JPWO2019087749A1 - 蒸着マスク装置 - Google Patents

Abstract

蒸着マスク装置は、基板の側に位置する第１面から第１面の反対側に位置する第２面に至る複数のマスク貫通孔を含む蒸着マスクと、蒸着マスクの一部に重なる開口部が設けられるとともに蒸着マスクを支持するフレームと、を備える。

Description

本開示の一実施形態は、複数の貫通孔が形成された蒸着マスクと、蒸着マスクを支持するフレームと、を備える蒸着マスク装置に関する。

近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が４００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラハイディフィニション（ＵＨＤ）に対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば８００ｐｐｉ以上であることが求められる。

表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の基板に対して蒸着マスクを密着させ、次に、密着させた蒸着マスクおよび基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う。この場合、高い画素密度を有する有機ＥＬ表示装置を精密に作製するためには、蒸着マスクの貫通孔の位置や形状を設計に沿って精密に再現することが求められる。

有機材料などの蒸着材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う蒸着装置は、蒸着マスクと、蒸着マスクを支持するフレームと、を含む蒸着マスク装置を備える。フレームは、蒸着マスクが撓まないように、蒸着マスクを引っ張った状態で支持する。蒸着マスクは、溶接、接着、めっき、はんだ、または圧着等によってフレームに固定される。そして、このような蒸着マスク装置に、基板が設置され、蒸着工程が行われる。

特許第５３８２２５９号公報 特開２００１−２３４３８５号公報

ところで、蒸着マスク装置に基板を設置する際、基板を保持する保持部材とフレームとが干渉する場合がある。この場合、基板を所望の位置に設置することが困難になり、基板の所望の位置に蒸着材料を蒸着することができないことが考えられる。

本開示は、このような課題を効果的に解決し得る蒸着マスク装置を提供することを目的とする。

本開示の一実施形態は、保持部材によって保持された基板と少なくとも一時的に組み合わされる蒸着マスク装置であって、前記基板の側に位置する第１面から前記第１面の反対側に位置する第２面に至る複数のマスク貫通孔を含む蒸着マスクと、前記蒸着マスクの一部に重なる開口部が設けられるとともに前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、前記フレームは、前記蒸着マスクの前記第２面に面する表面と、前記表面に対向する裏面と、前記表面と前記裏面との間に広がる外側面と、前記外側面よりも内側において前記表面と前記裏面との間に広がり、前記開口部に面する内側面と、を有し、前記フレームの前記表面のうち前記開口部から離間した位置に、前記保持部材の少なくとも一部を収容可能な複数の収容部が形成されている蒸着マスク装置である。

本開示の一実施形態の蒸着マスク装置において、複数の前記収容部は、前記開口部と前記外側面との間に形成されていてもよい。

本開示の一実施形態の蒸着マスク装置において、複数の前記収容部は、前記外側面に至るまで延びていてもよい。

本開示の一実施形態の蒸着マスク装置において、前記フレームの前記表面は、前記内側面側に位置する第１表面と、前記外側面側に位置するとともに前記第１表面よりも前記裏面側に位置する第２表面とを含み、前記第１表面と前記第２表面とは、中間面を介して互いに連結され、前記収容部は、前記第１表面に形成されるとともに、前記中間面に至るまで延びていてもよい。

本開示の一実施形態の蒸着マスク装置において、複数の前記収容部は、前記開口部を取り囲むように形成されていてもよい。

本開示の一実施形態の蒸着マスク装置において、前記蒸着マスクは、前記フレームの前記表面に溶接される接合部を含み、前記接合部の少なくとも一部は、前記開口部と前記収容部との間に位置してもよい。

本開示の一実施形態の蒸着マスク装置において、各々の前記収容部の少なくとも一部は、前記蒸着マスクの長手方向における一対の端部よりも内側に形成されていてもよい。

本開示の一実施形態は、第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、を有する蒸着マスクと、前記蒸着マスクの側に位置する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、を有するフレームと、を備え、前記蒸着マスクと前記フレームは、接合部を介して互いに接合されており、前記フレームは、前記接合部の外側に位置する第５面を更に有し、前記第５面の少なくとも一部は、前記第３面よりも前記第４面の側に位置している、蒸着マスク装置である。

本開示によれば、基板を所望の位置に設置することができ、基板の所望の位置に蒸着材料を蒸着することができる。

本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。 図１Ａに示す蒸着マスク装置を用いて製造した有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。 本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。 本開示の一実施形態による蒸着マスク装置のフレームを示す平面図である。 図２Ａに示す蒸着マスク装置のフレームの収容部を拡大して示す平面図である。 蒸着マスクの耳部に形成される接合部の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の耳部に形成される接合部の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の耳部に形成される接合部の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の耳部に形成される接合部の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の耳部に形成される接合部の一変形例を示す平面図である。 図３の蒸着マスク装置をVA−VA方向から見た断面図である。 図５Ａに示す蒸着マスク装置を拡大して示す断面図（図５ＡのVB部に対応する断面図）である。 図５Ｂに示す溶接痕を拡大して示す断面図（図５ＢのVC部に対応する断面図）である。 溶接痕の一変形例を示す断面図である。 溶接痕の一変形例を示す断面図である。 蒸着マスクの中間部を拡大して示す平面図である。 図６の中間部をVII−VII方向から見た断面図である。 金属板上にレジストパターンを形成する工程を示す図である。 第１面エッチング工程を示す図である。 第２面エッチング工程を示す図である。 金属板から樹脂及びレジストパターンを除去する工程を示す図である。 フレームを製造する工程を示す図である。 フレームを製造する工程を示す図である。 有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。 有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。 有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。 有機ＥＬ基板に蒸着材料を蒸着させる工程を示す図である。 蒸着マスクの耳部の変形例を示す断面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の一変形例において、有機ＥＬ基板をフレームに設置する工程を示す断面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図２１のXXII−XXII方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 蒸着マスク装置の一変形例を示す平面図である。 保持部材の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。 保持部材の一変形例を示す断面図であって、図３のVA−VA方向から見た断面図に相当する図である。

以下、図面を参照して本開示の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

なお、以下に示す実施の形態は、本開示の実施の形態の一例であって、本開示はこれらの実施の形態に限定して解釈されるものではない。また、以下に示す実施の形態および変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。また、複数の実施の形態同士を組み合わせたり、複数の変形例同士を組み合わせたり、複数の実施の形態と複数の変形例とを組み合わせることも可能である。

図１Ａ〜図１４Ｂは、本開示の一実施の形態を説明するための図である。以下の実施の形態およびその変形例では、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスク装置を例にあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスク装置に対し、本開示を適用することができる。例えば、蒸着マスク装置１０は、カラーフィルタの透明電極を形成する際に用いられてもよい。

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。

また、「板面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の板面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件および物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」、「同等」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

（蒸着装置）
まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置９０について、図１Ａを参照して説明する。図１Ａに示すように、蒸着装置９０は、蒸着源（例えばるつぼ９４）、ヒータ９６、及び蒸着マスク装置１０を備える。るつぼ９４は、有機発光材料などの蒸着材料９８を収容する。ヒータ９６は、るつぼ９４を加熱して蒸着材料９８を蒸発させる。蒸着マスク装置１０は、るつぼ９４と対向するよう配置されている。また、蒸着材料９８を付着させる対象物である基板、例えば有機ＥＬ基板９２は、有機ＥＬ基板９２を保持する保持部材９２Ａによって蒸着マスク装置１０上に設置される。ここで、保持部材９２Ａは、例えば、有機ＥＬ基板９２を挟持するクランプであってもよい。

（蒸着マスク装置）
以下、蒸着マスク装置１０について説明する。図１Ａに示すように、蒸着マスク装置１０は、蒸着マスク２０と、蒸着マスク２０の一部に重なる開口部１５ａが設けられるとともに蒸着マスク２０を支持するフレーム１５と、を備える。フレーム１５は、蒸着マスク２０が撓んでしまうことがないように、蒸着マスク２０をその面方向に引っ張った状態で支持する。蒸着マスク装置１０は、図１Ａに示すように、蒸着マスク２０が、蒸着材料９８を付着させる対象物である基板、例えば有機ＥＬ基板９２に対面するよう、蒸着装置９０内に配置される。有機ＥＬ基板９２は、上述したように、有機ＥＬ基板９２を保持する保持部材９２Ａによって蒸着マスク装置１０上に設置される。以下の説明において、蒸着マスク２０の面のうち、有機ＥＬ基板９２側の面を第１面２０ａと称し、第１面２０ａの反対側に位置する面を第２面２０ｂと称する。

蒸着マスク装置１０は、図１Ａに示すように、有機ＥＬ基板９２の、蒸着マスク２０と反対の側の面に配置された磁石９３を備えていてもよい。磁石９３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０を磁石９３側に引き寄せて、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させることができる。

図２Ａは、図１Ａに示す蒸着マスク装置１０、有機ＥＬ基板９２および保持部材９２Ａを蒸着マスク２０の第１面２０ａ側から見た場合を示す平面図である。図２Ａに示すように、蒸着マスク装置１０は、平面視において略矩形状の形状を有する複数の蒸着マスク２０を備え、各蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅの近傍に位置する後述する接合部１９において、溶接によってフレーム１５に固定されている。

図１Ａに示すように、蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０を貫通する複数の貫通孔２５を含む。るつぼ９４から蒸発して蒸着マスク装置１０に到達した蒸着材料９８は、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する。これによって、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２の表面に成膜することができる。

図１Ｂは、図１Ａの蒸着装置９０を用いて製造した有機ＥＬ表示装置１００を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ基板９２と、パターン状に設けられた蒸着材料９８を含む画素と、を備える。

なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０が搭載された蒸着装置９０をそれぞれ準備し、有機ＥＬ基板９２を各蒸着装置９０に順に投入する。これによって、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に有機ＥＬ基板９２に蒸着させることができる。

ところで、蒸着処理は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部で実施される場合がある。この場合、蒸着処理の間、蒸着装置９０の内部に保持される蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２も加熱される。この際、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２は、各々の熱膨張係数に基づいた寸法変化の挙動を示すことになる。この場合、蒸着マスク２０やフレーム１５と有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数が大きく異なっていると、それらの寸法変化の差異に起因した位置ずれが生じ、この結果、有機ＥＬ基板９２上に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度が低下してしまう。

このような課題を解決するため、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数が、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値であることが好ましい。例えば、有機ＥＬ基板９２としてガラス基板が用いられる場合、蒸着マスク２０およびフレーム１５の主要な材料として、ニッケルを含む鉄合金を用いることができる。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、蒸着マスク２０を構成する金属板の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５０質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材、４８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系めっき合金などを挙げることができる。

なお蒸着処理の際に、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２の温度が高温には達しない場合は、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数を、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値にする必要は特にない。この場合、蒸着マスク２０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を用いることができる。また、ニッケルやニッケル−コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。

（フレーム）
次に、フレーム１５について、図２Ａに加えて図２Ｂ、図３、図５Ａ及び図５Ｂを更に参照して詳細に説明する。図２Ｂは、フレーム１５を示す平面図である。図３は、図２Ａに示す蒸着マスク装置１０の一部を拡大して示す平面図である。図５Ａは、図３の蒸着マスク装置１０をVA−VA方向から見た断面図である。図５Ｂは、図５Ａの蒸着マスク装置を拡大して示す断面図（図５ＡのVB部に対応する断面図）である。図２Ａ、図２Ｂ、図３および図５Ｂに示すように、フレーム１５は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂに面する表面１５ｂ（すなわち第３面）と、表面１５ｂに対向する裏面１５ｃ（ずなわち第４面）と、表面１５ｂと裏面１５ｃとの間に広がる外側面１５ｄと、外側面１５ｄよりも内側において表面１５ｂと裏面１５ｃとの間に広がり、開口部１５ａに面する内側面１５ｅと、を有する。図５Ｂに示すように、表面１５ｂ及び裏面１５ｃは、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿った断面で見たとき、法線方向Ｎに直交する方向に互いに平行に延びている。外側面１５ｄ及び内側面１５ｅは、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿った断面で見たとき、法線方向Ｎに延びており、表面１５ｂ及び裏面１５ｃに直交するように接続している。蒸着時には、るつぼ９４から蒸発した蒸着材料９８は、フレーム１５の開口部１５ａを通って有機ＥＬ基板９２に付着する。なお、フレーム１５の外側面１５ｄおよび内側面１５ｅは、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿った断面で見たとき、法線方向Ｎから傾斜するように延びていてもよく、または湾曲していてもよい。

また、このようなフレーム１５の表面１５ｂのうち開口部１５ａから離間した位置に、複数の収容部１５ｆが形成されていてもよい。この複数の収容部１５ｆは、後述する接合部１９の外側に位置し、収容部の面１５１ｆ（すなわち第５面）は、フレーム１５の表面１５ｂ（すなわち第３面）よりも裏面１５ｃ（すなわち第４面）の側に位置していてもよい。収容部１５ｆは、保持部材９２Ａによって保持された有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に組み合わせる際に、保持部材９２Ａの少なくとも一部を収容可能であるように構成されている（図５Ａおよび図５Ｂ参照）。これにより、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に設置する際に保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制することができ、このことにより、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に対して所望の位置に設置することが可能になる。本実施の形態においては、このような収容部１５ｆは、表面１５ｂに形成された凹部によって構成されている。この場合、表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂと、収容部１５ｆの外側に位置する表面１５２ｂとは、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、同一表面上に位置している。

なお、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制するための手段としては、上述のような複数の収容部１５ｆを設けること以外にも、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉しないようにフレーム１５の幅（外側面１５ｄと内側面１５ｅとの間の距離）を小さくすることが考えられる。一方、本実施の形態のように、保持部材９２Ａの少なくとも一部を収容可能である複数の収容部１５ｆを、フレーム１５の表面１５ｂに離散的に設けることにより、フレーム１５のうち、厚みＳ１（図５Ｂ参照）を有する、収容部１５ｆが設けられていない部分を、フレーム１５の全域に分布させることができる。これにより、フレーム１５に収容部１５ｆを設けることによって生じるフレーム１５の強度の低下の程度を小さくすることができる。すなわち、フレーム１５の幅を小さくする場合と比較した場合に、フレーム１５のうち、厚みＳ１（図５Ｂ参照）を有する部分の平面視における面積を広くすることができる。これにより、フレーム１５の剛性などの強度が低下することを効果的に抑制することができる。このため、フレーム１５が蒸着マスク２０を引っ張った状態で支持するとき、蒸着マスク２０から加わる力によってフレーム１５に撓みなどの変形が生じてしまうことを抑制することができる。このことにより、フレーム１５に支持された蒸着マスク２０を用いて蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２に精度良く蒸着させることができる。

図５Ｂにおいて、符号Ｓ２は、収容部１５ｆが設けられている部分におけるフレーム１５の厚みを表す。厚みＳ２は、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制できるよう、保持部材９２Ａの寸法に応じて定められる。例えば、厚みＳ２は、２ｍｍ以上であってもよく、５ｍｍ以上であってもよく、７ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよい。また、厚みＳ２は、２０ｍｍ以下であってもよく、１８ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以下であってもよく、１２ｍｍ以下であってもよい。厚みＳ２の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ２の範囲は、２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上１８ｍｍ以下であってもよく、７ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上１２ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ２の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ２の範囲は、１５ｍｍ以上１８ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ２の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ２の範囲は、７ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。

収容部１５ｆが設けられていない部分におけるフレーム１５の厚みＳ１は、フレーム１５に撓みなどの変形が生じることを抑制できるよう定められており、例えば、厚みＳ１は、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、１５ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよい。また、厚みＳ１は、３５ｍｍ以下であってもよく、３０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以下であってもよい。厚みＳ１の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ１の範囲は、５ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ１の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ１の範囲は、２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ１の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ１の範囲は、１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ１は、収容部１５ｆが設けられている部分におけるフレーム１５の厚みＳ２に応じて定められていてもよい。例えば、厚みＳ１は、１．５×Ｓ２以上３．０×Ｓ２以下とすることができる。

好ましくは、フレーム１５の表面１５ｂの全体の面積（図２Ｂに示す斜線部分）のうち、複数の収容部１５ｆが設けられている部分（図２Ｂに示す梨地部分）の面積の比率（以下、収容部率とも称する）が、フレーム１５に撓みなどの変形が生じることを抑制できるよう定められている。収容部率は、例えば、５％以上であってもよく、７％以上であってもよく、９％以上であってもよい。また、収容部率は、１５％以下であってもよく、１３％以下であってもよく、１１％以下であってもよい。収容部率の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、収容部率の範囲の範囲は、５％以上１５％以下であってもよく、７％以上１３％以下であってもよく、９％以上１１％以下であってもよい。また、収容部率の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、収容部率の範囲は、１１％以上１５％以下であってもよい。また、収容部率の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、収容部率の範囲は、５％以上９％以下であってもよい。

本実施の形態において、複数の収容部１５ｆは、外側面１５ｄと内側面１５ｅとの間に形成されていてもよい。より具体的には、本実施の形態による複数の収容部１５ｆは、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅの外側に形成されている。複数の収容部１５ｆを外側面１５ｄと内側面１５ｅとの間に形成することにより、フレーム１５の表面１５ｂにおいて、収容部１５ｆの外側に厚みＳ１の領域を確保することができ、フレーム１５の強度が低下することを効果的に抑制できる。ここで、「外側」とは、図２Ａにおいて矢印Ａで表すように、蒸着マスク２０の長手方向において、蒸着マスク２０の中心線ＣＬから遠ざかる側である。また、「内側」とは、蒸着マスク２０の長手方向において、蒸着マスク２０の中心線ＣＬに近づく側である。ここで、蒸着マスク２０の中心線ＣＬとは、蒸着マスク２０の長手方向に直交する方向に延びる直線のうち、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅ間を二等分する中間点Ｃ（図２Ａ参照）を通る直線である。

図２Ａに示すように、複数の収容部１５ｆは、内側面１５ｅによって画成された開口部１５ａの辺に沿って並んでいる。図２Ａに示す例において、開口部１５ａは、４つの辺を有する矩形状の形状を備え、複数の収容部１５ｆは、開口部１５ａの辺のうち対向する一対の辺に沿って並んでいる。また、複数の蒸着マスク２０も、その耳部１７が、複数の収容部１５ｆが並ぶ開口部１５ａの辺と同一の辺に沿って並ぶよう、フレーム１５に取り付けられている。なお、図示はしないが、複数の収容部１５ｆは、複数の蒸着マスク２０の耳部１７が並ぶ開口部１５ａの辺とは異なる辺に沿って並んでいてもよい。

収容部１５ｆの個数や寸法は、有機ＥＬ基板９２を保持する保持部材９２Ａの寸法等によって適宜設定することができるが、有機ＥＬ基板９２をフレーム１５に設置した際（有機ＥＬ基板９２が蒸着マスク２０の第１面２０ａに接触した際）に、保持部材９２Ａが収容部１５ｆに接触しない程度の範囲とすることができる。例えば、収容部１５ｆの長さＬ１（蒸着マスク２０の長手方向に沿った長さ（図３参照））は、例えば１５ｍｍ以上５０ｍｍ以下とすることができ、収容部１５ｆの幅Ｗ（蒸着マスク２０の幅方向に沿った長さ（図３参照））は、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、１５ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよく、２５ｍｍ以上であってもよい。また、幅Ｗは、５０ｍｍ以下であってもよく、４５ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以下であってもよく、３５ｍｍ以下であってもよい。幅Ｗの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、幅Ｗの範囲は、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよい。また、幅Ｗの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、幅Ｗの範囲は、３５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよい。また、幅Ｗの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、幅Ｗの範囲は、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよい。また、互いに隣接する収容部１５ｆ間の距離Ｌ２（図２Ａ参照）は、例えば５０ｍｍ以上であってもよく、８０ｍｍ以上であってもよく、１００ｍｍ以上であってもよく、１３０ｍｍ以上であってもよく、１５０ｍｍ以上であってもよい。また、距離Ｌ２は、２５０ｍｍ以下であってもよく、２２０ｍｍ以下であってもよく、２００ｍｍ以下であってもよく、１８０ｍｍ以下であってもよい。距離Ｌ２の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ２の範囲は、５０ｍｍ以上２５０ｍｍ以下であってもよく、８０ｍｍ以上２２０ｍｍ以下であってもよく、１００ｍｍ以上２００ｍｍ以下であってもよい。また、距離Ｌ２の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ２の範囲は、２００ｍｍ以上２２０ｍｍ以下であってもよい。また、距離Ｌ２の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ２の範囲は、１３０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であってもよい。

なお、図２Ａにおいては、開口部１５ａの辺に沿って並ぶ複数の収容部１５ｆの周期が、開口部１５ａの同一の辺に沿って並ぶ複数の蒸着マスク２０の周期と一致している例が示されているが、これに限られることはない。図示はしないが、複数の収容部１５ｆの周期が、複数の蒸着マスク２０の周期と異なっていてもよい。

また、フレーム１５の内側面１５ｅから収容部１５ｆまでの距離Ｌ３（図３参照）は、例えば１ｍｍ以上２０ｍｍ以下とすることができ、好ましくは３ｍｍ以上２０ｍｍ以下とすることができる。フレーム１５の内側面１５ｅから収容部１５ｆまでの距離Ｌ３を３ｍｍ以上とすることにより、接合部１９の面積を十分に確保することができ、接合部１９の強度を高めることができる。また、フレーム１５の内側面１５ｅから収容部１５ｆまでの距離Ｌ３を２０ｍｍ以下とすることにより、開口部１５ａの開口面積を広くすることができ、蒸着に有効なエリアを広くすることができる。また、フレーム１５の内側面１５ｅから収容部１５ｆまでの距離Ｌ３は、例えば１ｍｍ以上であってもよく、３ｍｍ以上であってもよく、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよい。また、距離Ｌ３は、２０ｍｍ以下であってもよく、１８ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以下であってもよい。距離Ｌ３の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ３の範囲は、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、３ｍｍ以上１８ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよい。また、距離Ｌ３の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ３の範囲は、１５ｍｍ以上１８ｍｍ以下であってもよい。また、距離Ｌ３の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ３の範囲は、３ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい

さらに、フレーム１５の外側面１５ｄから収容部１５ｆまでの距離Ｌ４（図３参照）は、例えば１０ｍｍ以上８０ｍｍ以下とすることができ、好ましくは３０ｍｍ以上とすることができる。フレーム１５の外側面１５ｄから収容部１５ｆまでの距離Ｌ４を３０ｍｍ以上とすることにより、フレーム１５の強度が低下することを抑制することができる。また、フレーム１５の外側面１５ｄから収容部１５ｆまでの距離Ｌ４は、例えば１０ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよく、３０ｍｍ以上であってもよく、４０ｍｍ以上であってもよい。また、距離Ｌ４は、８０ｍｍ以下であってもよく、７０ｍｍ以下であってもよく、６０ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以下であってもよい。距離Ｌ４の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ４の範囲は、１０ｍｍ以上８０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上７０ｍｍ以下であってもよく、３０ｍｍ以上６０ｍｍ以下であってもよい。また、距離Ｌ４の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ４の範囲は、５０ｍｍ以上８０ｍｍ以下であってもよい。また、距離Ｌ４の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、距離Ｌ４の範囲は、１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよい

なお、図２Ａ乃至図４Ａに示すように、収容部１５ｆは、平面視において略矩形状を有しているが、収容部１５ｆの形状は任意とすることができ、例えば平面視において円形状や楕円形状を有していてもよく、六角形や八角形といった多角形状を有していてもよい。また、各々の収容部１５ｆは、互いに異なる形状を有していてもよく、例えば平面視において円形状、楕円形状、六角形や八角形といった多角形状をそれぞれが有していてもよい。また、このような収容部１５ｆは、フレーム１５を貫通していてもよい。この場合、フレーム１５を貫通する収容部１５ｆと、フレーム１５を貫通していない収容部１５ｆとが形成されていてもよい。

（蒸着マスク）
次に、蒸着マスク２０について詳細に説明する。図２Ａに示すように、蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅを構成する一対の耳部１７と、一対の耳部１７の間に位置する中間部１８と、を備えている。

（耳部）
まず、耳部１７について詳細に説明する。耳部１７は、蒸着マスク２０のうちフレーム１５に固定される部分である。本実施の形態において、耳部１７は、第２面２０ｂ側において溶接などによってフレーム１５に固定される。以下の説明において、耳部１７及びフレーム１５のうち溶接によって互いに接合されている部分のことを、接合部１９と称する。この接合部１９は、上述したフレーム１５の開口部１５ａと、収容部１５ｆとの間に位置していてもよい。

耳部１７に形成される接合部１９は、溶接痕１９ａを含む。溶接痕１９ａとは、蒸着マスク２０の第２面２０ｂをフレーム１５に溶接したことに起因して、蒸着マスク２０の第１面２０ａ側に形成された痕跡である。例えば、図３に示すように、接合部１９は、蒸着マスク２０の幅方向に沿って並ぶ複数の点状の溶接痕１９ａを含む。このような複数の点状の溶接痕１９ａは、例えば、蒸着マスク２０の幅方向に沿う各位置において耳部１７にレーザー光を間欠的に点状に照射することによって形成される。

なお、平面視における溶接痕１９ａの配置や形状が特に限られることはない。例えば、図４Ａに示すように、溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の幅方向に沿って線状に延びていてもよい。このような溶接痕１９ａは、例えば、蒸着マスク２０の幅方向に沿う各位置において耳部１７にレーザー光を連続的に線状に照射することによって形成される。この場合、溶接痕１９ａが、蒸着マスク２０の幅方向に沿って線状に延びていることにより、溶接強度を高めることができる。

また、例えば、図４Ｂに示すように、溶接痕１９ａが、点状に形成された第１溶接痕１９１ａと、線状に形成された第２溶接痕１９２ａとを含んでいてもよい。図示された例においては、溶接痕１９ａが、複数の第１溶接痕１９１ａと、複数の第２溶接痕１９２ａとを含んでおり、第１溶接痕１９１ａおよび第２溶接痕１９２ａは、蒸着マスク２０の幅方向に沿って規則的に、すなわち交互に配置されている。この場合、例えば各々の第２溶接痕１９２ａの形状が互いに異なっていてもよい。また、第１溶接痕１９１ａが１つのみであってもよく、第２溶接痕１９２ａが１つのみであってもよい。この場合においても、溶接痕１９ａが、線状に形成された第２溶接痕１９２ａを含むことにより、溶接強度を高めることができる。

また、例えば、図４Ｃに示すように、第１溶接痕１９１ａおよび第２溶接痕１９２ａが、蒸着マスク２０の幅方向に沿って不規則的に配置されていてもよい。図示された例においては、蒸着マスク２０の幅方向において互いに隣接する第２溶接痕１９２ａ間に配置される第１溶接痕１９１ａの個数が、互いに異なっている。なお、この場合においても、例えば各々の第２溶接痕１９２ａの形状が互いに異なっていてもよい。また、蒸着マスク２０の幅方向において互いに隣接する第２溶接痕１９２ａ間に配置される第１溶接痕１９１ａの個数は任意である。この場合、例えば蒸着マスク２０の溶接強度を高めたい部分において、溶接痕１９ａの密度を選択的に高くすることもできる。

また、例えば、図４Ｄに示すように、複数の点状の溶接痕１９ａが、蒸着マスク２０の幅方向に沿って多列に形成されていてもよい。図示された例において、溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の幅方向に沿って２列に形成されている。なお、溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の幅方向に沿って３列に形成されていてもよく、４列に形成されていてもよい。この場合、複数の点状の溶接痕１９ａが、蒸着マスク２０の幅方向に沿って多列に形成されていることにより、溶接強度を高めることができる。

さらに、例えば、図４Ｅに示すように、溶接痕１９ａが、蒸着マスク２０の幅方向に沿って枠状に形成されていてもよい。この場合においても、溶接痕１９ａが、蒸着マスク２０の幅方向に沿って形成されるため、溶接強度を高めることができる。

また、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、溶接痕１９ａは、耳部１７の第１面２０ａから第２面２０ｂを介してフレーム１５に至っている。溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の耳部１７及びフレーム１５のうち、溶接時に溶融した部分（すなわち溶融領域１９ｆ）が固化した部分であり、耳部１７の第１面２０ａから第２面２０ｂに至る部分及びフレーム１５の一部を含んでいる。この溶接痕１９ａは、蒸着マスク２０の耳部１７とフレーム１５とを互いに接合している。溶接痕１９ａにおいては、溶接の後に溶融領域１９ｆの温度が低下して溶融領域１９ｆが固化する際に、材料の結晶化が生じている。例えば、溶接痕１９ａは、耳部１７及びフレーム１５に跨る結晶粒を含む。この溶接痕１９ａは、例えば、図５Ｃに示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａから突出するように形成されていてもよい。

また、溶接痕１９ａは、図５Ｄに示すように、溶接痕１９ａの上面１９ｂが蒸着マスク２０の第１面２０ａと同一平面上に位置するように形成されていてもよい。さらに、溶接痕１９ａは、図５Ｅに示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対して第２面２０ｂ側に窪むように形成されていてもよい。これらの場合、有機ＥＬ基板９２に対して蒸着材料９８を蒸着させる際に、蒸着マスク２０と有機ＥＬ基板９２との間の密着性を向上させることができる。

図５Ａおよび図５Ｂにおいて、蒸着処理の際に蒸着マスク２０に密着する有機ＥＬ基板９２を、点線で表す。図５Ａおよび図５Ｂに示すように、本実施の形態においては、有機ＥＬ基板９２は、蒸着マスク２０のうち接合部１９が形成される部分よりも外側に延在している。また、有機ＥＬ基板９２がフレーム１５に設置される際には、有機ＥＬ基板９２は、保持部材９２Ａにより保持されながらフレーム１５に設置される。なお、保持部材９２Ａは、有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を蒸着する際に有機ＥＬ基板９２から取り外されてもよい。

なお、図示はしないが、耳部１７は、後述するように、蒸着マスク２０がフレーム１５に溶接された後に、フレーム１５の開口部１５ａと収容部１５ｆとの間において切断され、一部分が除去されている。これにより、本実施の形態においては、蒸着マスク２０の長手方向における一対の端部２０ｅは、フレーム１５の開口部１５ａと収容部１５ｆとの間に位置するようになっている。

（中間部）
次に、中間部１８について説明する。図２Ａ、図３、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、中間部１８は、第１面２０ａから第２面２０ｂに至る貫通孔２５が形成された有効領域２２と、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含む。周囲領域２３は、有効領域２２を支持するための領域であり、有機ＥＬ基板９２へ蒸着されることを意図された蒸着材料が通過する領域ではない。例えば、有効領域２２は、蒸着マスク２０のうち、有機ＥＬ基板９２の表示領域に対面する領域である。

図２Ａに示すように、有効領域２２は、例えば、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有する。なお図示はしないが、各有効領域２２は、有機ＥＬ基板９２の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有することができる。例えば各有効領域２２は、円形状の輪郭を有していてもよい。

図２Ａに示すように、中間部１８は、蒸着マスク２０の長手方向に沿って所定の間隔を空けて配列された複数の有効領域２２を含む。一つの有効領域２２は、一つの有機ＥＬ表示装置１００の表示領域に対応する。このため、図１Ａに示す蒸着マスク装置１０によれば、有機ＥＬ表示装置１００の多面付蒸着が可能である。

以下、中間部１８について詳細に説明する。図６は、中間部１８を拡大して示す平面図であり、図７は、図６の中間部１８をVII−VII方向から見た断面図である。図６に示すように、複数の貫通孔２５は、有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで規則的に配列される。

以下、有効領域２２について詳細に説明する。図６は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側から有効領域２２を拡大して示す平面図である。図６に示すように、図示された例において、各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されている。

図７は、図６の有効領域２２のVII−VII方向に沿った断面図である。図７に示すように、複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の第１面２０ａから、第２面２０ｂへ貫通している。図示された例では、後に詳述するように、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎにおける一方の側となる金属板６４の第１面６４ａに第１凹部３０がエッチングによって形成され、当該法線方向Ｎにおける他方の側となる金属板６４の第２面６４ｂに第２凹部３５が形成される。第１凹部３０は、第２凹部３５に接続され、これによって第２凹部３５と第１凹部３０とが互いに通じ合うように形成される。貫通孔２５は、第２凹部３５と、第２凹部３５に接続された第１凹部３０とによって構成されている。図６及び図７に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の接続部４１を介して接続されている。接続部４１は、蒸着マスク２０の平面視において貫通孔２５の開口面積が最小になる貫通部４２を画成する。

図７に示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａ側において、隣り合う二つの貫通孔２５は、金属板６４の第１面６４ａに沿って互いから離間している。蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側においても、隣り合う二つの第２凹部３５が、金属板６４の第２面６４ｂに沿って互いから離間していてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板６４の第２面６４ｂが残存していてもよい。以下の説明において、金属板６４の第２面６４ｂの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分のことを、トップ部４３とも称する。このようなトップ部４３が残るように蒸着マスク２０を作製することにより、蒸着マスク２０に十分な強度を持たせることができる。このことにより、例えば搬送中などに蒸着マスク２０が破損してしまうことを抑制することができる。なおトップ部４３の幅βが大きすぎると、蒸着工程においてシャドーが発生し、これによって蒸着材料９８の利用効率が低下することがある。従って、トップ部４３の幅βが過剰に大きくならないように蒸着マスク２０が作製されることが好ましい。

図１Ａに示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図７に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、有機ＥＬ基板９２に対面し、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが、蒸着材料９８を保持したるつぼ９４側に位置する。したがって、蒸着材料９８は、次第に開口面積が小さくなっていく第２凹部３５を通過して有機ＥＬ基板９２に付着する。図７において第２面２０ｂ側から第１面２０ａへ向かう矢印で示すように、蒸着材料９８は、るつぼ９４から有機ＥＬ基板９２に向けて蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って移動するだけでなく、当該法線方向Ｎに対して大きく傾斜した方向に移動することもある。このとき、蒸着マスク２０の厚みが大きいと、斜めに移動する蒸着材料９８が、トップ部４３、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１に引っ掛かり易くなり、この結果、貫通孔２５を通過できない蒸着材料９８の比率が多くなる。従って、蒸着材料９８の利用効率を高めるためには、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくし、これによって、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１の高さを小さくすることが好ましいと考えられる。すなわち、蒸着マスク２０を構成するための金属板６４として、蒸着マスク２０の強度を確保できる範囲内で可能な限り厚みｔの小さな金属板６４を用いることが好ましいと言える。この点を考慮し、本実施の形態において、蒸着マスク２０の厚みｔは、例えば３０μｍ以下、好ましくは２５μｍ以下、更に好ましくは２０μｍ以下になっている。一方、蒸着マスク２０の厚みが小さくなり過ぎると、蒸着マスク２０の強度が低下し、蒸着マスク２０に損傷や変形が生じやすくなる。この点を考慮し、蒸着マスク２０の厚みｔは、好ましくは５μｍ以上であることが好ましい。蒸着マスク２０の厚みｔは、８μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１２μｍ以上であってもよく、１３μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、８μｍ以上２５μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよい。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、２０μｍ以上２５μｍ以下であってもよい。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、１３μｍ以上１５μｍ以下であってもよい。なお厚みｔは、周囲領域２３の厚み、すなわち蒸着マスク２０のうち第１凹部３０および第２凹部３５が形成されていない部分の厚みである。従って厚みｔは、金属板６４の厚みであると言うこともできる。

図７において、貫通孔２５の最小開口面積を持つ部分となる接続部４１と、第２凹部３５の壁面３６の他の任意の位置と、を通過する直線Ｌ５が、蒸着マスク２０の第１面２０ａの法線方向Ｎに対してなす最小角度が、符号θ１で表されている。斜めに移動する蒸着材料９８を、壁面３６に到達させることなく可能な限り有機ＥＬ基板９２に到達させるためには、角度θ１を大きくすることが有利となる。角度θ１を大きくする上では、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくすることの他にも、上述のトップ部４３の幅βを小さくすることも有効である。

図７において、符号αは、金属板６４の第１面６４ａの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分（以下、リブ部とも称する）の幅を表している。リブ部の幅αおよび貫通部４２の寸法ｒは、有機ＥＬ表示装置の寸法および表示画素数に応じて適宜定められる。例えば、リブ部の幅αは５μｍ以上且つ４０μｍ以下であり、貫通部４２の寸法ｒは１０μｍ以上且つ６０μｍ以下である。

なお、図６及び図７においては、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板６４の第２面６４ｂが残存している例を示したが、これに限られることはない。図示はしないが、隣り合う二つの第２凹部３５が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に、金属板６４の第２面６４ｂが残存していない場所が存在していてもよい。

次に、蒸着マスク装置１０を製造する方法について説明する。まず、蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０を製造する方法について説明する。

蒸着マスクの製造方法
まず、蒸着マスク２０を製造する方法について、主に図８乃至図１１を参照して説明する。本実施の形態においては、複数枚の蒸着マスク２０に対応する多数の貫通孔２５を金属板６４に形成する。言い換えると、金属板６４に複数枚の蒸着マスク２０を割り付ける。その後、金属板６４のうち１枚分の蒸着マスク２０に対応する複数の貫通孔２５が形成された部分を金属板６４から分離する。このようにして、枚葉状の蒸着マスク２０を得ることができる。

この際、まず、金属板６４の第１面６４ａ上および第２面６４ｂ上に感光性レジスト材料を含むレジスト膜を形成する。続いて、レジスト膜を露光及び現像する。これにより、図８に示すように、金属板６４の第１面６４ａ上に第１レジストパターン６５ａを形成し、金属板６４の第２面６４ｂ上に第２レジストパターン６５ｂを形成することができる。

次に、図９に示すように、金属板６４の第１面６４ａのうち第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域を、第１エッチング液を用いてエッチングする第１面エッチング工程を実施する。これによって、金属板６４の第１面６４ａに多数の第１凹部３０が形成される。第１エッチング液としては、例えば塩化第２鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。

次に、図１０に示すように、金属板６４の第２面６４ｂのうち第２レジストパターン６５ｂによって覆われていない領域をエッチングし、第２面６４ｂに第２凹部３５を形成する第２面エッチング工程を実施する。第２面エッチング工程は、第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合い、これによって貫通孔２５が形成されるようになるまで実施される。第２エッチング液としては、上述の第１エッチング液と同様に、例えば塩化第２鉄溶液及び塩酸を含むものを用いる。なお、第２面エッチング工程の際、図１０に示すように、第２エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって第１凹部３０が被覆されていてもよい。

その後、図１１に示すように、金属板６４から樹脂６９を除去する。樹脂６９は、例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、除去することができる。アルカリ系剥離液が用いられる場合、図１１に示すように、樹脂６９と同時にレジストパターン６５ａ，６５ｂも除去される。なお、樹脂６９を除去した後、樹脂６９を剥離させるための剥離液とは異なる剥離液を用いて、樹脂６９とは別途にレジストパターン６５ａ，６５ｂを除去してもよい。

その後、金属板６４のうち１枚分の蒸着マスク２０に対応する複数の貫通孔２５が形成された部分を金属板６４から分離することにより、蒸着マスク２０を得ることができる。

次に、フレーム１５を製造する方法について説明する。

フレームの製造方法
まず、フレーム１５を製造する方法について、図１２Ａおよび図１２Ｂを参照して説明する。

まず、図１２Ａに示すように、金属板１５０を準備する。

次に、金属板１５０に対して切削等の機械加工を施すことにより、図１２Ｂに示すように、表面１５ｂと、表面１５ｂに対向する裏面１５ｃと、表面１５ｂと裏面１５ｃとの間に広がる外側面１５ｄと、外側面１５ｄよりも内側において表面１５ｂと裏面１５ｃとの間に広がり、開口部１５ａに面する内側面１５ｅと、を有するフレーム１５が得られる。また、この際、金属板１５０に対して切削等の機械加工を施すことにより、フレーム１５の表面１５ｂのうち開口部１５ａから離間した位置に、複数の収容部１５ｆが形成される。このようにして、フレーム１５が作製される。なお、フレーム１５は、鋳型や３Ｄプリンターを用いて作製されてもよい。

蒸着マスク装置の製造方法
次に、上述のようにして得られた蒸着マスク２０をフレーム１５に溶接する溶接工程を実施する。これによって、蒸着マスク２０及びフレーム１５を備える蒸着マスク装置１０を得ることができる。

この場合、まず、蒸着マスク２０をフレーム１５上に配置する。次に、例えば、図示しない溶接装置により、蒸着マスク２０の第１面２０ａ側からレーザー光を照射する。これによって、図５Ａおよび図５Ｂに示すように、蒸着マスク２０の耳部１７の一部及びフレーム１５の一部が溶融して、耳部１７の第１面２０ａから第２面２０ｂを介してフレーム１５に至る溶融領域１９ｆが形成される。この溶融領域１９ｆは、耳部１７及びフレーム１５に跨っている。

レーザー光としては、例えば、ＹＡＧレーザー装置によって生成されるＹＡＧレーザー光を用いることができる。ＹＡＧレーザー装置としては、例えば、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）にＮｄ（ネオジム）を添加した結晶を発振用媒質として備えたものを用いることができる。この場合、基本波として、波長が約１０６４ｎｍのレーザー光が生成される。また、基本波を非線形光学結晶に通すことによって、波長が約５３２ｎｍの第２高調波が生成される。また、基本波および第２高調波を非線形光学結晶に通すことによって、波長が約３５５ｎｍの第３高調波が生成される。

ＹＡＧレーザー光の第３高調波は、ニッケルを含む鉄合金に吸収され易い。従って、蒸着マスク２０の耳部１７およびフレーム１５の一部を効率良く溶融させるためにはレーザー光がＹＡＧレーザー光の第３高調波を含むことが好ましい。

レーザー光の照射が終了すると、溶融領域１９ｆの温度が低下し、溶融領域１９ｆが固化して溶接痕１９ａとなる。このことにより、蒸着マスク２０の耳部１７とフレーム１５とが溶接痕１９ａによって互いに接合される。このようにして、フレーム１５と、接合部１９によってフレーム１５に接合された蒸着マスク２０と、を備える蒸着マスク装置１０を得ることができる。

その後、蒸着マスク２０の耳部１７が、フレーム１５の開口部１５ａと収容部１５ｆとの間において切断され、耳部１７の一部が除去される。

蒸着材料の蒸着方法
次に、上述した工程により得られた蒸着マスク装置１０を用いて有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を蒸着する蒸着材料の蒸着方法について、主に図１３Ａ乃至図１４Ｂを参照して説明する。

まず、上述した工程により得られた蒸着マスク装置１０を準備する。すなわち、図１３Ａに示すように、当該蒸着マスク装置１０、蒸着材料９８が収容されたるつぼ９４及びヒータ９６を備える蒸着装置９０を準備する。

次に、図１３Ｂに示すように、保持部材９２Ａによって有機ＥＬ基板９２を保持しながら、有機ＥＬ基板９２の位置決めを行い、フレーム１５に設置する。この場合、例えば有機ＥＬ基板９２の図示しないアライメントマークと、蒸着マスク２０の図示しないアライメントマークとを直接観察し、当該アライメントマーク同士が重なるように有機ＥＬ基板９２の位置決めを行う。或いは、図示しない制御装置により、有機ＥＬ基板９２のアライメントマークの中心位置座標と、蒸着マスク２０のアライメントマークの中心位置座標とを別々に測定し、これらの中心位置座標が所定の位置関係となるように、有機ＥＬ基板９２の位置決めを行ってもよい。この際、図１４Ａに示すように、保持部材９２Ａの少なくとも一部は、フレーム１５の収容部１５ｆに収容される。このため、フレーム１５と保持部材９２Ａとが干渉することを抑制することができ、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に対して所望の位置に設置することができる。

また、保持部材９２Ａの少なくとも一部を収容可能である複数の収容部１５ｆが、フレーム１５の表面１５ｂに離散的に設けられている。このため、フレーム１５のうち、厚みＳ１を有する、収容部１５ｆが設けられていない部分を、フレーム１５の全域に分布させることができる。これにより、フレーム１５に収容部１５ｆを設けることによって生じるフレーム１５の強度の低下の程度を小さくすることができる。このため、蒸着マスク２０から加わる力によってフレーム１５に撓みなどの変形が生じてしまうことを抑制することができる。このことにより、フレーム１５に支持された蒸着マスク２０を用いて蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２に精度良く蒸着させることができる。

また、複数の収容部１５ｆは、外側面１５ｄと内側面１５ｅとの間に形成されており、フレーム１５の表面１５ｂにおいて、収容部１５ｆの外側に厚みＳ１の領域を確保することができ、フレーム１５の強度が低下することを効果的に抑制できる。

次いで、フレーム１５に設置された有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を蒸着させる。この際、例えば、図１４Ｂに示すように、有機ＥＬ基板９２の、蒸着マスク２０と反対の側の面に磁石９３が配置される。このように磁石９３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０を磁石９３側に引き寄せて、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させることができる。次に、ヒータ９６が、るつぼ９４を加熱して蒸着材料９８を蒸発させる。そして、るつぼ９４から蒸発して蒸着マスク装置１０に到達した蒸着材料９８は、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する（図１Ａ参照）。なお、この際、保持部材９２Ａは、有機ＥＬ基板９２から取り外されていてもよい。

このようにして、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８が有機ＥＬ基板９２に蒸着される。

本実施の形態によれば、フレーム１５の表面１５ｂのうち開口部１５ａから離間した位置に、保持部材９２Ａの少なくとも一部を収容可能な複数の収容部１５ｆが形成されている。これにより、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に設置する際に、保持部材９２Ａがフレーム１５に干渉することを抑制することができる。また、収容部１５ｆが開口部１５ａから離間した位置に形成されているため、接合部１９を確保することができ、蒸着マスク２０の接合部１９の溶接強度を高めることができる。さらに、フレーム１５の表面１５ｂに複数の収容部１５ｆが形成されている。すなわち、複数の収容部１５ｆ間において、厚みＳ１の領域が確保され、フレーム１５のうち、厚みＳ１を有する、収容部１５ｆが設けられていない部分を、フレーム１５の全域に分布させることができる。これにより、フレーム１５に収容部１５ｆを設けることによって生じるフレーム１５の強度の低下の程度を小さくすることができ、蒸着マスク２０から加わる力によってフレーム１５に撓みなどの変形が生じてしまうことを抑制することができる。このことにより、フレーム１５に支持された蒸着マスク２０を用いて蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２に精度良く蒸着させることができる。

また、本実施の形態によれば、複数の収容部１５ｆが、開口部１５ａと外側面１５ｄとの間に形成されている。これにより、フレーム１５の表面１５ｂにおいて、収容部１５ｆの外側に厚みＳ１の領域を確保することができ、フレーム１５の強度が低下することを効果的に抑制できる。

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

（蒸着マスクの製造方法の変形例）
上述の本実施の形態および変形例においては、エッチングによって蒸着マスク２０を作製する例について説明した。しかしながら、蒸着マスク２０を作製するために採用される方法が、エッチングに限られることはない。例えば、上述の特許文献２に開示されているように、めっき処理によって金属板に貫通孔２５を形成することによって蒸着マスク２０を作製してもよい。

（耳部の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、蒸着マスク２０の耳部１７の厚みと中間部１８の厚みとが同一である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、耳部１７の厚みと中間部１８の厚みとが異なっていてもよい。例えば、図１５に示すように、耳部１７の厚みが中間部１８の厚みよりも厚くなっていてもよい。また、図示はしないが、例えば、耳部１７の厚みが中間部１８の厚みよりも薄くなっていてもよい。

（フレームの第１の変形例）
上述の本実施の形態においては、フレーム１５の複数の収容部１５ｆが、開口部１５ａと外側面１５ｄとの間に形成されている例について説明した。しかしながら、これに限られることはなく、図１６に示すように、複数の収容部１５ｆは、外側面１５ｄに至るまで延びていてもよい。この場合においても、複数の収容部１５ｆが互いに離間して設けられることにより、フレーム１５の強度が低下することを抑制することができる。

（フレームの第２の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、フレーム１５の複数の収容部１５ｆが、開口部１５ａと外側面１５ｄとの間に形成されている例について説明した。しかしながら、これに限られることはなく、図１７Ａに示すように、複数の収容部１５ｆは、開口部１５ａを取り囲むように形成されていてもよい。すなわち、開口部１５ａが４つの辺を有する矩形状の形状を備え、複数の収容部１５ｆが、開口部１５ａの４辺に沿って並んでいてもよい。また、この場合、上述した有機ＥＬ基板９２をフレーム１５に設置する工程において、保持部材９２Ａが有機ＥＬ基板９２の４辺を保持するようにしてもよい。

ところで、有機ＥＬ基板９２をフレーム１５に設置する工程において、有機ＥＬ基板９２と蒸着マスク２０との間に空気が混入し、有機ＥＬ基板９２に撓み等が発生する場合がある。この場合、蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２の所望の位置に蒸着させることが困難になる。

これに対して本変形例によれば、複数の収容部１５ｆが、開口部１５ａを取り囲むように形成されることにより、有機ＥＬ基板９２をフレーム１５に設置する工程において、保持部材９２Ａが有機ＥＬ基板９２の４辺を保持することができる。これにより、有機ＥＬ基板９２をフレーム１５に設置する工程において、有機ＥＬ基板９２と蒸着マスク２０との間に空気が混入することを抑制することができる。すなわち、図１７Ｂに示すように、保持部材９２Ａが有機ＥＬ基板９２の４辺を保持することにより、有機ＥＬ基板９２は、有機ＥＬ基板９２の自重により、有機ＥＬ基板９２の中心の近傍が最も下方に位置するように撓むようになる。この場合、有機ＥＬ基板９２が蒸着マスク２０に接触する際に、有機ＥＬ基板９２と蒸着マスク２０とが点接触するように、有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク２０に接触させることができる。そして、保持部材９２Ａが有機ＥＬ基板９２の４辺を保持しながら有機ＥＬ基板９２を徐々に降下させることにより、有機ＥＬ基板９２と蒸着マスク２０との間に空気が混入することを抑制することができる。また、有機ＥＬ基板９２をフレーム１５に設置する工程において、有機ＥＬ基板９２に発生する撓みを低減することができ、有機ＥＬ基板９２の安定した搬送が可能となるとともに、有機ＥＬ基板９２が破損する危険性を低減することができる。とりわけ、大型（例えばＧ５．５Ｑサイズ、またはＧ６Ｈサイズ）の有機ＥＬ基板９２や、厚みが０．５ｍｍ以下程度の薄い有機ＥＬ基板９２においても、有機ＥＬ基板９２の安定した搬送が可能となるとともに、有機ＥＬ基板９２が破損する危険性を低減することができる。

また、この場合、図１７Ｃに示すように、フレーム１５の４隅には、収容部１５ｆが設けられていなくてもよい。ここで、フレーム１５の４隅とは、平面視において、開口部１５ａの４辺をフレーム１５の外側面１５ｄに至るように延長させた仮想線Ｘと、当該外側面１５ｄとによって囲まれる領域Ｒ（図１７Ｃの梨地で示す領域）を意味する。ところで、フレーム１５には、蒸着マスク２０をフレーム１５に接合する際に、蒸着マスク２０の位置決めを行うためのアライメントマークＭが設けられている。このアライメントマークＭは、蒸着マスク２０をフレーム１５に接合した後に、平面視において蒸着マスク２０に重ならない位置に設けられている。また、蒸着マスク２０の位置決めを行う際には、蒸着マスク２０の全ての有効領域２２が所定の位置に配置されることが望ましく、全ての有効領域２２に対する位置合わせを容易に行うために、アライメントマークＭは、フレーム１５の４隅に設けられていることが好ましい。このため、本変形例のように、フレーム１５の４隅に収容部１５ｆが設けられていないことにより、フレーム１５の４隅にアライメントマークＭを確実に形成することができ、蒸着マスク２０の位置決めを容易に行うことができる。

（フレームの第３の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、蒸着マスク装置１０が、フレーム１５に複数の蒸着マスク２０が割り付けられた蒸着マスク装置１０を用いている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１８に示すように、蒸着マスク装置１０が、格子状に配置された複数の有効領域２２を有する単一の蒸着マスク２０を用いてもよい。

（フレームの第４の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、フレーム１５のうち、厚みＳ１（図５Ｂ参照）を有する部分がフレーム１５の全域に分布している例を説明した。しかしながら、これに限られることはなく、図１９および図２０に示すように、フレーム１５の表面１５ｂが、内側面１５ｅ側に位置する第１表面１５ｇと、外側面１５ｄ側に位置するとともに第１表面１５ｇよりも裏面１５ｃ側に位置する第２表面（すなわち、第５面）１５ｈとを含み、第１表面１５ｇと第２表面１５ｈとは、中間面１５ｉを介して互いに連結され、収容部１５ｆが、第１表面１５ｇに形成されるとともに、中間面１５ｉに至るまで延びていてもよい。

この場合、フレーム１５のうち第２表面１５ｈから裏面１５ｃまでの厚みは、第１表面１５ｇから裏面１５ｃまでの厚みに比べて一様に小さくなっている。図２０において、符号Ｓ３は、第１表面１５ｇから裏面１５ｃまでの厚みを表し、符号Ｓ４は、第２表面１５ｈから裏面１５ｃまでの厚みを表す。厚みＳ４は、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制できるよう、保持部材９２Ａの寸法に応じて定められる。例えば、厚みＳ４は、２ｍｍ以上であってもよく、５ｍｍ以上であってもよく、７ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよい。また、厚みＳ４は、２０ｍｍ以下であってもよく、１８ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以下であってもよく、１２ｍｍ以下であってもよい。厚みＳ４の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ４の範囲は、２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、５ｍｍ以上１８ｍｍ以下であってもよく、７ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上１２ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ４の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ４の範囲は、１５ｍｍ以上１８ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ４の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ４の範囲は、７ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。

第１表面１５ｇから裏面１５ｃまでの厚みＳ３は、フレーム１５に撓みなどの変形が生じることを抑制できるよう定められており、例えば、厚みＳ３は、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、１５ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよい。また、厚みＳ３は、３５ｍｍ以下であってもよく、３０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以下であってもよい。厚みＳ３の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ３の範囲は、５ｍｍ以上３５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ３の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ３の範囲は、２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ３の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、厚みＳ３の範囲は、１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよい。また、厚みＳ３は、第２表面１５ｈから裏面１５ｃまでの厚みＳ４に応じて定められていてもよい。例えば、厚みＳ３は、１．５×Ｓ４以上３．０×Ｓ４以下とすることができる。

好ましくは、フレーム１５の第１表面１５ｇの面積のうち複数の収容部１５ｆが設けられている部分の面積の比率（収容部率）が、フレーム１５に撓みなどの変形が生じることを抑制できるよう定められている。収容部率は、例えば、５％以上であってもよく、７％以上であってもよく、９％以上であってもよい。また、収容部率は、１５％以下であってもよく、１３％以下であってもよく、１１％以下であってもよい。収容部率の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、収容部率の範囲の範囲は、５％以上１５％以下であってもよく、７％以上１３％以下であってもよく、９％以上１１％以下であってもよい。また、収容部率の範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、収容部率の範囲は、１１％以上１５％以下であってもよい。また、収容部率の範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、収容部率の範囲は、５％以上９％以下であってもよい。

この場合においても、収容部１５ｆが保持部材９２Ａの少なくとも一部を収容するように、または保持部材９２Ａがフレーム１５の第２表面１５ｈ上に位置するように有機ＥＬ基板９２を蒸着マスク装置１０に設置することにより、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制することができる。

（フレームの第５の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、複数の収容部１５ｆが、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅの外側に形成されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図２１および図２２に示すように、複数の収容部１５ｆが、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅの内側に形成されていてもよい。この場合、各々の収容部１５ｆの全体が、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅの内側に形成されていてもよく、各々の収容部１５ｆの一部のみが、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅの内側に形成されていてもよい。また、この場合、複数の収容部１５ｆは、複数の蒸着マスク２０間に位置するようにフレーム１５の表面１５ｂに離散的に設けられる。また、この場合、有機ＥＬ基板９２は、蒸着マスク２０のうち接合部１９が形成される部分よりも外側に延在することなく、接合部１９が形成される部分の内側に位置していても良い。

ところで、上述したように、蒸着マスク２０の耳部１７は、蒸着マスク２０をフレーム１５に溶接した後に、一部分が除去される。このため、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅにおいて、切断によるバリが発生する可能性がある。このように一対の端部２０ｅにおいてバリが発生した場合、バリにより蒸着マスク２０と有機ＥＬ基板９２との密着性が低下し、蒸着不良の要因となりうる。これに対して本変形例によれば、複数の収容部１５ｆが、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅの内側に形成され、複数の蒸着マスク２０間に位置するようにフレーム１５の表面１５ｂに離散的に設けられている。このため、有機ＥＬ基板９２を、蒸着マスク２０のうち接合部１９が形成される部分よりも内側に位置付けることができ、有機ＥＬ基板９２が蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅに重なることを抑制できる。このため、蒸着マスク２０の一対の端部２０ｅにおいてバリが発生した場合であっても、バリによる蒸着マスク２０と有機ＥＬ基板９２との密着性の低下を防止することができ、蒸着不良を回避することができる。

（フレームの第６の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂと、収容部１５ｆの外側に位置する表面１５２ｂとは、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、同一表面上に位置している例を示した。しかしながら、これに限られることはない。以下に示すように、フレーム１５は、様々な形状を有していても良い。例えば、図２３Ａに示すように、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの外側に位置する表面１５２ｂが、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂよりも蒸着マスク２０側に位置していても良い。この場合、フレーム１５のうち、収容部１５ｆの外側に位置する部分の厚みを厚くすることができ、フレーム１５の強度を高めることができる。また、図２３Ｂに示すように、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂが、収容部１５ｆの外側に位置する表面１５２ｂよりも蒸着マスク２０側に位置していても良い。この場合においても、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制することができる。また、図２３Ｃに示すように、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの外側に位置する表面１５２ｂの一部が、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、例えば外側に向かうにつれてフレーム１５の裏面１５ｃ側に傾斜していてもよい。また、この場合、図２３Ｄに示すように、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの外側に位置する表面１５２ｂの一部が、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、曲線形状を有していてもよい。この場合においても、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制することができる。

また、図２３Ｅ乃至図２３Ｇに示すように、収容部１５ｆが外側面１５ｄに至るまで延びており、収容部１５ｆの面１５１ｆが外側に向かうにつれて蒸着マスク２０側に傾斜していてもよい。この場合、図２３Ｅに示すように、収容部１５ｆの端部が、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂと同一平面上に位置していてもよい。また、図２３Ｆに示すように、収容部１５ｆの端部が、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂよりも蒸着マスク２０側に位置していてもよい。この場合、収容部１５ｆの面１５１ｆ（すなわち第５面）の一部が、フレーム１５の表面１５ｂのうち、収容部１５ｆの内側に位置する表面１５１ｂよりも蒸着マスク２０側に位置していてもよい。また、図２３Ｇに示すように、表面１５１ｂよりもフレーム１５の裏面１５ｃ側に位置していてもよい。この場合においても、保持部材９２Ａがフレーム１５と干渉することを抑制することができる。

また、図２３Ｈに示すように、収容部１５ｆが、内側に向かうにつれて蒸着マスク２０側に傾斜する傾斜部（図２３Ｈの破線参照）１５２ｆを含んでいてもよい。この場合、フレーム１５の収容部１５ｆにおいて、フレーム１５の厚みを厚くすることができ、フレーム１５の強度を高めることができる。また、この場合においても、図２３Ｉに示すように、複数の収容部１５ｆは、外側面１５ｄに至るまで延びていてもよい。この場合においても、フレーム１５の収容部１５ｆにおいて、フレーム１５の厚みを厚くすることができ、フレーム１５の強度を高めることができる。また、図２３Ｊに示すように、傾斜部１５２ｆが、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、フレーム１５の表面１５ｂおよび収容部１５ｆの面１５１ｆに対して滑らかに接続するように形成されていてもよい。また、図２３Ｋに示すように、傾斜部１５２ｆの形状が、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、波打ち形状を有していてもよい。さらに、図２３Ｌに示すように、傾斜部１５２ｆの形状が、第１面２０ａの法線方向Ｎに沿って見た場合に、曲線形状を有していてもよい。

（フレームの第７の変形例）
また、図２４に示すように、１つの収容部１５ｆに保持部材９２Ａが複数収容されていてもよい。図示された例においては、１つの収容部１５ｆに２つの保持部材９２Ａが収容されている。なお、１つの収容部１５ｆに収容される保持部材９２Ａの個数は３つ以上であってもよい。このように、１つの収容部１５ｆに保持部材９２Ａが複数収容される場合、各々の収容部１５ｆの平面視における面積を大きくすることができるとともに、収容部１５ｆの個数を少なくすることができる。このため、フレーム１５を作製する工程を容易にすることができる。

（保持部材の変形例）
上述の本実施の形態及び変形例においては、保持部材９２Ａが、有機ＥＬ基板９２を挟持するクランプである例を示した。しかしながら、これに限られることはない。例えば、図２５Ａに示すように、保持部材９２Ａが、有機ＥＬ基板９２を挟持することなく、有機ＥＬ基板９２の面のうち、蒸着マスク２０側の面を支持するように構成されていてもよい。この場合においても、保持部材９２Ａが有機ＥＬ基板９２を保持することができる。また、この場合、図２５Ｂに示すように、保持部材９２Ａが、保持部材９２Ａに対して有機ＥＬ基板９２を粘着させるための粘着部材９２１を含んでいてもよい。この場合、保持部材９２Ａに対して有機ＥＬ基板９２を粘着させることができるため、保持部材９２Ａが有機ＥＬ基板９２を効果的に保持することができる。

Claims (8)

1. 保持部材によって保持された基板と少なくとも一時的に組み合わされる蒸着マスク装置であって、
   前記基板の側に位置する第１面から前記第１面の反対側に位置する第２面に至る複数のマスク貫通孔を含む蒸着マスクと、
   前記蒸着マスクの一部に重なる開口部が設けられるとともに前記蒸着マスクを支持するフレームと、を備え、
   前記フレームは、前記蒸着マスクの前記第２面に面する表面と、前記表面に対向する裏面と、前記表面と前記裏面との間に広がる外側面と、前記外側面よりも内側において前記表面と前記裏面との間に広がり、前記開口部に面する内側面と、を有し、
   前記フレームの前記表面のうち前記開口部から離間した位置に、前記保持部材の少なくとも一部を収容可能な複数の収容部が形成されている蒸着マスク装置。
2. 複数の前記収容部は、前記開口部と前記外側面との間に形成されている、請求項１に記載の蒸着マスク装置。
3. 複数の前記収容部は、前記外側面に至るまで延びている、請求項１に記載の蒸着マスク装置。
4. 前記フレームの前記表面は、前記内側面側に位置する第１表面と、前記外側面側に位置するとともに前記第１表面よりも前記裏面側に位置する第２表面とを含み、
   前記第１表面と前記第２表面とは、中間面を介して互いに連結され、
   前記収容部は、前記第１表面に形成されるとともに、前記中間面に至るまで延びている、請求項１に記載の蒸着マスク装置。
5. 複数の前記収容部は、前記開口部を取り囲むように形成されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
6. 前記蒸着マスクは、前記フレームの前記表面に溶接される接合部を含み、
   前記接合部の少なくとも一部は、前記開口部と前記収容部との間に位置する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
7. 各々の前記収容部の少なくとも一部は、前記蒸着マスクの長手方向における一対の端部よりも内側に形成されている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置。
8. 第１面と、前記第１面の反対側に位置する第２面と、を有する蒸着マスクと、
   前記蒸着マスクの側に位置する第３面と、前記第３面の反対側に位置する第４面と、を有するフレームと、を備え、
   前記蒸着マスクと前記フレームは、接合部を介して互いに接合されており、
   前記フレームは、前記接合部の外側に位置する第５面を更に有し、
   前記第５面の少なくとも一部は、前記第３面よりも前記第４面の側に位置している、蒸着マスク装置。

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