JPWO2019112034A1 - アスタチンの製造方法 - Google Patents
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- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 title description 14
- RYXHOMYVWAEKHL-UHFFFAOYSA-N astatine atom Chemical compound [At] RYXHOMYVWAEKHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 14
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- RYXHOMYVWAEKHL-OUBTZVSYSA-N astatine-211 Chemical compound [211At] RYXHOMYVWAEKHL-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 5
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 5
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 4
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- PLFKSSVJOMDIJY-UHFFFAOYSA-N O=[At] Chemical compound O=[At] PLFKSSVJOMDIJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000005258 radioactive decay Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/04—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes outside nuclear reactors or particle accelerators
- G21G1/10—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes outside nuclear reactors or particle accelerators by bombardment with electrically charged particles
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
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- G—PHYSICS
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- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/001—Recovery of specific isotopes from irradiated targets
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2210/00—Purification or separation of specific gases
- C01B2210/0001—Separation or purification processing
- C01B2210/0009—Physical processing
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/001—Recovery of specific isotopes from irradiated targets
- G21G2001/0094—Other isotopes not provided for in the groups listed above
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
Description
すなわち、本発明は以下の通りである。
[1]金属ビスマス標的にα線を照射し、該ビスマス標的中にアスタチン−211を生成する工程、および
該α線を照射したビスマス標的を、不活性ガス、O2およびH2Oを含有するキャリアガスを用いて蒸留し、アスタチン−211を分離精製して、溶液に溶解する工程
を包含する、アスタチン−211の製造方法。
[2]不活性ガスがHeまたはN2である、[1]記載の方法。
[3]キャリアガス中の不活性ガス:O2の体積比が99:1〜51:49であり、かつH2Oの含有量が1〜15μg/cm3である、[1]または[2]記載の方法。
[4]キャリアガスの流量が、5〜40mL/分である、[1]〜[3]のいずれか1項記載の方法。
[5]蒸留温度が、500〜850℃である、[1]〜[4]のいずれか1項記載の方法。
本発明のアスタチン−211の製造方法は、
金属ビスマス標的にαビームを照射し、該ビスマス標的中にアスタチン−211を生成する工程(以下、工程1と称する)、および
該α線を照射したビスマス標的を、不活性ガス、O2およびH2Oを含有するキャリアガスを用いて蒸留し、アスタチン−211を分離精製して、溶液に溶解する工程(以下、工程2と称する)
を包含する。
金属ビスマス標的へのαビームの照射は、加速器を用いて行う。加速器としては、αビームを30MeVに加速可能な任意の加速器を用いることができる。加速器で得られる高エネルギーのαビーム(4He2+、28.2MeV)を金属ビスマス標的に照射し、核反応209Bi(4He,2n)211Atによって該ビスマス標的中にアスタチン−211を生成する。
工程2を実施するための装置の一例の模式図を図1に示す。以下、図1を参照して工程2を説明する。
αビームを照射した金属ビスマス標的からアスタチン−211を分離精製するために乾式蒸留法を適用する。これはアスタチン−211の揮発性が高いことを利用し、金属ビスマス標的を高温で加熱溶融して選択的にアスタチン−211を蒸発させ、冷却捕集することでビスマス標的から分離精製するものである。本発明では、特にアスタチンの化学種によって揮発性や反応性が異なる事に着目し、キャリアガス(不活性ガス/O2/H2O混合ガス)組成を工夫することによって揮発しやすく溶解しやすいアスタチン酸化物を形成し、簡便で高収率の蒸留分離および溶解回収を行う。分離操作は、例えば、以下の方法で行う。
工程1でαビームを照射した金属ビスマス標的(内部にアスタチン−211が生成)を、管状炉中の石英管に入れる。管状炉の温度を上昇させ、ビスマス標的からアスタチン−211を揮発させる。揮発したアスタチン−211は、キャリアガス(不活性ガス/O2/H2O混合ガス)によって石英管外に輸送される。このキャリアガスによってビスマスおよびアスタチン−211が酸化され、目的のアスタチン酸化物が生成する。輸送されたアスタチン−211はその後、テフロン製のコネクター、バルブおよびチューブ内を通ってゆく。このテフロンチューブを管状炉外で氷水、液体窒素等で冷却することにより、アスタチン−211をチューブ壁面に吸着させる。ビスマスからアスタチン−211が全て揮発(冷却したテフロンチューブ内のアスタチン−211の放射能が飽和)した後、シリンジポンプによって一定量の溶液(蒸留水、メタノール等のアルコール、生理食塩水等)を通し、アスタチン−211を溶液(蒸留水、メタノール等のアルコール、生理食塩水等)中に溶解させる。その後、アスタチン−211が溶解した溶液(蒸留水、メタノール等のアルコール、生理食塩水等)を押し出し、目的のアスタチン溶液(水溶液、メタノール等のアルコール溶液、生理食塩水溶液等)を得る。
(工程1:アスタチン−211の製造)
加速器で得られた高エネルギーαビーム(4He2+、28.2MeV)をビスマスに照射し、核反応209Bi(4He,2n)211Atによって該ビスマス中にアスタチン−211を生成した。
ビスマス(Bi)標的の調製
Bi標的は真空蒸着法によって調製した。市販のBi金属(粒状)をタンタル製の金属ボートに乗せ、蒸着装置内部にセットした。金属ボートの上部に標的のバッキングとなるアルミニウム(Al)箔(厚さ10μm)を取り付けた。ベルジャー内を減圧後、金属ボートに電流を流して加熱し、Bi金属を揮発させてAl箔に蒸着した。蒸着したBi金属を5〜30mg/cm2の厚みで得た。
Bi標的の照射
調製したBi標的をホルダーに取り付け、飛散防止のためアルミニウム箔(厚さ10μm)で表面を覆った。その後、ホルダーごと照射槽内の照射位置にセットした。ビームが当たるBi標的の面積を出来るだけ広げて冷却効率を上げるため、Bi標的はビーム軸方向に対して45度の角度で置いた。照射槽内部をヘリウムガスに置換した後、1〜2μAのαビームを照射した。AVFサイクロトロンから入射した30MeVのαビームは、真空窓(ハーバーフォイル)ならびにアルミニウムカバーを通過し、28.2MeVでBi標的に入射した。照射中は、流速10L/分以上でヘリウムガスをBi標的に吹き付けて空冷するとともに、ビーム後方側の標的ホルダー中に蒸留水を流して水冷を行った。
αビームを照射したBi標的を石英管に入れ、Bi標的が中心になるように管状炉にセットした。下流側はテフロン製コネクター、切り替えバルブ、チューブを用いて石英管と冷却用テフロントラップ(内径2mm、長さ20cm)に接続し、上流側には混合ガス導入用チューブを接続した。接続後、トラップ上部のバルブを閉にして石英管内を減圧し、系内が1気圧になるまでHe/O2/H2O混合ガス(キャリアガス)を導入した。1気圧に達した後、バルブを開き、混合ガスを冷却トラップ、トラップ、排気系へと流した。揮発性アスタチン酸化物の沈着を防ぐため、管状炉出口からトラップ上部までをリボンヒーターで130℃に加熱した。混合ガスを流しながら冷却トラップを氷水で冷却し、さらに管状炉を850℃まで加熱した。また、CdZnTe半導体検出器を冷却トラップ上部に配置し、アスタチン−211から発せられる放射線(X線)をモニターして、冷却トラップでの捕集を確認しながら加熱した。管状炉温度が850℃に到達した後もさらに30分加熱を続けた。その後、冷却トラップ上部のバルブ二つを操作して経路を切り替え、冷却トラップを氷水から外した。シリンジポンプを用いて蒸留水を冷却トラップ方向に100μL導入したのち、別のシリンジポンプを用いて空気を送り、この100μL蒸留水を冷却トラップに流速250μL/分で流して捕集したアスタチン−211を溶解した。最終的に、小型容器にアスタチン−211を溶解した水溶液を収集した。
蒸留前のBi標的に含まれるアスタチン−211の放射線と最終の小型容器に含まれるアスタチン−211の放射線をゲルマニウム半導体検出器で測定し、それぞれに含まれるアスタチン−211を定量した。放射性壊変に対する補正を行い、各条件での化学収率を算出した。キャリアガスの組成(キャリアガス中のHe:O2体積比およびH2O含有量)および化学収率は以下の通りであった。
キャリアガスとしてN2/O2/H2O混合ガスを用いたこと以外は実施例1〜6と同様にしてアスタチン−211を得た。キャリアガスの組成(キャリアガス中のN2:O2体積比およびH2O含有量)および化学収率は以下の通りであった。
Claims (5)
- ビスマスにα線を照射し、該ビスマス中にアスタチン−211を生成する工程、および
該α線を照射したビスマスを、不活性ガス、O2およびH2Oを含有するキャリアガスを用いて蒸留し、アスタチン−211を分離精製して、溶液に溶解する工程
を包含する、アスタチン−211の製造方法。 - 不活性ガスがHeまたはN2である、請求項1記載の方法。
- キャリアガス中の不活性ガス:O2の体積比が99:1〜51:49であり、かつH2Oの含有量が1〜15μg/cm3である、請求項1または2記載の方法。
- キャリアガスの流量が、5〜40mL/分である、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。
- 蒸留温度が、500〜850℃である、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017235141 | 2017-12-07 | ||
JP2017235141 | 2017-12-07 | ||
PCT/JP2018/045068 WO2019112034A1 (ja) | 2017-12-07 | 2018-12-07 | アスタチンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019112034A1 true JPWO2019112034A1 (ja) | 2021-01-14 |
JP7205911B2 JP7205911B2 (ja) | 2023-01-17 |
Family
ID=66750219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019558293A Active JP7205911B2 (ja) | 2017-12-07 | 2018-12-07 | アスタチンの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11795056B2 (ja) |
EP (1) | EP3722258B1 (ja) |
JP (1) | JP7205911B2 (ja) |
CN (1) | CN111465577B (ja) |
AU (1) | AU2018381436B9 (ja) |
WO (1) | WO2019112034A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7286525B2 (ja) * | 2019-12-11 | 2023-06-05 | 株式会社東芝 | アスタチン同位元素の製造方法および装置、アスタチン同位元素の分離・回収方法および装置 |
JP7258736B2 (ja) * | 2019-12-17 | 2023-04-17 | 株式会社東芝 | 放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置 |
EP4148018A4 (en) * | 2020-05-07 | 2024-06-05 | Tokyo Institute of Technology | SIMPLE ASTATE CONCENTRATION METHOD |
JP7558898B2 (ja) | 2021-06-17 | 2024-10-01 | 株式会社東芝 | アスタチン同位体製造装置およびアスタチン同位体製造方法 |
CN114249301B (zh) * | 2021-11-10 | 2023-06-16 | 砹尔法纽克莱(宁波)医疗科技有限公司 | 一种洗脱溶液及用于靶向核素药的放射性核素砹-211的制备方法 |
EP4439590A1 (en) * | 2021-11-24 | 2024-10-02 | Metal Technology Co., Ltd. | Radionuclide production method, target holding device for quantum beam irradiation, system, and target |
CN116216644B (zh) * | 2023-03-20 | 2023-09-22 | 四川大学 | 一种低真空度高纯At-211干馏生产系统及其生产方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU947025A1 (ru) | 1980-10-24 | 1982-07-30 | Объединенный Институт Ядерных Исследований | Способ получени растворов астата |
US4681727A (en) * | 1984-04-10 | 1987-07-21 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Process for producing astatine-211 for radiopharmaceutical use |
JP6830435B2 (ja) * | 2014-06-18 | 2021-02-17 | リンデグレン、ストゥーレ | アスタチン−211[At−211]放射性医薬品の生産のための自動化プロセスプラットフォーム |
US20160053345A1 (en) * | 2014-08-21 | 2016-02-25 | University Of Washington | Process for isolation and purification of astatine-211 |
-
2018
- 2018-12-07 AU AU2018381436A patent/AU2018381436B9/en active Active
- 2018-12-07 JP JP2019558293A patent/JP7205911B2/ja active Active
- 2018-12-07 CN CN201880078835.5A patent/CN111465577B/zh active Active
- 2018-12-07 EP EP18885442.6A patent/EP3722258B1/en active Active
- 2018-12-07 US US16/770,403 patent/US11795056B2/en active Active
- 2018-12-07 WO PCT/JP2018/045068 patent/WO2019112034A1/ja active Application Filing
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---|
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豊嶋厚史 ET AL.: "アスタチンの酸化還元と溶媒抽出挙動", 2016日本放射化学会年会・第60回放射化学討論会研究発表要旨集, vol. vol.2016-60th, JPN6019000406, 1 September 2016 (2016-09-01), JP, pages 112, ISSN: 0004937175 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3722258A1 (en) | 2020-10-14 |
AU2018381436B2 (en) | 2024-02-15 |
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US11795056B2 (en) | 2023-10-24 |
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EP3722258B1 (en) | 2021-09-01 |
AU2018381436A1 (en) | 2020-07-23 |
JP7205911B2 (ja) | 2023-01-17 |
CN111465577B (zh) | 2023-07-28 |
WO2019112034A1 (ja) | 2019-06-13 |
US20200290872A1 (en) | 2020-09-17 |
CN111465577A (zh) | 2020-07-28 |
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