JPWO2019107123A1 - バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 - Google Patents

バルブ装置、このバルブ装置を用いた流体制御装置および半導体製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】オリフィスが組み込まれかつ低コストで製造可能なバルブ装置を提供する。【解決手段】バルブボディ２０は、バルブボディ２０の表面で開口しかつバルブ要素が内蔵される収容凹部２２と、収容凹部２２に接続された一次側流路２１および二次側流路２４と、を画定し、バルブ要素２は、一次側流路２１と二次側流路２４との収容凹部２２を通じた直接的な連通を遮断するシール部５０ｂ２，５０ｂ３と、バルブ要素２を通じて一次側流路２１と二次側流路２４とを連通させる貫通流路５０、１６ｐとを有し、貫通流路５０，１６ｐに、オリフィス１６ｐが形成されている。【選択図】図３

Description

本発明は、バルブ装置に関する。
半導体製造プロセス等の各種製造プロセスにおいては、正確に計量したプロセスガスをプロセスチャンバに供給するために、開閉バルブ、レギュレータ、マスフローコントローラ等の各種の流体機器を集積化した流体制御装置が用いられている。
上記のような流体制御装置では、管継手の代わりに、流路を形成した設置ブロック(以下、ベースブロックと呼ぶ)をベースプレートの長手方向に沿って配置し、このベースブロック上に複数の流体機器や管継手が接続される継手ブロック等を含む各種流体機器を設置することで、集積化を実現している(例えば、特許文献１参照)。
特開２００７−３０１３号公報
上記のような流体制御装置に適用されるバルブ装置に対して多様な機能が要求されるようになってきている。例えば、バルブ装置の流路中にオリフィスを設ける。
しかしながら、バルブ装置の流路中にオリフィスプレート等を挿入すると、シールが難しく、製造コストが高くなるという問題があった。
本発明の一の目的は、オリフィスが組み込まれかつ低コストで製造可能なバルブ装置を提供することにある。
本発明の第1の観点に係るバルブ装置は、ブロック状のバルブボディを有するバルブ装置であって、
前記バルブボディは、当該バルブボディの表面で開口しかつバルブ要素が内蔵される収容凹部と、前記収容凹部の底面に接続された一次側流路と、当該収容凹部の内周面で接続された二次側流路と、を画定し、
前記バルブ要素は、前記一次側流路と前記二次側流路との前記収容凹部を通じた直接的な連通を遮断するシール部と、当該バルブ要素を通じて前記一次側流路と前記二次側流路とを連通させる貫通流路とを有し、
前記貫通流路に、オリフィスが形成されている。
好適には、前記バルブ要素は、
一端面に形成された環状の座面と、他端面に形成された環状のシール面と、前記座面および前記シール面の内側に形成され前記一端面および前記他端面を貫通する流通流路とを有するバルブシートと、
前記バルブシートのシール面が当接し当該シール面からの押圧力を支持する支持面を有するバルブシートサポートと、
前記バルブシートサポートに支持された前記座面に当接および離隔可能に設けられたダイヤフラムと、を有し、
前記ダイヤフラムは、当該ダイヤフラムと前記座面との間隙を通じて、前記流通流路と前記二次側流路とを連通させ、
前記バルブシートサポートは、前記収容凹部の内壁面の一部と協働して前記一次側流路と前記二次側流路との連通を遮断するシール面と、前記一次側流路と前記流通流路とを接続する前記迂回流路とを有し、
前記バルブシートの流通流路または前記バルブシートサポートの迂回流路に前記オリフィスが形成されている、構成を採用できる。
本発明の第２の観点に係るバルブ装置は、ブロック状のバルブボディを有するバルブ装置であって、
前記バルブボディは、第１および第２のバルブ要素がそれぞれ内蔵される第１および第２の収容凹部と、前記第１および第２の収容凹部をそれぞれ前記バルブボディ外部へ連通させる一次側流路と、前記第１および第２の収容凹部をそれぞれ前記バルブボディ外部へ連通させる二次側流路と、前記第１および第２の収容凹部を接続して前記二次側流路の各々を互いに連通させる連通流路を画定し、
前記第１および第２のバルブ要素の各々は、前記一次側流路と前記二次側流路との前記収容凹部を通じた直接的な連通を遮断するシール部と、当該バルブ要素を通じて前記一次側流路と前記二次側流路とを連通させる貫通流路と、を有し、
前記第１および第２のバルブ要素の一方の貫通流路には、オリフィスが形成されている。
本発明の流量制御方法は、プロセスガスの流量制御に上記構成のバルブ装置を含む流体制御装置を用いる。
本発明の製品製造方法は、密閉された処理チャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置、フラットパネルディスプレイ、ソーラーパネル等の製品の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に上記構成のバルブ装置を含む流体制御装置を用いる。
本発明の半導体製造装置は、処理チャンバにプロセスガスを供給するための流体制御装置を有し、
前記流体制御装置は、上記構成のバルブ装置を含む。
本発明によれば、オリフィスが組み込まれかつ低コストで製造可能なバルブ装置が得られる。
本発明の一実施形態に係るバルブ装置の一部に縦断面を含む正面図。 図１Ａのバルブ装置の上面図。 図１Ａのバルブ装置の底面図。 図１Ａのバルブ装置の側面図。 図１Ａのバルブ装置の要部拡大断面図であって、バルブ閉鎖状態を示す図。 図１Ａのバルブ装置の要部拡大断面図であって、バルブ開放状態を示す図。 インナーディスクの断面図。 バルブシートの断面図。 バルブシートサポートの断面図。 本発明の第2の実施形態に係るバルブ装置の要部拡大断面図。 本発明の第３の実施形態に係るバルブ装置の要部拡大断面図。 本発明の一実施形態に係る半導体製造装置の概略構成図。 本発明のバルブ装置が適用可能な流体制御装置の一例を示す斜視図。
第１実施形態
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書および図面においては、機能が実質的に同様の構成要素には、同じ符号を使用することにより重複した説明を省略する。
図１Ａ〜図１Ｄは本発明の一実施形態に係るバルブ装置の構造を示し、図２および図３は図１Ａのバルブ装置の動作を示す、図４はインナーディスク、図５はバルブシートおよび図６はバルブシートサポートの断面構造を示している。
図１Ａ〜図３において、図中の矢印Ａ１，Ａ２は上下方向であってＡ1が上方向、Ａ２が下方向を示すものとする。矢印Ｂ１，Ｂ２は、バルブ装置１のバルブボディ２０の長手方向であって、Ｂ１が一端側、Ｂ２が他端側を示すものとする。Ｃ１，Ｃ２は、バルブボディ２０の長手方向Ｂ１，Ｂ２に直交する幅方向を示し、Ｃ１が前面側、Ｃ２が背面側を示すものとする。
バルブボディ２０は、上面視で長方形状を有するブロック状の部材であり、上面２０ｆ１および底面２０ｆ２、上面２０ｆ１および底面２０ｆ２の間で延びる側面４つの側面２０ｆ３〜２０ｆ６を画定している。加えて、上面２０ｆ１で開口する収容凹部２２を画定している。図２等からわかるように、収容凹部２２は、直径の異なる内周面２２ａ，２２ｂ，２２ｃと底面２２ｄとで構成されている。内周面２２ａ，２２ｂ，２２ｃは、この順に直径が小さくなっている。収容凹部２２に、バルブ要素２が内蔵されている。
バルブボディ２０は、収容凹部２２に接続された一次側流路２１および二次側流路２４を画定している。一次側流路２１は、ガス等の流体が外部から供給される側の流路であり、二次側流路２４はガス等の流体を外部へ流出させる流路である。一次側流路２１は、バルブボディ２０の底面２０ｆ２に対して傾斜して形成され底面２０ｆ２で開口している。一次側流路２１の開口の周囲には、シール保持部２１ａが形成されている。シール保持部２１ａには、シール部材として図示しないガスケットが配置される。バルブボディ２０は図示しない他の流路ブロックとねじ穴２０ｈ１に締結ボルトをねじ込むことで連結される。この際に、シール保持部２１ａに保持されたガスケットは、図示しない他の流路ブロックとの間で締結ボルトの締結力で押し潰されるので、一次側流路２１の開口の周囲はシールされる。
ガスケットとしては、金属製又は樹脂製などのガスケットを挙げることが出来る。ガスケットしては、軟質ガスケット、セミメタルガスケット、メタルガスケットなどが挙げられる。具体的には、以下のものが好適に使用される。
（１）軟質ガスケット
・ゴムＯリング
・ゴムシート(全面座用)
・ジョイントシート
・膨張黒鉛シート
・ＰＴＦＥシート
・ＰＴＦＥジャケット形
（２）セミメタルガスケット
・うず巻形ガスケット(Ｓｐｉｒａｌ−ｗｏｕｎｄ ｇａｓｋｅｔｓ)
・メタルジャケットガスケット
（３）メタルガスケット
・金属平形ガスケット
・メタル中空Ｏリング
・リングジョイント
なお、後述する分岐流路２５，２６の開口の周囲に設けられたシール保持部２５ａ１，２６ｂ１も同様であり詳細説明は省略する。
二次側流路２４は、バルブボディ２０の長手方向Ｂ１，Ｂ２において収容凹部２２に対して互いに反対側に形成された２つの二次側流路２４Ａ，２４Ｂを含む。二次側流路２４Ａ，２４Ｂは、バルブボディ２０の長手方向Ｂ１，Ｂ２に延びる共通の軸線Ｊ１上に形成されている。二次側流路２４Ａは、一端が収容凹部２２の内周面２２ｂで開口し、他端２４ａ１はバルブボディ２０の内部で閉塞している。二次側流路２４Ｂは、一端が収容凹部２２の内周面２２ｂで開口し、他端２４ｂ１は側面２０ｆ６側で開口している。二次側流路２４Ｂの側面２０ｆ６の開口には、溶接等の手段により、閉塞部材３０が設けられ、二次側流路２４Ｂの開口は閉塞されている。二次側流路２４Ａ，２４Ｂは、ドリル等の工具を用いて容易に加工できる。
二次側流路２４Ａは、他端２４ａ１で２本の分岐流路２５に分岐し、上面２０ｆ１で開口している。二次側流路２４Ｂは、中途で２本の分岐流路２６に分岐し、上面２０ｆ１で開口している。
すなわち、本実施形態に係るバルブ装置１では、一次側流路２１に流入するガス等の流体を、二次側流路２４の分岐流路２５，２６により４つに分流することができる。
バルブ要素２は、ダイヤフラム１４と、インナーディスク１５と、バルブシート１６と、バルブシートサポート５０とを有する。バルブ要素２は、一次側流路２１と二次側流路２４との収容凹部２２を通じた直接的な連通を遮断し、かつ、当該バルブ要素２を通じて一次側流路２１と二次側流路２４とを連通させる。以下、バルブ要素２について具体的に説明する。
収容凹部２２内には、内周面２２ｃと嵌合する外径をもつバルブシートサポート５０が挿入されている。バルブシートサポート５０は、図６に示すように、円柱状の金属製部材であり、中心部に貫通孔からなる迂回流路５０ａが形成され、上端面に迂回流路５０ａを中心とする環状の支持面５０ｆ１が形成されている。バルブシートサポート５０の支持面５０ｆ１は、平坦面からなり、その外周部には、段差が形成されている。バルブシートサポート５０の外周面５０ｂ１は、収容凹部２２の内周面２２ｃに嵌る直径を有し、下端側の小径化された外周面５０ｂ２との間には段差が存在する。この段差により、円環状の端面５０ｂ３が形成されている。外周面５０ｂ２には、図２等に示すように、ＰＴＦＥ等の樹脂製のシール部材５１が嵌め込まれる。シール部材５１は、断面形状が矩形状に形成され、収容凹部２２の底面２２ｄとバルブシートサポート５０の端面５０ｂ３との間で押し潰される寸法を有する。シール部材５１が収容凹部２２の底面２２ｄとバルブシートサポート５０の端面５０ｂ３との間で押し潰されると、バルブシートサポート５０の外周面５０ｂ１と収容凹部２２の内周面２２ｃおよび底面２２ｄとの間に樹脂が入り込み、バルブシートサポート５０と収容凹部２２との間が確実にシールされる。すなわち、シール部としての外周面５０ｂ２および端面５０ｂ３は、収容凹部２２の内周面２２ｃおよび底面２２ｄと協働して一次側流路２１と二次側流路２４との連通を遮断する。
バルブシートサポート５０の迂回流路５０ａは、収容凹部２２の底面２２ｄで開口する一次側流路２１と接続される。
バルブシートサポート５０の支持面５０ｆ１上には、バルブシート１６が設けられている。
バルブシート１６は、ＰＦＡ、ＰＴＦＥ等の樹脂で弾性変形可能に形成され図５に示すように、円環状に形成され、一端面に円環状の座面１６ｓが形成され、他端面に円環状のシール面１６ｆが形成されている。座面１６ｓおよびシール面１６ｆの内側には、貫通孔からなる流通流路１６ｐが形成されている。
流通流路１６ｐは、バルブシートサポート５０の迂回流路５０ａと接続される本発明の流通流路１６ｐであるが、迂回流路５０ａの内径よりも十分に小さい内径を持つオリフィスでもある（以下、オリフィス１６ｐとも呼ぶ）。流通流路１６ｐとバルブシートサポート５０の迂回流路５０ａとが本発明の貫通流路を構成している。
バルブシート１６は、その外周側に小径部１６ｂ１と大径部１６ｂ２とを有し、小径部１６ｂ１と大径部１６ｂ２との間には段差部が形成されている。
バルブシート１６は、位置決め押圧部材としてのインナーディスク１５により、バルブシートサポート５０の支持面５０ｆ１に対して位置決めされ、かつバルブシートサポート５０の支持面５０ｆ１に向けて押圧されている。具体的には、インナーディスク１５の中心部に形成された大径部１５ａ１と小径部１５ａ２とが形成され、大径部１５ａ１と小径部１５ａ２との間には段差面１５ａ３が形成されている。インナーディスク１５の一端面側には、円環状の平坦面１５ｆ１が形成されている。インナーディスク１５の他端面側には、外側に円環状の平坦面１５ｆ２が形成され、内側に円環状の平坦面１５ｆ３が形成されている。平坦面１５ｆ２と平坦面１５ｆ３とは高さが異なり、平坦面１５ｆ３が平坦面１５ｆ１寄りに位置している。インナーディスク１５の外周側には、収容凹部２２の内周面２２ａに嵌合する外周面１５ｂが形成されている。さらに、一端面および他端面を貫通する流路１５ｈが円周方向に等間隔に複数形成されている。インナーディスク１５の大径部１５ａ１と小径部１５ａ２とに、バルブシート１６の大径部１６ｂ２と小径部１６ｂ１とが嵌ることにより、バルブシート１６は、バルブシートサポート５０の支持面５０ｆ１に対して位置決めされる。
インナーディスク１５の平坦面１５ｆ２は、収納凹部２２の内周面２２ａと内周面２２ｂとの間に形成された平坦な段差面上に設置される。インナーディスク１５の平坦面１５ｆ１上には、ダイヤフラム１４が設置され、ダイヤフラム１４上には、押えリング１３が設置される。
アクチュエータ１０は、空圧等の駆動源により駆動され、上下方向Ａ１，Ａ２に移動可能に保持されたダイヤフラム押え１２を移動させる。アクチュエータ１０のケーシング１１の先端部は、図１Ａに示すように、バルブボディ２０にねじ込まれて固定されている。そしてこの先端部が、押えリング１３を下方Ａ２に向けて押圧し、ダイヤフラム１４は、収容凹部２２内で固定される。ダイヤフラム１４は、収容凹部２２を開口側で密閉している。また、インナーディスク１５も下方Ａ２に向けて押圧される。インナーディスク１５の平坦面１５ｆ２が収容凹部２２の段差面に押し付けられた状態において、段差面１５ａ３がバルブシート１６をバルブシートサポート５０の支持面５０ｆ１に向けて押圧するように、段差面１５ａ３の高さは設定されている。また、インナーディスク１５の平坦面１５ｆ３は、バルブシートサポート５０の上端面に当接しないようになっている。
ダイヤフラム１４は、バルブシート１６よりも大きな直径を有し、ステンレス、ＮｉＣｏ系合金などの金属やフッ素系樹脂で球殻状に弾性変形可能に形成されている。ダイヤフラム１４は、バルブシート１６の座面１６ｓに対して当接離隔可能にバルブボディ２０に支持されている。
図２において、ダイヤフラム１４はダイヤフラム押え１２により押圧されて弾性変形し、バルブシート１６の座面１６ｓに押し付けられている状態にある。ダイヤフラム１４は、ダイヤフラム押え１２による押圧を開放すると、図３に示すように、球殻状に復元する。ダイヤフラム１４がバルブシート１６の座面１６ｓに押し付けられている状態では、一次側流路２１と二次側流路２４との間の流路は閉鎖された状態にある。ダイヤフラム押え１２が上方向Ａ１に移動されると、図３に示すように、ダイヤフラム１４がバルブシート１６の座面１６ｓから離れる。そして、一次側流路２１から供給される流体は、バルブシート１６のオリフィス１６ｐを通り、ダイヤフラム１４とバルブシート１６の座面１６ｓとの間隙を通じて、二次側流路２４Ａ，２４Ｂに流入する。最終的には、一次側流路２１から供給される流体は、分岐路２５，２６を通じてバルブボディ２０の外部に流出する。
以上のように、本実施形態によれば、バルブボディ２０に直接オリフィスを加工せず、バルブ要素２の構成部品であるバルブシート１６にオリフィス１６ｐ加工することにより、バルブ装置１にオリフィス機能を容易に付加できる。また、オリフィス１６ｐのためにバルブボディ２０を拡大させる必要もないので、バルブボディ２０の小型化も維持できる。
上記実施形態では、二次側流路２４は、バルブボディ２０内で複数に分岐し、分岐流路２５，２６がバルブボディ２０の上面２０ｆ１で開口する場合を例示したが、本発明はこれに限定されるわけではなく、底面２０ｆ２や側面２０ｆ３〜２０ｆ６のいずれかで開口する構成も採用できる。
上記実施形態では、インナーディスク１５とバルブシート１６とを別部材としたが、インナーディスク１５とバルブシート１６とを一体化することも可能である。
第２実施形態
図７に本発明の第２の実施形態に係るバルブ装置を示す。なお、図７において、上記実施形態と同様の構成部分については同じ符号を使用している。
図７に示すバルブ装置のバルブシートサポート５０Ｂは、上端部の中心部に円柱状の突出部５０ｔを有し、この突出部５０ｔの中心部に、迂回流路５０ａの内径よりも十分に小さい内径のオリフィス５０ｐが形成されている。バルブシート１６Ｂは、中心部に貫通孔１６ａが形成され、これにバルブシートサポート５０Ｂの突出部５０ｔが嵌合挿入される。
本実施形態によれば、バルブボディ２０に直接オリフィスを加工せず、バルブ要素２の構成部品であるバルブシートサポート５０Ｂにオリフィス５０ｐを形成することにより、バルブ装置にオリフィス機能を容易に付加できる。
第３実施形態
図８に本発明の第３の実施形態に係るバルブ装置を示す。図８において上記実施形態と同様の構成部分には同一の符号を使用している。
本実施形態に係るバルブ装置は、共通のバルブボディ２０に２つのバルブ要素２Ａ，２Ｂを備える
バルブボディ２０は、上面２０ｆ１で開口する２つの収容凹部２２Ａ，２２Ｂを画定している。収容凹部２２Ａ，２２Ｂは上記収容凹部２２と同様の構造を有し、長手方向Ｂ１，Ｂ２において離隔して配置されている。収容凹部２２Ａ，２２Ｂにバルブ要素２Ａ，２Ｂがそれぞれ内蔵されている。第１および第２の収容凹部２２Ａ，２２Ｂにそれぞれ接続された一次側流路２１Ａ，２１Ｂと、収容凹部２２Ａ，２２Ｂにそれぞれ接続された二次側流路２４Ａ，２４Ｂと、収容凹部２２Ａと収容凹部２２Ｂとを接続する連通流路２４Ｃとを画定する。連通流路２４Ｃは、二次側流路２４の一部として機能する。
一次側流路２１Ａは、バルブボディ２０の底面２０ｆ２に対して傾斜して形成され、一端が収容凹部２２Ａの底面２２ｄで接続され、他端が底面２０ｆ２で開口している。
一次側流路２１Ｂは、バルブボディ２０の底面２０ｆ２に対して一次側流路２１Ａとは逆向きに傾斜して形成され、一端が収容凹部２２Ｂの底面２２ｄで接続され、他端が底面２０ｆ２で開口している。
一次側流路２１Ａ，２１Ｂの開口の周囲には、上記したシール保持部２１ａと同様のシール保持部２１ａ，２１ｂがそれぞれ形成されている。
二次側流路２４は、バルブボディ２０の長手方向Ｂ１，Ｂ２において収容凹部２２Ａ，２２Ｂに対して互いに反対側に形成された２つの二次側流路２４Ａ，２４Ｂと収容凹部２２Ａ，２２Ｂ間を接続する連通流路２４Ｃとを含む。
二次側流路２４Ａ，２４Ｂと連通流路２４Ｃとは、バルブボディ２０の長手方向Ｂ１，Ｂ２に延びる共通の軸線Ｊ１上に形成されている。
二次側流路２４Ａは、一端が収容凹部２２Ａの内周面２２ｂで開口し、他端２４ａ１はバルブボディ２０の内部で閉塞している。
二次側流路２４Ｂは、一端が収容凹部２２Ｂの内周面２２ｂで開口し、他端２４ｂ１は側面２０ｆ６側で開口している。
二次側流路２４Ｂの側面２０ｆ６の開口には、溶接等の手段により、閉塞部材３０が設けられ、二次側流路２４Ｂの開口は閉塞されている。
連通流路２４Ｃは、一端が収容凹部２２Ａの内周面２２ｂで開口し、他端が収容凹部２２Ｂの内周面２２ｂで開口している。連通流路２４Ｃを介して二次側流路２４Ａと二次側流路２４Ｂとは連通している。
二次側流路２４を構成する二次側流路２４Ａ，２４Ｂおよび連通流路２４Ｃは、ドリル等の工具を用いて容易に加工できる。なお、二次側流路２４はバルブボディ２０の他端からドリル等を用いて切削加工しても良いし、一端、及び他端の両方からドリル等を用いて切削加工を行い、バルブボディ２０内で連通させても良い。
二次側流路２４Ａは、他端２４ａ１で２本の分岐流路２５に分岐し、上面２０ｆ１で開口している。
二次側流路２４Ｂは、中途で２本の分岐流路２６に分岐し、上面２０ｆ１で開口している。
バルブ要素２Ａは、第１実施形態のバルブ要素２と同様の構造を有している。バルブ要素２Ａのオリフィス１６ｐを備えている。バルブ要素２Ｂはオリフィスを備えていない。
このように、共通のバルブボディ２０に２つのバルブ要素２Ａ，２Ｂを設け、一方のバルブ要素２Ａにのみオリフィスを付与することができる。一次側流路２１Ａまたは２１Ｂから供給される流体は、二次側流路２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃに共通に流出する。バルブ要素２Ａとバルブ要素２Ｂとは、選択的に一方が開放され、他方が閉鎖される。
なお、本実施では、バルブ要素２Ａのバルブシート１６にオリフィス１６ｐを形成した場合を例示したが、これに限定されるわけではなく、第２実施形態と同様にバルブシートサポートにオリフィスを形成することも可能である。
次に、図９を参照して、上記したバルブ装置１の適用例について説明する。
図９に示す半導体製造装置１０００は、原子層堆積法（ＡＬＤ：Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ 法）による半導体製造プロセスを実行するためのシステムであり、６００はプロセスガス供給源、７００はガスボックス、７１０はタンク、７２０はバルブ、８００は処理チャンバ、９００は排気ポンプを示している。
基板に膜を堆積させる処理プロセスにおいては、処理ガスを安定的に供給するためにガスボックス７００から供給される処理ガスをバッファとしてのタンク７１０に一時的に貯留し、処理チャンバ８００の直近に設けられたバルブ７２０を高頻度で開閉させてタンクからの処理ガスを真空雰囲気の処理チャンバ８００へ供給する。
ＡＬＤ法は、化学気相成長法の１つであり、温度や時間等の成膜条件の下で、２種類以上の処理ガスを１種類ずつ基板表面上に交互に流し、基板表面上原子と反応させて単層ずつ膜を堆積させる方法であり、単原子層ずつ制御が可能である為、均一な膜厚を形成させることができ、膜質としても非常に緻密に膜を成長させることができる。
ＡＬＤ法による半導体製造プロセスでは、処理ガスの流量を精密に調整する必要があるとともに、基板の大口径化等により、処理ガスの流量をある程度確保する必要もある。
ガスボックス７００は、正確に計量したプロセスガスを処理チャンバ８００に供給するために、各種の流体機器を集積化した流体制御装置をボックスに収容したものである。この流体制御装置に、上記した各実施形態に係るバルブ装置が含まれる。
タンク７１０は、ガスボックス７００から供給される処理ガスを一時的に貯留するバッファとして機能する。
処理チャンバ８００は、ＡＬＤ法による基板への膜形成のための密閉処理空間を提供する。
排気ポンプ９００は、処理チャンバ８００内を真空引きする。
図１０を参照して、本発明のバルブ装置が適用可能な流体制御装置の一例を説明する。
図１０に示す流体制御装置には、幅方向Ｗ１，Ｗ２に沿って配列され長手方向Ｇ１，Ｇ２に延びる金属製のベースプレートＢＳが設けられている。なお、Ｗ１は正面側、Ｗ２は背面側，Ｇ１は上流側、Ｇ２は下流側の方向を示している。ベースプレートＢＳには、複数の流路ブロック９９２を介して各種流体機器９９１Ａ〜９９１Ｅが設置され、複数の流路ブロック９９２によって、上流側Ｇ１から下流側Ｇ２に向かって流体が流通する図示しない流路がそれぞれ形成されている。
ここで、「流体機器」とは、流体の流れを制御する流体制御装置に使用される機器であって、流体流路を画定するボディを備え、このボディの表面で開口する少なくとも２つの流路口を有する機器である。具体的には、開閉弁（２方弁）９９１Ａ、レギュレータ９９１Ｂ、プレッシャーゲージ９９１Ｃ、開閉弁（３方弁）９９１Ｄ、マスフローコントローラ９９１Ｅ等が含まれるが、これらに限定されるわけではない。なお、導入管９９３は、上記した図示しない流路の上流側の流路口に接続されている。
本発明は、上記した開閉弁９９１Ａ、９９１Ｄ、レギュレータ９９１Ｂ等の種々のバルブ装置に適用可能である。
１ バルブ装置
２，２Ａ，２Ｂ バルブ要素
１０ アクチュエータ
１１ ケーシング
１２ ダイヤフラム押え
１３ 押えリング
１４ ダイヤフラム
１５ インナーディスク
１５ｈ 流路
１６，１６Ｂ バルブシート
１６ａ 貫通孔
１６ｆ シール面
１６ｐ オリフィス（流通流路）
１６ｓ 座面
２０ バルブボディ
２０ｆ１ 上面
２０ｆ２ 底面
２０ｆ３〜２０ｆ６ 側面
２０ｈ１ ねじ穴
２１ 一次側流路
２１ａ シール保持部
２２ 収容凹部
２２ｂ 内周面
２４Ａ，２４Ｂ，２４ 二次側流路
２５，２６ 分岐流路
３０ 閉塞部材
５０，５０Ｂ バルブシートサポート
５０ａ 迂回流路
５０ｐ オリフィス
５０ｔ 突出部
５０ｆ１ 支持面
５０ｂ２外周面（シール面、シール部）
５０ｂ３ 端面（シール面、シール部）
５１ シール部材
６００ プロセスガス供給源
７００ ガスボックス
７１０ タンク
７２０ バルブ
８００ 処理チャンバ
９００ 排気ポンプ
１０００ 半導体製造装置
Ａ１ 上方向
Ａ２ 下方向
９９１Ａ ：開閉弁
９９１Ｂ ：レギュレータ
９９１Ｃ ：プレッシャーゲージ
９９１Ｄ ：開閉弁
９９１Ｅ ：マスフローコントローラ
９９２ ：流路ブロック
９９３ ：導入管
ＢＳ ：ベースプレート
Ｇ１ ：長手方向(上流側)
Ｇ２ ：長手方向(下流側)
Ｗ１ ：幅方向
Ｗ２ ：幅方向

Claims (7)

  1. ブロック状のバルブボディを有するバルブ装置であって、
    前記バルブボディは、当該バルブボディの表面で開口しかつバルブ要素が内蔵される収容凹部と、前記収容凹部の底面に接続された一次側流路と、当該収容凹部の内周面で接続された二次側流路と、を画定し、
    前記バルブ要素は、前記一次側流路と前記二次側流路との前記収容凹部を通じた直接的な連通を遮断するシール部と、当該バルブ要素を通じて前記一次側流路と前記二次側流路とを連通させる貫通流路とを有し、
    前記貫通流路に、オリフィスが形成されている、バルブ装置。
  2. 前記バルブ要素は、
    一端面に形成された環状の座面と、他端面に形成された環状のシール面と、前記座面および前記シール面の内側に形成され前記一端面および前記他端面を貫通する流通流路とを有するバルブシートと、
    前記バルブシートのシール面が当接し当該シール面からの押圧力を支持する支持面を有するバルブシートサポートと、
    前記バルブシートサポートに支持された前記座面に当接および離隔可能に設けられたダイヤフラムと、を有し、
    前記ダイヤフラムは、当該ダイヤフラムと前記座面との間隙を通じて、前記流通流路と前記二次側流路とを連通させ、
    前記バルブシートサポートは、前記収容凹部の内壁面の一部と協働して前記一次側流路と前記二次側流路との連通を遮断するシール面と、前記一次側流路と前記流通流路とを接続する前記迂回流路とを有し、
    前記バルブシートの流通流路または前記バルブシートサポートの迂回流路に前記オリフィスが形成されている、請求項１に記載のバルブ装置。
  3. ブロック状のバルブボディを有するバルブ装置であって、
    前記バルブボディは、第１および第２のバルブ要素がそれぞれ内蔵される第１および第２の収容凹部と、前記第１および第２の収容凹部をそれぞれ前記バルブボディ外部へ連通させる一次側流路と、前記第１および第２の収容凹部をそれぞれ前記バルブボディ外部へ連通させる二次側流路と、前記第１および第２の収容凹部を接続して前記二次側流路の各々を互いに連通させる連通流路を画定し、
    前記第１および第２のバルブ要素の各々は、前記一次側流路と前記二次側流路との前記収容凹部を通じた直接的な連通を遮断するシール部と、当該バルブ要素を通じて前記一次側流路と前記二次側流路とを連通させる貫通流路と、を有し、
    前記第１および第２のバルブ要素の一方の貫通流路には、オリフィスが形成されている、バルブ装置。
  4. 複数の流体機器が配列された流体制御装置であって、
    前記複数の流体機器は、請求項１ないし３のいずれかに記載のバルブ装置を含む、流体制御装置。
  5. プロセスガスの流量制御に請求項１〜３のいずれかに記載のバルブ装置を含む流体制御装置を用いた流量制御方法。
  6. 密閉された処理チャンバ内においてプロセスガスによる処理工程を要する半導体装置、フラットパネルディスプレイ、ソーラーパネル等の製品の製造プロセスにおいて、前記プロセスガスの制御に請求項１〜３のいずれかに記載のバルブ装置を含む流体制御装置を用いた製品製造方法。
  7. 処理チャンバにプロセスガスを供給するための流体制御装置を有し、
    前記流体制御装置は、請求項１〜３のいずれかに記載のバルブ装置を含む半導体製造装置。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11402029B2 (en) * 2018-04-06 2022-08-02 Fujikin Incorporated Valve device, fluid control system, fluid control method, semiconductor manufacturing system, and semiconductor manufacturing method
WO2020158459A1 (ja) * 2019-01-31 2020-08-06 株式会社フジキン バルブ装置、このバルブ装置を用いた流量制御方法、流体制御装置、半導体製造方法、および半導体製造装置
US11492701B2 (en) * 2019-03-19 2022-11-08 Asm Ip Holding B.V. Reactor manifolds
JP2021008829A (ja) * 2019-06-28 2021-01-28 株式会社フジキン バキュームジェネレータ
WO2021026222A1 (en) * 2019-08-05 2021-02-11 Ichor Systems, Inc. Seal for a flow restrictor
KR20210048408A (ko) 2019-10-22 2021-05-03 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 증착 반응기 매니폴드
JP7397470B2 (ja) 2019-12-26 2023-12-13 株式会社フジキン 流体制御装置
KR20230094191A (ko) * 2020-11-04 2023-06-27 스웨이지락 캄파니 통합된 오리피스 제한부를 구비한 밸브
US12000723B2 (en) * 2022-02-18 2024-06-04 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for pressure based mass flow control

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0333566A (ja) * 1989-06-29 1991-02-13 Hitachi Metals Ltd デジタルバルブ
JP2000213667A (ja) * 1999-01-28 2000-08-02 Tadahiro Omi オリフィス内蔵弁

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09250643A (ja) 1996-03-15 1997-09-22 Kitz Corp ボールバルブ用ボールシート
JP3522535B2 (ja) * 1998-05-29 2004-04-26 忠弘 大見 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
EP1300619B1 (en) * 2000-06-05 2006-08-02 Fujikin Incorporated Orifice-built-in valve
US20030042459A1 (en) * 2001-08-29 2003-03-06 Gregoire Roger J. Unitary diaphragm and seat assembly
JP4651358B2 (ja) * 2004-10-28 2011-03-16 旭有機材工業株式会社 ダイヤフラム弁
KR20070003013A (ko) 2005-06-30 2007-01-05 매그나칩 반도체 유한회사 시모스 이미지센서의 제조방법
JP4237781B2 (ja) * 2006-06-29 2009-03-11 シーケーディ株式会社 流量制御弁
JP4395641B2 (ja) 2006-10-06 2010-01-13 忠弘 大見 流体制御装置
JP6416529B2 (ja) 2014-07-23 2018-10-31 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6893362B2 (ja) * 2016-07-29 2021-06-23 株式会社フジキン オリフィス内蔵弁および圧力式流量制御装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0333566A (ja) * 1989-06-29 1991-02-13 Hitachi Metals Ltd デジタルバルブ
JP2000213667A (ja) * 1999-01-28 2000-08-02 Tadahiro Omi オリフィス内蔵弁

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