JPWO2017221805A1 - 強化ガラスの製造方法および強化ガラス製造装置 - Google Patents
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- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 title claims abstract description 86
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 87
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 87
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 84
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 83
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims abstract description 58
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 5
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 7
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 6
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 3
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Substances [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEMINMLPKZELPP-UHFFFAOYSA-N Phosdiphen Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1OP(=O)(OCC)OC1=CC=C(Cl)C=C1Cl HEMINMLPKZELPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004541 SiN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
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- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
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- Organic Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
Description
G2 膜付ガラス
G3、G4 膜付強化ガラス
G5 強化ガラス
M イオン透過抑制膜
T1 第一溶融塩
T2 第二溶融塩
X1 第一塩浴槽
X2 第二塩浴槽
Claims (8)
- ガラス表層のイオンを交換する強化ガラスの製造方法であって、
前記ガラスの表面の少なくとも一部に前記イオンの透過を抑制するイオン透過抑制膜を成膜する工程と、
前記イオン透過抑制膜が成膜された前記ガラスの表面に第一の溶融塩を接触させて前記イオンを交換する第一イオン交換工程と
前記第一イオン交換工程の後に、前記イオン透過抑制膜が成膜された前記ガラスの表面に第二の溶融塩を接触させて前記イオンを交換する第二イオン交換工程とを備え、
前記第一の溶融塩を水と混合して濃度を20質量%の水溶液とした場合の水素イオン濃度指数をαとし、前記第二の溶融塩を水と混合して濃度を20質量%の水溶液とした場合の水素イオン濃度指数をβとした場合、α<βであることを特徴とする、強化ガラスの製造方法。 - α≦10.5であることを特徴とする、請求項1に記載の強化ガラスの製造方法。
- 9≦β≦12であることを特徴とする、請求項1または2に記載の強化ガラスの製造方法。
- 前記ガラスを前記第一イオン交換工程において350〜500℃の前記第一溶融塩に0.1〜150時間浸漬した後、前記第二イオン交換工程において350〜500℃の前記第二溶融塩に0.1〜72時間浸漬し、
前記第一イオン交換工程における浸漬時間は前記第二イオン交換工程における浸漬時間より長いことを特徴とする、請求項1から3の何れか1項に記載の強化ガラスの製造方法。 - 前記ガラス表層のイオンはナトリウムイオンであり、
前記第一溶融塩および前記第二溶融塩は何れもカリウムイオンを含み、
前記ガラスの主面にのみ前記イオン透過抑制膜を成膜し、
前記イオン透過抑制膜は質量%でSiO2を70%以上含む組成を有し、
前記イオン透過抑制膜の膜厚は5〜400nmであることを特徴とする、請求項1から4の何れか1項に記載の強化ガラスの製造方法。 - 前記第二イオン交換工程の後に前記イオン透過抑制膜を除去する工程をさらに備えることを特徴とする、請求項1から5の何れか1項に記載の強化ガラスの製造方法。
- 前記ガラスは、ガラス組成として質量%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 1〜30%、Na2O 0〜20%、K2O 0〜20%を含有するガラス板であることを特徴とする、請求項1から6の何れか1項に記載の強化ガラスの製造方法。
- ガラス表層のイオンを交換するための第一溶融塩を収容した第一塩浴槽と、
ガラス表層のイオンを交換するための第二溶融塩を収容した第二塩浴槽とを備え、
前記第一の溶融塩を水と混合して濃度を20質量%の水溶液とした場合の水素イオン濃度指数をαとし、前記第二の溶融塩を水と混合して濃度を20質量%の水溶液とした場合の水素イオン濃度指数をβとした場合、α<βであることを特徴とする、強化ガラス製造装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016123480 | 2016-06-22 | ||
JP2016123480 | 2016-06-22 | ||
PCT/JP2017/022089 WO2017221805A1 (ja) | 2016-06-22 | 2017-06-15 | 強化ガラスの製造方法および強化ガラス製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017221805A1 true JPWO2017221805A1 (ja) | 2019-04-11 |
JP6860829B2 JP6860829B2 (ja) | 2021-04-21 |
Family
ID=60784723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018523991A Active JP6860829B2 (ja) | 2016-06-22 | 2017-06-15 | 強化ガラスの製造方法および強化ガラス製造装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6860829B2 (ja) |
TW (1) | TW201811709A (ja) |
WO (1) | WO2017221805A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI742731B (zh) * | 2020-06-19 | 2021-10-11 | 恆顥科技股份有限公司 | 強化玻璃結構及其製造方法 |
CN112452687B (zh) * | 2020-11-18 | 2022-12-30 | 苏州鱼得水电气科技有限公司 | 一种可弯曲轻薄钢化玻璃及其制备方法 |
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WO2013088856A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | 旭硝子株式会社 | ディスプレイ用カバーガラス、ディスプレイ用カバーガラスの製造方法 |
JP2014510012A (ja) * | 2011-03-16 | 2014-04-24 | アップル インコーポレイテッド | 薄いガラスの制御された化学的強化 |
JP2014208570A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-11-06 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
-
2017
- 2017-06-15 JP JP2018523991A patent/JP6860829B2/ja active Active
- 2017-06-15 WO PCT/JP2017/022089 patent/WO2017221805A1/ja active Application Filing
- 2017-06-21 TW TW106120785A patent/TW201811709A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005529056A (ja) * | 2002-06-13 | 2005-09-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | ガラス基板のマイクロエッチングに用いるための融液のpH調整 |
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WO2013088856A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | 旭硝子株式会社 | ディスプレイ用カバーガラス、ディスプレイ用カバーガラスの製造方法 |
JP2014208570A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-11-06 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6860829B2 (ja) | 2021-04-21 |
TW201811709A (zh) | 2018-04-01 |
WO2017221805A1 (ja) | 2017-12-28 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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