JPWO2019155749A1 - 超砥粒、及び超砥粒ホイール - Google Patents
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Abstract
Description
立方晶窒化ホウ素、又はダイヤモンドからなる砥粒本体部と、
前記砥粒本体部の表面の少なくとも一部を覆うセラミックスからなる被覆膜とを備える。
円板状の基板と、
前記基板の少なくとも外周面を覆う超砥粒層とを備え、
前記超砥粒層は、上記本開示に係る超砥粒を有する。
上述の砥粒層に含まれる超砥粒は、超砥粒自体(砥粒本体部)が裸砥粒であるため、被削材から大きな応力を受け易い。そのため、砥粒が破砕など損傷する虞がある。
また、研削比が高い超砥粒ホイールを提供することを目的の一つとする。
上記超砥粒は、砥粒本体部が損傷し難い。
[本開示の実施形態の説明]
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
立方晶窒化ホウ素、又はダイヤモンドからなる砥粒本体部と、
前記砥粒本体部の表面の少なくとも一部を覆うセラミックスからなる被覆膜とを備える。
前記砥粒本体部の結晶組織は、単結晶であることが挙げられる。
前記砥粒本体部の結晶組織は、多結晶であることが挙げられる。
前記被覆膜の平均結晶粒径が、500nm以下であることが挙げられる。
前記被覆膜の平均結晶粒径が、50nm以下であることが挙げられる。
前記被覆膜は、以下の(a)及び(b)の中から選択される1種を含むことが挙げられる。
(b)ダイヤモンドライクカーボン、又はダイヤモンド
上記の構成によれば、被覆膜が高硬度であり耐摩耗性に優れるため、砥粒本体部の損傷を抑制し易い。
前記被覆膜は、(Ti1−xb1−yb1Sixb1M1yb1)(C1−zb1Nz b1)、又は(Al1−xb2M2xb2)(C1−zb2Nzb2)からなることが挙げられる。
xb1=0以上0.45以下
yb1=0以上0.5以下
zb1=0.2以上0.5以下
M2=周期表の第4族元素、第5族元素、第6族元素、及びSiの中から選択される1種以上の元素
xb2=0.025以上0.475以下
zb2=0.2以上0.5以下
上記の構成によれば、特に耐摩耗性に優れる。
円板状の基板と、
前記基板の少なくとも外周面を覆う超砥粒層とを備え、
前記超砥粒層は、上記(1)から上記(13)のいずれか1つの超砥粒を有する。
《本開示の実施形態の詳細》
本開示の実施形態の詳細を、以下に図面を参照しつつ説明する。
主に図1、図2(適宜図3〜図5)を参照して、実施形態に係る超砥粒1を説明する。超砥粒1は、被削材を削るのに使用される部材で、砥粒本体部2と、その表面を覆う被覆膜3とを備える。この超砥粒1の特徴の一つは、被覆膜3が特定の組織を有する点にある。以下、詳細を説明する。
砥粒本体部2の材質は、立方晶窒化ホウ素(cBN)、又はダイヤモンドである。この砥粒本体部2の組織は、単結晶又は多結晶である。砥粒本体部2の粒径は、1μm以上600μm以下が好ましい。砥粒本体部2の粒径が1μm以上であれば、過度に小さ過ぎないため、被削材を研削し易い上に、取り扱い易くて後述する超砥粒ホイール10(図3〜図5)などの研削工具(砥石)を構築し易い。砥粒本体部2の粒径が600μm以下であれば、過度に大き過ぎないため、被削材との接触に伴う砥粒本体部2への衝撃力(応力)により破砕など損傷し難い。砥粒本体部2の粒径は、更に10μm以上300μm以下が好ましく、特に20μm以上200μm以下が好ましい。砥粒本体部2の粒径は、砥粒本体部2の組織が単結晶の場合、結晶粒径とも言える。砥粒本体部2の粒径は、後述の超砥粒ホイール10のように超砥粒1の数が複数の場合、平均粒径である。砥粒本体部2の組織が多結晶の場合、平均結晶粒径は、100nm以上6000nm以下が好ましく、更に200nm以上4000nm以下が好ましく、特に300nm以上2000nm以下が好ましい。
被覆膜3は、砥粒本体部2の表面の少なくとも一部を覆い、被削材との接触に伴う砥粒本体部2への衝撃力(応力)を緩和する。この被覆膜3は、本例では砥粒本体部2の表面の略全域に亘って形成されている。被覆膜3を備えることで、砥粒本体部2に破砕の起点となる亀裂などが形成され難い上に、亀裂が形成されても亀裂が進展し難い。従って、砥粒本体部2が損傷し難いので、研削比の高い超砥粒ホイール10を構築できる。
被覆膜3の材質は、セラミックスからなる。具体的なセラミックスは、以下の(a)及び(b)の中から選択される1種が挙げられる。そうすれば、砥粒本体部2が損傷し難い。以下の材質の被覆膜3は、高硬度であり耐摩耗性に優れるからである。
(b)ダイヤモンドライクカーボン、又はダイヤモンド
周期表の第4族元素は、チタン(Ti),ジルコニウム(Zr),ハフニウム(Hf)である。周期表の第5族元素は、バナジウム(V),ニオブ(Nb),タンタル(Ta)である。周期表の第6族元素は、クロム(Cr),モリブデン(Mo),タングステン(W)である。
xb1=0以上0.45以下
yb1=0以上0.5以下
zb1=0.2以上0.5以下
M2=周期表の第4族元素、第5族元素、第6族元素、及びSiの中から選択される1種以上の元素、
xb2=0.025以上0.475以下
zb2=0.2以上0.5以下
上記窒化物は、上記元素を2種含むものが代表的であり、その他、上記元素を3種含むものが挙げられる。上記元素を2種含む窒化物は、具体的には、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、及びSiの中から選択される1種の元素と、Tiとを含むものが挙げられる。より具体的な上記元素を2種含む窒化物は、TiVN、TiCrN、TiZrN、TiNbN、TiMoN、TiHfN、TiTaN、TiWN、TiAlN、及びTiSiNが挙げられる。その他の上記元素を2種含む窒化物は、AlCrNが挙げられる。上記元素を3種含む窒化物は、具体的には、Zr,Nb,Ta,及びSiの中から選択される1種の元素と、Tiと、Alとを含むものが挙げられる。より具体的な上記元素を3種含む窒化物は、TiAlZrN、TiAlNbN、TiAlTaN、及びTiAlSiNが挙げられる。これらの窒化物の中でも、特にTiAlN、AlCrN、及びTiAlSiNが好ましい。特に耐摩耗性に優れるからである。
被覆膜3の組成分析は、砥粒本体部2の組成分析と同様、EDS分析により行える。
被覆膜3の組織は、例えば多結晶であることが挙げられる。被覆膜3の平均結晶粒径が500nm以下であることが好ましい。そうすれば、被覆膜3の平均結晶粒径が小さくて被覆膜3の強度が高い。それにより、被削材との接触に伴う衝撃力(応力)による被覆膜3自体の損傷を抑制し易い上に、被削材との接触に伴う砥粒本体部2への衝撃力を緩和し易い。そのため、砥粒本体部2が損傷し難い。被覆膜3の平均結晶粒径は、小さいほど被覆膜3自体の強度を高められ、更に200nm以下が好ましく、特に50nm以下が好ましい。被覆膜3の平均結晶粒径は、1nm以上が好ましい。
被覆膜3の構造は、上記セラミックスからなる単層構造としてもよいし、上記セラミックスからなる層を複数積層した多層構造(図2)としてもよい。多層構造の被覆膜3は、単層構造の被覆膜に比べて、各層の残留応力が上昇するため、被覆膜3を高硬度化できて被覆膜自体の損傷を抑制し易い。そのため、砥粒本体部2の損傷を抑制し易い。被覆膜3を多層構造とする場合、層数は、2層や3層などが挙げられる。この場合、隣り合う層の材質は、互いに異なるセラミックスとすることが挙げられる。例えば、被覆膜3の構造が3層構造の場合(図2)、砥粒本体部2側から外側に向かって順に第1層31〜第3層33とするとき、第2層32の材質を第1層31及び第3層33と異なる材質とすれば、第1層31と第3層33の材質は互いに同じ材質としてもよいし、互いに異なる材質(3層全て異なる材質)としてもよい。被覆膜3の構造は、STEMによる断面観察により分析できる。
被覆膜3の厚さは、1nm以上5000nm以下が好ましい。被覆膜3の厚さが1nm以上であれば、被覆膜3自体の強度を高め易く、被覆膜3の損傷を抑制し易い。被覆膜3の厚さが5000nm以下であれば、被覆膜3の厚さが過度に厚過ぎず剥離し難いため、砥粒本体部2の外周に被覆膜3を形成した状態を維持し易い。被覆膜3の厚さは、更に10nm以上2500nm以下が好ましく、特に100nm以上1000nm以下が好ましい。被覆膜3の厚さは、上述のように被覆膜3が多層構造の場合、各層の厚さの合計とする。多層構造とする場合、各層の厚さは同様の厚さとしてもよいし異なる厚さとしてもよい。
被覆膜3の砥粒本体部2の表面への形成は、アークイオンプレーティング(AIP)法、HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)法、アークプラズマ粉末法等の物理蒸着法により行われるが、例えば、アークプラズマ粉末法が最適である。被覆条件は、放電電圧を10V以上200V以下、放電周波数を1Hz以上20Hz以下、コンデンサ容量を360μF以上1800μF以下、Shot数を1000以上10000000以下、熱処理温度100℃以上2000℃以下とすることが挙げられる。特に、熱処理温度を低くすれば、平均結晶粒径の小さい被覆膜を形成し易い。例えば、熱処理温度を1000℃以下とすれば、被覆膜の平均結晶粒径を500nm以下にし易く、200℃以下とすれば、被覆膜の平均結晶粒径を50nm以下にし易い。被覆膜の膜厚は、被覆時間を短くすることで薄くし易く、被覆時間を150hr(砥粒本体部2の質量が10gの場合)以下とすれば、被覆膜の厚さを1nm以上5000nm以下にできる。
超砥粒1は、更に、被覆膜3の外表面を覆う絶縁膜4を備えていてもよい(図1、図2)。そうすれば、電着により超砥粒1を超砥粒ホイール10(図3、図4)の基板11の外周面111(図4)に固着し易い。即ち、電着によるめっき膜を基板11の外周面111に超砥粒1を固着する結合材13(図5)として利用し易い。絶縁膜4を備えることで、電着によるめっき膜が絶縁膜4の表面に成長し難く、めっき膜により研削比の過度な低下を抑制できるからである。
絶縁膜4の材質は、Al、Si、Zr、Tiの中から選択される1種以上の元素を含む酸化物、又は酸窒化物の化合物を含むことが好ましい。これらの材質は、絶縁性能に優れるため、電着により超砥粒1を超砥粒ホイール10の基板11の外周面111(図4)に固着し易い。具体的な絶縁膜4の材質は、Al2O3、ZrO2、SiAlONなどが挙げられる。絶縁膜4の組成分析は、被覆膜3の組成分析と同様、EDS分析により行える。
絶縁膜4の厚さは、1nm以上5000nm以下が好ましい。絶縁膜4の厚さが1nm以上であれば、絶縁性能を高め易い。絶縁膜4の厚さが5000nm以下であれば、過度に厚過ぎず剥離し難いため、被覆膜3の外表面に絶縁膜4を形成した状態を維持し易い。絶縁膜4の厚さは、更に100nm以上2000nm以下が好ましく、特に200nm以上1000nm以下が好ましい。
絶縁膜4の形成方法は、被覆膜3の形成方法と同様、アークプラズマ粉末法により行える。
実施形態に係る超砥粒1は、超砥粒ホイールなどの研削工具(砥石)の砥粒に好適に利用できる。
実施形態に係る超砥粒1は、砥粒本体部2の表面が強度の高い被覆膜3で覆われていて、被削材との接触に伴う衝撃力が砥粒本体部2に伝達され難いため、砥粒本体部2が損傷し難い。そのため、研削比の高い砥石を構築できる。
主に図3〜図5を参照して、実施形態に係る超砥粒ホイール10を説明する。超砥粒ホイール10は、円板状の基板11と、基板11の外周面111(図4)を覆う超砥粒層12とを備える。
基板11の材質は、AlやAl合金、鉄や鉄合金、炭素工具鋼、高速度工具鋼、合金工具鋼、超硬合金、サーメットなどが挙げられる。基板11のサイズ(内・外径、厚さ)は、例えば、超砥粒ホイール10を設置するマシニングセンタなどの工作機械のサイズ、即ち被削材のサイズに応じて適宜選択できる。基板11は、公知の超砥粒ホイールの基板を利用できる。
超砥粒層12は、本例では基板11の外周面111の表裏面と外周端面とを一連に覆うように形成される(図3,図4)。超砥粒層12のサイズ(厚さ及び幅)は、基板11のサイズ(厚さ及び幅)に応じて適宜選択できる。厚さは、超砥粒ホイール10の軸方向に沿った長さをいい、幅は、超砥粒ホイール10の径方向に沿った長さをいう。この超砥粒層12は、超砥粒1と結合材13とを備える(図5)。
超砥粒1は、上述した通りである。この超砥粒1の数は複数とすることが挙げられる。超砥粒層12の表面側の超砥粒1は、その一部が結合材13から露出しており、その露出箇所が被削材を研削する切刃部を有する。一方、超砥粒層12の基板11側の超砥粒1は、その全てが結合材13に埋設されている。埋設された超砥粒1は、超砥粒ホイール10で被削材を研削中に超砥粒層12の表面側の超砥粒1が摩耗して脱落すると共に結合材13が摩耗する過程で、その一部が結合材13から露出し被削材を研削する。複数の超砥粒1は全て、同一構成(材質やサイズ)の砥粒本体部2と同一構成(材質や厚さ)の被覆膜3とで構成されていてもよいし、一部の超砥粒1の砥粒本体部2や被覆膜3は、他部の超砥粒1の砥粒本体部2や被覆膜3と異なる構成(材質やサイズ)であってもよい。例えば、一部の超砥粒1の砥粒本体部2がcBNからなり、他部の超砥粒1の砥粒本体部2がダイヤモンドからなり、一部と他部の超砥粒1の被覆膜3が同一構成(材質、厚さ、結晶粒径)からなっていてもよい。
結合材13は、超砥粒1を外周面111(図4)に固着する。結合材13の種類は、例えば、レジンボンド、メタルボンド、ビトリファイドボンド、電着ボンド、及びこれらを複合したボンドの中から選択される1種のボンド、又は金属ロウが挙げられる。これらのボンドや金属ロウは、公知のボンドや金属ロウを利用できる。例えば、レジンボンドは、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂を主成分とすることが挙げられる。メタルボンドは、銅、錫、鉄、コバルト、又はニッケルを含む合金を主成分とすることが挙げられる。ビトリファイドボンドは、ガラス質を主成分とすることが挙げられる。電着ボンドは、ニッケルめっきが挙げられる。金属ロウは、銀(Ag)ロウなどが挙げられる。結合材13の種類は、超砥粒1の被覆膜3の材質や絶縁膜4の有無などに応じて適宜選択できる。例えば、超砥粒1の被覆膜3が導電性を有するが絶縁膜4を有さない場合、結合材13は、電着ボンドを除いて、レジンボンド、メタルボンド、ビトリファイドボンド、及び金属ロウを利用できる。超砥粒1の被覆膜3が絶縁性を有する、又は被覆膜3の材質に関わらず絶縁膜4を有する場合、電着ボンドを含む上記全てのボンドと金属ロウとを利用できる。
実施形態に係る超砥粒ホイール10は、自動車部品、光学ガラス、磁性材料、半導体材料などの研削や、エンドミル、ドリル、リーマなどの溝研削、刃先交換チップのブレーカ研削、各種工具の重研削に好適に利用できる。
実施形態に係る超砥粒ホイール10は、砥粒本体部2が損傷し難い超砥粒1を備えるため、研削比が高い。
超砥粒における被覆膜の結晶粒径の違いによる研削性能の違いを評価した。
試料No.1−1〜No.1−9の超砥粒は、砥粒本体部とその表面全域を覆う被覆膜とで構成した。本例では、被覆膜の外側に絶縁膜を形成していない。この超砥粒は、砥粒本体部の表面に被覆膜を被覆することで作製した。砥粒本体部には、平均粒径70μmの単結晶の立方晶窒化ホウ素を用いた。被覆膜の被覆は、アークプラズマ粉末法により行った。被覆装置、及び被覆条件は、以下の通りである。
ターゲット:Tiを50原子%、Alを50原子%
導入ガス:N2
成膜圧力:0.88Pa
放電電圧:150V
放電周波数:6Hz
コンデンサ容量:1080μF
shot数:80万
処理粉末量:30g
粉末容器の回転数:50rpm
被覆膜の組成(原子%)、平均結晶粒径(nm)、及び平均厚さ(nm)を表1に示す。被覆膜の平均結晶粒径は、各種装置で被覆した後、一般的な真空熱処理炉(1×10− 3Pa以下 日本特殊機械株式会社製 NRF−658−0.7D1.5V形)にて、表1に示すように熱処理温度を種々変更することで異ならせた。組成分析は、EDS分析により行った。
各試料の超砥粒ホイールの研削性能の評価は、研削比を求めることで行った。研削比は、以下の装置に各試料の超砥粒ホイールを設置し、以下の条件で被削材を180分間研削して、「研削によって除去された被削材の体積/超砥粒の総損耗体積」から求めた。即ち、研削比が高いほど、研削性能に優れる。研削比の結果は表1に示す。
装置:マシニングセンタ V−55 株式会社牧野フライス製作所製
砥石周速度:2700mm/min
切り込み:1.2mm
送り速度:50mm/min
クーラント:エマルションタイプ(ユシローケン(登録商標))
〔試料No.101〕
試料No.101は、超砥粒を砥粒本体部のみで構成した点、即ち被覆膜を備えない点を除き、試料No.1−1などと同様にして研削性能を評価した。その結果を表1に示す。
試料No.1−11〜No.1−19、No.102はそれぞれ、表2に示すように、超砥粒の砥粒本体部の結晶構造を多結晶(平均結晶粒径1000nm)にした点を除き、試料No.1−1〜No.1−9、No.101と同様として、研削性能を評価した。その結果を表2に示す。
試料No.1−21〜No.1−29、No.103はそれぞれ、表3に示すように、超砥粒の砥粒本体部を単結晶のダイヤモンドとした点と、被削材を市販のインコネル718(Inconel:登録商標)とした点とを除き、試料No.1−1〜No.1−9、No.101と同様として、研削性能を評価した。その結果を表3に示す。
試料No.1−31〜No.1−39、No.104はそれぞれ、表4に示すように、超砥粒の砥粒本体部を多結晶(平均結晶粒径1000nm)のダイヤモンドとした点
と、被削材を市販のインコネル718とした点とを除き、試料No.1−1〜No.1−9、No.101と同様として、研削性能を評価した。その結果を表4に示す。
超砥粒における被覆膜の組成の違いによる研削性能の違いを評価した。
試料No.2系〜No.6系は、表5〜表9に示すように、それぞれ超砥粒の被覆膜の組成を種々変更し、試料No.1−1などと同様にして研削性能を評価した。被覆膜の組成は、被覆装置におけるターゲットの種類と装置内の雰囲気とを種々変更することで異ならせた。Shot数は20万とした。試料No.2系〜No.6系の研削比の結果は、それぞれ表5〜表9に示す。
超砥粒における被覆膜の厚さの違いによる研削性能の違いを評価した。
試料No.7−1〜No.7−7は、表10に示すように、超砥粒の被覆膜の厚さを種々変更した点を除き、試料No.1−7と同様にして研削性能を評価した。被覆膜の厚さは、処理時間を調整することで、種々変更した。処理時間が長いほど被覆膜の厚さが厚い。試料No.7−1〜No.7−7の研削比の結果は、表10に示す。
超砥粒における被覆膜の構造の違いによる研削性能の違いを評価した。
試料No.8−1、No.8−2は、表11に示すように、超砥粒の被覆膜の構造がセラミックス層を複数積層した多層構造である点を除き、試験例1と同様にして研削性能を評価した。試料No.8−1の被覆膜は2層構造とし、試料No.8−2の被覆膜は3層構造とした。試料No.8−1は、砥粒本体部側の第1層とその外側の第2層の材質を異なる材質で構成している。試料No.8−2は、砥粒本体部側から外側に向かって順に第1層から第3層とするとき、第1層と第3層の材質を同じ材質で構成し、第1層(第3層)と第2層の材質を異なる材質で構成している。各層の平均結晶粒径と平均厚さは同一である。被覆膜の構造は、被覆処理を2回行なうことで2層構造を形成し、被覆処理を3回行うことで3層構造を形成した。
超砥粒ホイールを製造した後、被覆膜を被覆したホイールについて、被覆膜の結晶粒径の違いによる研削性能の違いを評価した。
試料No.9−1は、超砥粒ホイールの製造方法が相違する。この超砥粒ホイールは、被覆膜が被覆されていない複数の砥粒本体部を準備し、結合材により複数の砥粒本体部を円板状の基板の外周面に固着した後、砥粒本体部の切刃部を覆うように被覆膜を形成して作製した。被覆膜の被覆は、アークプラズマ粉末法により行った。被覆装置、及び被覆条件は、以下の通りである。この超砥粒ホイールを用いて試験例1と同様にして研削性能を評価した。その結果を、表12に示す。
ターゲット:Tiを50原子%、Alを50原子%
導入ガス:N2
成膜圧力:0.88Pa
放電電圧:150V
放電周波数:6Hz
コンデンサ容量:1080μF
shot数:1000
粉末容器の回転数:50rpm
超砥粒における被覆膜の外表面の絶縁膜の有無による研削性能の違いを評価した。
試料No.10−1〜No.10−8の超砥粒は、砥粒本体部とその表面全域を覆う被覆膜と被覆膜の表面全域を覆う絶縁膜とで構成した。絶縁膜は、試験例1の被覆装置を用いて同じ条件で形成した。試料No.10−1〜No.10−8の砥粒本体部と被覆膜とは、試料No.2−9と同じとした。試料No.10−1〜No.10−3の絶縁膜は、表13に示すように、組成を種々変更した。この組成は、被覆装置におけるターゲットの種類と装置内の雰囲気とを種々変更することで異ならせた。試料No.10−4〜No.10−8の絶縁膜は、組成を試料No.10−1と同じとし、平均厚さを種々変更させた。この厚さは、処理時間を調整することで、種々変更した。処理時間が長いほど絶縁膜の厚さが厚い。
試料No.105の超砥粒は、試料No.2−9と同じであり、絶縁膜を備えておらず、砥粒本体部と被覆膜とで構成した。試料No.106の超砥粒は、試料No.101と同じであり、被覆膜と絶縁膜とを備えておらず、砥粒本体部のみで構成した。試料No.105,No.106は、試料No.10−1などと同様、電気めっき法及び無電解めっき法によるニッケルめっき層で超砥粒を基板の外周面に固着した。
Claims (14)
- 立方晶窒化ホウ素、又はダイヤモンドからなる砥粒本体部と、
前記砥粒本体部の表面の少なくとも一部を覆うセラミックスからなる被覆膜とを備える超砥粒。 - 前記砥粒本体部の結晶組織は、単結晶である請求項1に記載の超砥粒。
- 前記砥粒本体部の結晶組織は、多結晶である請求項1に記載の超砥粒。
- 前記被覆膜の平均結晶粒径が、500nm以下である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の超砥粒。
- 前記被覆膜の平均結晶粒径が、50nm以下である請求項4に記載の超砥粒。
- 前記被覆膜は、以下の(a)及び(b)の中から選択される1種を含む請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の超砥粒。
(a)周期表の第4族元素、第5族元素、第6族元素、Al、Si、Y、Mg、及びCaの中から選択される1種以上の元素を含む窒化物、炭化物、炭窒化物、酸化物、又は酸窒化物
(b)ダイヤモンドライクカーボン、又はダイヤモンド - 前記被覆膜は、(Ti1−xb1−yb1Sixb1M1yb1)(C1−zb1Nz b1)、又は(Al1−xb2M2xb2)(C1−zb2Nzb2)からなる請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の超砥粒。
M1=周期表の第4族元素、第5族元素、第6族元素、及びAlの中から選択される1種以上の元素(ただしTiを除く)
xb1=0以上0.45以下
yb1=0以上0.5以下
zb1=0.2以上0.5以下
M2=周期表の第4族元素、第5族元素、第6族元素、及びSiの中から選択される1種以上の元素
xb2=0.025以上0.475以下
zb2=0.2以上0.5以下 - 前記被覆膜の厚さは、1nm以上5000nm以下である請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の超砥粒。
- 前記被覆膜は、セラミックス層を複数積層した多層構造を有する請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の超砥粒。
- 前記被覆膜の外表面を覆う絶縁膜を備える請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の超砥粒。
- 前記絶縁膜は、Al、Si、Zr、Tiの中から選択される1種以上の元素を含む酸化物、及び酸窒化物のいずれか1つの化合物を含む請求項10に記載の超砥粒。
- 前記絶縁膜の厚さは、1nm以上5000nm以下である請求項10又は請求項11に記載の超砥粒。
- 前記砥粒本体部の粒径は、1μm以上600μm以下である請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の超砥粒。
- 円板状の基板と、
前記基板の少なくとも外周面を覆う超砥粒層とを備え、
前記超砥粒層は、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の超砥粒を有する超砥粒ホイール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018020958 | 2018-02-08 | ||
JP2018020958 | 2018-02-08 | ||
PCT/JP2018/044911 WO2019155749A1 (ja) | 2018-02-08 | 2018-12-06 | 超砥粒、及び超砥粒ホイール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019155749A1 true JPWO2019155749A1 (ja) | 2020-12-03 |
JP7012729B2 JP7012729B2 (ja) | 2022-01-28 |
Family
ID=67548906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019540463A Active JP7012729B2 (ja) | 2018-02-08 | 2018-12-06 | 超砥粒、及び超砥粒ホイール |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200156213A1 (ja) |
EP (1) | EP3750969A4 (ja) |
JP (1) | JP7012729B2 (ja) |
KR (1) | KR102554674B1 (ja) |
CN (1) | CN110892036A (ja) |
MX (1) | MX2019014994A (ja) |
WO (1) | WO2019155749A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP7112607B2 (ja) * | 2020-07-31 | 2022-08-03 | 住友電気工業株式会社 | 立方晶窒化硼素焼結体、およびそれを含む切削工具 |
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-
2018
- 2018-12-06 MX MX2019014994A patent/MX2019014994A/es unknown
- 2018-12-06 CN CN201880047127.5A patent/CN110892036A/zh active Pending
- 2018-12-06 KR KR1020207001229A patent/KR102554674B1/ko active IP Right Grant
- 2018-12-06 JP JP2019540463A patent/JP7012729B2/ja active Active
- 2018-12-06 WO PCT/JP2018/044911 patent/WO2019155749A1/ja unknown
- 2018-12-06 EP EP18905655.9A patent/EP3750969A4/en active Pending
- 2018-12-06 US US16/635,329 patent/US20200156213A1/en active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3750969A4 (en) | 2021-11-17 |
KR102554674B1 (ko) | 2023-07-11 |
US20200156213A1 (en) | 2020-05-21 |
JP7012729B2 (ja) | 2022-01-28 |
MX2019014994A (es) | 2020-01-27 |
KR20200117970A (ko) | 2020-10-14 |
WO2019155749A1 (ja) | 2019-08-15 |
EP3750969A1 (en) | 2020-12-16 |
CN110892036A (zh) | 2020-03-17 |
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