JPWO2019142865A1 - 触媒、及び前記触媒を用いたジエン化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、周期表第3〜6族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Xを含む化合物、亜鉛(Zn)化合物、及び周期表第7〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Yを含む化合物を含む触媒成分を含み、2〜50nmの平均細孔直径を有する、触媒に関する。
Description
本発明は、触媒、及び前記触媒を用いたジエン化合物の製造方法に関する。
本願は、2018年1月17日に、日本に出願された特願2018−005943号に基づき、優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本願は、2018年1月17日に、日本に出願された特願2018−005943号に基づき、優先権を主張し、その内容をここに援用する。
ジエン化合物の代表例である1,3−ブタジエン等のブタジエンは、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)等の原料として用いられている。従来、ブタジエンは、C4留分から精製されていた。C4留分は、石油からエチレンを合成するナフサクラッキングの際に副生する留分である。しかし、シェールガスの利用量の増加に伴って石油の利用量が減少した。その結果、石油のナフサクラッキングで得られるブタジエンの生産量も減少している。このため、1,3−ブタジエンを製造するための代替方法が求められている。
例えば、特許文献1には、エタノールをブタジエンに選択的に変換するための金属含浸シリカ触媒に係る発明が記載されている。より詳細には、特許文献1には、Hf並びに2以上の触媒活性金属M1およびM2を含み、前記2以上の触媒活性金属M1およびM2が、Zr、Zn、Cu、およびこれらの組み合わせからなる群から選択され、この際、M1とM2とは異なるものである、ブタジエン合成用触媒が記載されている。
特許文献1には、(i)エタノール、任意のアセトアルデヒドを含むガス流G−1を提供し、(ii)前記ガス流G−1を上記ブタジエン合成用触媒に接触させて、ブタジエンを含むガス流G−2を得ることを含むブタジエンの合成方法が記載されている。
前記ブタジエンの合成方法によれば、ブタジエン選択性が少なくとも10%であることが記載されている。
特許文献1には、(i)エタノール、任意のアセトアルデヒドを含むガス流G−1を提供し、(ii)前記ガス流G−1を上記ブタジエン合成用触媒に接触させて、ブタジエンを含むガス流G−2を得ることを含むブタジエンの合成方法が記載されている。
前記ブタジエンの合成方法によれば、ブタジエン選択性が少なくとも10%であることが記載されている。
特許文献1に記載の発明は、エタノールを原料ガスとしてブタジエンを合成することができるものの、原料ガス中のエタノール濃度を低くする必要がある。このため、特許文献1に記載の発明は、単位時間当たりのブタジエンの製造量が少なく、ブタジエンの製造効率を高めにくい。
そこで、本発明は、原料ガス中のアルコール濃度が高い場合であってもジエン化合物を効率的に製造できる触媒を提供することを目的とする。
そこで、本発明は、原料ガス中のアルコール濃度が高い場合であってもジエン化合物を効率的に製造できる触媒を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するべく、鋭意研究を行った。その結果、メソ細孔を有する所定の触媒により上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、以下の態様を有する。
[1]周期表第3〜6族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Xを含む化合物、亜鉛(Zn)化合物、及び周期表第7〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Yを含む化合物を含む触媒成分を含み、
2〜50nmの平均細孔直径を有する、触媒;
[2]多孔質担体が前記触媒成分を担持している、[1]に記載の触媒;
[3]前記多孔質担体がメソ細孔を有する、[2]に記載の触媒;
[4]比表面積が、50〜1000m2/gである、[1]〜[3]のいずれか1項に記載の触媒;
[5]アルコールを含む原料ガスからジエン化合物を合成するジエン化合物合成用触媒である、[1]〜[4]のいずれか1項に記載の触媒;
[6]前記原料ガスが、エタノール、又は、エタノール及びアセトアルデヒドを含む、[5]に記載の触媒;
[7][1]〜[6]のいずれか1項に記載の触媒に、アルコールを含む原料ガスを接触させてジエン化合物を得ることを含む、ジエン化合物の製造方法;
[8]前記アルコールの含有率が、原料ガス100体積%に対して、10体積%以上である、[7]に記載の製造方法。
[1]周期表第3〜6族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Xを含む化合物、亜鉛(Zn)化合物、及び周期表第7〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Yを含む化合物を含む触媒成分を含み、
2〜50nmの平均細孔直径を有する、触媒;
[2]多孔質担体が前記触媒成分を担持している、[1]に記載の触媒;
[3]前記多孔質担体がメソ細孔を有する、[2]に記載の触媒;
[4]比表面積が、50〜1000m2/gである、[1]〜[3]のいずれか1項に記載の触媒;
[5]アルコールを含む原料ガスからジエン化合物を合成するジエン化合物合成用触媒である、[1]〜[4]のいずれか1項に記載の触媒;
[6]前記原料ガスが、エタノール、又は、エタノール及びアセトアルデヒドを含む、[5]に記載の触媒;
[7][1]〜[6]のいずれか1項に記載の触媒に、アルコールを含む原料ガスを接触させてジエン化合物を得ることを含む、ジエン化合物の製造方法;
[8]前記アルコールの含有率が、原料ガス100体積%に対して、10体積%以上である、[7]に記載の製造方法。
本発明の触媒によれば、原料ガス中のアルコール濃度が高い場合であってもジエン化合物を効率的に製造できる。
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、以下の記載は本発明の実施態様の一例であり、本発明はこれらの内容に限定されず、その要旨の範囲内で変形して実施することができる。
(触媒)
本発明の触媒は、周期表第3〜6族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Xを含む化合物(以下、単に「元素Xを含む化合物」と記載することがある)、亜鉛(Zn)化合物、及び周期表第7〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Yを含む化合物(以下、単に「元素Yを含む化合物」と記載することがある)を含む触媒成分を含む。この際、前記触媒は、2〜50nmの平均細孔直径を有する。
本発明の触媒は、周期表第3〜6族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Xを含む化合物(以下、単に「元素Xを含む化合物」と記載することがある)、亜鉛(Zn)化合物、及び周期表第7〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Yを含む化合物(以下、単に「元素Yを含む化合物」と記載することがある)を含む触媒成分を含む。この際、前記触媒は、2〜50nmの平均細孔直径を有する。
前記亜鉛(Zn)化合物及び前記元素Yを含む化合物を含むことにより、アルコールをアルデヒドに変換することができる。また、前記元素Xを含む化合物及び亜鉛(Zn)化合物を含むことにより、アルコール及びアルデヒドをジエン化合物に変換することができる。そして、前記元素Xを含む化合物、亜鉛(Zn)化合物、及び元素Yを含む化合物を組み合わせることにより、原料ガス中のアルコール濃度が高い場合であってもジエン化合物を効率的に製造できる。
元素Xを含む化合物としては、特に制限されないが、元素Xの酸化物、塩化物、硫化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、シュウ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機塩又はキレート化合物、カルボニル化合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯体、アルコキシド化合物、アルキル化合物等が挙げられる。このうち、ジエン化合物の製造効率を高める観点から、元素Xを含む化合物は元素Xを含む酸化物を含むことが好ましい。
前記元素Xとしては、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ランタン(La)、セリウム(Ce)等の第3族元素;チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)等の第4族元素;バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)等の第5族元素;クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等の第6族元素が挙げられる。これらのうち、イットリウム(Y)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)であることが好ましく、イットリウム(Y)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)であることがより好ましく、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)であることがさらに好ましく、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、ニオブ(Nb)であることが特に好ましく、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)であることが極めて好ましく、ハフニウム(Hf)であることが最も好ましい。
具体的な元素Xを含む化合物としては、特に制限されないが、酸化ハフニウム(HfO2、Hf2O5)、酸化ジルコニウム(ZrO2、Zr2O5)、酸化ニオブ(NbO2、Nb2O5)、酸化タンタル(TaO2、Ta2O5)、塩化チタン(TiCl2、TiCl3、TiCl4)、塩化ジルコニウム(ZrCl2)、塩化ハフニウム(HfCl4)、塩化ニオブ(NbCl5)、塩化タンタル(TaCl5)、塩化バナジウム(VCl3)、塩化タングステン(WCl5)、硝酸スカンジウム(Sc(NO3)3)、硝酸イットリウム(Y(NO3)3)、硝酸ランタン(La(NO3)3)、硝酸セリウム(Ce(NO3)3)等が挙げられる。
これらのうち、元素Xを含む化合物は、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタルを含むことが好ましく、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブを含むことがより好ましく、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウムを含むことがさらに好ましく、酸化ハフニウムを含むことが特に好ましい。
上述の元素Xを含む化合物は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
上述の元素Xを含む化合物は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
亜鉛(Zn)化合物とは、亜鉛元素を含む化合物である。亜鉛(Zn)化合物としては、特に制限されないが、亜鉛の酸化物、塩化物、硫化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、シュウ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機塩又はキレート化合物、カルボニル化合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯体、アルコキシド化合物、アルキル化合物等が挙げられる。
具体的な亜鉛を含む化合物としては、特に制限されないが、酸化亜鉛(ZnO)、塩化亜鉛(ZnCl2)、硫化亜鉛(ZnS)、硝酸亜鉛(Zn(NO3)2)等が挙げられる。これらのうち、亜鉛を含む化合物は、ジエン化合物の製造効率を高める観点から、酸化亜鉛(ZnO)を含むことが好ましい。
上述の亜鉛を含む化合物は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
上述の亜鉛を含む化合物は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
前記元素Yを含む化合物としては、特に制限されないが、元素Yの酸化物、塩化物、硫化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、シュウ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機塩又はキレート化合物、カルボニル化合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯体、アルコキシド化合物、アルキル化合物等が挙げられる。このうち、ジエン化合物の製造効率を高める観点から、元素Yを含む化合物は元素Yを含む酸化物を含むことが好ましい。
前記元素Yとしては、マンガン(Mn)、テクネチウム(Tc)、レニウム(Re)等の第7族元素;鉄(Fe)、ルテニウム(Ru)等の第8族元素;コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)等の第9族元素;ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)等の第10族元素;銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)等の第11族元素が挙げられる。これらのうち、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)であることが好ましく、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)であることがより好ましく、ニッケル(Ni)、銅(Cu)であることがさらに好ましく、銅(Cu)であることが特に好ましい。
具体的な元素Yを含む化合物としては、特に制限されないが、酸化マンガン(MnO、Mn3O4、Mn2O3、MnO2、MnO3、Mn2O7)、酸化鉄(FeO、Fe3O4、Fe2O3)、酸化コバルト(CoO、Co2O3、Co3O4)、酸化ロジウム(RhO2、Rh2O3)、酸化ニッケル(NiO、NiO2、Ni2O3)、酸化パラジウム(PdO、PdO2)、酸化白金(PtO、PtO2)、酸化銅(CuO、Cu2O)、酸化銀(AgO、Ag2O)、酸化金(Au2O3)、塩化鉄(FeCl2、FeCl3)、塩化ニッケル(NiCl2)、塩化パラジウム(PdCl2)、塩化銅(CuCl、CuCl2)、塩化銀(AgCl)、硝酸鉄(Fe(NO3)2、Fe(NO3)3)、硝酸ニッケル(Ni(NO3)2)、硝酸パラジウム(Pd(NO3)2)、硝酸銅(Cu(NO3)2)、硝酸銀(AgNO3)等が挙げられる。
これらのうち、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ロジウム、酸化ニッケル、酸化パラジウム、酸化白金、酸化銅、酸化銀、酸化金を含むことが好ましく、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化銅を含むことがより好ましく、酸化ニッケル、酸化銅を含むことがさらに好ましく、酸化銅を含むことが特に好ましい。
上述の元素Yを含む化合物は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
上述の元素Yを含む化合物は、単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
元素Xを含む化合物、亜鉛化合物、元素Yを含む化合物の組み合わせとしては、ハフニウム化合物−亜鉛化合物−銅化合物、ジルコニウム化合物−亜鉛化合物−銅化合物、ニオブ化合物−亜鉛化合物−銅化合物、ハフニウム化合物−亜鉛化合物−ニッケル化合物、ジルコニウム化合物−亜鉛化合物−ニッケル化合物であることが好ましく、ハフニウム化合物−亜鉛化合物−銅化合物、ハフニウム化合物−亜鉛化合物−ニッケル化合物、ジルコニウム化合物−亜鉛化合物−銅化合物であることがより好ましく、ハフニウム化合物−亜鉛化合物−銅化合物、ジルコニウム化合物−亜鉛化合物−銅化合物であることがさらに好ましい。
触媒成分中の元素Xの含有率は、触媒成分の全質量に対して、2.0〜65質量%であることが好ましく、30〜60質量%であることがより好ましい。元素Xの含有率が2.0質量%以上であると、充分な量の触媒成分Xを含み、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。一方、元素Xの含有率が65質量%以下であると、触媒成分Xを均一状態にしやすいため、ジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。
触媒成分中の亜鉛元素の含有率は、触媒成分の全質量に対して、0.1〜40質量%であることが好ましく、5〜25質量%であることがより好ましい。亜鉛元素の含有率が0.1質量%以上であると、充分な量の亜鉛元素を含み、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。一方、亜鉛元素の含有率が40質量%以下であると、亜鉛元素を均一状態にしやすいため、ジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。
触媒成分中の元素Yの含有率は、触媒成分の全質量に対して、0.1〜55質量%であることが好ましく、1.0〜25質量%であることがより好ましい。元素Yの含有率が0.1質量%以上であると、充分な量の触媒成分Yを含み、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。一方、元素Yの含有率が55質量%以下であると、触媒成分Yを均一状態にしやすいため、ジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。
なお、本明細書において、触媒成分中の各元素の含有量(質量)は、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法によって測定することができる。
触媒成分中の亜鉛元素に対する元素Xの質量比(元素X/Zn)は、2/1〜15/1であることが好ましく、4/1〜8/1であることがより好ましい。前記質量比が2/1以上であると、原料転化率がさらに高まることから好ましい。一方、前記質量比が15/1以下であると、ジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。なお、「原料転化率」とは、原料ガスに含まれる原料のモル数の内、前記反応で消費された原料のモル数が占める百分率である。また、「ジエン化合物の選択率」とは、触媒を用いた反応で消費された原料のモル数の内、ジエン化合物へ変換された原料のモル数が占める百分率である。アルコールのみを原料として用いる場合、原料のモル数は、アルコールのモル数である。アルコール及びアルデヒドの両方を原料として用いる場合、原料のモル数はそれらの合計モル数である。
触媒成分中の元素Xに対する元素Yの質量比(元素Y/元素X)は、1/6〜1/1であることが好ましく、1/5〜1/2であることがより好ましい。前記質量比が1/6以上であると、ジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。一方、前記質量比が1/1以下であると、原料転化率がさらに高まることから好ましい。
触媒成分中の亜鉛元素に対する元素Yの質量比(元素Y/Zn)は、1/5〜5/1であることが好ましく、1/3〜3/1であることがより好ましい。前記質量比が1/5以上であると、原料転化率がさらに高まることから好ましい。一方、前記質量比が5/1以下であると、ジエン化合物の選択率がさらに高まることから好ましい。
触媒中の触媒成分の形態は特に制限されないが、元素Xを含む化合物、亜鉛(Zn)化合物、及び元素Yを含む化合物がそれぞれ独立した形で含まれていてもよいし、元素X、亜鉛元素、元素Yからなる群から選択される2種以上の元素を含む複合酸化物として含まれていてもよい。なお、「複合酸化物」とは、2種類以上の酸化物の複合体を意味する。
触媒中の触媒成分の形態は、集合物であってもよいし、凝縮物でもあってもよい。
触媒中の触媒成分の形態は、集合物であってもよいし、凝縮物でもあってもよい。
また、触媒は、触媒成分が多孔質担体に担持された担持触媒でもよい。
前記多孔質担体としては、周知の多孔質担体を採用できる。多孔質担体は、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ等である。中でも、多孔質担体としては、シリカが好ましい。シリカには、比表面積や細孔直径の異なる種々の製品がある。多孔質担体の比表面積や細孔直径を組み合せることで、ジエン化合物の選択率、原料転化率を制御できる。
前記多孔質担体としては、周知の多孔質担体を採用できる。多孔質担体は、例えば、シリカ、チタニア、アルミナ等である。中でも、多孔質担体としては、シリカが好ましい。シリカには、比表面積や細孔直径の異なる種々の製品がある。多孔質担体の比表面積や細孔直径を組み合せることで、ジエン化合物の選択率、原料転化率を制御できる。
前記多孔質担体の中でもメソ細孔を有する多孔質担体を使用することが好ましく、メソ細孔を有するシリカ(以下、メソポーラスシリカともいう)を使用することがより好ましい。なお、本明細書において、「メソ細孔を有する」とは、平均細孔直径が2〜50nmであることを意味する。
メソポーラスシリカとしては、従来公知のメソポーラスシリカを使用することができる。
メソポーラスシリカとしては、従来公知のメソポーラスシリカを使用することができる。
多孔質担体への触媒成分の担持量の合計は、多孔質担体100質量%に対して、元素換算で1〜30質量%が好ましく、2.5〜10質量%がより好ましい。触媒成分の担持量が前記範囲の下限値以上であれば、充分な量の触媒成分を担持でき、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。触媒成分の担持量が前記範囲の上限値以下であれば、触媒成分を均一かつ高分散状態にしやすいため、ジエン化合物の選択率がさらに高まる。
多孔質担体への元素Xの担持量は、多孔質担体100質量%に対して、元素換算で0.5〜10質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましく、2〜4質量%がさらに好ましい。
多孔質担体へのZnの担持量は、多孔質担体100質量%に対して、元素換算で0.1〜5質量%が好ましく、0.2〜2質量%がより好ましく、0.3〜1質量%がさらに好ましい。
多孔質担体への元素Yの担持量は、多孔質担体100質量%に対して、元素換算で0.1〜8質量%が好ましく、0.3〜5質量%がより好ましく、0.5〜2質量%がさらに好ましい。
多孔質担体へのZnの担持量は、多孔質担体100質量%に対して、元素換算で0.1〜5質量%が好ましく、0.2〜2質量%がより好ましく、0.3〜1質量%がさらに好ましい。
多孔質担体への元素Yの担持量は、多孔質担体100質量%に対して、元素換算で0.1〜8質量%が好ましく、0.3〜5質量%がより好ましく、0.5〜2質量%がさらに好ましい。
触媒は、下記(I)式を満たす組成が好ましい。
XxZnyYz …(I)
[(I)式中、x、y、zは、それぞれ元素X、Zn、元素Yの質量比を表す数である。xは0.5〜10である。yは0.1〜5である。zは0.1〜8である。]
XxZnyYz …(I)
[(I)式中、x、y、zは、それぞれ元素X、Zn、元素Yの質量比を表す数である。xは0.5〜10である。yは0.1〜5である。zは0.1〜8である。]
xは、0.5〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、2〜4がさらに好ましい。xが上記範囲内であれば、ジエン化合物の選択率がさらに高まる。
yは、0.1〜5が好ましく、0.2〜2がより好ましく、0.3〜1がさらに好ましい。yが上記範囲内であれば、ジエン化合物の選択率がさらに高まる。
zは、0.1〜8が好ましく、0.3〜5がより好ましく、0.5〜2がさらに好ましい。zが上記範囲内であれば、ジエン化合物の選択率がさらに高まる。
触媒の平均粒子径は、特に限定されず、好ましくは150〜3000μm、より好ましくは200〜1500μm、さらに好ましくは300〜1000μmである。触媒の平均粒子径は、篩分けにより調節される。平均粒子径が前記範囲内であると、圧力損失を抑制することができる。触媒は、粒子径分布ができるだけ狭いものが好ましい。なお、本明細書において、「粒子径」とは、粒子の輪郭線上の2点間の距離のうち、最大の長さを意味する。そして、「平均粒子径」の値は、光学顕微鏡により得られた1視野中の任意の200個の粒子の粒子径を測定し、その平均値を意味する。
触媒の細孔容積の合計(以下、全細孔容積ともいう)は、0.1〜2.50mL/gが好ましく、0.25〜1.50mL/gがより好ましく、0.50〜1.20mL/gがさらに好ましい。全細孔容積が前記範囲の下限値以上であれば、アルコールを含む原料の触媒内部への拡散性が向上し、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。全細孔容積が前記範囲の上限値以下であれば、原料と触媒との接触面積が充分となりやすく、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。なお、本明細書において、触媒の「全細孔容積」は、ガス吸着法により測定される値を採用するものとする。この際、ガス吸着法とは、窒素ガスを吸着ガスとして使用し、触媒表面に窒素分子を吸着させ、分子の凝縮から細孔分布を測定する方法である。
触媒の平均細孔直径は2〜50nmであり、好ましくは2〜17.5nmであり、より好ましくは7〜17.5nmであり、さらに好ましくは10〜15nmである。すなわち、触媒はメソ細孔を有する。平均細孔直径が前記範囲の下限値以上であれば、アルコールを含む原料の触媒内部への拡散性が向上し、原料転化率がさらに高まる。また、平均細孔直径が前記範囲の下限値以上であれば、触媒表面の酸強度が強くなりすぎないため、副反応を抑制することができ、結果としてジエン化合物の選択率が高まる。平均細孔直径が前記範囲の上限値以下であれば、触媒表面に充分な量の活性点が存在するため、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。
なお、平均細孔直径は、全細孔容積とBET比表面積とから算出される値である。BET比表面積は、窒素を吸着ガスとし、その吸着量とその時の圧力から算出される値である。具体的には、細孔形状を円筒形であると仮定することにより算出することができる。円筒形の側面積としてBET比表面積A1を、円筒形の体積として全細孔容積V1を使用すると、平均細孔直径Dave1は下記(II)式により算出することができる。
Dave1=4V1/A1…(II)
Dave1=4V1/A1…(II)
触媒の比表面積は、50〜1000m2/gが好ましく、200〜500m2/gがより好ましく、200〜300m2/gがさらに好ましく、250〜300m2/gが特に好ましい。比表面積が前記範囲の下限値以上であれば、触媒表面に充分な量の活性点が存在するため、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。比表面積が前記範囲の上限値以下であれば、平均細孔直径が小さくなりすぎず、アルコールを含む原料の触媒内部への拡散性が向上し、原料転化率がさらに高まる。なお、前記比表面積は、窒素を吸着ガスとし、BET式ガス吸着法により測定されるBET比表面積である。
触媒における全細孔容積と比表面積との積は、5〜2500mL・m2/g2が好ましく、100〜500mL・m2/g2がより好ましい。前記積が前記範囲の下限値以上であれば、触媒表面に充分な量の活性点が存在するため、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。前記積が前記範囲の上限値以下であれば、活性点とならない触媒表面が大きくなりすぎず、副反応を抑制することができ、結果としてジエン化合物の選択率がさらに高まる。
触媒のメソ細孔の細孔容積の合計(以下、全メソ細孔容積ともいう)が、全細孔容積に対して、50〜100%であることが好ましく、80〜100%であることがより好ましく、90〜100%であることがさらに好ましい。全細孔容積に対する全メソ細孔容積が前記範囲の下限値以上であれば、触媒に充分なメソ細孔が存在し、アルコールを含む原料の触媒内部への拡散性が向上するため、原料転化率とジエン化合物の選択率がさらに高まる。
触媒の全細孔容積は、前述したガス吸着法により測定される値である。触媒の全メソ細孔容積は、窒素吸着法により2〜50nmの細孔を有する細孔の容積を測定し、それらを合計することによって得ることができる。
触媒の全細孔容積は、前述したガス吸着法により測定される値である。触媒の全メソ細孔容積は、窒素吸着法により2〜50nmの細孔を有する細孔の容積を測定し、それらを合計することによって得ることができる。
[触媒の製造方法]
触媒の製造方法は、特に制限されず、公知の方法で製造することができる。
例えば、触媒が触媒成分からなる場合には、元素Xを含む化合物、亜鉛化合物、および元素Yを含む化合物と、有機高分子と、を混合、固化し、焼成することで製造することができる。焼成により有機高分子が消失することで、平均細孔直径2〜50nmである(メソ細孔を有する)触媒を製造することができる。
触媒の製造方法は、特に制限されず、公知の方法で製造することができる。
例えば、触媒が触媒成分からなる場合には、元素Xを含む化合物、亜鉛化合物、および元素Yを含む化合物と、有機高分子と、を混合、固化し、焼成することで製造することができる。焼成により有機高分子が消失することで、平均細孔直径2〜50nmである(メソ細孔を有する)触媒を製造することができる。
なお、元素Xを含む化合物、亜鉛化合物、および元素Yを含む化合物は、使用する化合物の種類に応じて、焼成前後で変換される可能性がある。例えば、元素Xを含む化合物として、塩化ハフニウムを用いる場合、焼成により塩化ハフニウムのすべてが酸化ハフニウムに変換されうる。この場合は、触媒成分に含まれる元素Xを含む化合物は酸化ハフニウムとなる。また、元素Xを含む化合物として、塩化ハフニウムを用いる場合、焼成により塩化ハフニウムの一部が酸化ハフニウムに変換されうる。この場合は、触媒成分に含まれる元素Xを含む化合物は酸化ハフニウムおよび塩化ハフニウムとなる。
前記有機高分子としては、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、及び前記有機高分子を構成する単量体の共重合体等が挙げられる。これらの有機高分子は単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
なお、有機高分子の種類、粒子径、焼成温度等を制御することで、平均細孔直径を制御することができる。
なお、有機高分子の種類、粒子径、焼成温度等を制御することで、平均細孔直径を制御することができる。
また、触媒が触媒成分と、多孔質担体とを有する場合には、元素Xを含む化合物、亜鉛化合物、および元素Yを含む化合物を多孔質担体に担持し、その後、乾燥、焼成を行うことによって得ることができる。
多孔質担体を得る方法は、特に限定されず、従来公知の製造方法で製造されたものを用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
メソポーラスシリカを製造する方法としては、例えば、ケイ素元素を含む化合物と、無機酸とを含む溶液を混合することによるゾルゲル法が挙げられる。前記ケイ素元素を含む化合物としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸アンモニウム等が例として挙げられる。また、前記無機酸としては、硫酸、硝酸、塩酸等が例として挙げられる。
また、メソポーラスシリカの市販品は、例えば、富士シリシア化学株式会社製の製品名CARiACT Qシリーズ:Q−6(平均細孔直径:5.7nm、全細孔容積:0.61mL/g、比表面積:430m2/g)、Q−10(平均細孔直径:12.7nm、全細孔容積:0.95mL/g、比表面積:300m2/g)、Q−15(平均細孔直径:20.3nm、全細孔容積:0.99mL/g、比表面積:195m2/g)、Q−30(平均細孔直径:36.6nm、全細孔容積:0.98mL/g、比表面積:107m2/g)である。
触媒成分の原料化合物としては、特に限定されず、例えば、酸化物、塩化物、硫化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、シュウ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機塩又はキレート化合物、カルボニル化合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯体、アルコキシド化合物、アルキル化合物等である。
触媒成分の多孔質担体への担持方法としては、担体として多孔質担体を、触媒成分として元素Xを含む化合物、Zn化合物、及び元素Yを含む化合物を用いる以外は、従来公知の触媒成分の担体への担持方法に準じて行うことができる。従来公知の触媒成分の担体への担持方法としては、例えば、含浸法、共沈法、イオン交換法等が挙げられる。
含浸法としては、多孔質担体を前記多孔質担体の全細孔容積に対して過剰の含浸溶液に浸した後に乾燥させることにより、触媒成分を担持する蒸発乾固法、多孔質担体を前記多孔質担体の全細孔容積に対して過剰の含浸溶液に前記多孔質担体を浸した後に濾過等の固液分離により触媒成分が担持された触媒を得る平衡吸着法、多孔質担体に前記多孔質担体の全細孔容積とほぼ等量の含浸溶液を含浸し、乾燥させることにより、触媒成分を担持する細孔充填法が例として挙げられる。
触媒成分を均一、かつ高分散に所定の量を多孔質担体に担持する観点から、細孔充填法が好ましい。
なお、多孔質担体の全細孔容積は、触媒の全細孔容積と同様の方法で測定することができる。
触媒成分を均一、かつ高分散に所定の量を多孔質担体に担持する観点から、細孔充填法が好ましい。
なお、多孔質担体の全細孔容積は、触媒の全細孔容積と同様の方法で測定することができる。
細孔充填法における細孔充填率は、通常80〜120%であり、90〜110%が好ましく、95〜105%がより好ましい。
なお、細孔充填率とは、多孔質担体の全細孔容積に対する、含浸に使用する含浸溶液の容積の割合である。
なお、細孔充填率とは、多孔質担体の全細孔容積に対する、含浸に使用する含浸溶液の容積の割合である。
触媒成分の所定の担持量、及び前記細孔充填率の好ましい範囲を満足するために、触媒成分の原料化合物を溶媒に溶解し、含浸溶液の容積を調整することができる。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等である。
含浸溶液を多孔質担体に含浸させる方法としては、同時法、逐次法等がある。同時法は、全ての原料化合物を溶解した溶液を担体に含浸させる方法である。逐次法は、各原料化合物を別個に溶解した溶液を調製し、逐次的に担体に各溶液を含浸させる方法である。
逐次法の例としては、元素Xを含む原料化合物を溶解した第1の含浸溶液を多孔質担体に含浸し、触媒前駆体を得、引き続いて、Znを含む原料化合物、及び元素Yを含む原料化合物を溶解した第2の含浸溶液を前記触媒前駆体に含浸する方法が例として挙げられる。
乾燥温度及び焼成温度は、溶媒の種類等に応じて適宜決定できる。例えば、溶媒が水の場合、乾燥温度を80〜120℃、焼成温度を300〜600℃としてもよい。
上述した逐次法の場合、第1の含浸溶液を含浸し、乾燥した後に、第2の含浸溶液を含浸してもよいし、第1の含浸溶液を含浸し、乾燥、焼成を行った後に、第2の含浸溶液を含浸してもよい。
なお、上記のように多孔質担体を用いて触媒を製造する場合、多孔質担体の平均細孔直径が触媒においてもそのまま維持されるような多孔質担体及び触媒製造条件を適宜選択することにより、触媒の平均細孔直径を容易に制御することができる。
なお、上記のように多孔質担体を用いて触媒を製造する場合、多孔質担体の平均細孔直径が触媒においてもそのまま維持されるような多孔質担体及び触媒製造条件を適宜選択することにより、触媒の平均細孔直径を容易に制御することができる。
(ジエン化合物の製造装置)
ジエン化合物の製造装置は、上述の触媒が充填された反応管を備える。ジエン化合物の製造装置は、原料を含む原料ガスからブタジエンを製造する。
ジエン化合物の製造装置は、上述の触媒が充填された反応管を備える。ジエン化合物の製造装置は、原料を含む原料ガスからブタジエンを製造する。
以下、ジエン化合物の製造装置の一例であるブタジエンの製造装置について、図1に基づいて説明する。
本実施形態のブタジエンの製造装置10(以下、単に「製造装置10」という。)は、反応管1と供給管3と排出管4と温度制御部5と圧力制御部6とを備える。
反応管1は、内部に反応床2を備える。反応床2には、本発明の触媒が充填されている。供給管3は反応管1に接続している。排出管4は反応管1に接続している。温度制御部5は反応管1に接続している。排出管4は、圧力制御部6を備える。
本実施形態のブタジエンの製造装置10(以下、単に「製造装置10」という。)は、反応管1と供給管3と排出管4と温度制御部5と圧力制御部6とを備える。
反応管1は、内部に反応床2を備える。反応床2には、本発明の触媒が充填されている。供給管3は反応管1に接続している。排出管4は反応管1に接続している。温度制御部5は反応管1に接続している。排出管4は、圧力制御部6を備える。
反応床2は、本発明の触媒のみを有してもよいし、本発明の触媒と希釈材とを有してもよい。希釈材は、触媒が過度に発熱することを防止する。
ここで、原料からブタジエンを合成する反応は吸熱反応である。このため、反応床2は、希釈材を要しないのが通常である。
希釈材は、例えば、合成触媒の担体と同様のものや、石英砂、アルミナボール、アルミボール、アルミショット等である。
反応床2に希釈材を充填する場合、希釈材/触媒で表される質量比は、それぞれの種類や比重等を勘案して決定され、例えば、0.5〜5が好ましい。
なお、反応床は、固定床、移動床、流動床等のいずれでもよい。
ここで、原料からブタジエンを合成する反応は吸熱反応である。このため、反応床2は、希釈材を要しないのが通常である。
希釈材は、例えば、合成触媒の担体と同様のものや、石英砂、アルミナボール、アルミボール、アルミショット等である。
反応床2に希釈材を充填する場合、希釈材/触媒で表される質量比は、それぞれの種類や比重等を勘案して決定され、例えば、0.5〜5が好ましい。
なお、反応床は、固定床、移動床、流動床等のいずれでもよい。
反応管1は、原料ガス及び合成された生成物に対して不活性な材料からなるものが好ましい。反応管1は、100〜500℃程度の加熱、又は10MPa程度の加圧に耐え得る形状のものが好ましい。反応管1としては、ステンレス製の略円筒形の部材を例示できる。
供給管3は、原料ガスを反応管1内に供給する供給手段である。供給管3は、例えば、ステンレス製等の配管である。
排出管4は、反応床2で合成された生成物を含むガスを排出する排出手段である。排出管4は、例えば、ステンレス製等の配管である。
供給管3は、原料ガスを反応管1内に供給する供給手段である。供給管3は、例えば、ステンレス製等の配管である。
排出管4は、反応床2で合成された生成物を含むガスを排出する排出手段である。排出管4は、例えば、ステンレス製等の配管である。
温度制御部5は、反応管1内の反応床2を任意の温度にできるものであればよい。温度制御部5は、例えば、電気炉等である。
圧力制御部6は、反応管1内の圧力を任意の圧力にできるものであればよい。圧力制御部6は、例えば、公知の圧力弁等である。
なお、製造装置10は、マスフロー等、ガスの流量を調整するガス流量制御部等の周知の機器を備えていてもよい。
圧力制御部6は、反応管1内の圧力を任意の圧力にできるものであればよい。圧力制御部6は、例えば、公知の圧力弁等である。
なお、製造装置10は、マスフロー等、ガスの流量を調整するガス流量制御部等の周知の機器を備えていてもよい。
(ジエン化合物の製造方法)
ジエン化合物の製造方法は、本発明の触媒に、アルコールを含む原料ガスを接触させてジエン化合物を得ることを含む。
・触媒
触媒としては、上述したものが用いられることからここでは説明を省略する。
触媒の使用量は、原料ガスに対して、0.1〜10g/g・hであることが好ましく、1〜5g/g・hであることがより好ましい。触媒の使用量が0.1g/g・h以上であると、反応転化率が向上できることから好ましい。一方、触媒の使用量が10g/g・h以下であると、副生成物の副生を抑制できることから好ましい。
・原料ガス
原料ガスは、アルコールを含む。その他、原料ガスは、アルデヒド、不活性ガス等をさらに含んでいてもよい。
ジエン化合物の製造方法は、本発明の触媒に、アルコールを含む原料ガスを接触させてジエン化合物を得ることを含む。
・触媒
触媒としては、上述したものが用いられることからここでは説明を省略する。
触媒の使用量は、原料ガスに対して、0.1〜10g/g・hであることが好ましく、1〜5g/g・hであることがより好ましい。触媒の使用量が0.1g/g・h以上であると、反応転化率が向上できることから好ましい。一方、触媒の使用量が10g/g・h以下であると、副生成物の副生を抑制できることから好ましい。
・原料ガス
原料ガスは、アルコールを含む。その他、原料ガスは、アルデヒド、不活性ガス等をさらに含んでいてもよい。
・アルコール
アルコールとしては、特に制限されないが、炭素数1〜6のアルコールが挙げられる。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等が挙げられる。
原則として、使用するアルコールによって得られるジエン化合物が異なる。例えば、エタノールを使用する場合、ブタジエンが得られる。また、プロパノールを使用する場合、ヘキサジエンが得られる。さらにブタノールを使用する場合、オクタジエンが得られる。
アルコールは単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよいが、副反応を抑制する観点から単独で用いることが好ましい。
アルコールとしては、特に制限されないが、炭素数1〜6のアルコールが挙げられる。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等が挙げられる。
原則として、使用するアルコールによって得られるジエン化合物が異なる。例えば、エタノールを使用する場合、ブタジエンが得られる。また、プロパノールを使用する場合、ヘキサジエンが得られる。さらにブタノールを使用する場合、オクタジエンが得られる。
アルコールは単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよいが、副反応を抑制する観点から単独で用いることが好ましい。
原料ガス中のアルコールの濃度は、原料ガス100体積%に対して、10体積%以上であることが好ましく、15体積%以上であることが好ましく、20体積%以上であることがより好ましく、30体積%以上であることがさらに好ましく、50体積%以上であることが特に好ましく、75体積%以上であることが最も好ましい。なお、アルコールを2種以上組み合わせて用いる場合には、その和が上記範囲に含まれること好ましい。本発明に係る触媒を用いることで、原料ガス中のアルコール濃度が高い場合であっても効率的に反応を進行させることができる。
・アルデヒド
アルデヒドは、通常、アルコールの酸化物である。具体例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド等が挙げられる。
原料ガスがアルデヒドを含む場合には、通常、アルコールに対応するアルデヒドが含まれる。具体的には、アルコールとしてメタノールを使用する場合にはアルデヒドはホルムアルデヒドであり、エタノールの場合にはアセトアルデヒドであり、プロパノールの場合にはプロピオンアルデヒドであり、ブタノールの場合にはブチルアルデヒドであり、ペンタノールの場合にはバレルアルデヒドである。ただし、上記アルデヒドはアルコールに対応するアルデヒド以外のアルデヒドを含んでもよい。
アルデヒドは、通常、アルコールの酸化物である。具体例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド等が挙げられる。
原料ガスがアルデヒドを含む場合には、通常、アルコールに対応するアルデヒドが含まれる。具体的には、アルコールとしてメタノールを使用する場合にはアルデヒドはホルムアルデヒドであり、エタノールの場合にはアセトアルデヒドであり、プロパノールの場合にはプロピオンアルデヒドであり、ブタノールの場合にはブチルアルデヒドであり、ペンタノールの場合にはバレルアルデヒドである。ただし、上記アルデヒドはアルコールに対応するアルデヒド以外のアルデヒドを含んでもよい。
原料ガス中のアルデヒドの濃度は、原料ガス100体積%に対して、1体積%以上であることが好ましく、5体積%以上であることが好ましく、10体積%以上であることがより好ましく、30体積%以上であることがさらに好ましく、50体積%以上であることが特に好ましく、75〜99体積%であることが最も好ましい。なお、アルコールを2種以上組み合わせて用いる場合には、その和が上記範囲に含まれること好ましい。
原料ガス中のアルコールおよびアルデヒドの総濃度は、原料ガス100体積%に対して、15体積%以上であることが好ましく、20体積%以上であることがより好ましく、20〜40体積%であることがさらに好ましい。
・不活性ガス
不活性ガスとしては、特に制限されないが、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。これらの不活性ガスは単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
不活性ガスの濃度は、原料ガス100体積%に対して、90%以下であることが好ましく、30〜90体積%であることがより好ましく、50〜90体積%であることがさらに好ましく、60〜80体積%であることが特に好ましい。
不活性ガスとしては、特に制限されないが、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられる。これらの不活性ガスは単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
不活性ガスの濃度は、原料ガス100体積%に対して、90%以下であることが好ましく、30〜90体積%であることがより好ましく、50〜90体積%であることがさらに好ましく、60〜80体積%であることが特に好ましい。
・接触
触媒と原料ガスとを接触させる態様は、特に限定されないが、例えば、反応管内の反応床に原料ガスを通流させ、反応床の触媒と原料ガスとを接触させる態様であることが好ましい。
触媒と原料ガスとを接触させる態様は、特に限定されないが、例えば、反応管内の反応床に原料ガスを通流させ、反応床の触媒と原料ガスとを接触させる態様であることが好ましい。
触媒と原料ガスとを接触させる際の温度(反応温度)は、300〜500℃であることが好ましく、350〜450℃であることがより好ましい。反応温度が300℃以上であると、反応速度が充分に高まり、ジエン化合物をより効率的に製造できることから好ましい。一方、反応温度が500℃以下であると、触媒の劣化を防止または抑制できることから好ましい。
触媒と原料ガスとを接触させる際の圧力(反応圧力)は、0.1〜10MPaであることが好ましく、0.1〜3MPaであることがより好ましい。反応圧力が0.1MPa以上であると、反応速度が高まり、ジエン化合物をより効率的に製造できることから好ましい。一方、反応圧力が10MPa以下であると、触媒の劣化を防止または抑制できることから好ましい。
反応床中の原料ガスの空間速度(SV)は、通常、反応圧力及び反応温度を勘案して、空間速度を適宜調整するが、標準状態換算で、0.1〜10000L/h/L−触媒とすることが好ましく、10〜5000L/h/L−触媒とすることがより好ましく、100〜2500L/h/L−触媒とすることがさらに好ましい。反応圧力及び反応温度を勘案して、空間速度を適宜調整する。
例えば、製造装置10を用いてブタジエンを製造する場合は、温度制御部5及び圧力制御部6で反応管1内を任意の温度及び任意の圧力とする。ガス化された原料ガス20を供給管3から反応管1内に供給する。反応管1内において原料が合成用触媒に接触して反応し、ブタジエンが生成する。ブタジエンを含む生成ガス22は、排出管4から排出する。生成ガス22には、アセトアルデヒド、プロピレン、エチレン等の化合物が含まれていてもよい。
ジエン化合物を含む生成ガス22に対しては、必要に応じて気液分離や蒸留精製等の精製を行い、未反応の原料や副生物を除去する。
本発明は、バイオエタノールからジエン化合物を製造し、環境負荷を低減することもできる。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
[担体及び触媒のキャラクタリゼーション]
1.BET比表面積測定
担体又は触媒50mgを真空雰囲気中、120℃で12時間乾燥させた後、micromeritics社製の製品名Gemini2375を用いて測定した。
1.BET比表面積測定
担体又は触媒50mgを真空雰囲気中、120℃で12時間乾燥させた後、micromeritics社製の製品名Gemini2375を用いて測定した。
(製造例1)
表1の「触媒の組成」において、各元素記号の後ろに記載された数値は、多孔質担体100質量%に対する元素の担持量(質量%)を示す。製造例1の「Hf3Zn0.5Cu1」は、多孔質担体100質量%に対し、元素基準で3質量%のHfと、0.5質量%のZnと、1質量%のCuを担持している。
塩化ハフニウム(IV)を水に溶解して、第1の含浸溶液とした。この含浸溶液を多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−6」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.61mL/g、比表面積:430m2/g、平均細孔直径:5.7nm)にHfの担持量が表1に示す組成となり、かつ含浸溶液の細孔充填率が100%となるように滴下し、第1の含浸を行った。第1の含浸後の多孔質シリカ担体を大気中、110℃で3時間乾燥し、さらに400℃で4.5時間焼成して、Hf化合物が多孔質シリカ担体に担持された触媒前駆体を得た。
硝酸亜鉛六水和物と、硝酸銅三水和物とを水に溶解して、第2の含浸溶液とした。この第2の含浸溶液を前記触媒前駆体にZnとCuの担持量が表1に示す組成となり、かつ含浸溶液の細孔充填率が100%となるように滴下し、第2の含浸を行った。なお、触媒前駆体の全細孔容積として、多孔質シリカ担体の全細孔容積を使用した。第2の含浸後の触媒前駆体を大気中、110℃で3時間乾燥し、さらに400℃で4.5時間焼成して、Hf化合物、Zn化合物、及びCu化合物が多孔質シリカ担体に担持されたブタジエン合成用触媒を得た。
表1の「触媒の組成」において、各元素記号の後ろに記載された数値は、多孔質担体100質量%に対する元素の担持量(質量%)を示す。製造例1の「Hf3Zn0.5Cu1」は、多孔質担体100質量%に対し、元素基準で3質量%のHfと、0.5質量%のZnと、1質量%のCuを担持している。
塩化ハフニウム(IV)を水に溶解して、第1の含浸溶液とした。この含浸溶液を多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−6」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.61mL/g、比表面積:430m2/g、平均細孔直径:5.7nm)にHfの担持量が表1に示す組成となり、かつ含浸溶液の細孔充填率が100%となるように滴下し、第1の含浸を行った。第1の含浸後の多孔質シリカ担体を大気中、110℃で3時間乾燥し、さらに400℃で4.5時間焼成して、Hf化合物が多孔質シリカ担体に担持された触媒前駆体を得た。
硝酸亜鉛六水和物と、硝酸銅三水和物とを水に溶解して、第2の含浸溶液とした。この第2の含浸溶液を前記触媒前駆体にZnとCuの担持量が表1に示す組成となり、かつ含浸溶液の細孔充填率が100%となるように滴下し、第2の含浸を行った。なお、触媒前駆体の全細孔容積として、多孔質シリカ担体の全細孔容積を使用した。第2の含浸後の触媒前駆体を大気中、110℃で3時間乾燥し、さらに400℃で4.5時間焼成して、Hf化合物、Zn化合物、及びCu化合物が多孔質シリカ担体に担持されたブタジエン合成用触媒を得た。
(製造例2)
多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−10」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.95mL/g、比表面積:300m2/g、平均細孔直径:12.7nm)を用いた以外は製造例1と同様にしてブタジエン合成用触媒を得た。
多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−10」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.95mL/g、比表面積:300m2/g、平均細孔直径:12.7nm)を用いた以外は製造例1と同様にしてブタジエン合成用触媒を得た。
(製造例3)
多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−15」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.99mL/g、比表面積:195m2/g、平均細孔直径:20.3nm)を用いた以外は製造例1と同様にしてブタジエン合成用触媒を得た。
多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−15」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.99mL/g、比表面積:195m2/g、平均細孔直径:20.3nm)を用いた以外は製造例1と同様にしてブタジエン合成用触媒を得た。
(製造例4)
多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−30」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.98mL/g、比表面積:107m2/g、平均細孔直径:36.6nm)を用いた以外は製造例1と同様にしてブタジエン合成用触媒を得た。
多孔質シリカ担体(富士シリシア化学株式会社製、商品名「CARiACT Q−30」、粒子径1.18〜2.36mm、全細孔容積:0.98mL/g、比表面積:107m2/g、平均細孔直径:36.6nm)を用いた以外は製造例1と同様にしてブタジエン合成用触媒を得た。
表1に製造例1〜4で使用した多孔質シリカ担体、及び得られたブタジエン合成用触媒の物性値を示す。なお、多孔質担体、ブタジエン合成用触媒の平均細孔直径は、いずれも、全細孔容積V1、比表面積A1から前記(II)式により算出した値である。
(評価方法)
各例の合成用触媒3.4gを直径1/2インチ(1.27cm)、長さ15.7インチ(40cm)のステンレス製の円筒型の反応管に充填して反応床を形成した。
次いで、反応温度(反応床の温度)を400℃とし、反応圧力(反応床の圧力)を0.1MPaとし、SV1275L/hr/L−触媒で原料ガスを反応管に供給し、生成ガスを得た。原料ガスは、エタノール30体積%(気体換算)と、窒素70体積%(気体換算)との混合ガスであった。回収した生成ガスをガスクロマトグラフィーにより分析し、ブタジエン(1,3−ブタジエン)、アセトアルデヒド、エチレン、プロピレンの選択率、原料転化率及びブタジエン収率を求めた。ブタジエン収率は、[原料転化率]×[ブタジエン選択率]で求められる値である。
各例の合成用触媒3.4gを直径1/2インチ(1.27cm)、長さ15.7インチ(40cm)のステンレス製の円筒型の反応管に充填して反応床を形成した。
次いで、反応温度(反応床の温度)を400℃とし、反応圧力(反応床の圧力)を0.1MPaとし、SV1275L/hr/L−触媒で原料ガスを反応管に供給し、生成ガスを得た。原料ガスは、エタノール30体積%(気体換算)と、窒素70体積%(気体換算)との混合ガスであった。回収した生成ガスをガスクロマトグラフィーにより分析し、ブタジエン(1,3−ブタジエン)、アセトアルデヒド、エチレン、プロピレンの選択率、原料転化率及びブタジエン収率を求めた。ブタジエン収率は、[原料転化率]×[ブタジエン選択率]で求められる値である。
[実施例1〜4]
製造例1〜4で得られたブタジエン合成用触媒を用いてブタジエン合成反応を行った。これらの結果を表2に示す。
製造例1〜4で得られたブタジエン合成用触媒を用いてブタジエン合成反応を行った。これらの結果を表2に示す。
表2の結果から、実施例1〜4は、原料ガス中に多量のエタノールを含む場合であっても、好適にブタジエンが得られることが分かる。
1 反応管
2 反応床
3 供給管
4 排出管
5 温度制御部
6 圧力制御部
10 ブタジエンの製造装置
2 反応床
3 供給管
4 排出管
5 温度制御部
6 圧力制御部
10 ブタジエンの製造装置
Claims (8)
- 周期表第3〜6族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Xを含む化合物、亜鉛(Zn)化合物、及び周期表第7〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の元素Yを含む化合物を含む触媒成分を含み、
2〜50nmの平均細孔直径を有する、触媒。 - 多孔質担体が前記触媒成分を担持している、請求項1に記載の触媒。
- 前記多孔質担体がメソ細孔を有する、請求項2に記載の触媒。
- 比表面積が、50〜1000m2/gである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の触媒。
- アルコールを含む原料ガスからジエン化合物を合成するジエン化合物合成用触媒である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の触媒。
- 前記原料ガスが、エタノール、又は、エタノール及びアセトアルデヒドを含む、請求項5に記載の触媒。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の触媒に、アルコールを含む原料ガスを接触させてジエン化合物を得ることを含む、ジエン化合物の製造方法。
- 前記アルコールの含有率が、原料ガス100体積%に対して、10体積%以上である、請求項7に記載の製造方法。
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