるため、紫外線の照度を下げて（温度を下げて）Δｎを大きくすればよい。
位相差フィルムのレターデーション（Ｒｅ）は、Ｒｅ＝Δｎ×液晶層用塗膜の膜厚の関係を満たす（Δｎは複屈折）。
そのため、液晶層用塗膜の膜厚が大きい箇所はレターデーションの値が大きくなる傾向があるため、紫外線の照度を上げて（即ち、液晶層用塗膜の温度を上げて）Δｎを小さくすればよい。
また、液晶層用塗膜の膜厚が小さい箇所は、レターデーションの値が小さくなる傾向があるため、紫外線の照度を下げて（温度を下げて）Δｎを大きくすればよい。
なお、Δｎ（複屈折）が温度で変わるのは、液晶化合物の配向のゆらぎが起因する。
前述したように、液晶層用塗膜は、液晶化合物の配向がなされた後に、第３工程での紫外線照射にて、液晶化合物の配向が固定化される。この際、液晶化合物の配向性が高い状態で紫外線照射にて配向が固定化されてしまうと、液晶層用塗膜の膜厚のバラツキに起因するレターデーションのムラが生じる。
そこで、本工程では、紫外線の照度の調整により、僅かに液晶化合物をゆらがせて、Δｎを変化させて液晶化合物の配向を固定化し、レターデーションの値の制御を行う。
前述したように、液晶層用塗膜は、液晶化合物の配向がなされた後に、第３工程での紫外線照射にて、液晶化合物の配向が固定化される。この際、液晶化合物の配向性が高い状態で紫外線照射にて配向が固定化されてしまうと、液晶層用塗膜の膜厚のバラツキに起因するレターデーションのムラが生じる。
そこで、本工程では、紫外線の照度の調整により、僅かに液晶化合物をゆらがせて、Δｎを変化させて液晶化合物の配向を固定化し、レターデーションの値の制御を行う。
照度の調整としては、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲からプラスの方向に外れた測定値があったときには、その測定値の測定位置に対応する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を上げる。
一方、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲からマイナスの方向に外れた測定値があったときには、その測定値の測定位置に対応する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を下げる。
一方、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲からマイナスの方向に外れた測定値があったときには、その測定値の測定位置に対応する幅方向位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度を下げる。
照度の調整量としては、例えば、紫外線照射量を１．０ｍＪ／ｃｍ２上げる又は下げるといったように、予め決めておいた調整量であってもよいし、レターデーションの測定値の所定範囲から外れた値に応じた調整量であってもよい。
前者の場合、予め決めておいた調整量としては、製造者、作業者等の経験に基づく調整量、紫外線照射手段６の最少調整量等が挙げられる。
前者の場合、予め決めておいた調整量としては、製造者、作業者等の経験に基づく調整量、紫外線照射手段６の最少調整量等が挙げられる。
レターデーションの面内分布をより少なくするためには、照度の調整量は、レターデーションの測定値の所定範囲から外れた値に応じた調整量であることが好ましい。
つまり、第５工程は、事前に取得した、塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係から得られた調整量にて、塗膜に照射する紫外線の照度を調整する工程である、ことが好ましい。
具体的には、事前に、液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係を取得しておく。そして、この関係に基づいて、レターデーションの測定値の所定範囲から外れた値に応じて決定された照度の調整量を採用する。
より具体的な照度の調整量の決定方法については、実施例にて説明する。
つまり、第５工程は、事前に取得した、塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係から得られた調整量にて、塗膜に照射する紫外線の照度を調整する工程である、ことが好ましい。
具体的には、事前に、液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係を取得しておく。そして、この関係に基づいて、レターデーションの測定値の所定範囲から外れた値に応じて決定された照度の調整量を採用する。
より具体的な照度の調整量の決定方法については、実施例にて説明する。
上述した照度の調整は、制御部８にて行われる。
制御部８は、第４工程及び第５工程を行うに際し必要な各種プログラムなどを記憶したＲＯＭ（Read Only Memory、読み出し専用メモリ）、データを一時的に記憶するＲＡＭ（Random Access Memory、書き換え可能メモリ）、及び、第４工程及び第５工程を行うに際し必要な各種プログラムを実行するＣＰＵ（Central Processing Unit、中央演算素子）等を有している。
なお、制御部８としては、位相差フィルムの製造装置の一部の動作を制御するものであっても良いし、位相差フィルムの製造装置全体の動作を制御するものであってもよい。
但し、照度の調整は、必ずしも制御部８にて行われる必要はなく、製造者、作業者等が手動で行ってもよい。
制御部８は、第４工程及び第５工程を行うに際し必要な各種プログラムなどを記憶したＲＯＭ（Read Only Memory、読み出し専用メモリ）、データを一時的に記憶するＲＡＭ（Random Access Memory、書き換え可能メモリ）、及び、第４工程及び第５工程を行うに際し必要な各種プログラムを実行するＣＰＵ（Central Processing Unit、中央演算素子）等を有している。
なお、制御部８としては、位相差フィルムの製造装置の一部の動作を制御するものであっても良いし、位相差フィルムの製造装置全体の動作を制御するものであってもよい。
但し、照度の調整は、必ずしも制御部８にて行われる必要はなく、製造者、作業者等が手動で行ってもよい。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法では、第４工程、及び、第５工程における「レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があるかどうかが判断する」処理は、連続フィルム支持体の連続搬送中、連続フィルム支持体に終端が第３工程を通過するまで、逐次的又は連続的に行われる。そして、レターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったと判断したとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置の液晶層用塗膜に照射する紫外線の照度が調整される。
このようにして、液晶層用塗膜の塗布厚みムラに起因するレターデーションのムラを小さくしうることから、一実施形態の位相差フィルムの製造方法によれば、レターデーションの面内分布が少ない位相差フィルムが得られる。
このようにして、液晶層用塗膜の塗布厚みムラに起因するレターデーションのムラを小さくしうることから、一実施形態の位相差フィルムの製造方法によれば、レターデーションの面内分布が少ない位相差フィルムが得られる。
〔第６工程〕
一実施形態の位相差フィルムの製造方法では、第４工程において紫外線が照射された液晶層用塗膜に対し、高圧水銀光源又はメタルハライド光源により更に紫外線を照射する第６工程を有することが好ましい。
第６工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、紫外線照射手段６により、紫外線が照射された液晶層用塗膜に対し、紫外線照射手段９にて更に紫外線を照射する。
第６工程を行うことで、位相差フィルムとして十分な膜強度が得られる。
一実施形態の位相差フィルムの製造方法では、第４工程において紫外線が照射された液晶層用塗膜に対し、高圧水銀光源又はメタルハライド光源により更に紫外線を照射する第６工程を有することが好ましい。
第６工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１に示すように、紫外線照射手段６により、紫外線が照射された液晶層用塗膜に対し、紫外線照射手段９にて更に紫外線を照射する。
第６工程を行うことで、位相差フィルムとして十分な膜強度が得られる。
第６工程における紫外線の照射条件としては、液晶層形成用材料の処方、及び液晶層用塗膜の厚みにもよるが、紫外線照射量は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
第５工程又は第６工程を経て液晶層が形成される。
形成された液晶層の膜厚は、例えば、１μｍ〜４μｍが好ましく、２μｍ〜３μｍがより好ましい。
形成された液晶層の膜厚は、例えば、１μｍ〜４μｍが好ましく、２μｍ〜３μｍがより好ましい。
〔位相差フィルム〕
以上のようにして、一実施形態の位相差フィルムの製造方法及び製造装置により、位相差フィルムが製造される。
製造された位相差フィルムとしては、レターデーションの面内分布が３％未満であることが好ましく、０．５％未満がより好ましい。
ここで、レターデーションの面内分布は、以下のようにして求める。
位相差フィルムの長手方向の任意の箇所を、幅方向の中心を含むように１０００ｍｍ×１０００ｍｍで切り出す。
切り出したサンプルを、長手方向に等間隔で１１分割し、幅方向にも等間隔で１１分割する。分割箇所の交差点１００点について、レターデーションを測定する。レターデーションの測定には、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器社）を用いる。
測定した１００点について、最大値Ｒｅｍａｘ、最小値Ｒｅｍｉｎ、及び平均値Ｒｅａｖｅを求め、以下の式を用いてレターデーションの面内分布を算出する。
レターデーションの面内分布（％）＝（Ｒｅｍａｘ−Ｒｅｍｉｎ）／Ｒｅａｖｅ×１００
以上のようにして、一実施形態の位相差フィルムの製造方法及び製造装置により、位相差フィルムが製造される。
製造された位相差フィルムとしては、レターデーションの面内分布が３％未満であることが好ましく、０．５％未満がより好ましい。
ここで、レターデーションの面内分布は、以下のようにして求める。
位相差フィルムの長手方向の任意の箇所を、幅方向の中心を含むように１０００ｍｍ×１０００ｍｍで切り出す。
切り出したサンプルを、長手方向に等間隔で１１分割し、幅方向にも等間隔で１１分割する。分割箇所の交差点１００点について、レターデーションを測定する。レターデーションの測定には、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器社）を用いる。
測定した１００点について、最大値Ｒｅｍａｘ、最小値Ｒｅｍｉｎ、及び平均値Ｒｅａｖｅを求め、以下の式を用いてレターデーションの面内分布を算出する。
レターデーションの面内分布（％）＝（Ｒｅｍａｘ−Ｒｅｍｉｎ）／Ｒｅａｖｅ×１００
製造された位相差フィルムは、レターデーションが５０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましい。
上記のようなレターデーションの値を有する位相差フィルムを製造する方法として、前述の一実施形態の位相差フィルムの製造方法及び製造装置が好適である。
上記のようなレターデーションの値を有する位相差フィルムを製造する方法として、前述の一実施形態の位相差フィルムの製造方法及び製造装置が好適である。
以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
［実施例１］
（第１工程：配向層用塗膜の形成）
長さ１０００ｍ、幅１０００ｍｍのセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社）からなる連続フィルム支持体の片面に、下記の組成の配向層形成材料をワイヤーバーで塗布した。その後、塗布された配向層形成材料を６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜厚０．５μｍの配向層用塗膜を形成した。
（第１工程：配向層用塗膜の形成）
長さ１０００ｍ、幅１０００ｍｍのセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社）からなる連続フィルム支持体の片面に、下記の組成の配向層形成材料をワイヤーバーで塗布した。その後、塗布された配向層形成材料を６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜厚０．５μｍの配向層用塗膜を形成した。
−配向層形成用材料の組成−
光配向用素材Ｐ−１ １．０質量部
ブトキシエタノール ３３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３３質量部
水 ３３質量部
光配向用素材Ｐ−１ １．０質量部
ブトキシエタノール ３３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３３質量部
水 ３３質量部
（第１工程：偏光紫外線の照射）
次に、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、バックアップロール（直径６００ｍｍ、材質ステンレス）に巻き掛け（図２参照）、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社）を用いた光配向装置（図２と同様の構成）により偏光紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Ｍｏｘｔｅｋ社、ＰｒｏＦｌｕｘ ＵＶＴ３００Ａ）におけるワイヤーグリッドの配列角度θを４５°にし、また、｜θ１−θ２｜＝０°として、偏光紫外線の照射を行い、配向層を形成した。
この際、紫外線の照度は、ＵＶ（ultra-violet）−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ２とした。
また、バックアップロール上の連続フィルム支持体の幅の縮み率は０．１０％であった。
次に、配向層用塗膜が形成された連続フィルム支持体を、バックアップロール（直径６００ｍｍ、材質ステンレス）に巻き掛け（図２参照）、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社）を用いた光配向装置（図２と同様の構成）により偏光紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Ｍｏｘｔｅｋ社、ＰｒｏＦｌｕｘ ＵＶＴ３００Ａ）におけるワイヤーグリッドの配列角度θを４５°にし、また、｜θ１−θ２｜＝０°として、偏光紫外線の照射を行い、配向層を形成した。
この際、紫外線の照度は、ＵＶ（ultra-violet）−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ２とした。
また、バックアップロール上の連続フィルム支持体の幅の縮み率は０．１０％であった。
（第２工程：液晶層用塗膜の形成）
続いて、下記の組成の液晶層形成用材料を調製した。
液晶層形成用材料の固形分濃度は１５質量％であり、液晶層形成用材料の２５℃における粘度は２．０ｍＰａ・ｓであった。
続いて、下記の組成の液晶層形成用材料を調製した。
液晶層形成用材料の固形分濃度は１５質量％であり、液晶層形成用材料の２５℃における粘度は２．０ｍＰａ・ｓであった。
−液晶層形成用材料の組成−
逆波長分散液晶性化合物 Ｒ−３ １００質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社）
含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
架橋性ポリマー Ｏ−２ ０．３質量部
クロロホルム ５８８質量部
逆波長分散液晶性化合物 Ｒ−３ １００質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社）
含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
架橋性ポリマー Ｏ−２ ０．３質量部
クロロホルム ５８８質量部
配向層上に液晶層形成用材料を、カーテンコーティング法を用いて塗布した。
塗布された液晶層形成用材料を膜面温度１００℃にて６０秒間加熱して、液晶層用塗膜を形成し、７０℃まで冷却した。
塗布された液晶層形成用材料を膜面温度１００℃にて６０秒間加熱して、液晶層用塗膜を形成し、７０℃まで冷却した。
（第３工程：紫外線の照射）
続いて、空気下にて、アクロエッジ社のＬＥＤモジュールを用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、液晶層を形成した。
使用したＬＥＤモジュールは、日亜化学工業社のピーク波長３６５ｎｍの素子を連続フィルム支持体の幅方向に１０個並べたものを一つのユニットとし、このユニットを連続フィルム支持体の幅方向に１０個並列したもの、であった。
続いて、空気下にて、アクロエッジ社のＬＥＤモジュールを用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、液晶層を形成した。
使用したＬＥＤモジュールは、日亜化学工業社のピーク波長３６５ｎｍの素子を連続フィルム支持体の幅方向に１０個並べたものを一つのユニットとし、このユニットを連続フィルム支持体の幅方向に１０個並列したもの、であった。
（第４工程及び第５工程：レターデーションの測定と照度の調整）
続いて、上記ＬＥＤモジュールを含む光源による紫外線の照射後、液晶層用塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めた（第４工程）。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、紫外線の照度を調整した（第５工程）。
続いて、上記ＬＥＤモジュールを含む光源による紫外線の照射後、液晶層用塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めた（第４工程）。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、紫外線の照度を調整した（第５工程）。
第４工程及び第５工程の詳細は、以下の通りである。
レターデーションの測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社）を用いた（以降、測定器という）。
連続フィルム支持体の幅をＬＥＤモジュールのユニット数で分割し（つまり、１０分割）、分割領域の中心部について、測定器を連続フィルム支持体の幅方向に順次動かし、レターデーションの測定を行った。つまり、連続フィルム支持体の幅方向に対し、１００ｍｍ間隔で測定器を動かし、レターデーションの測定を行った。
１点目のレターデーションの測定は、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部にある分割領域の中心部について行った。１点のレターデーションの測定時間は２秒間で、この間の測定値（測定器は静止したまま、連続フィルム支持体の搬送方向に５回繰り返し測定）を平均し、レターデーションの測定値を算出した。次の測定位置（即ち、隣接する分割領域の中心部）に移動するのにかかる時間は１秒で、移動後に同様の測定時間をかけ、レターデーションの測定値を得た。この測定操作を繰り返すことで、連続フィルム支持体の幅方向の一端から他端まで計１０点の測定を実施した（これを１サイクルとする）。計１０点のレターデーションの測定を実施した後、測定器を１点目のレターデーションの測定位置まで移動させ、２サイクル目の待機状態とした。
１サイクル目の測定の結果、目標値（目標のレターデーション値）から±０．５％を超えるズレがある測定値があったため、この測定値に相当する幅方向位置について、対応する第３工程のＬＥＤモジュールにより、液晶層用塗膜に対する紫外線の照度を調整した。例えば、レターデーションに２％のズレが生じた位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜については、紫外線照射量が９０ｍＪ／ｃｍ２になるよう、ＬＥＤモジュール内のユニットの出力を１０％小さくした。
紫外線の照度を変更した後、第３工程を通過した連続フィルム支持体が、第４工程のレターデーションの測定位置に到達するまでにかかる時間以上（ここでは、１分間とした、搬送距離では２０ｍに相当）が経過した後、第４工程にて、再度レターデーションを測定した（２サイクル目）。
２サイクル目の結果、測定された１０個の測定値すべてが、目標値から±０．５％以下の範囲に入っていたため、第５工程における紫外線の照度の調整は実施しなかった。
続いて、測定器を再び１点目のレターデーションの測定位置へ移動し、１分間おいた後、３サイクル目の測定を行った。
以降、レターデーションの測定値はいずれも目標値から±０．５％以下の範囲に入っていたため、第５工程における紫外線の照度の調整は実施しなかった。
なお、第４工程のレターデーション測定は一定時間ごとに続け、レターデーションの測定値が所定範囲に入っているかどうかの判断は繰り返し行った。
以上の作業を、連続フィルム支持体の長さ分だけ繰り返した。
レターデーションの測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社）を用いた（以降、測定器という）。
連続フィルム支持体の幅をＬＥＤモジュールのユニット数で分割し（つまり、１０分割）、分割領域の中心部について、測定器を連続フィルム支持体の幅方向に順次動かし、レターデーションの測定を行った。つまり、連続フィルム支持体の幅方向に対し、１００ｍｍ間隔で測定器を動かし、レターデーションの測定を行った。
１点目のレターデーションの測定は、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部にある分割領域の中心部について行った。１点のレターデーションの測定時間は２秒間で、この間の測定値（測定器は静止したまま、連続フィルム支持体の搬送方向に５回繰り返し測定）を平均し、レターデーションの測定値を算出した。次の測定位置（即ち、隣接する分割領域の中心部）に移動するのにかかる時間は１秒で、移動後に同様の測定時間をかけ、レターデーションの測定値を得た。この測定操作を繰り返すことで、連続フィルム支持体の幅方向の一端から他端まで計１０点の測定を実施した（これを１サイクルとする）。計１０点のレターデーションの測定を実施した後、測定器を１点目のレターデーションの測定位置まで移動させ、２サイクル目の待機状態とした。
１サイクル目の測定の結果、目標値（目標のレターデーション値）から±０．５％を超えるズレがある測定値があったため、この測定値に相当する幅方向位置について、対応する第３工程のＬＥＤモジュールにより、液晶層用塗膜に対する紫外線の照度を調整した。例えば、レターデーションに２％のズレが生じた位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜については、紫外線照射量が９０ｍＪ／ｃｍ２になるよう、ＬＥＤモジュール内のユニットの出力を１０％小さくした。
紫外線の照度を変更した後、第３工程を通過した連続フィルム支持体が、第４工程のレターデーションの測定位置に到達するまでにかかる時間以上（ここでは、１分間とした、搬送距離では２０ｍに相当）が経過した後、第４工程にて、再度レターデーションを測定した（２サイクル目）。
２サイクル目の結果、測定された１０個の測定値すべてが、目標値から±０．５％以下の範囲に入っていたため、第５工程における紫外線の照度の調整は実施しなかった。
続いて、測定器を再び１点目のレターデーションの測定位置へ移動し、１分間おいた後、３サイクル目の測定を行った。
以降、レターデーションの測定値はいずれも目標値から±０．５％以下の範囲に入っていたため、第５工程における紫外線の照度の調整は実施しなかった。
なお、第４工程のレターデーション測定は一定時間ごとに続け、レターデーションの測定値が所定範囲に入っているかどうかの判断は繰り返し行った。
以上の作業を、連続フィルム支持体の長さ分だけ繰り返した。
（第６工程：紫外線の照射）
なお、ＬＥＤモジュールによる露光後には、高圧水銀光源（アイグラフィクス社）にて、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
なお、ＬＥＤモジュールによる露光後には、高圧水銀光源（アイグラフィクス社）にて、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。
以上のようにして、膜厚２．５μｍの液晶層を有する位相差フィルムが得られた。得られた位相差フィルムは、ロール状に巻き取られた。
得られた位相差フィルムにおいて、液晶層は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が直交（すなわち、偏光板の吸収軸とも直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して直交に配向していた）。
得られた位相差フィルムにおいて、液晶層は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が直交（すなわち、偏光板の吸収軸とも直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して直交に配向していた）。
［実施例２］
液晶層用塗膜に対する紫外線の照射を、「アクロエッジ社のＬＥＤモジュール」から「高圧水銀灯（ショートアークランプ、ウシオ電機株式会社）を連続フィルム支持体の幅方向に沿って１０個並列した光源（以降、高圧水銀モジュールともいう）」に代えた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
なお、実施例２では、上記光源による紫外線の照射後、液晶層用塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めた（第４工程）。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、紫外線の照度を調整した（第５工程）。
液晶層用塗膜に対する紫外線の照射を、「アクロエッジ社のＬＥＤモジュール」から「高圧水銀灯（ショートアークランプ、ウシオ電機株式会社）を連続フィルム支持体の幅方向に沿って１０個並列した光源（以降、高圧水銀モジュールともいう）」に代えた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
なお、実施例２では、上記光源による紫外線の照射後、液晶層用塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めた（第４工程）。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、紫外線の照度を調整した（第５工程）。
第４工程及び第５工程の詳細は、以下の通りである。
レターデーションの測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社）を用いた（以降、測定器という）。
連続フィルム支持体の幅を高圧水銀灯を並列させた数で分割し（つまり、１０分割）、分割領域の中心部について、測定器を連続フィルム支持体の幅方向に順次動かし、レターデーションの測定を行った。つまり、連続フィルム支持体の幅方向に対し、１００ｍｍ間隔で測定器を動かし、レターデーションの測定を行った。
１点目のレターデーションの測定は、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部にある分割領域の中心部について行った。１点のレターデーションの測定時間は２秒間で、この間の測定値（測定器は静止したまま、連続フィルム支持体の搬送方向に５回繰り返し測定）を平均し、レターデーションの測定値を算出した。次の測定位置（即ち、隣接する分割領域の中心部）に移動するのにかかる時間は１秒で、移動後に同様の測定時間をかけ、レターデーションの測定値を得た。この測定操作を繰り返すことで、連続フィルム支持体の幅方向の一端から他端まで計１０点の測定を実施した（これを１サイクルとする）。計１０点のレターデーションの測定を実施した後、測定器を１点目のレターデーションの測定位置まで移動させ、２サイクル目の待機状態とした。
１サイクル目の測定の結果、目標値（目標のレターデーション値）から±０．５％を超えるズレがある測定値があったため、この測定値に相当する幅方向位置について、対応する第３工程の高圧水銀モジュールにより、液晶層用塗膜に対する紫外線の照度を調整した。例えば、レターデーションに２％のズレが生じた位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜については、紫外線照射量が９０ｍＪ／ｃｍ２になるよう、高圧水銀モジュール内の高圧水銀灯の出力を１０％小さくした。
紫外線の照度を変更した後、第３工程を通過した連続フィルム支持体が、第４工程のレターデーションの測定位置に到達するまでにかかる時間以上（ここでは、１分間とした、搬送距離では２０ｍに相当）が経過した後、第４工程にて、再度レターデーションを測定した（２サイクル目）。
２サイクル目の結果、目標値から±０．５％を超えるズレがある測定値があったため、第５工程にて、ズレ量に応じた紫外線の照度の調整を再度行った。
続いて、測定器を再び１点目のレターデーションの測定位置へ移動し、１分間おいた後、３サイクル目の測定を行った。
以降、レターデーションの測定値はいずれも目標値から±０．５％以下の範囲に入っていたため、第５工程における紫外線の照度の調整は実施しなかった。
なお、第４工程のレターデーション測定は一定時間ごとに続け、レターデーションの測定値が所定範囲に入っているかどうかの判断は繰り返し行った。
以上の作業を、連続フィルム支持体の長さ分だけ繰り返した。
レターデーションの測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社）を用いた（以降、測定器という）。
連続フィルム支持体の幅を高圧水銀灯を並列させた数で分割し（つまり、１０分割）、分割領域の中心部について、測定器を連続フィルム支持体の幅方向に順次動かし、レターデーションの測定を行った。つまり、連続フィルム支持体の幅方向に対し、１００ｍｍ間隔で測定器を動かし、レターデーションの測定を行った。
１点目のレターデーションの測定は、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部にある分割領域の中心部について行った。１点のレターデーションの測定時間は２秒間で、この間の測定値（測定器は静止したまま、連続フィルム支持体の搬送方向に５回繰り返し測定）を平均し、レターデーションの測定値を算出した。次の測定位置（即ち、隣接する分割領域の中心部）に移動するのにかかる時間は１秒で、移動後に同様の測定時間をかけ、レターデーションの測定値を得た。この測定操作を繰り返すことで、連続フィルム支持体の幅方向の一端から他端まで計１０点の測定を実施した（これを１サイクルとする）。計１０点のレターデーションの測定を実施した後、測定器を１点目のレターデーションの測定位置まで移動させ、２サイクル目の待機状態とした。
１サイクル目の測定の結果、目標値（目標のレターデーション値）から±０．５％を超えるズレがある測定値があったため、この測定値に相当する幅方向位置について、対応する第３工程の高圧水銀モジュールにより、液晶層用塗膜に対する紫外線の照度を調整した。例えば、レターデーションに２％のズレが生じた位置に相当する幅方向位置の液晶層用塗膜については、紫外線照射量が９０ｍＪ／ｃｍ２になるよう、高圧水銀モジュール内の高圧水銀灯の出力を１０％小さくした。
紫外線の照度を変更した後、第３工程を通過した連続フィルム支持体が、第４工程のレターデーションの測定位置に到達するまでにかかる時間以上（ここでは、１分間とした、搬送距離では２０ｍに相当）が経過した後、第４工程にて、再度レターデーションを測定した（２サイクル目）。
２サイクル目の結果、目標値から±０．５％を超えるズレがある測定値があったため、第５工程にて、ズレ量に応じた紫外線の照度の調整を再度行った。
続いて、測定器を再び１点目のレターデーションの測定位置へ移動し、１分間おいた後、３サイクル目の測定を行った。
以降、レターデーションの測定値はいずれも目標値から±０．５％以下の範囲に入っていたため、第５工程における紫外線の照度の調整は実施しなかった。
なお、第４工程のレターデーション測定は一定時間ごとに続け、レターデーションの測定値が所定範囲に入っているかどうかの判断は繰り返し行った。
以上の作業を、連続フィルム支持体の長さ分だけ繰り返した。
［比較例１］
液晶層用塗膜に対する紫外線の照射を、「アクロエッジ社のＬＥＤモジュール」から「長さ１５００ｍｍ空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社）」に代えた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
なお、比較例１では、空冷メタルハライドランプによる紫外線の照射後、液晶層用塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めた（第４工程）。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、ランプ全体の出力を変更することで照度を連続フィルム支持体の幅方向で一括して変更し、レターデーションの調整を行った（Ａ工程ともいう）。
液晶層用塗膜に対する紫外線の照射を、「アクロエッジ社のＬＥＤモジュール」から「長さ１５００ｍｍ空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社）」に代えた以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
なお、比較例１では、空冷メタルハライドランプによる紫外線の照射後、液晶層用塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求めた（第４工程）。そして、求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、ランプ全体の出力を変更することで照度を連続フィルム支持体の幅方向で一括して変更し、レターデーションの調整を行った（Ａ工程ともいう）。
レターデーションの測定及び紫外線の照度の調整の詳細は、以下の通りである。
レターデーションの測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社）を用いた（以降、測定器という）。
連続フィルム支持体の幅を１０等分に分割し、分割領域の中心部について、測定器を連続フィルム支持体の幅方向に順次動かし、レターデーションの測定を行った。つまり、連続フィルム支持体の幅方向に対し、１００ｍｍ間隔で測定器を動かし、レターデーションの測定を行った。
１点目のレターデーションの測定は、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部にある分割領域の中心部について行った。１点のレターデーションの測定時間は２秒間で、この間の測定値（測定器は静止したまま、連続フィルム支持体の搬送方向に５回繰り返し測定）を平均し、レターデーションの測定値を算出した。次の測定位置（即ち、隣接する分割領域の中心部）に移動するのにかかる時間は１秒で、移動後に同様の測定時間をかけ、レターデーションの測定値を得た。この測定操作を繰り返すことで、連続フィルム支持体の幅方向の一端から他端まで計１０点の測定を実施した（これを１サイクルとする）。計１０点のレターデーションの測定を実施した後、測定器を１点目のレターデーションの測定位置まで移動させ、２サイクル目の待機状態とした。
１サイクル目の測定の結果、測定値の平均値が目標値（目標のレターデーション値）から±０．２５％を超えるズレがあったため、対応する第３工程の空冷メタルハライドランプの液晶層用塗膜に対する紫外線の照度を調整した。例えば、レターデーションの平均値が目標値から１％のズレが生じた場合には、液晶層用塗膜への紫外線照射量が９５ｍＪ／ｃｍ２になるよう、空冷メタルハライドランプの出力を５％小さくした。
紫外線の照度を変更した後、第３工程を通過した連続フィルム支持体が、第４工程のレターデーションの測定位置に到達するまでにかかる時間以上（ここでは、１分間とした、搬送距離では２０ｍに相当）が経過した後、第４工程にて、再度レターデーションを測定した（２サイクル目）。
２サイクル目の結果、レターデーションの平均値が目標値から±０．２５％を超えるズレがあったため、Ａ工程にて、ズレ量に応じた紫外線の照度の調整を再度行った。
続いて、測定器を再び１点目のレターデーションの測定位置へ移動し、１分間おいた後、３サイクル目の測定を行った。
３サイクル目の測定以降も、レターデーションの平均値が目標値から±０．２５％を超えるズレがあったため、Ａ工程にて、ズレ量に応じた紫外線の照度の調整を再度行った。
以上の作業を、連続フィルム支持体の長さ分だけ繰り返した。
レターデーションの測定には、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社）を用いた（以降、測定器という）。
連続フィルム支持体の幅を１０等分に分割し、分割領域の中心部について、測定器を連続フィルム支持体の幅方向に順次動かし、レターデーションの測定を行った。つまり、連続フィルム支持体の幅方向に対し、１００ｍｍ間隔で測定器を動かし、レターデーションの測定を行った。
１点目のレターデーションの測定は、連続フィルム支持体の幅方向の一方の端部にある分割領域の中心部について行った。１点のレターデーションの測定時間は２秒間で、この間の測定値（測定器は静止したまま、連続フィルム支持体の搬送方向に５回繰り返し測定）を平均し、レターデーションの測定値を算出した。次の測定位置（即ち、隣接する分割領域の中心部）に移動するのにかかる時間は１秒で、移動後に同様の測定時間をかけ、レターデーションの測定値を得た。この測定操作を繰り返すことで、連続フィルム支持体の幅方向の一端から他端まで計１０点の測定を実施した（これを１サイクルとする）。計１０点のレターデーションの測定を実施した後、測定器を１点目のレターデーションの測定位置まで移動させ、２サイクル目の待機状態とした。
１サイクル目の測定の結果、測定値の平均値が目標値（目標のレターデーション値）から±０．２５％を超えるズレがあったため、対応する第３工程の空冷メタルハライドランプの液晶層用塗膜に対する紫外線の照度を調整した。例えば、レターデーションの平均値が目標値から１％のズレが生じた場合には、液晶層用塗膜への紫外線照射量が９５ｍＪ／ｃｍ２になるよう、空冷メタルハライドランプの出力を５％小さくした。
紫外線の照度を変更した後、第３工程を通過した連続フィルム支持体が、第４工程のレターデーションの測定位置に到達するまでにかかる時間以上（ここでは、１分間とした、搬送距離では２０ｍに相当）が経過した後、第４工程にて、再度レターデーションを測定した（２サイクル目）。
２サイクル目の結果、レターデーションの平均値が目標値から±０．２５％を超えるズレがあったため、Ａ工程にて、ズレ量に応じた紫外線の照度の調整を再度行った。
続いて、測定器を再び１点目のレターデーションの測定位置へ移動し、１分間おいた後、３サイクル目の測定を行った。
３サイクル目の測定以降も、レターデーションの平均値が目標値から±０．２５％を超えるズレがあったため、Ａ工程にて、ズレ量に応じた紫外線の照度の調整を再度行った。
以上の作業を、連続フィルム支持体の長さ分だけ繰り返した。
［比較例２］
「レターデーションの測定と照度の調整」を行わなかった以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
「レターデーションの測定と照度の調整」を行わなかった以外は、実施例１と同様にして、位相差フィルムを作製した。
［レターデーションの面内分布の測定］
上記実施例及び比較例で作製した位相差フィルムについて、レターデーションの面内分布を、下記方法及び評価基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
上記実施例及び比較例で作製した位相差フィルムについて、レターデーションの面内分布を、下記方法及び評価基準に基づいて評価した。結果を表１に示す。
得られた位相差フィルムの末端（即ち、巻き終わり側の端部）から１ｍの箇所を、位相差フィルムの幅方向の中心を含むように１０００ｍｍ×１０００ｍｍで切り出した。
切り出したサンプルを、長手方向に等間隔で１１分割し、幅方向にも等間隔で１１分割する。分割箇所の交差点１００点について、レターデーションを測定した。レターデーションの測定には、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器社）を用いた。
測定した１００点について、最大値Ｒｅｍａｘ、最小値Ｒｅｍｉｎ、及び平均値Ｒｅａｖｅを求め、以下の式を用いてレターデーションの面内分布を算出した。
レターデーションの面内分布（％）＝（Ｒｅｍａｘ−Ｒｅｍｉｎ）／Ｒｅａｖｅ×１００
切り出したサンプルを、長手方向に等間隔で１１分割し、幅方向にも等間隔で１１分割する。分割箇所の交差点１００点について、レターデーションを測定した。レターデーションの測定には、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器社）を用いた。
測定した１００点について、最大値Ｒｅｍａｘ、最小値Ｒｅｍｉｎ、及び平均値Ｒｅａｖｅを求め、以下の式を用いてレターデーションの面内分布を算出した。
レターデーションの面内分布（％）＝（Ｒｅｍａｘ−Ｒｅｍｉｎ）／Ｒｅａｖｅ×１００
−評価基準−
Ａ：レターデーションの面内分布が０．５％未満である
Ｂ：レターデーションの面内分布が０．５％以上３％未満である
Ｃ：レターデーションの面内分布が３％以上５％未満である
Ｄ：レターデーションの面内分布が５％以上である
Ａ：レターデーションの面内分布が０．５％未満である
Ｂ：レターデーションの面内分布が０．５％以上３％未満である
Ｃ：レターデーションの面内分布が３％以上５％未満である
Ｄ：レターデーションの面内分布が５％以上である
表１に明らかなように、実施例１及び２にて得らえた位相差フィルムは、レターデーションの面内分布が３％未満に抑えられてことが分かる。
比較例１によれば、レターデーションの調整方法がメタルハライドランプによる幅方向一括である場合は、レターデーションの面内分布の低減が不十分であることが分かる。
比較例２によれば、レターデーションの測定及び調整が行われないと、レターデーションの面内分布が大きいことが分かる。
比較例１によれば、レターデーションの調整方法がメタルハライドランプによる幅方向一括である場合は、レターデーションの面内分布の低減が不十分であることが分かる。
比較例２によれば、レターデーションの測定及び調整が行われないと、レターデーションの面内分布が大きいことが分かる。
２０１８年２月２６日に出願された日本出願２０１８−０３２１５３の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Claims (10)
- 連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する第１工程と、
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布及び乾燥して塗膜を形成する第２工程と、
塗膜に紫外線を照射する第３工程と、
紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定し、レターデーションの測定値の幅方向分布を求める第４工程と、
求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する第５工程と、
を有する位相差フィルムの製造方法。 - 第５工程が、事前に取得した、塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係から得られた調整量にて、塗膜に照射する紫外線の照度を調整する工程である、請求項１に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 第３工程が、複数個の発光ダイオード素子を備えるユニットを連続フィルム支持体の幅方向に沿って複数個並列したモジュール光源により行われる、請求項１又は請求項２に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 第２工程における液晶層形成用材料の塗布が、カーテンコーティング法又はダイコーティング法により行われる、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 第４工程後に、紫外線が照射された塗膜に対し、高圧水銀光源又はメタルハライド光源により更に紫外線を照射する第６工程を有する、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の位相差フィルムの製造方法。
- 連続搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備えた配向層を形成する配向層形成手段と、
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布する塗布手段と、
塗布後の液晶層形成用材料を乾燥して塗膜を形成する乾燥手段と、
塗膜に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
紫外線が照射された塗膜に対し、連続フィルム支持体の幅方向に沿ってレターデーションを測定するレターデーション測定手段と、
測定されたレターデーションの測定値から求められたレターデーションの測定値の幅方向分布の中に所定範囲から外れた測定値があったとき、所定範囲から外れた測定値の測定位置に相当する幅方向位置の塗膜に照射する紫外線の照度を調整する制御を行う制御手段と、
を有する位相差フィルムの製造装置。 - 制御手段が、事前に取得した、塗膜に照射する紫外線の照度と紫外線が照射された塗膜のレターデーションの値との関係から得られた調整量にて、塗膜に照射する紫外線の照度を調整する制御を行う、請求項６に記載の位相差フィルムの製造装置。
- 紫外線照射手段が、複数個の発光ダイオード素子を備えるユニットを連続フィルム支持体の幅方向に沿って複数個並列したモジュール光源である、請求項６又は請求項７に記載の位相差フィルムの製造装置。
- 塗布手段が、カーテンコーティング法又はダイコーティング法を用いた手段である、請求項６〜請求項８のいずれか１項に記載の位相差フィルムの製造装置。
- 紫外線照射手段に対し、連続フィルム支持体の搬送方向下流側に、高圧水銀光源又はメタルハライド光源により塗膜に紫外線を照射する別の紫外線照射手段を有する、請求項６〜請求項９のいずれか１項に記載の位相差フィルムの製造装置。
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