JPWO2018147125A1

JPWO2018147125A1 - フィンおよび熱交換器

Info

Publication number: JPWO2018147125A1
Application number: JP2018567375A
Authority: JP
Inventors: 健介茂原; 央基山口
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2017-02-09
Filing date: 2018-01-30
Publication date: 2019-11-07
Also published as: WO2018147125A1

Abstract

本発明は、間隙を設けて並設された複数のフィンを有する熱交換器であって、前記フィンが、その表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された層を有する熱交換器を提供する。

Description

本発明は、フィンおよび当該フィンを含む熱交換器に関する。

空調機、冷蔵機、冷凍機、電気自動車などには、熱交換器が用いられている。当該熱交換器では、小さなスペースで効率的に熱交換を行うために、単位容積あたりの表面積をできる限り大きくすることが求められる。その為、熱交換器では、一般的に、金属製の板を狭い間隔で並列に設置したフィンが用いられている。

熱交換器を備える機器の運転中、フィンの表面の温度が露点以下になると、フィンの表面が結露し、さらに温度が低下すると凍結した氷を核として霜が発生する。この霜が成長すると、フィンの間隙が閉塞してフィン間に流入する風量が低下し、熱交換器の機能が低下する。

一般的な着霜の抑制方法として、基材の親水化と撥水化の２つのアプローチが考えられるが、撥水化のアプローチでは、結露した水滴の除去は容易になるものの、水滴の静的接触角が大きくなるため、これが凝固した霜は嵩高くなり、また、霜が枝状に成長することから、霜の成長が早くなる。熱交換器では、フィンは狭い間隔で配置されており、さらにフィン間の間隙を保持することが、熱交換器の機能を維持するのに重要であるので、霜の厚みが大きくなりやすく、フィンの間隙の閉塞を生じ易い撥水化のアプローチは好まれない。従って、当該熱交換器の分野では、着霜の抑制方法としては、主に親水化のアプローチが検討されている。

例えば、特許文献１には、フィンの表面に親水性有機被膜を形成した熱交換器が開示されている。親水化されたフィンでは、フィンに付着した水滴がフィンの表面に均一に広がるので、フィン上に形成される霜は均一かつ密度が高いものとなり、即ち、着霜後の成長は遅くなる。これにより、フィン間が閉塞状態となるのを抑制することができる。

特開平６−３００４８２号公報

しかしながら、本発明者らは、特許文献１の方法では、熱交換器の機能を十分に発揮できているとはいえないことに気付いた。具体的には、特許文献１の方法では、確かに着霜によるフィン間の閉塞は遅延できるものの、着霜自体は生じており、ある程度の流入風量の低下は生じている。また、フィン上の霜により流入風とフィンとの熱伝導が阻害され、熱交換器の機能が低下する。

従って、本発明の目的は、熱交換機能を十分に発揮することができる熱交換器、およびそれに用いられるフィンを提供することにある。

本発明者らは、上記の課題を解決するために、従来好ましいとされていた親水化のアプローチではなく、撥水化のアプローチに着目した。そして、鋭意検討した結果、フィンの表面をパーフルオロポリエーテル基含有化合物でコーティングすることにより、着霜そのものを抑制できることを見出し、本発明に至った。

本発明の第１の要旨によれば、間隙を設けて並設された複数のフィンを有する熱交換器であって、前記フィンが、その表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された層を有する熱交換器が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記の熱交換器を備えた空調機が提供される。

本発明によれば、熱交換器のフィンの表面をパーフルオロポリエーテル基含有化合物で処理することにより、着霜を効果的に抑制できることを見出した。

図１は、本発明の実施形態における熱交換器の概略図である。図２は、本発明の熱交換器に用いられるフィンの表面の花弁状微細構造の写真である。図３は、実施例における試験片１の着霜試験における圧縮防曇指数の経時変化を示すグラフである。図４は、実施例における試験片２の着霜試験における圧縮防曇指数の経時変化を示すグラフである。図５は、実施例における試験片３の着霜試験における圧縮防曇指数の経時変化を示すグラフである。図６は、実施例における試験片４の着霜試験における圧縮防曇指数の経時変化を示すグラフである。図７は、実施例における試験片５の着霜試験における圧縮防曇指数の経時変化を示すグラフである。

＜熱交換器＞
本発明の熱交換器の構成は、間隙を設けて並設された複数のフィンを有し、当該フィンが、その表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された層を有するものであれば特に限定されない。本発明においてフィンとは、外部（代表的には空気）との熱交換を行う機能を有する部分を意味する。例えば、図１に示すように、熱交換器１は、複数のフィン２と、当該複数のフィン２に組み付けられる伝熱管４とを有する。

フィン２は、熱交換器１において伝熱面積を増加させるための平板状の部材である。フィン２は複数存在し、一定の間隙を持って互いに略平行に配置されている。伝熱管４は、内部に冷媒が流れる円筒状の管であって、一方端６および他方端７を有する。伝熱管４は、所定の回数折り曲げられており、フィン２を複数回貫通するように配置されている。

熱交換器１を備えた装置の稼働時には、冷媒が一方端６から伝熱管４内に流入し、一方で熱交換器１に空気が送られる。そして、熱交換器１において空気と冷媒との熱交換が行われ、冷媒は他方端７から流出する。

＜フィン＞
本発明の熱交換器は、フィンに特徴を有する。以下、本発明の熱交換器に用いられるフィンについて説明する。

本実施形態の熱交換器に用いられるフィンは、高熱伝導性材料から構成された平板状のフィン基材と、その基材の表面に形成された層とを有する。当該層は、パーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された層である（以下、「表面処理層」という）。

上記熱伝導性材料は、好ましくは金属材料、例えばアルミニウム、銅、もしくは鉄、またはこれらの合金等が挙げられる。金属材料は、アルミニウム、もしくは銅、またはこれらの合金が好ましく、アルミニウムまたはアルミニウム合金がより好ましい。典型的には、金属材料は、アルミニウムである。

上記フィン基材の厚みは、特に限定されないが、例えば１０μｍ〜１０００μｍ、好ましくは５０μｍ〜５００μｍである。

好ましい態様において、フィン基材は、表面に微細構造を有する。フィン基材は、微細構造を有することにより、より高い撥水性を有することができる。

上記微細構造は、規則的に突起部が配置された形状であってもよく、不規則に突起部が配置された形状であってもよい。例えば、微細構造は、複数の板状の突起部が不規則に並んだ花弁状の微細構造であってもよく、円錐状、角錐状の突起部が規則的に並んだモスアイ構造であってもよい。突起部は、好ましくは、１ｎｍ〜３００ｎｍの幅および長さを有し得る。突起部間の距離は、好ましくは１ｎｍ〜３００ｎｍであり得る。

好ましい態様において、フィン基材は、上記花弁状の微細構造を有する。この態様において、突起部は、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍの長さ、１ｎｍ〜３０ｎｍの幅を有する。好ましくは、上記花弁状の微細構造は、ベーマイトから構成される。典型的な花弁状の微細構造を図２に示す。

上記花弁状の微細構造は、フィン基材、好ましくはアルミニウムまたはアルミニウム合金のフィン基材を、熱水処理に付することにより形成することができる。

上記熱水処理における処理温度は、好ましくは４０〜１００℃、より好ましくは６０〜１００℃、さらに好ましくは８０〜１００℃であり得る。温度をより高くすることにより、微細構造の形成を促進することができる。また、温度をより低くすることにより、基材へのダメージを抑制することができる。

上記熱水処理における処理時間は、好ましくは１〜２４０分、より好ましくは１０〜１８０分、さらに好ましくは２０〜１２０分であり得る。処理時間をより長くすることにより、微細構造がより確実に形成される。また、処理時間をより短くすることにより、基材へのダメージを抑制することができる。

上記熱水処理において、熱水は、添加剤、例えば、トリエタノールアミン、アンモニア等を含んでいてもよい。

上記熱水処理において、基材と接触させる熱水は、液体であっても、気体であってもよい。

上記表面処理層は、パーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された層である。即ち、表面処理層を構成する材料は、パーフルオロポリエーテル基を有する。本発明はいかなる理論によっても拘束されないが、フィン基材の表面がパーフルオロポリエーテル基を有する表面処理層を有することにより、撥水効果により水滴が付着しにくくなり、また、水滴が付着した場合であっても、より低温まで過冷却状態を保持できるようになり、これにより霜の成長が抑制されると考えられる。

上記パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、フィン基材表面においてパーフルオロポリエーテル基含有化合物の層を形成し得るものであれば特に限定されない。

好ましい態様において、パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、好ましくは、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、または（Ｄ２）で表される化合物であり得る。

上記式中、Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基または炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式中、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−を表す。

式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

別の態様において、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｑ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｑは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｑ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｑ−である。

上記式中、Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記式中、Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

上記式中、ｎは、（−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０である。ただし、式中、すべてのｎが同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ^２が存在する。

上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。

上記式中、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ^２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。

上記式中、Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表す。

式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚは、好ましくは、２価の有機基である。好ましい態様において、上記Ｚは、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表す。Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義である。

Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａにおいて、Ｒ^７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

好ましくは、Ｒ^７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ中の末端のＲ^ａ’（Ｒ^ａ’が存在しない場合、Ｒ^ａそれ自体）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａは、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_２または−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_３を有し得る。式中、（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）の単位は、好ましくは（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^７２ _３）_３であり得る。

上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ^７２が存在する。

上記式中、Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記Ｒ^ｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｃは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式中、Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。

上記式中、Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ’−ＣＲ^８１ _ｐ’Ｒ^８２ _ｑ’Ｒ^８３ _ｒ’を表す。

式中、Ｚ’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚ’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表す。Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義である。

Ｒ^ｄ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄにおいて、Ｒ^８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ中にＺ’基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ’−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄ中のＺ’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^８２は、−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊを表す。

Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。

好ましい態様において、Ｙは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｙは、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

上記Ｒ^８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。上記「加水分解可能な基」としては、上記と同様のものが挙げられる。

好ましくは、Ｒ^８５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。

上記Ｒ^８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｊは、（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

上記Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ中の末端のＲ^ｄ’（Ｒ^ｄ’が存在しない場合、Ｒ^ｄそれ自体）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊを表す。ここに、Ｙ、Ｒ^８５、Ｒ^８６およびｊは、上記Ｒ^８２における記載と同意義である。

上記式中、Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ’、ｌ’およびｍ’の和は３である。

一の態様において、少なくとも１つのｋ’は２または３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｋ’は２または３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｌ’は２または３であり、好ましくは３である。

上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ’は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊ基が存在する。

上記式中、Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、αは１〜９の整数であり、α’は１〜９の整数である。これらαおよびα’は、Ｘ^１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、αおよびα’の和は、Ｘ^１の価数と同じである。例えば、Ｘ^１が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ^１が２価の有機基である場合、αおよびα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ^１の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１は２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、α’は１である。

別の態様において、Ｘ^１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。

上記式中、Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^５は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中のβは、１〜９の整数であり、β’は、１〜９の整数である。これらβおよびβ’は、Ｘ^５の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、βおよびβ’の和は、Ｘ^５の価数と同じである。例えば、Ｘ^５が１０価の有機基である場合、βおよびβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、またはβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ^５が２価の有機基である場合、βおよびβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ^５の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^５は２〜４価の有機基であり、βは１〜３であり、β’は１である。

別の態様において、Ｘ^５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。

上記式中、Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^７は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、γは、１〜９の整数であり、γ’は、１〜９の整数である。これらγおよびγ’は、Ｘ^７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γおよびγ’の和は、Ｘ^７の価数と同じである。例えば、Ｘ^７が１０価の有機基である場合、γおよびγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、またはγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ^７が２価の有機基である場合、γおよびγ’は１である。式（Ｃ２）において、γはＸ^７の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^７は２〜４価の有機基であり、γは１〜３であり、γ’は１である。

別の態様において、Ｘ^７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。

上記式中、Ｘ^９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^９は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、δは１〜９の整数であり、δ’は１〜９の整数である。これらδおよびδ’は、Ｘ^９の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δおよびδ’の和は、Ｘ^９の価数と同じである。例えば、Ｘ^９が１０価の有機基である場合、δおよびδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、またはδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ^９が２価の有機基である場合、δおよびδ’は１である。式（Ｄ２）においては、δはＸ^９の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^９は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^９は２〜４価の有機基であり、δは１〜３であり、δ’は１である。

別の態様において、Ｘ^９は２価の有機基であり、δは１であり、δ’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。

好ましい態様において、上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ１−（Ｘ^ａ）_ｑ１−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ”は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ１は、０または１であり、
ｑ１は、０または１であり、
ここに、ｐ１およびｑ１の少なくとも一方は１であり、ｐ１またはｑ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基であり得る。ここに、Ｒ^３１およびＸ^ａ（典型的にはＲ^３１およびＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、−（Ｒ^３１）_ｐ１−（Ｘ^ａ）_ｑ１−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^３２（典型的にはＲ^３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびｍ”は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

より好ましくは、上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^３３、ｍ”、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９基は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９基は、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ_１−６アルキレン基以外であり得る。

別の態様において、Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９基としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

上記Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９の具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

さらに別の態様において、Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、式：−（Ｒ^１６）_ｘ−（ＣＦＲ^１７）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^２６−（式中、Ｒ^２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１６は、酸素原子または２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^２７）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^２７−（これらの式中、Ｒ^２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

さらに別の態様において、Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、

が挙げられる。

この態様において、Ｘ^１、Ｘ^５、Ｘ^７、およびＸ^９は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

本発明で用いられる反応性パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、好ましくは１，０００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

本発明で用いられる反応性パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物におけるパーフルオロポリエーテル部分（Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分）の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜３０，０００、より好ましくは１，５００〜１０，０００である。であり得る。

一の態様において、パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ａ１）または（Ａ２）で表される化合物である。

一の態様において、パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される化合物である。

一の態様において、パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ｃ１）または（Ｃ２）で表される化合物である。

一の態様において、パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ｄ１）または（Ｄ２）で表される化合物である。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、および（Ｄ２）で表される化合物は、公知の方法により製造することができる。

フィン基材の表面に、パーフルオロポリエーテル基含有化合物の層を形成する方法としては、例えば、フィン基材上に、パーフルオロポリエーテル基含有化合物の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより層を形成する方法が挙げられる。

フィン基材上に、パーフルオロポリエーテル基含有化合物の膜を形成する方法は、パーフルオロポリエーテル基含有化合物を、フィン基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

パーフルオロポリエーテル基含有化合物は、それ自体を直接適用してもよく、あるいは、他の成分、例えば溶媒と混合して組成物として適用してもよい。

上記組成物に用いられる溶媒としては、例えば、以下の溶媒が使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、反応性パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

上記組成物は、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、触媒などが挙げられる。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、反応性パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法および類似の方法が挙げられる。ＰＶＤ法とは、固体原料を真空中で加熱（真空蒸着）したり、高速の電子やイオンで照射したりして、物理的エネルギーを固体表面の原子に与えて気化させ、それをフィン基材上にて再結合させて薄膜を形成する方法である。ＰＶＤ法としては、特に限定されないが、例えば、蒸着法（通常、真空蒸着法）およびスパッタリング等が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。中でも、ＰＶＤ法が好ましく、特に蒸着法、例えば抵抗加熱蒸着または電子ビーム蒸着が好ましく、電子ビーム蒸着がより好ましい。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、加熱、水分供給、あるいはこの両方であり得る。

かかる後処理は、表面処理層の耐久性を向上させるために実施され得るが、必須の工程ではないことに留意されたい。例えば、パーフルオロポリエーテル基含有化合物を適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、フィン基材上に、パーフルオロポリエーテル基含有化合物の膜に由来する表面処理が形成される。

上記ではフィン基材上をパーフルオロポリエーテル基含有化合物で処理する方法を記載したが、かかる処理は、熱交換器に組み込む前のフィン基材を処理してもよく、熱交換器に組み込んだ後のフィン基材を処理してもよい。また、熱交換器全体を処理してもよい。

特に好ましい態様において、フィン基材は、アルミニウムから構成され、その表面に花弁状の微細構造を有し、さらに、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物から形成された層を有する。

一の態様において、フィン基材と表面処理層の間には、腐食防止層等が存在してもよい。

本実施形態の熱交換器において、フィンは、所定の間隔で各フィンの主表面が対向するように並設される。上記対向するフィンの主表面間の間隙の距離は、好ましくは０．５ｍｍ以上、より好ましくは１．０ｍｍ以上である。かかる距離をより大きくすることにより、フィン間が閉塞することをより抑制することができる。上記対向するフィンの主表面間の距離は、好ましくは３．０ｍｍ以下、より好ましくは２．０ｍｍ以下、さらに好ましくは１．５ｍｍ以下である。かかる距離をより小さくすることにより、熱交換器をより小型化することができ、また、フィンの枚数を増やすことが容易になり、熱交換機能が向上する。

本発明によれば、フィンへの着霜を効果的に抑制することができるので、上記のフィン間の間隙の距離をより小さくすることが可能になる。

本発明に用いられるフィンは、着霜が生じにくい。本発明において、耐着霜性は、下記に示す圧縮防曇指数の減少率により評価することができる。
減少率（％）＝（（Ａ_０−Ａ_１）／Ａ_０）×１００
式中：Ａ_０＝試験開始時（０秒）での圧縮防曇指数
Ａ_１＝所定の時間後における圧縮防曇指数

ここに圧縮防曇指数とは、基材表面を撮影した画像を、ビットマップ（ＢＭＰ）形式からＪＰＥＧ形式に変換した場合のファイル容量の変化に関する指数であり、下記式により算出される。
圧縮防曇指数＝（ＪＰＥＧ容量／ＢＭＰ容量）×１００

ＢＭＰ画像をＪＰＥＧ画像に変換する場合、ＢＭＰ画像が鮮明であるほど圧縮率は小さくなり、圧縮防曇指数は大きくなる。即ち、着霜していない基材は、比較的鮮明なＢＭＰ画像を与えるので、圧縮防曇指数は大きくなる。一方、ＢＭＰ画像が不鮮明であるほど圧縮率は大きくなり、圧縮防曇指数は小さくなる。即ち、着霜した基材は、比較的不鮮明なＢＭＰ画像を与えるので、圧縮防曇指数は小さくなる。従って、着霜が生じにくい基材は、着霜試験の前後において、圧縮防曇指数の変化が小さくなる。

着霜試験は、例えば、２５〜２６℃、湿度７５〜９０％の雰囲気下に基材を保持し、基材の温度を２５℃から約−１０℃に徐々に冷却して、所定の時間（例えば３６０秒）後の着霜を評価することにより行われる。

圧縮防曇指数は、協和界面科学株式会社製防曇性評価装置（ＡＦＡ−２）を用いて測定することができる。

本発明に用いられるフィンは、上記圧縮防曇指数の減少率（温度２６±１℃、湿度８０±１０％雰囲気下、フィン表面温度２５℃→約−１０℃、３６０秒）が、２０％以下、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。

＜伝熱管＞
本実施形態の熱交換器に用いられる伝熱管は、自体公知のものを用いることができる。例えば、アルミニウムまたはアルミニウム合金で形成された扁平多穴管等を用いることができる。

以上、本発明の一の実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。

例えば、本発明の熱交換器は、他の機構、例えば、着霜した場合にこれを除去する除霜機構を備えていてもよい。

また、本発明の熱交換器は、種々のタイプ、例えばクロスフィン式、マイクロチャネル式等、いずれのタイプであってもよい。具体的には、特開２０１６−１３３２５６号および特開２０１６−１２５７３２号に開示されるような熱交換器であってもよい。

＜機器＞
本発明の熱交換器は、種々の機器、例えば、空調機、冷蔵機、冷凍機、電気自動車等において、用いることができる。従って、本発明は、本発明の熱交換器を備えた機器をも提供する。

つぎに、本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。

＜基材＞
基材として、アルミ基材Ａ１０５０Ｐ（３０×４０×０．８ｍｍ）を準備した。該アルミ基材を、アセトンで満たしたガラス容器に入れ、超音波洗浄器にて１５分間洗浄し、純水で濯いだ後、１００℃で３０分乾燥した（試験片１）。

＜着霜試験用試験片の調製＞
（調製例１）
上記試験片１を、下記式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有化合物をＨＦＥ７２００（住友スリーエム株式会社製）で１ｗｔ％に希釈した表面処理剤１に浸漬した後、恒温乾燥機にて１５０℃で１時間乾燥させた。乾燥後の試験片を、ＨＦＥ７２００に５分間浸漬させることで余剰の表面処理剤を除去し、着霜試験用の試験片２を得た。

数平均分子量約４０００

（調製例２）
上記試験片１を、９０℃に加熱した純水に浸漬し、２時間加熱処理を行った。加熱処理後の試験片を１２時間室温で乾燥した。次いで、試験片を上記表面処理剤１に浸漬した後、恒温乾燥機にて１５０℃で１時間乾燥させた。乾燥後の試験片を、ＨＦＥ７２００に５分間浸漬させることで余剰の表面処理剤を除去し、着霜試験用の試験片３を得た。

（調製例３）
上記試験片１を、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）をＨＦＥ７２００で１ｗｔ％に希釈した表面処理剤２に浸漬した後、恒温乾燥機にて８０℃で２時間乾燥させた。乾燥後の試験片を、ＨＦＥ７２００に５分間浸漬させることで余剰の表面処理剤を除去し、着霜試験用の試験片４を得た。

（調製例４）
上記試験片１を、９０℃に加熱した純水に浸漬し、２時間加熱処理を行った。加熱処理後の試験片を１２時間室温で乾燥し、着霜試験用の試験片５を得た。

＜着霜試験＞
上記の試験片１〜５について、協和界面科学株式会社製防曇性評価装置（ＡＦＡ−２）を用いて下記の実験条件にて着霜試験に付し、圧縮防曇指数の経時変化を観察した。尚、試験片１、４および５は、比較例である。
・試験条件
恒温恒湿内
雰囲気温度：２６℃
湿度：８０％＋１０
固体温度：２５℃→−２０℃

試験片１〜５について、結果をそれぞれ図３〜７に示す。また、３６０秒後の減少率を表１に示す。
減少率（％）＝（（Ａ_０−Ａ_１）／Ａ_０）×１００
式中：Ａ_０＝試験開始時（０秒）での圧縮防曇指数
Ａ_１＝３６０秒での圧縮防曇指数

表１から明らかなように、パーフルオロポリエーテル基含有化合物で処理したアルミ試験片２および３は、圧縮防曇指数の変化率が小さく、着霜が抑制されていることが確認された。特に、アルミ基材を熱水処理した後にパーフルオロポリエーテル基含有化合物で処理した試験片３は、試験が安定する試験開始３０秒経過後は、ほぼ一定の圧縮防曇指数を示すことが確認された。

本発明の熱交換器は、着霜による熱交換機能の低下が生じにくいことから、空調機、冷蔵機、冷凍機、電気自動車等の様々な機器に用いることができる。

Claims

間隙を設けて並設された複数のフィンを有する熱交換器であって、前記フィンが、その表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された層を有する熱交換器。
フィンがアルミニウム製である、請求項１に記載の熱交換器。
フィンの表面が花弁状の微細構造を有する、請求項２に記載の熱交換器。
フィンが熱水処理されている、請求項２または３に記載の熱交換器。
パーフルオロポリエーテル基含有化合物が、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、または（Ｄ２）：

［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（式中、式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、（−ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
Ｘ^１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ^９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ’−ＣＲ^８１ _ｐ’Ｒ^８２ _ｑ’Ｒ^８３ _ｒ’を表し；
Ｚ’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ’を表し；
Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義であり；
Ｒ^ｄ中、Ｚ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ^８２は、−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊを表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表し；
Ｒ^８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｊは、（−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し；
Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊを表し；
Ｒ^ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱交換器。
フィンの圧縮防曇指数の減少率が、１０％以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱交換器。
請求項１〜６のいずれか１項に記載の熱交換器を備えた空調機。