JPWO2017200103A1 - Release film - Google Patents
Release film Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2017200103A1 JPWO2017200103A1 JP2018518395A JP2018518395A JPWO2017200103A1 JP WO2017200103 A1 JPWO2017200103 A1 JP WO2017200103A1 JP 2018518395 A JP2018518395 A JP 2018518395A JP 2018518395 A JP2018518395 A JP 2018518395A JP WO2017200103 A1 JPWO2017200103 A1 JP WO2017200103A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- sensitive adhesive
- polymer
- group
- adhesive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 113
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 37
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 9
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 9
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 94
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 85
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 69
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 49
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 49
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 44
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 41
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 40
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 38
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 34
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 34
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 33
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 32
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 29
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 28
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 28
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 28
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 27
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 27
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 27
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 21
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 21
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 17
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 16
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 13
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 12
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 9
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 8
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 5
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 5
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 5
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical class O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 4
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 4
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M octanoate Chemical compound CCCCCCCC([O-])=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 4
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 3
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 229920006272 aromatic hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L calcium carbonate Substances [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 3
- GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N (-)-α-pinene Chemical compound CC1=CC[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1C2 GRWFGVWFFZKLTI-IUCAKERBSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- 229920006271 aliphatic hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 2
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 2
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 2
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical group 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N tetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCO HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N (+)-β-pinene Chemical compound C1[C@H]2C(C)(C)[C@@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-RKDXNWHRSA-N 0.000 description 1
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N (-)-Nopinene Natural products C1[C@@H]2C(C)(C)[C@H]1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-IUCAKERBSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 1
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- JXNPEDYJTDQORS-HZJYTTRNSA-N (9Z,12Z)-octadecadien-1-ol Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCCO JXNPEDYJTDQORS-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- IKYKEVDKGZYRMQ-PDBXOOCHSA-N (9Z,12Z,15Z)-octadecatrien-1-ol Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCCO IKYKEVDKGZYRMQ-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethylthiourea Chemical compound CNC(=S)N(C)C JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNOZGCICXAYKLW-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-isocyanatopropan-2-yl)benzene Chemical compound O=C=NC(C)(C)C1=CC=CC=C1C(C)(C)N=C=O NNOZGCICXAYKLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPNUROKCUBTKLF-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-methylphenyl)guanidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N\C(N)=N\C1=CC=CC=C1C OPNUROKCUBTKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCC(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HASUCEDGKYJBDC-UHFFFAOYSA-N 1-[3-[[bis(oxiran-2-ylmethyl)amino]methyl]cyclohexyl]-n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)methanamine Chemical compound C1OC1CN(CC1CC(CN(CC2OC2)CC2OC2)CCC1)CC1CO1 HASUCEDGKYJBDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJPKMTDFFUTLGM-UHFFFAOYSA-N 1-aminoethanol Chemical compound CC(N)O UJPKMTDFFUTLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanato-4-(4-isocyanato-3-methylphenyl)-2-methylbenzene Chemical compound C1=C(N=C=O)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N=C=O)=CC=2)=C1 ICLCCFKUSALICQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRTOHSLOFCWHRF-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1h-indene Chemical compound C1=CC=C2C(C)C=CC2=C1 LRTOHSLOFCWHRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- MFYNHXMPPRNECN-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine;phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1.C1CCCCN2CCCN=C21 MFYNHXMPPRNECN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSMCAVKSJWMSI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-1-n,1-n,3-n,3-n-tetrakis(oxiran-2-ylmethyl)benzene-1,3-diamine Chemical compound CC1=C(N(CC2OC2)CC2OC2)C(C)=CC=C1N(CC1OC1)CC1CO1 KQSMCAVKSJWMSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-6-chlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTEXIOINCJRBIO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(dimethylamino)ethoxy]-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOCCN(C)C GTEXIOINCJRBIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC1=CC=C(C(F)(F)F)C=N1 UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(C)C(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C QENRKQYUEGJNNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNDVNJWCRZQGFQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-N,N-bis(methylamino)hex-2-enamide Chemical compound CCCC=C(C)C(=O)N(NC)NC JNDVNJWCRZQGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYIOIHBNJMVSBH-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=C(OC(=O)C=C)C=CC2=C1 YYIOIHBNJMVSBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C2CCCCC2)=C1 UJTRCPVECIHPBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)NC1=O FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSMDYRHBKZVGNR-UHFFFAOYSA-N 3-propan-2-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)C1=CC(=O)NC1=O SSMDYRHBKZVGNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016847 F2-WS Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000538 Poly[(phenyl isocyanate)-co-formaldehyde] Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N Pseudopinene Natural products C1C2C(C)(C)C1CCC2=C WTARULDDTDQWMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJVBXWVJBJIKCU-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(2-hydroxyethoxy)phosphoryl] prop-2-enoate Chemical compound OCCOP(O)(=O)OC(=O)C=C KJVBXWVJBJIKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N alpha-Fenchene Natural products C1CC2C(=C)CC1C2(C)C XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- MVNCAPSFBDBCGF-UHFFFAOYSA-N alpha-pinene Natural products CC1=CCC23C1CC2C3(C)C MVNCAPSFBDBCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- SRGBNANKQPZXFZ-UHFFFAOYSA-N aniline;butanal Chemical compound CCCC=O.NC1=CC=CC=C1 SRGBNANKQPZXFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229930006722 beta-pinene Natural products 0.000 description 1
- KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1OC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CO1 KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULHIDKVNBFIQKP-UHFFFAOYSA-N butanal;butan-1-amine Chemical compound CCCCN.CCCC=O ULHIDKVNBFIQKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006074 cyclodimerization reaction Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002023 dithiocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 235000019197 fats Nutrition 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930182830 galactose Natural products 0.000 description 1
- LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N gamma-carene Natural products C1CC(=C)CC2C(C)(C)C21 LCWMKIHBLJLORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXNPEDYJTDQORS-UHFFFAOYSA-N linoleyl alcohol Natural products CCCCCC=CCC=CCCCCCCCCO JXNPEDYJTDQORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N methanolamine Chemical compound NCO XMYQHJDBLRZMLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229940043348 myristyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C(C)=C QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFENKTCEEGOWLB-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(methylamino)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(=O)N(NC)NC DFENKTCEEGOWLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1CO1 JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMCVCHBBHPFWBF-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(C)=C JMCVCHBBHPFWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- GRWFGVWFFZKLTI-UHFFFAOYSA-N rac-alpha-Pinene Natural products CC1=CCC2C(C)(C)C1C2 GRWFGVWFFZKLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000002683 reaction inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IRZFQKXEKAODTJ-UHFFFAOYSA-M sodium;propan-2-yloxymethanedithioate Chemical compound [Na+].CC(C)OC([S-])=S IRZFQKXEKAODTJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229940012831 stearyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003784 tall oil Substances 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- RKQOSDAEEGPRER-UHFFFAOYSA-L zinc diethyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCN(CC)C([S-])=S.CCN(CC)C([S-])=S RKQOSDAEEGPRER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SZNCKQHFYDCMLZ-UHFFFAOYSA-L zinc;propan-2-yloxymethanedithioate Chemical compound [Zn+2].CC(C)OC([S-])=S.CC(C)OC([S-])=S SZNCKQHFYDCMLZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DUBNHZYBDBBJHD-UHFFFAOYSA-L ziram Chemical compound [Zn+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S DUBNHZYBDBBJHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/09—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J183/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/552—Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/212—Electromagnetic interference shielding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
- C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
基材及び前記基材上に配置される粘着層を含む支持体と、前記支持体の前記粘着層上に配置される電磁波遮蔽シートと、を含み、前記粘着層と前記電磁波遮蔽シートの間の剥離力が0.10N/50mm〜2.00N/50mmである、離型フィルム。A support comprising a substrate and an adhesive layer disposed on the substrate, and an electromagnetic wave shielding sheet disposed on the adhesive layer of the support, wherein the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet are interposed between The release film whose peeling force is 0.10 N / 50 mm-2.00 N / 50 mm.
Description
本発明は、離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film.
近年、電子機器の小型化が進むにつれて、半導体素子の表面における高密度搭載技術の更なる向上が求められている。そこで、近年では、複数の半導体素子を多段に積層した、いわゆるスタックパッケージ型の半導体装置が採用されている。このようなスタックパッケージ型の半導体装置においては、半導体素子が集積された状態で配置されているため、外的なノイズによる問題(電磁波障害)が生じ得る。このようなノイズの問題は、電子機器のデジタル化、高速化及び高周波化が進むほど顕著となる。そこで、ノイズによる影響を抑制するために、半導体素子を封止する封止材の上に電磁波を遮蔽するための電磁波遮蔽シートを形成する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In recent years, with the progress of miniaturization of electronic devices, further improvement of high density mounting technology on the surface of a semiconductor element is required. Therefore, in recent years, a so-called stack package type semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements are stacked in multiple stages is adopted. In such a stacked package type semiconductor device, since semiconductor elements are arranged in an integrated state, a problem due to external noise (electromagnetic wave interference) may occur. The problem of such noise becomes more remarkable as the digitization, speeding up, and higher frequency of electronic devices progress. Then, in order to suppress the influence by noise, the technique which forms the electromagnetic wave shielding sheet for shielding electromagnetic waves on the sealing material which seals a semiconductor element is proposed (for example, refer patent document 1).
電磁波遮蔽シートの形成方法としては、例えば、特許文献2に記載の半導体装置の製造方法が知られている。この製造方法では、上金型及び下金型を用いたトランスファー成型により半導体素子を封止材で封止する工程において、上金型に配置されるリリースフィルム(担体フィルム)に電磁波遮蔽シートを形成するための材料を塗布し、この材料を封止材上に転写し、硬化させて電磁波遮蔽シートを形成している。 As a method of forming an electromagnetic wave shielding sheet, for example, a method of manufacturing a semiconductor device described in Patent Document 2 is known. In this manufacturing method, an electromagnetic shielding sheet is formed on a release film (carrier film) disposed on the upper mold in the step of sealing the semiconductor element with a sealing material by transfer molding using the upper mold and the lower mold. Material is applied, and the material is transferred onto a sealing material and cured to form an electromagnetic shielding sheet.
しかしながら、特許文献2に記載の方法では、半導体装置を封止材で封止する工程の度に、毎回担体フィルムに電磁波遮蔽シートを形成するための材料を塗布する作業が必要となるため、生産効率の観点から改善の余地がある。 However, in the method described in Patent Document 2, every time the step of sealing the semiconductor device with the sealing material, the work of applying the material for forming the electromagnetic wave shielding sheet on the carrier film every time is required, so production There is room for improvement in terms of efficiency.
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、電磁波遮蔽シートを有する半導体装置の生産効率の向上を図ることが可能な離型フィルムを提供することを目的とする。 The present invention was made in order to solve the above-mentioned subject, and it aims at providing a mold release film which can aim at improvement of production efficiency of a semiconductor device which has an electromagnetic wave shielding sheet.
上記課題を解決するための手段には、以下の実施態様が含まれる。
<1>基材及び前記基材上に配置される粘着層を含む支持体と、前記支持体の前記粘着層上に配置される電磁波遮蔽シートと、を含み、前記粘着層と前記電磁波遮蔽シートの間の剥離力が0.10N/50mm〜2.00N/50mmである、離型フィルム。
<2>前記電磁波遮蔽シートの厚みは0.01μm〜50μmである、<1>に記載の離型フィルム。
<3>前記粘着層の厚みは1μm〜20μmである、<1>又は<2>に記載の離型フィルム。
<4>前記粘着層はシリコーン系粘着剤及びアクリル系粘着剤からなる群より選択される少なくとも1種を含む、<1>〜<3>のいずれか1項に記載の離型フィルム。
<5>半導体素子を封止する封止材に前記電磁波遮蔽シートを転写する工程を含む半導体装置の製造のための、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の離型フィルム。Means for solving the above problems include the following embodiments.
<1> A base material and a support including an adhesive layer disposed on the base, and an electromagnetic wave shielding sheet disposed on the adhesive layer of the support, the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet A release film, wherein the peeling force between is 0.10 N / 50 mm to 2.00 N / 50 mm.
The release film as described in <1> whose thickness of the <2> above-mentioned electromagnetic wave shielding sheet is 0.01 micrometer-50 micrometers.
The thickness of the <3> above-mentioned adhesion layer is a release film as described in <1> or <2> which is 1 micrometer-20 micrometers.
The release film as described in any one of <1>-<3> in which the <4> above-mentioned adhesion layer contains at least 1 sort (s) selected from the group which consists of a silicone type adhesive and an acrylic adhesive.
The mold release film of any one of Claims 1-4 for manufacture of the semiconductor device containing the process of transcribe | transferring the said electromagnetic wave shielding sheet to the sealing material which seals <5> semiconductor element.
本発明によれば、電磁波遮蔽シートを有する半導体装置の生産効率の向上を図ることが可能な離型フィルムが提供される。 According to the present invention, there is provided a release film capable of improving the production efficiency of a semiconductor device having an electromagnetic wave shielding sheet.
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。 Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the constituent elements (including element steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to numerical values and ranges thereof, and does not limit the present invention.
本明細書において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において組成物中の各成分の含有率又は含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本明細書において組成物中の各成分の粒子径は、組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本明細書において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
本明細書において「積層」との語は、層を積み重ねることを示し、二以上の層が結合されていてもよく、二以上の層が着脱可能であってもよい。
本明細書において「(メタ)アクリロイル基」はアクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を意味し、「(メタ)アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一方を意味し、「(メタ)アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味する。In the present specification, the term "step" includes, in addition to steps independent of other steps, such steps as long as the purpose of the step is achieved even if it can not be clearly distinguished from other steps. Be
In the numerical value range indicated by using “to” in the present specification, the numerical values described before and after “to” are included as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical ranges that are described stepwise in the present specification, the upper limit or the lower limit described in one numerical range may be replaced with the upper limit or the lower limit of the numerical range described in the other stepwise Good. In addition, in the numerical range described in the present specification, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the example.
In the present specification, the content or content of each component in the composition is the number of the plurality of types present in the composition unless a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition. The total content or content of substances is meant.
In the present specification, the particle diameter of each component in the composition is the mixture of the plurality of particles present in the composition unless a plurality of particles corresponding to each component are present in the composition. Means a value about.
In the present specification, the words “layer” or “film” mean, when observing a region in which the layer or film is present, in addition to the case where the region is formed in its entirety, a part of the region Also included if only formed.
As used herein, the term "laminate" refers to stacking layers, two or more layers may be combined, and two or more layers may be removable.
In the present specification, “(meth) acryloyl group” means at least one of acryloyl group and methacryloyl group, “(meth) acryl” means at least one of acrylic and methacryl, “(meth) acrylate” is acrylate and It means at least one of methacrylates.
本実施形態の離型フィルムは、基材及び前記基材上に配置される粘着層を含む支持体と、前記支持体の前記粘着層上に配置される電磁波遮蔽シートと、を含み、前記粘着層と前記電磁波遮蔽シートの間の剥離力が0.10N/50mm〜2.00N/50mmである。 The release film of the present embodiment includes a support including a substrate and an adhesive layer disposed on the substrate, and an electromagnetic wave shielding sheet disposed on the adhesive layer of the support, the adhesive The peeling force between the layer and the electromagnetic wave shielding sheet is 0.10 N / 50 mm to 2.00 N / 50 mm.
本実施形態の離型フィルムは、上記構成を有することにより、封止工程前にあらかじめ電磁波遮蔽シートが支持体上に配置されていても電磁波遮蔽シートを支持体から良好に剥離することができる。そのため、封止工程の度に電磁波遮蔽シートを離型フィルム上に配置する必要がなく、また封止後に電磁波遮蔽層を別工程で形成する必要もないため、生産効率の観点から有利である。従って、本実施形態の離型フィルムは、電磁波遮蔽シートを有する半導体装置の製造方法(より具体的には、半導体素子を封止する封止材に前記電磁波遮蔽シートを転写する工程を含む半導体装置の製造方法)に好適に用いられる。 By having the above configuration, the release film of the present embodiment can satisfactorily peel the electromagnetic wave shielding sheet from the support even if the electromagnetic wave shielding sheet is disposed on the support in advance before the sealing step. Therefore, since it is not necessary to arrange an electromagnetic wave shielding sheet on a release film every time of a sealing process, and it is not necessary to form an electromagnetic wave shielding layer by another process after sealing, it is advantageous from the viewpoint of production efficiency. Therefore, the release film of this embodiment is a method of manufacturing a semiconductor device having an electromagnetic wave shielding sheet (more specifically, a semiconductor device including a step of transferring the electromagnetic wave shielding sheet to a sealing material for sealing a semiconductor element) Is preferably used in the production method of
本明細書において「粘着層と電磁波遮蔽シートの間の剥離力」は、170℃の雰囲気下で、剥離角度180°及び剥離速度0.3m/分の条件で測定される値(N/50mm)である。剥離力は、例えば、テンシロン万能材料試験機(株式会社エー・アンド・デイ製)を用いて測定できる。 In the present specification, the "peel force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet" is a value measured at a peel angle of 180 ° and a peel speed of 0.3 m / min under an atmosphere of 170 ° C. (N / 50 mm) It is. Peeling force can be measured, for example, using a Tensilon universal material tester (manufactured by A & D Co., Ltd.).
粘着層と電磁波遮蔽シートの間の剥離力が0.10N/50mm以上であると、高温時の電磁波遮蔽シートの剥がれが抑制される傾向にある。粘着層と電磁波遮蔽シートの間の剥離力が2.00N/50mm以下であると、電磁波遮蔽シートの粘着層からの転写性が充分得られる傾向にある。粘着層と電磁波遮蔽シートの間の剥離力は、0.20N/50mm以上であることが好ましく、また1.60N/50mm以下であることが好ましい。 When the peeling force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet is 0.10 N / 50 mm or more, peeling of the electromagnetic wave shielding sheet at a high temperature tends to be suppressed. If the peeling force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet is 2.00 N / 50 mm or less, the transferability of the electromagnetic wave shielding sheet from the adhesive layer tends to be sufficiently obtained. The peeling force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet is preferably 0.20 N / 50 mm or more, and preferably 1.60 N / 50 mm or less.
以下、本実施形態の離型フィルムについて図面を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。また、各図における部材の大きさは概念的なものであり、部材間の大きさの相対的な関係はこれに限定されない。 Hereinafter, although the release film of this embodiment is demonstrated with reference to drawings, this invention is not limited to this. Further, the sizes of the members in the respective drawings are conceptual, and the relative relationship between the sizes of the members is not limited thereto.
図1は本実施形態の離型フィルムの構造の一例を示す概略断面図である。離型フィルム10は、基材50及び基材50上に配置される粘着層40を含む支持体20と、支持体20の粘着層40の上に配置される電磁波遮蔽シート30と、を含む。支持体2において、粘着層は基材50の全面に配置されていても、一部にのみ配置されていてもよく、その形状は特に制限されない。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the structure of the release film of the present embodiment. The release film 10 includes a base 20 and a support 20 including an adhesive layer 40 disposed on the base 50, and an electromagnetic wave shielding sheet 30 disposed on the adhesive layer 40 of the support 20. In the support 2, the pressure-sensitive adhesive layer may be disposed on the entire surface of the substrate 50 or may be disposed on only a part, and the shape thereof is not particularly limited.
離型フィルム10において、電磁波遮蔽シート30の配置される位置は、粘着層40の上であれば特に制限されない。例えば、図2の概略平面図に示すように、支持体20の一部にのみ電磁波遮蔽シート30が配置されていても、支持体20の全面に電磁波遮蔽シート30が配置されていてもよい。電磁波遮蔽シート30の形状は特に制限されず、四角形、円形等の所望の形状であってよい。電磁波遮蔽シート30は複数の領域に間隔を空けて配置されてもよく、この場合の領域間の間隔も特に制限されない。 In the release film 10, the position where the electromagnetic wave shielding sheet 30 is disposed is not particularly limited as long as it is on the adhesive layer 40. For example, as shown in the schematic plan view of FIG. 2, the electromagnetic wave shielding sheet 30 may be disposed on only a part of the support 20 or the electromagnetic shielding sheet 30 may be disposed on the entire surface of the support 20. The shape of the electromagnetic wave shielding sheet 30 is not particularly limited, and may be a desired shape such as a square or a circle. The electromagnetic wave shielding sheet 30 may be arranged at intervals in a plurality of areas, and the interval between the areas in this case is not particularly limited.
電磁波遮蔽シート30を粘着層40の上に配置する方法は、特に制限されない。例えば、スパッタ法、蒸着法、イオンプレーティング法、ラミネート法等が挙げられる。粘着層40に対する密着性の観点からは、蒸着法、イオンプレーティング法又はラミネート法が好ましい。電磁波遮蔽シート30の材質は、特に制限されない。例えば、金属が挙げられる。価格及び加工性の観点からは、銅及びアルミニウムからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素を含むことが好ましい。 The method of disposing the electromagnetic wave shielding sheet 30 on the adhesive layer 40 is not particularly limited. For example, a sputtering method, a vapor deposition method, an ion plating method, a lamination method and the like can be mentioned. From the viewpoint of adhesion to the adhesive layer 40, a vapor deposition method, an ion plating method or a lamination method is preferable. The material of the electromagnetic wave shielding sheet 30 is not particularly limited. For example, metals can be mentioned. From the viewpoint of cost and processability, it is preferable to include at least one metal element selected from the group consisting of copper and aluminum.
基材50の厚みは、20μm〜200μmであることが好ましく、25μm〜100μmであることがより好ましく、25μm〜50μmであることがさらに好ましい。基材50の厚みが20μm以上であると充分な強度が得られ、リードフレームの反り等の問題の発生が抑制される傾向にあり、200μm以下であると半導体製造装置への適合性に優れる傾向にある。 The thickness of the substrate 50 is preferably 20 μm to 200 μm, more preferably 25 μm to 100 μm, and still more preferably 25 μm to 50 μm. When the thickness of the substrate 50 is 20 μm or more, sufficient strength is obtained, and the occurrence of problems such as warpage of the lead frame tends to be suppressed, and when 200 μm or less, the compatibility with the semiconductor manufacturing apparatus tends to be excellent. It is in.
粘着層40の厚みは、1μm〜20μmであることが好ましく、2μm〜12μmであることがより好ましい。粘着層40の厚みが1μm以上であると、粘着層40から被着体への電磁波遮蔽シート30の転写が良好に行われる傾向にあり、20μm以下であると封止工程中に電磁波遮蔽シート30が粘着層40から剥離しにくくなる傾向にある。 The thickness of the adhesive layer 40 is preferably 1 μm to 20 μm, and more preferably 2 μm to 12 μm. When the thickness of the adhesive layer 40 is 1 μm or more, the transfer of the electromagnetic wave shielding sheet 30 from the adhesive layer 40 to the adherend tends to be favorably performed, and when the thickness is 20 μm or less, the electromagnetic wave shielding sheet 30 during the sealing step. Tend to be difficult to peel off from the adhesive layer 40.
電磁波遮蔽シート30の厚みは、0.01μm〜50μmであることが好ましく、0.05μm〜12μmであることがより好ましい。電磁波遮蔽シート30の厚みが0.01μm以上であると、充分な電磁波遮蔽性が得られる傾向にあり、50μm以下であると加工性に優れる傾向にある。 The thickness of the electromagnetic shielding sheet 30 is preferably 0.01 μm to 50 μm, and more preferably 0.05 μm to 12 μm. When the thickness of the electromagnetic wave shielding sheet 30 is 0.01 μm or more, sufficient electromagnetic wave shielding properties tend to be obtained, and when the thickness is 50 μm or less, the processability tends to be excellent.
本明細書において基材50、粘着層40及び電磁波遮蔽シート30の厚みは、5点において測定して得られた値の数平均値とする。厚みの測定方法は特に制限されず、公知の方法で行うことができる。 In the present specification, the thicknesses of the substrate 50, the adhesive layer 40, and the electromagnetic wave shielding sheet 30 are taken as a number average value of values obtained by measuring at five points. The measuring method in particular of thickness is not restrict | limited, It can carry out by a well-known method.
離型フィルム10は、必要に応じて基材50、粘着層40及び電磁波遮蔽シート30以外の部材を有していてもよい。例えば、剥離フィルム10の表面を保護するための保護フィルムを有していてもよい。 The release film 10 may have members other than the base 50, the adhesive layer 40, and the electromagnetic wave shielding sheet 30 as needed. For example, a protective film may be provided to protect the surface of the release film 10.
<粘着層>
粘着層は、電磁波遮蔽シートとの間の剥離力が上記の範囲内となるものであれば、特に制限されない。例えば、シリコーン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤等の粘着剤を含む層が挙げられる。粘着層に含まれる粘着剤は、1種単独であっても2種以上であってもよい。
本発明において粘着層に含まれる粘着剤は、部分的又は完全に反応していても、未反応であってもよい。また、熱等により硬化した状態であっても、硬化していない状態であってもよい。<Adhesive layer>
The adhesive layer is not particularly limited as long as the peeling force with the electromagnetic wave shielding sheet falls within the above range. For example, a layer containing a pressure-sensitive adhesive such as a silicone-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, or a urethane-based pressure-sensitive adhesive can be mentioned. The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer may be one kind alone, or two or more kinds.
The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer in the present invention may be partially or completely reacted or unreacted. Further, it may be in a cured state by heat or the like, or in a non-cured state.
(1)シリコーン系粘着剤
本明細書においてシリコーン系粘着剤は、シリコーンポリマーをベースポリマー(ポリマー成分のうちの主成分、すなわちポリマー成分全体の50質量%以上を占める成分)とする粘着剤を意味する。
シリコーン系粘着剤は、剥離力を比較的低くすることができ電磁波遮蔽シートが粘着層から剥離しやすい、電磁波遮蔽シートへの糊残り(粘着剤の残存)を抑制できる、等の観点から有利である。シリコーン系粘着剤としては、付加反応型シリコーン系粘着剤、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤、縮合型シリコーン系粘着剤等が挙げられる。硬化反応に過酸化物を使用せず、分解物が発生しないという観点からは、付加反応型シリコーン系粘着剤が好ましい。(1) Silicone-Based Pressure-Sensitive Adhesive In the present specification, silicone-based pressure-sensitive adhesives mean pressure-sensitive adhesives in which a silicone polymer is a base polymer (a main component of polymer components, that is, a component that occupies 50% by mass or more of all polymer components). Do.
The silicone-based pressure-sensitive adhesive is advantageous from the viewpoints of relatively low peeling force, the electromagnetic wave shielding sheet being easily peeled from the pressure-sensitive adhesive layer, and the adhesive residue (residue of the pressure-sensitive adhesive) on the electromagnetic wave shielding sheet can be suppressed. is there. Examples of the silicone-based pressure-sensitive adhesive include an addition reaction-type silicone-based pressure-sensitive adhesive, a peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive, and a condensation-type silicone-based pressure-sensitive adhesive. From the viewpoint that no peroxide is used for the curing reaction and no decomposition product is generated, an addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive is preferable.
(付加反応型シリコーン系粘着剤)
付加反応型シリコーン系粘着剤とは、1分子中に少なくとも2個のアルケニル基(ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等の1価の炭化水素基が挙げられ、中でもビニル基が特に好ましい。)を有する第1のポリジメチルシロキサンと1分子中に少なくとも2個のヒドロシリル基を有する第2のポリジメチルシロキサンとを含む付加反応型シリコーン樹脂と、シリコーンレジンとを含有するシリコーン系粘着剤である。(Addition reaction type silicone pressure sensitive adhesive)
An addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive is a monovalent carbonization of at least two alkenyl groups (vinyl, allyl, propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, etc.) in one molecule. And an addition reaction type silicone resin containing a first polydimethylsiloxane having a hydrogen group, and particularly preferably a vinyl group) and a second polydimethylsiloxane having at least two hydrosilyl groups in one molecule. And a silicone resin.
第1のポリジメチルシロキサン中におけるアルケニル基の含有率(シロキサン結合の数に対するアルケニル基の数の割合)は、0.01%〜10%であることが好ましく、0.1%〜5%であることがより好ましい。アルケニル基は、分子鎖の両末端に少なくとも存在することが好ましく、両末端と側鎖に存在することがより好ましい。第1のポリジメチルシロキサンの重合度(シロキサン結合の数)は、200〜5,000であることが好ましく、500〜3,000であることがより好ましい。
第1のポリジメチルシロキサンの重量平均分子量は、20,000〜1,300,000であることが好ましく、300,000〜1,200,000であることがより好ましい。The content of alkenyl groups (the ratio of the number of alkenyl groups to the number of siloxane bonds) in the first polydimethylsiloxane is preferably 0.01% to 10%, and is 0.1% to 5%. Is more preferred. The alkenyl group is preferably present at least at both ends of the molecular chain, and more preferably at both ends and side chains. The polymerization degree (number of siloxane bonds) of the first polydimethylsiloxane is preferably 200 to 5,000, and more preferably 500 to 3,000.
The weight average molecular weight of the first polydimethylsiloxane is preferably 20,000 to 1,300,000, and more preferably 300,000 to 1,200,000.
本明細書においてポリマーの分子量(重量平均分子量及び数平均分子量)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定したポリスチレン換算の値である。 In the present specification, the molecular weight (weight-average molecular weight and number-average molecular weight) of a polymer is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
第2のポリジメチルシロキサン中におけるヒドロシリル基の含有量は、1分子中に2個〜300個であることが好ましく、4個〜200個であることがより好ましい。第2のポリジメチルシロキサンの重合度(シロキサン結合の数)は、50〜2,000であることが好ましく、100〜1,500であることがより好ましい。 The content of the hydrosilyl group in the second polydimethylsiloxane is preferably 2 to 300 in one molecule, and more preferably 4 to 200 in one molecule. The degree of polymerization (number of siloxane bonds) of the second polydimethylsiloxane is preferably 50 to 2,000, and more preferably 100 to 1,500.
付加反応型シリコーン樹脂において、第1のポリジメチルシロキサンと第2のポリジメチルシロキサンの比率は、例えば、第1のポリジメチルシロキサン100質量部に対する第2のポリジメチルシロキサンの配合比が0.01質量部〜20質量部であることが好ましく、0.1質量部〜10質量部であることがより好ましい。 In the addition reaction type silicone resin, the ratio of the first polydimethylsiloxane to the second polydimethylsiloxane is, for example, 0.01 mass of the blending ratio of the second polydimethylsiloxane to 100 parts by mass of the first polydimethylsiloxane. It is preferable that it is part-20 mass parts, and it is more preferable that it is 0.1 mass part-10 mass parts.
第1のポリジメチルシロキサンに含まれるアルケニル基の含有量、第2のポリジメチルシロキサンに含まれるヒドロシリル基の含有量、及び第1のポリジメチルシロキサンに対する第2のポリジメチルシロキサンの配合比がそれぞれ上記の範囲内であると、第1のポリジメチルシロキサンと第2のポリジメチルシロキサンとの付加反応が良好に進む傾向にある。なお、第1のポリジメチルシロキサンは、ヒドロシリル基を有しないことが好ましく、第2のポリジメチルシロキサンは、アルケニル基を有しないことが好ましい。 The content of the alkenyl group contained in the first polydimethylsiloxane, the content of the hydrosilyl group contained in the second polydimethylsiloxane, and the compounding ratio of the second polydimethylsiloxane to the first polydimethylsiloxane are each as described above. The addition reaction between the first polydimethylsiloxane and the second polydimethylsiloxane tends to proceed well. The first polydimethylsiloxane preferably has no hydrosilyl group, and the second polydimethylsiloxane preferably does not have an alkenyl group.
シリコーンレジンは、シリコーン系粘着剤に粘着性を付与する役割を有する。本明細書においてシリコーンレジンとは、三次元網目構造を有するシリコーンを意味する。
シリコーンレジンとしては、例えば、一官能シロキサン単位[(CH3)3SiO1/2]であるM単位と、四官能シロキサン単位[SiO4/2]であるQ単位とから構成されるMQレジンが挙げられる。MQレジンにおいてM単位とQ単位のモル比(M単位/Q単位)は、0.6〜1.7であることが好ましい。The silicone resin has a role of imparting tackiness to the silicone pressure sensitive adhesive. As used herein, silicone resin means silicone having a three-dimensional network structure.
As a silicone resin, for example, an MQ resin composed of an M unit which is a monofunctional siloxane unit [(CH 3 ) 3 SiO 1/2 ] and a Q unit which is a tetrafunctional siloxane unit [SiO 4/2 ] It can be mentioned. The molar ratio of M units to Q units (M units / Q units) in the MQ resin is preferably 0.6 to 1.7.
付加反応型シリコーン系粘着剤において、付加反応型シリコーン樹脂100質量部に対するシリコーンレジンの配合比は、1質量部〜30質量部であることが好ましく、3質量部〜20質量部であることがより好ましく、5質量部〜15質量部であることがさらに好ましい。シリコーンレジンの配合比がかかる範囲にあることで、付加反応型シリコーン系粘着剤の剥離性を望ましい範囲に調整することができる。すなわち、付加反応型シリコーン系粘着剤を用いて得られる粘着層から電磁波遮蔽シートがより剥離しやすくなり、電磁波遮蔽シートへの糊残りがより生じにくくなる傾向にある。 In the addition reaction type silicone pressure sensitive adhesive, the compounding ratio of the silicone resin to 100 parts by mass of the addition reaction type silicone resin is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 3 parts by mass to 20 parts by mass. Preferably, it is 5 parts by mass to 15 parts by mass. By setting the compounding ratio of the silicone resin in such a range, the releasability of the addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive can be adjusted to a desired range. That is, the electromagnetic wave shielding sheet is more easily peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer obtained using the addition reaction type silicone pressure sensitive adhesive, and the adhesive residue on the electromagnetic wave shielding sheet tends to be less likely to occur.
付加反応型シリコーン系粘着剤は、触媒を含有することが好ましい。触媒を含有することで、付加反応型シリコーン樹脂の硬化反応をより効率良く進行させることができる。触媒としては、第1のポリジメチルシロキサンと第2のポリジメチルシロキサンを付加反応させることができるものであれば特に限定されないが、中でも白金族金属を含む化合物が好ましい。白金族金属を含む化合物としては、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、ロジウム等が挙げられる。 The addition reaction type silicone-based pressure-sensitive adhesive preferably contains a catalyst. By containing the catalyst, the curing reaction of the addition reaction type silicone resin can be advanced more efficiently. The catalyst is not particularly limited as long as it is capable of causing an addition reaction of the first polydimethylsiloxane and the second polydimethylsiloxane, and among them, a compound containing a platinum group metal is preferable. Examples of the platinum group metal-containing compound include particulate platinum, particulate platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complexes of chloroplatinic acid, palladium, rhodium and the like.
付加反応型シリコーン系粘着剤が触媒を含む場合、付加反応型シリコーン樹脂100質量部に対する触媒の配合量(触媒が白金族金属を含む化合物である場合は、白金族金属に相当する量)が0.0001質量部〜0.1質量部であることが好ましく、0.001質量部〜0.01質量部であることがより好ましい。 When the addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive contains a catalyst, the compounding amount of the catalyst per 100 parts by mass of the addition reaction type silicone resin (when the catalyst is a compound containing a platinum group metal, an amount corresponding to a platinum group metal) is 0 It is preferable that it is .0001 mass part-0.1 mass part, and it is more preferable that it is 0.001 mass part-0.01 mass part.
(過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤及び縮合型シリコーン系粘着剤)
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、一般に、オルガノポリシロキサンを過酸化物により硬化(架橋)させてシリコーン系ポリマーを生成させる粘着剤である。また、縮合型シリコーン系粘着剤は、一般に、末端にシラノール基又はアルコキシシリル基等の加水分解性シリル基を有するポリオルガノシロキサン間の脱水又は脱アルコール反応によりシリコーン系ポリマーを生成させる粘着剤である。(Peroxide curable silicone pressure sensitive adhesive and condensation silicone pressure sensitive adhesive)
The peroxide-curable silicone-based pressure-sensitive adhesive is generally a pressure-sensitive adhesive that cures (crosslinks) an organopolysiloxane with a peroxide to form a silicone-based polymer. In addition, a condensation type silicone-based adhesive is generally an adhesive that forms a silicone-based polymer by dehydration or dealcoholization reaction between polyorganosiloxanes having hydrolyzable silyl groups such as silanol group or alkoxysilyl group at the terminal. .
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤の場合、メチル基を少なくとも有するシリコーンゴムを用い、縮合型シリコーン系粘着剤の場合、末端にシラノール基又は加水分解性のアルコキシシリル基を有するシリコーンゴムを用いる。なお、シリコーンゴムにおけるオルガノポリシロキサンの重量平均分子量は、通常、15万以上であり、好ましくは28万〜100万であり、より好ましくは50万〜90万である。 In the case of a peroxide-curable silicone pressure-sensitive adhesive, a silicone rubber having at least a methyl group is used, and in the case of a condensation-type silicone pressure-sensitive adhesive, a silicone rubber having a silanol group or a hydrolyzable alkoxysilyl group at the end is used. The weight average molecular weight of the organopolysiloxane in the silicone rubber is usually 150,000 or more, preferably 280,000 to 1,000,000, and more preferably 500,000 to 900,000.
シリコーン系粘着剤は、ポリマー成分に加えて反応抑制剤、密着向上剤等の各種添加剤を含んでもよい。 The silicone-based pressure-sensitive adhesive may contain, in addition to the polymer component, various additives such as a reaction inhibitor and an adhesion improver.
シリコーン系粘着剤を用いて基材上に粘着層を形成する方法は、特に制限されない。例えば、シリコーン系粘着剤を基材上に付与し、必要に応じて乾燥し、硬化させることにより形成することができる。付与は、例えば、バーコーター、ダイコーター、グラビアコーター、ロールコーター、ナイフコーター等の塗工機を用いて行うことができる。 The method for forming the adhesive layer on the substrate using a silicone-based adhesive is not particularly limited. For example, it can be formed by applying a silicone-based pressure-sensitive adhesive on a substrate, drying it as necessary, and curing it. The application can be performed using, for example, a coating machine such as a bar coater, a die coater, a gravure coater, a roll coater, or a knife coater.
シリコーン系粘着剤が希釈剤を含む場合、希釈剤は特に制限されない。例えば、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素化合物、アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。シリコーン系粘着剤に含まれる希釈剤は1種単独でも2種以上であってもよい。 When the silicone-based pressure-sensitive adhesive contains a diluent, the diluent is not particularly limited. Examples thereof include hydrocarbon compounds such as toluene, hexane and heptane, acetone, ethyl acetate, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. The diluent contained in the silicone-based pressure-sensitive adhesive may be one kind alone or two or more kinds.
シリコーン系粘着剤が付加反応型シリコーン粘着剤である場合、基材上に付加反応型シリコーン粘着剤を付与した後に加熱して硬化させることが好ましい。この場合の加熱温度は80℃〜180℃であることが好ましく、加熱時間は10秒〜90秒程度であることが好ましい。 When the silicone-based pressure-sensitive adhesive is an addition reaction-type silicone pressure-sensitive adhesive, it is preferable to heat and cure after adding the addition-reaction-type silicone pressure-sensitive adhesive on a substrate. The heating temperature in this case is preferably 80 ° C. to 180 ° C., and the heating time is preferably about 10 seconds to 90 seconds.
(2)アクリル系粘着剤
本明細書においてアクリル系粘着剤とは、アクリル系ポリマーをベースポリマーとする粘着剤を意味する。アクリル系ポリマーとは、1分子中に少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を有するモノマー(以下、これを「アクリル系モノマー」ということがある。)を主たる構成単量体成分(アクリル系ポリマーを構成するモノマーの総量のうち50質量%以上を占める成分)とするポリマーを指す。アクリル系粘着剤は、透明性、耐候性、耐熱性、耐溶剤性等の点で有利である。(2) Acrylic Pressure-Sensitive Adhesive In the present specification, an acrylic pressure-sensitive adhesive means a pressure-sensitive adhesive containing an acrylic polymer as a base polymer. With an acrylic polymer, a monomer having at least one (meth) acryloyl group in one molecule (hereinafter, this may be referred to as "acrylic monomer") is a main constituent monomer component (acrylic polymer) (A component that accounts for 50% by mass or more of the total amount of monomers). Acrylic pressure-sensitive adhesives are advantageous in terms of transparency, weather resistance, heat resistance, solvent resistance, and the like.
アクリル系粘着剤に含まれるアクリル系ポリマーを設計するに際しては、ガラス転移点(被着体に対する粘着性、適用可能な温度等)、架橋点の導入(耐久性、耐熱性等)、アクリル系モノマーの共重合性(アクリル系ポリマーの分子構造、架橋点等の均一性)などを考慮してモノマーの種類、分子量等を調節することが重要となる。架橋点を分子中に導入するためには、併用される架橋剤と反応可能な官能基を含有するモノマー(アクリル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル等)を用いてアクリル系ポリマーを合成する。 When designing an acrylic polymer contained in an acrylic pressure-sensitive adhesive, introduction of a glass transition point (adhesion to an adherend, applicable temperature, etc.), crosslinking point (durability, heat resistance, etc.), acrylic monomer It is important to control the kind, molecular weight and the like of the monomer in consideration of the copolymerizability (the molecular structure of the acrylic polymer, uniformity of the crosslinking point, etc.) and the like. In order to introduce a crosslinking point into the molecule, an acrylic polymer is synthesized using a monomer (acrylic acid, hydroxyethyl acrylate, etc.) containing a functional group capable of reacting with the crosslinking agent used in combination.
アクリル系ポリマーとしては、アルキル(メタ)アクリレートを主たる構成単量体成分とするポリマーが挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、下記式(1)で表される化合物を好適に用いることができる。
CH2=C(R1)COOR2 (1)As an acryl-type polymer, the polymer which has an alkyl (meth) acrylate as a main component monomer component is mentioned. As the alkyl (meth) acrylate, for example, a compound represented by the following formula (1) can be suitably used.
CH 2 = C (R 1 ) COOR 2 (1)
ここで、上記式(1)中のR1は、水素原子又はメチル基を表し、R2は、炭素原子数1〜20のアルキル基(鎖状アルキル基又は脂環式アルキル基のいずれであってもよい)を表す。Here, R 1 in the above formula (1) represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (either a linear alkyl group or an alicyclic alkyl group May be
粘着性能に優れる粘着剤を得る観点からは、R2が炭素原子数2〜14(C2〜14)の鎖状アルキル基(直鎖状アルキル基又は分岐状アルキル基のいずれであってもよい)であることが好ましい。C2〜14の鎖状アルキル基としては、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、イソデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基等が挙げられる。R2が脂環式アルキル基である場合の脂環式アルキル基としては、シクロヘキシル基、イソボルニル基等が挙げられる。From the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive having excellent adhesion performance, R 2 is a linear alkyl group having 2 to 14 (C 2 to 14) carbon atoms (which may be either a linear alkyl group or a branched alkyl group) Is preferred. As a C2-14 chain | strand-shaped alkyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isoamyl group, neopentyl group , N-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group etc. are mentioned. When R 2 is an alicyclic alkyl group, examples of the alicyclic alkyl group include a cyclohexyl group and an isobornyl group.
粘着性能により優れるアクリル系ポリマーを得る観点からは、アクリル系ポリマーの合成に使用するモノマーの総量のうち50質量%以上(例えば、50質量%〜99.9質量%)、より好ましくは70質量%以上(例えば、70質量%〜99.9質量%)、さらに好ましくは85質量%以上(例えば、85質量%〜99.9質量%)が、上記式(1)においてR2がC2〜14の鎖状アルキル基である(メタ)アクリレートであることが好ましく、R2がC4〜10の鎖状アルキルアクリレートであることがより好ましく、n−ブチルアクリレート及び2−エチルヘキシルアクリレートから選択される少なくとも1種であることがさらに好ましい。From the viewpoint of obtaining an acrylic polymer excellent in adhesion performance, 50% by mass or more (for example, 50% by mass to 99.9% by mass) of the total amount of monomers used for synthesizing the acrylic polymer, more preferably 70% by mass More (for example, 70% by mass to 99.9% by mass), more preferably 85% by mass or more (for example, 85% by mass to 99.9% by mass), R 2 in the above formula (1) is C2-14 (Meth) acrylate which is a linear alkyl group is preferable, more preferably R 2 is a C4-10 linear alkyl acrylate, and at least one selected from n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate It is further preferred that
アクリル系ポリマーは、架橋点として水酸基を有することが好ましい。水酸基を有するアクリル系ポリマーとしては、水酸基を含有するアクリル系モノマーを重合成分に含むものを好ましく用いることができる。 The acrylic polymer preferably has a hydroxyl group as a crosslinking point. As an acryl-type polymer which has a hydroxyl group, what contains the acryl-type monomer containing a hydroxyl group in a superposition | polymerization component can be used preferably.
水酸基を含有するアクリル系モノマーの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシへキシル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシへキシル(メタ)アクリレート、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、10−ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、12−ヒドロキシラウリル(メタ)アクリレート、(4−ヒドロキシメチルシクロへキシル)メチルアクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。水酸基を含有するアクリル系モノマーは、1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 Specific examples of the acrylic monomer containing a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4 -Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxy lauryl (Meth) acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl) methyl acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-hydroxypropyl (meth) acrylate ) Acrylamide, and the like. The acrylic monomers containing a hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more.
水酸基を含有するアクリル系モノマーの中でも、水酸基を含有する(メタ)アクリレートが好ましい。水酸基を含有する(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が好ましい。 Among the acrylic monomers containing a hydroxyl group, (meth) acrylates containing a hydroxyl group are preferable. As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Preferred is butyl (meth) acrylate or the like.
水酸基を有するアクリル系ポリマーは、その合成に使用するモノマーの総量のうち水酸基を含有するアクリル系モノマーの割合が、例えば0.01質量%〜20質量%の範囲であってよく、0.05質量%〜15質量%の範囲であることが好ましく、0.1質量%〜10質量%の範囲であることがより好ましい。 In the acrylic polymer having a hydroxyl group, the proportion of the acrylic monomer having a hydroxyl group in the total amount of monomers used for the synthesis may be, for example, in the range of 0.01 mass% to 20 mass%, 0.05 mass The content is preferably in the range of% to 15% by mass, and more preferably in the range of 0.1% by mass to 10% by mass.
アクリル系ポリマーは、水酸基以外の官能基を有するアクリル系モノマー及びアクリル系モノマー以外のモノマー(以下、その他のモノマーとも称する)を重合成分として含んでもよい。その他のモノマーは、例えば、アクリル系ポリマーのTg、粘着性能等を調整するなどの目的で使用することができる。例えば、粘着剤の凝集力と耐熱性を向上させ得るモノマーとして、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステル類、芳香族ビニル化合物等が挙げられる。また、アクリル系ポリマーに架橋基点となり得る官能基を導入する、又は接着力の向上に寄与し得るモノマーとして、カルボキシ基含有モノマー、酸無水物基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、イミド基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、(メタ)アクリロイルモルホリン、ビニルエーテル類等が挙げられる。その他のモノマーは1種を単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The acrylic polymer may contain an acrylic monomer having a functional group other than a hydroxyl group and a monomer other than the acrylic monomer (hereinafter, also referred to as another monomer) as a polymerization component. Other monomers can be used, for example, for the purpose of adjusting Tg of an acrylic polymer, adhesion performance, and the like. For example, as a monomer capable of improving the cohesion and heat resistance of the pressure-sensitive adhesive, a sulfonic acid group-containing monomer, a phosphoric acid group-containing monomer, a cyano group-containing monomer, a vinyl ester, an aromatic vinyl compound and the like can be mentioned. Further, as a monomer capable of introducing a functional group capable of becoming a crosslinking point into an acrylic polymer, or contributing to the improvement of adhesion, a carboxy group-containing monomer, an acid anhydride group-containing monomer, an amide group-containing monomer, an amino group-containing monomer, Imide group-containing monomers, epoxy group-containing monomers, (meth) acryloyl morpholine, vinyl ethers and the like can be mentioned. The other monomers may be used alone or in combination of two or more.
スルホン酸基含有モノマーとしては、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。
リン酸基含有モノマーとしては、2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等が挙げられる。
シアノ基含有モノマーとしては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。
ビニルエステル類としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニル等が挙げられる。
芳香族ビニル化合物としては、スチレン、置換スチレン(クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン等)などが挙げられる。As a sulfonic acid group-containing monomer, styrene sulfonic acid, allyl sulfonic acid, 2- (meth) acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, (meth) acrylamidopropane sulfonic acid, sulfopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxy Naphthalene sulfonic acid, sodium vinyl sulfonate and the like can be mentioned.
As a phosphoric acid group containing monomer, 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate etc. are mentioned.
Examples of cyano group-containing monomers include acrylonitrile and methacrylonitrile.
As vinyl esters, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl laurate and the like can be mentioned.
Examples of the aromatic vinyl compound include styrene and substituted styrene (chlorostyrene, chloromethylstyrene, α-methylstyrene and the like) and the like.
カルボキシ基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸等が挙げられる。
酸無水物基含有モノマーとしては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、上記カルボキシ基含有モノマーの酸無水物等が挙げられる。
アミド基含有モノマーとしては、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジエチルメタクリルアミド、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド等が挙げられる。
アミノ基含有モノマーとしては、アミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
イミド基含有モノマーとしては、シクロへキシルマレイミド、イソプロピルマレイミド、N−シクロへキシルマレイミド、イタコンイミド等が挙げられる。
エポキシ基含有モノマーとしては、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
ビニルエーテル類としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等が挙げられる。Examples of carboxy group-containing monomers include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid and the like.
Examples of the acid anhydride group-containing monomer include maleic anhydride, itaconic acid anhydride, and acid anhydrides of the above-mentioned carboxy group-containing monomers.
As the amide group-containing monomer, acrylamide, methacrylamide, diethyl acrylamide, N-vinyl pyrrolidone, N, N-dimethyl acrylamide, N, N-dimethyl methacrylamide, N, N-diethyl acrylamide, N, N-diethyl methacrylamide, N, N'- methylenebis acrylamide, N, N- dimethylaminopropyl acrylamide, N, N- dimethylaminopropyl methacrylamide, diacetone acrylamide etc. are mentioned.
Examples of amino group-containing monomers include aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate.
Examples of imide group-containing monomers include cyclohexyl maleimide, isopropyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide, itaconimide and the like.
Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether and the like.
Examples of vinyl ethers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether and the like.
アクリル系ポリマーがその他のモノマーを重合成分として含む場合、その他のモノマーの含有率は、その他のモノマーの合計がアクリル系ポリマーの合成に使用するモノマーの総量のうち40質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましい。また、その他のモノマーの合計がアクリル系ポリマーの合成に使用するモノマーの総量のうち0.001質量%以上であることが好ましい。 When the acrylic polymer contains other monomers as a polymerization component, the content of the other monomers is preferably such that the total of the other monomers is 40% by mass or less of the total of the monomers used for the synthesis of the acrylic polymer And 30% by mass or less. Moreover, it is preferable that the sum total of another monomer is 0.001 mass% or more among the total amounts of the monomer used for the synthesis | combination of an acryl-type polymer.
アクリル系ポリマーは、アクリル系モノマーのみを重合成分とするものであってもよい。アクリル系モノマーのみを重合成分とするアクリル系ポリマーとしては、例えば、炭素数が6〜14のアルキル(メタ)アクリレートのみを重合成分とするアクリル系ポリマー、炭素数が6〜14のアルキル(メタ)アクリレートと水酸基含有(メタ)アクリレートのみを重合成分とするアクリル系ポリマー等が挙げられる。 The acrylic polymer may have only an acrylic monomer as a polymerization component. As an acrylic polymer having only an acrylic monomer as a polymerization component, for example, an acrylic polymer having only an alkyl (meth) acrylate having 6 to 14 carbon atoms as a polymerization component, an alkyl (meth) having 6 to 14 carbon atoms The acrylic polymer etc. which use only an acrylate and a hydroxyl-containing (meth) acrylate as a polymerization component are mentioned.
アクリル系ポリマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により得られる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が、例えば20×104以上であってよく、30×104以上であることが好ましい。また、例えば90×104以下であってよく、80×104以下であることが好ましい。アクリル系ポリマーの重量平均分子量が上記範囲内であると、良好な粘着性能を示す粘着剤が得られる傾向にある。The acrylic polymer may have a weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene equivalent obtained by gel permeation chromatography (GPC) of, for example, 20 × 10 4 or more, and preferably 30 × 10 4 or more. Further, for example, it may be 90 × 10 4 or less, and preferably 80 × 10 4 or less. When the weight average molecular weight of the acrylic polymer is in the above range, a pressure-sensitive adhesive having a good adhesion performance tends to be obtained.
アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体であっても、ブロック共重合体であっても、グラフト共重合体等であってもよい。生産性等の観点からは、通常はランダム共重合体であることが好ましい。 The acrylic polymer may be a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer. From the viewpoint of productivity and the like, it is usually preferable to be a random copolymer.
アクリル系ポリマーのガラス転移温度(Tg)は−15℃以下であることが好ましく、−25℃以下であることがより好ましく、−40℃以下であることがさらに好ましい。また、ガラス転移温度(Tg)が−70℃以上であることが好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度(Tg)が上記範囲であると、良好な粘着性能を示す粘着剤が形成される傾向にある。 The glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer is preferably -15 ° C or less, more preferably -25 ° C or less, and still more preferably -40 ° C or less. Moreover, it is preferable that a glass transition temperature (Tg) is -70 degreeC or more. When the glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer is in the above range, a pressure-sensitive adhesive exhibiting a good adhesion performance tends to be formed.
本明細書においてアクリル系ポリマーのTgとは、アクリル系ポリマーを構成する各モノマーの単独重合体(ホモポリマー)のTgと、当該モノマーの質量分率(質量基準の共重合割合)に基づいてフォックス(Fox)の式から求められる値をいう。従って、アクリル系ポリマーのTgは、モノマー組成(すなわち、アクリル系ポリマーの合成に使用するモノマーの種類、使用量比等を適宜変えることにより調整することができる。ここで、ホモポリマーのTgとしては、公知資料に記載(「Polymer Handbook」(第3版、John Wiley & Sons,Inc、1989年))の値を採用するものとする。上記ホモポリマーのTgとして、具体的には以下の値を用いるものとする。 In the present specification, the Tg of an acrylic polymer refers to the Tg of a homopolymer (homopolymer) of each monomer constituting the acrylic polymer, and Fox based on the mass fraction of the monomer (the copolymerization ratio on a mass basis). The value obtained from the equation (Fox). Accordingly, the Tg of the acrylic polymer can be adjusted by appropriately changing the monomer composition (that is, the type of the monomer used for the synthesis of the acrylic polymer, the ratio of the amount used, etc.) The value of (Polymer Handbook) (3rd edition, John Wiley & Sons, Inc, 1989) described in the publicly known data shall be adopted. Specifically as the Tg of the above-mentioned homopolymer, the following values It shall be used.
2−エチルヘキシルアクリレートのホモポリマー:−70℃
n−ブチルアクリレートのホモポリマー:−55℃
エチルアクリレートのホモポリマー:−22℃
メチルアクリレートのホモポリマー:8℃
メチルメタクリレートのホモポリマー:105℃
シクロヘキシルメタクリレートのホモポリマー:66℃
酢酸ビニルのホモポリマー:32℃
スチレンのホモポリマー:100℃
アクリル酸のホモポリマー:106℃
メタクリル酸のホモポリマー:130℃Homopolymer of 2-ethylhexyl acrylate: -70 ° C
Homopolymer of n-butyl acrylate: -55 ° C
Ethyl acrylate homopolymer: -22 ° C
Methyl acrylate homopolymer: 8 ° C
Methyl methacrylate homopolymer: 105 ° C
Homopolymer of cyclohexyl methacrylate: 66 ° C.
Vinyl acetate homopolymer: 32 ° C.
Styrene homopolymer: 100 ° C
Acrylic acid homopolymer: 106 ° C
Methacrylic acid homopolymer: 130 ° C.
「Polymer Handbook」に記載のないホモポリマーのTgとしては、下記の方法で測定される値を用いる。
温度計、撹拌機、窒素導入管及び還流冷却管を備えた反応器に、モノマー100質量部、アゾビスイソブチロニトリル0.2質量部、及び重合溶媒として酢酸エチル200質量部を投入し、窒素ガスを流通させながら室温(25℃)で1時間撹拌する。このようにして重合系内の酸素を除去した後、63℃に昇温して10時間反応させる。次いで、室温(25℃)まで冷却し、固形分濃度が33質量%のホモポリマー溶液を得る。次いで、このホモポリマー溶液を剥離ライナー上に流延塗布し、乾燥して厚み約2mmの試験サンプル(シート状のホモポリマー)を作製する。この試験サンプルを直径7.9mmの円盤状に打ち抜き、パラレルプレートで挟み込み、粘弾性試験機(ARES、レオメトリックス社)を用いて周波数1Hzのせん断歪みを与えながら、温度領域−70℃〜150℃、5℃/分の昇温速度でせん断モードにより粘弾性を測定し、tanδのピークトップ温度をホモポリマーのTgとする。As Tg of the homopolymer which is not described in "Polymer Handbook", a value measured by the following method is used.
100 parts by mass of a monomer, 0.2 parts by mass of azobisisobutyronitrile, and 200 parts by mass of ethyl acetate as a polymerization solvent are charged into a reactor equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introducing pipe and a reflux condenser. Stir at room temperature (25 ° C.) for 1 hour while flowing nitrogen gas. After oxygen in the polymerization system is removed in this manner, the temperature is raised to 63 ° C. and reaction is carried out for 10 hours. Then, it is cooled to room temperature (25 ° C.) to obtain a homopolymer solution having a solid content concentration of 33% by mass. Next, this homopolymer solution is cast-coated on a release liner and dried to prepare a test sample (sheet-like homopolymer) having a thickness of about 2 mm. This test sample is punched into a disc shape of 7.9 mm in diameter, sandwiched by parallel plates, and subjected to shear strain at a frequency of 1 Hz using a viscoelasticity tester (ARES, Rheometrics), temperature range -70 ° C to 150 ° C. The visco-elasticity is measured by a shear mode at a heating rate of 5 ° C./min, and the peak top temperature of tan δ is taken as the Tg of the homopolymer.
アクリル系ポリマーを合成する方法は特に限定されず、溶液重合法、エマルション重合法、塊状重合法、懸濁重合法等の、一般的に用いられる方法を適用できる。アクリル系ポリマーを含む溶剤型粘着剤組成物の調製しやすさの観点からは、溶液重合法が好ましい。溶液重合法に用いられる有機溶媒(重合溶媒)は特に制限されず、トルエン、酢酸エチル、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられる。使用する有機溶媒は、1種単独でも2種以上であってもよい。 The method of synthesizing the acrylic polymer is not particularly limited, and generally used methods such as solution polymerization method, emulsion polymerization method, bulk polymerization method and suspension polymerization method can be applied. From the viewpoint of preparation of the solvent-based pressure-sensitive adhesive composition containing the acrylic polymer, the solution polymerization method is preferable. The organic solvent (polymerization solvent) used in the solution polymerization method is not particularly limited, and examples thereof include toluene, ethyl acetate, hexane, cyclohexane and the like. The organic solvent to be used may be one kind alone or two or more kinds.
本明細書において溶剤型粘着剤組成物とは、有機溶媒中に粘着成分を含む形態の組成物を意味する。有機溶媒は特に制限されない。例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、イソプロピルアルコール等が挙げられる。有機溶媒は、1種単独であっても2種以上であってもよい。溶剤型粘着剤組成物は、そのNV(非揮発分)が全体の30質量%〜60質量%であることが好ましく、30質量%〜50質量%であることがより好ましい。溶剤型粘着剤組成物の粘度は、3Pa・s〜25Pa・sであることが好ましく、5Pa・s〜15Pa・sであることがより好ましい。なお、上記粘度は、23℃の環境下で回転粘度計を用いて測定される値をいう。 In the present specification, the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition means a composition in a form including an adhesive component in an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited. For example, toluene, xylene, ethyl acetate, hexane, cyclohexane, methylcyclohexane, isopropyl alcohol and the like can be mentioned. The organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The solvent-based pressure-sensitive adhesive composition preferably has an NV (nonvolatile content) of 30% by mass to 60% by mass, and more preferably 30% by mass to 50% by mass. The viscosity of the solvent-type pressure-sensitive adhesive composition is preferably 3 Pa · s to 25 Pa · s, and more preferably 5 Pa · s to 15 Pa · s. In addition, the said viscosity says the value measured using a rotational viscometer in a 23 degreeC environment.
アクリル系粘着剤は、アクリル系ポリマーが架橋するように設計されていてもよい。アクリル系ポリマーを架橋させる具体的な方法としては、アクリル系ポリマーの重合成分中に架橋点となりうる官能基(水酸基、カルボキシ基等)を有するモノマーを含めることでアクリル系ポリマーに官能基を導入し、この官能基と反応して架橋構造を形成しうる化合物(架橋剤)をアクリル系ポリマーに添加して反応させる方法が挙げられる。 The acrylic adhesive may be designed to crosslink the acrylic polymer. As a specific method of crosslinking the acrylic polymer, a functional group is introduced into the acrylic polymer by including a monomer having a functional group (hydroxyl group, carboxy group, etc.) which can be a crosslinking point in the polymerization component of the acrylic polymer. There may be mentioned a method of adding a compound (crosslinking agent) capable of reacting with this functional group to form a crosslinked structure (crosslinking agent) and reacting it.
架橋剤は特に制限されず、アクリル系ポリマーの架橋に用いられる一般的な化合物から選択してもよい。例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられ、中でもエポキシ系架橋剤とイソシアネート系架橋剤が好ましい。使用される架橋剤は1種単独でも2種以上であってもよい。 The crosslinking agent is not particularly limited, and may be selected from general compounds used for crosslinking of acrylic polymers. For example, epoxy type crosslinking agent, isocyanate type crosslinking agent, melamine type crosslinking agent, peroxide type crosslinking agent, metal alkoxide type crosslinking agent, metal chelate type crosslinking agent, metal salt type crosslinking agent, carbodiimide type crosslinking agent, oxazoline type crosslinking agent Agents, aziridine type crosslinking agents, amine type crosslinking agents, etc., among which epoxy type crosslinking agents and isocyanate type crosslinking agents are preferable. The crosslinking agent used may be used alone or in combination of two or more.
エポキシ系架橋剤としては、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o−フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール−S−ジグリシジルエーテル、分子内にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂等が挙げられる。 As an epoxy type crosslinking agent, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylene diamine, diglycidyl aniline, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, 1,6- Hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol poly Glycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether Adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, resorcinol diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, two or more epoxy groups in the molecule The epoxy resin etc. which it has are mentioned.
イソシアネート系架橋剤としては、1,2−エチレンジイソシアネート、1,4−ブチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート化合物;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加キシレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート化合物;2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート化合物;などが挙げられる。 As an isocyanate type crosslinking agent, lower aliphatic polyisocyanate compounds such as 1,2-ethylene diisocyanate, 1,4-butylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate; cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogen Aliphatic polyisocyanate compounds such as added tolylene diisocyanate and hydrogenated xylene diisocyanate; and aromatic polyisocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate Compounds; and the like.
架橋剤の使用量は、例えば、アクリル系ポリマー100質量部に対して約0.01質量部〜15質量部とすることができ、0.1質量部〜10質量部(例えば、0.2質量部〜2質量部)とすることが好ましい。かかる使用量で架橋剤を含む場合は、良好な粘着性能を示す粘着剤が得られる傾向にある。 The use amount of the crosslinking agent can be, for example, about 0.01 parts by mass to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer, 0.1 parts by mass to 10 parts by mass (for example, 0.2 parts by mass) It is preferable to set it as a part-2 mass parts). When the crosslinking agent is used in such an amount, it tends to be possible to obtain a pressure-sensitive adhesive that exhibits good adhesion performance.
アクリル系粘着剤は、必要に応じて各種添加剤を含んでもよい。添加剤としては、表面潤滑剤、レベリング剤、酸化防止剤、防腐剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤等が挙げられる。 The acrylic pressure-sensitive adhesive may contain various additives as required. Examples of the additive include surface lubricants, leveling agents, antioxidants, preservatives, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, and silane coupling agents.
アクリル系粘着剤は、必要に応じて粘着性付与樹脂を含んでもよい。粘着性付与樹脂の種類は特に制限されず、ロジン系粘着性付与樹脂、テルペン系粘着性付与樹脂、炭化水素系粘着性付与樹脂、エポキシ系粘着性付与樹脂、ポリアミド系粘着性付与樹脂、エラストマー系粘着性付与樹脂、フェノール系粘着性付与樹脂、ケトン系粘着性付与樹脂等が挙げられる。アクリル系粘着剤に含まれる粘着性付与樹脂は、1種単独であっても2種以上であってもよい。 The acrylic pressure-sensitive adhesive may contain a tackifying resin as required. The type of tackifying resin is not particularly limited, and rosin-based tackifying resin, terpene-based tackifying resin, hydrocarbon-based tackifying resin, epoxy-based tackifying resin, polyamide-based tackifying resin, elastomer-based Tackifying resins, phenolic tackifying resins, ketone tackifying resins, etc. may be mentioned. The tackifying resin contained in the acrylic pressure-sensitive adhesive may be one kind alone or two or more kinds.
ロジン系粘着性付与樹脂としては、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン等の未変性ロジン(生ロジン);未変性ロジンを水添化、不均化、重合等により変性した変性ロジン(水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、その他の化学的に修飾されたロジン等);その他の各種ロジン誘導体;などが挙げられる。
ロジン誘導体としては、未変性ロジン又は変性ロジンをアルコール類によりエステル化したもの(ロジンエステル);未変性ロジン又は変性ロジンを不飽和脂肪酸で変性したもの(不飽和脂肪酸変性ロジン);ロジンエステルを不飽和脂肪酸で変性したもの(不飽和脂肪酸変性ロジンエステル);未変性ロジン、変性ロジン、不飽和脂肪酸変性ロジン又は不飽和脂肪酸変性ロジンエステルにおけるカルボキシ基を還元処理したもの(ロジンアルコール);未変性ロジン、変性ロジン及び上述したロジン誘導体(特に、ロジンエステル)の金属塩;未変性ロジン、変性ロジン及び上述したロジン誘導体にフェノールを酸触媒で付加させ熱重合することにより得られるロジンフェノール樹脂;などが挙げられる。Examples of rosin-based tackifying resins include unmodified rosin (raw rosin) such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin; modified rosin obtained by modifying unmodified rosin by hydrogenation, disproportionation, polymerization, etc. (hydrogenated rosin, Disproportionated rosin, polymerized rosin, other chemically modified rosin, etc.); other various rosin derivatives;
Examples of rosin derivatives include unmodified rosins or those obtained by esterifying modified rosins with alcohols (rosin esters); unmodified rosins or those obtained by modifying modified rosins with unsaturated fatty acids (unsaturated fatty acids modified rosins); Modified with saturated fatty acid (unsaturated fatty acid modified rosin ester); unmodified rosin, modified rosin, unsaturated fatty acid modified rosin or unsaturated fatty acid modified rosin ester with reduction of carboxy group (rosin alcohol); unmodified rosin A modified rosin and a metal salt of the above-described rosin derivative (in particular, rosin ester); unmodified rosin, modified rosin and rosin phenol resin obtained by thermally polymerizing phenol with an acid catalyst to the above rosin derivative; It can be mentioned.
テルペン系粘着性付与樹脂としては、α−ピネン重合体、β−ピネン重合体、ジペンテン重合体等のテルペン系樹脂;これらのテルペン系樹脂を変性(フェノール変性、芳香族変性、水素添加変性、炭化水素変性等)した変性テルペン系樹脂;などが挙げられる。変性テルペン系樹脂としては、テルペン−フェノール系樹脂、スチレン変性テルペン系樹脂、芳香族変性テルペン系樹脂、水素添加テルペン系樹脂等が挙げられる。 Terpene-based tackifying resins such as α-pinene polymers, β-pinene polymers, terpene resins such as dipentene polymers; these terpene resins are modified (phenol modification, aromatic modification, hydrogenation modification, carbonization Hydrogen-modified and the like) modified terpene resins; and the like. Examples of the modified terpene resin include terpene-phenol resin, styrene modified terpene resin, aromatic modified terpene resin, hydrogenated terpene resin and the like.
炭化水素系粘着性付与樹脂としては、脂肪族系炭化水素樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、脂肪族系環状炭化水素樹脂、脂肪族・芳香族系石油樹脂(スチレン−オレフィン系共重合体等)、脂肪族・脂環族系石油樹脂、水素添加炭化水素樹脂、クマロン系樹脂、クマロンインデン系樹脂等が挙げられる。
脂肪族系炭化水素樹脂としては、炭素数が4〜5程度のオレフィン及びジエンから選択される1種又は2種以上の脂肪族炭化水素の重合体等が挙げられる。オレフィンとしては、1−ブテン、イソブチレン、1−ペンテン等が挙げられる。ジエンとしては、ブタジエン、1,3−ペンタジエン、イソプレン等が挙げられる。Examples of hydrocarbon tackifying resins include aliphatic hydrocarbon resins, aromatic hydrocarbon resins, aliphatic cyclic hydrocarbon resins, and aliphatic / aromatic petroleum resins (such as styrene-olefin copolymers). And aliphatic and alicyclic petroleum resins, hydrogenated hydrocarbon resins, coumarone resins, coumarone indene resins and the like.
Examples of aliphatic hydrocarbon resins include polymers of one or more aliphatic hydrocarbons selected from olefins and dienes having about 4 to 5 carbon atoms, and the like. As an olefin, 1-butene, isobutylene, 1-pentene etc. are mentioned. Examples of dienes include butadiene, 1,3-pentadiene, isoprene and the like.
芳香族系炭化水素樹脂の例としては、炭素原子数8〜10程度のビニル基含有芳香族系炭化水素(スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、インデン、メチルインデン等)の重合体等が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon resin include polymers of vinyl group-containing aromatic hydrocarbon having about 8 to 10 carbon atoms (styrene, vinyl toluene, α-methylstyrene, indene, methyl indene, etc.), etc. Be
脂肪族系環状炭化水素樹脂としては、いわゆる「C4石油留分」又は「C5石油留分」を環化二量体化した後に重合させた脂環式炭化水素系樹脂;環状ジエン化合物(シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン、ジペンテン等)の重合体又はその水素添加物;芳香族系炭化水素樹脂又は脂肪族・芳香族系石油樹脂の芳香環を水素添加した脂環式炭化水素系樹脂;などが挙げられる。 Alicyclic hydrocarbon-based resins obtained by cyclodimerization of a so-called “C4 petroleum fraction” or “C5 petroleum fraction” as an aliphatic cyclic hydrocarbon resin; and a cyclic diene compound (cyclopentadiene) , Polymers of dicyclopentadiene, ethylidene norbornene, dipentene etc.) or hydrogenated products thereof; alicyclic hydrocarbon resins obtained by hydrogenating the aromatic ring of an aromatic hydrocarbon resin or an aliphatic / aromatic petroleum resin; Etc.
粘着性付与樹脂は、軟化点(軟化温度)が80℃以上(好ましくは100℃以上)であることが好ましい。このような粘着性付与樹脂を用いることで、より高性能な(例えば、接着性の高い)粘着剤が得られる傾向にある。粘着性付与樹脂の軟化点の上限は特に制限されず、例えば200℃以下(好ましくは、180℃以下)とすることができる。なお、ここでいう粘着性付与樹脂の軟化点は、JIS K 5902:2006及びJIS K 2207:2006のいずれかに規定する軟化点試験方法(環球法)によって測定された値とする。 The tackifying resin preferably has a softening point (softening temperature) of 80 ° C. or more (preferably 100 ° C. or more). By using such a tackifying resin, a high-performance (for example, highly adhesive) adhesive tends to be obtained. The upper limit of the softening point of the tackifying resin is not particularly limited, and can be, for example, 200 ° C. or less (preferably, 180 ° C. or less). In addition, let the softening point of the tackifying resin here be the value measured by the softening point test method (ring and ball method) prescribed in either of JIS K 5902: 2006 and JIS K 2207: 2006.
粘着性付与樹脂の使用量は特に制限されず、目的とする粘着性能(接着力等)に応じて適宜設定することができる。例えば、固形分基準で、アクリル系ポリマー100質量部に対して、粘着性付与樹脂を10質量部〜100質量部(好ましくは15質量部〜80質量部、より好ましくは20質量部〜60質量部)の割合で使用することが好ましい。 The use amount of the tackifying resin is not particularly limited, and can be appropriately set according to the desired adhesive performance (adhesive strength and the like). For example, 10 parts by mass to 100 parts by mass (preferably 15 parts by mass to 80 parts by mass, more preferably 20 parts by mass to 60 parts by mass) of tackifying resin with respect to 100 parts by mass of acrylic polymer based on solid content It is preferable to use it in the ratio of
(3)ゴム系粘着剤
本明細書においてゴム系粘着剤は、ゴム系ポリマーをベースポリマーとする粘着剤を意味する。ゴム系ポリマーは特に制限されず、天然ゴム系ポリマー(変性天然ゴム系ポリマーを含む)であっても合成ゴム系ポリマーであってもよい。合成ゴム系ポリマーとしては、ABA型又はAB型のブロック共重合体(Aは熱可塑性ブロックを示し、Bはラバーブロックを示す。スチレン−イソプレン−スチレン共重合体(SIS)、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体(SBS)等が挙げられる)が挙げられる。ゴム系ポリマーは、天然ゴム系ポリマーと合成ゴム系ポリマーの組み合わせであってもよい。(3) Rubber-Based Pressure-Sensitive Adhesive As used herein, a rubber-based pressure-sensitive adhesive refers to a pressure-sensitive adhesive containing a rubber-based polymer as a base polymer. The rubber-based polymer is not particularly limited, and may be a natural rubber-based polymer (including a modified natural rubber-based polymer) or a synthetic rubber-based polymer. As a synthetic rubber polymer, a block copolymer of ABA type or AB type (A indicates a thermoplastic block, B indicates a rubber block. Styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS), styrene-butadiene-styrene And copolymers (SBS) and the like. The rubber-based polymer may be a combination of a natural rubber-based polymer and a synthetic rubber-based polymer.
ゴム系粘着剤が合成ゴム系ポリマーを含む場合、合成ゴム系ポリマーとしては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブチルゴム、ポリイソブチレン、スチレンブタジエンゴム(SBR)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS)等が挙げられる。 When the rubber-based adhesive contains a synthetic rubber-based polymer, examples of synthetic rubber-based polymers include polybutadiene, polyisoprene, butyl rubber, polyisobutylene, styrene butadiene rubber (SBR), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), etc. are mentioned.
ゴム系粘着剤が変性天然ゴム系ポリマーを含む場合、変性天然ゴム系ポリマーとしては、その50質量%以上(例えば60質量%以上)が天然ゴムに由来する構造部分であるものが好ましい。変性天然ゴム系ポリマーとしては、天然ゴム系ポリマーに他のモノマーをグラフトさせたグラフト変性天然ゴム系ポリマー等が挙げられる。天然ゴム系ポリマーにグラフトさせるモノマーとしては、アクリル系モノマー(アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するモノマー)、スチレン等が挙げられる。天然ゴム系ポリマーにグラフトさせるモノマーは、1種単独であっても2種以上であってもよい。 When the rubber-based pressure-sensitive adhesive contains a modified natural rubber-based polymer, it is preferable that 50% by mass or more (for example, 60% by mass or more) of the modified natural rubber-based polymer is a structural part derived from natural rubber. Examples of the modified natural rubber polymer include a graft modified natural rubber polymer in which another monomer is grafted to a natural rubber polymer. Examples of the monomer to be grafted onto the natural rubber polymer include acrylic monomers (monomers having an acryloyl group or methacryloyl group), styrene and the like. The monomers to be grafted onto the natural rubber polymer may be used alone or in combination of two or more.
天然ゴム系ポリマーにグラフトさせるアクリル系モノマーとしては、アルキルアクリレート(例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、t−ブチルアクリレート等のアルキル基の炭素原子数が1〜16であるアルキルアクリレート)、アルキルメタクリレート(例えば、メチルメタクリレート(MMA)、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート等のアルキル基の炭素原子数が1〜16であるアルキルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。
変性天然ゴム系ポリマーとしては、天然ゴム系ポリマーにグラフトさせるモノマーのうち50質量%以上がアクリル系モノマーであるもの(アクリル変性天然ゴム系ポリマー)が好ましい。Examples of acrylic monomers to be grafted onto natural rubber polymers include alkyl acrylates (for example, alkyl acrylates having 1 to 16 carbon atoms, such as methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate and t-butyl acrylate), alkyl Examples of the methacrylate include alkyl methacrylates having 1 to 16 carbon atoms, such as methyl methacrylate (MMA), ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate and t-butyl methacrylate, acrylic acid and methacrylic acid.
As the modified natural rubber polymer, one in which 50% by mass or more of the monomers to be grafted to the natural rubber polymer is an acrylic monomer (acrylic modified natural rubber polymer) is preferable.
ゴム系粘着剤のベースポリマーが天然ゴム系ポリマーである場合、天然ゴム系ポリマーとしては、例えば、MS(1+4)100℃(L型ロータ使用、予熱1分、粘度測定時間4分、試験温度100℃)の測定条件におけるムーニー粘度が10〜60程度であるものが好ましい。
他の一態様では、天然ゴム系ポリマーにメタクリル酸メチル(MMA)がグラフトしてなるアクリル変性天然ゴム系ポリマー(NR−MMAグラフト共重合体)が好ましい。かかるグラフト共重合体は、常法により製造することができ、市販品としても入手できる。NR−MMAグラフト共重合体におけるMMAのグラフト率(天然ゴムに結合したMMAの質量/グラフト化に使用した天然ゴムの質量×100(%)により表され、通常はNR−MMAグラフト共重合体の製造に用いた天然ゴムとMMAとの質量比から算出される値と同等である)は、例えば1%〜120%とすることができ、好ましくは5%〜100%であり、より好ましくは10%〜90%、さらに好ましくは30%〜80%である。グラフト化率は、好ましくは50%〜90%であり、より好ましくは60%〜80%である。グラフト化率が1%以上であると、粘着力が高くなりすぎるのが抑制され、グラフト化率が120%以下であると、SUS板等の被着体に対する粘着力が低くなりすぎるのが抑制される。NR−MMAグラフト共重合体の製造に用いるMMAは、その一部(例えば、天然ゴムにグラフトさせるモノマー全体の5質量%以下、典型的には3質量%以下)が他のモノマーに置き換えられていてもよい。When the base polymer of the rubber-based pressure-sensitive adhesive is a natural rubber-based polymer, as a natural rubber-based polymer, for example, MS (1 + 4) 100 ° C. (use of L type rotor, preheating 1 minute, viscosity measurement time 4 minutes, test temperature 100 Those having a Mooney viscosity of about 10 to 60 under the measurement conditions of ° C.) are preferable.
In another embodiment, an acrylic modified natural rubber polymer (NR-MMA graft copolymer) obtained by grafting methyl methacrylate (MMA) to a natural rubber polymer is preferable. Such graft copolymers can be produced by a conventional method, and can also be obtained as commercial products. Graft ratio of MMA in NR-MMA graft copolymer (mass of MMA bound to natural rubber / mass of natural rubber used for grafting x 100 (%), usually NR-MMA graft copolymer Can be, for example, 1% to 120%, preferably 5% to 100%, more preferably 10, which is equivalent to the value calculated from the mass ratio of the natural rubber used in the production and MMA. % To 90%, more preferably 30% to 80%. The grafting rate is preferably 50% to 90%, more preferably 60% to 80%. When the grafting ratio is 1% or more, the adhesion is prevented from becoming too high, and when the grafting ratio is 120% or less, the adhesion to the adherend such as the SUS plate is prevented from being too low. Be done. MMA used for production of the NR-MMA graft copolymer is partially substituted with other monomers (for example, 5% by mass or less, typically 3% by mass or less of the total monomers to be grafted on natural rubber) May be
ゴム系粘着剤は、ベースポリマーに加えて他のポリマー(以下、副ポリマーともいう)を含んでもよい。副ポリマーとしては、公知のアクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤等のベースポリマーとなり得るアクリル系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリウレタン系ポリマー、シリコーンポリマーなどが挙げられる。あるいは、上述したゴム系ポリマーのうちベースポリマー以外のものであってもよい。ゴム系粘着剤に含まれる副ポリマーは、1種単独でも2種以上であってもよい。ベースポリマーと副ポリマーの組み合わせとしては、ベースポリマーとしての天然ゴム系ポリマーと副ポリマーとしてのNR−MMAグラフト共重合体との組合せ、ベースポリマーとしてのNR−MMAグラフト共重合体と副ポリマーとしての天然ゴム系ポリマーとの組合せ等が挙げられる。 The rubber-based pressure-sensitive adhesive may contain, in addition to the base polymer, another polymer (hereinafter also referred to as a subpolymer). Examples of the secondary polymer include acrylic polymers, polyester polymers, polyurethane polymers, silicone polymers, etc. that can be base polymers such as known acrylic adhesives, polyester adhesives, polyurethane adhesives, silicone adhesives, etc. . Alternatively, the rubber-based polymer described above may be other than the base polymer. The auxiliary polymer contained in the rubber-based pressure-sensitive adhesive may be one kind alone or two or more kinds. As a combination of a base polymer and a subpolymer, a combination of a natural rubber-based polymer as a base polymer and an NR-MMA graft copolymer as a subpolymer, an NR-MMA graft copolymer as a base polymer and as a subpolymer Examples include combinations with natural rubber polymers and the like.
ゴム系粘着剤がベースポリマーと副ポリマーとを含む場合、副ポリマーは、ベースポリマー100質量部に対して100質量部以下の使用量(副ポリマーが2種以上である場合は、その合計)で用いられる。通常は、ベースポリマー100質量部に対する副ポリマーの使用量を70質量部以下とすることが適当であり、50質量部以下とすることが好ましい。ゴム系粘着剤は、副ポリマーを実質的に含まない(すなわち、ポリマー成分の実質的に100質量%がベースポリマーである)ものであってもよい。また、ゴム系ポリマー以外のポリマー成分を実質的に含有しないゴム系粘着剤(例えば、天然ゴム及び変性天然ゴム以外のポリマー成分を実質的に含有しないゴム系粘着剤)であってもよい。 When the rubber-based pressure-sensitive adhesive contains a base polymer and a secondary polymer, the secondary polymer is used in an amount of 100 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the base polymer (the total of two or more secondary polymers) Used. In general, the amount of the auxiliary polymer used is suitably 70 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the base polymer. The rubber-based pressure sensitive adhesive may be substantially free of the secondary polymer (ie, substantially 100% by weight of the polymer component is the base polymer). In addition, a rubber-based pressure-sensitive adhesive that does not substantially contain a polymer component other than a rubber-based polymer (for example, a rubber-based pressure-sensitive adhesive that does not substantially contain a polymer component other than natural rubber and modified natural rubber) may be used.
ゴム系粘着剤は、ポリマー成分に加えて粘着性付与剤を含んでもよい。特に、ポリマー成分としてそれ自体の粘着性が低い天然ゴム系ポリマーを含む場合は、粘着性付与剤を含むことにより多くの種類の被着体に対して高い粘着性を示すことが可能となる。ゴム系粘着剤が粘着性付与剤を含む場合、粘着性付与剤としては、例えば、アクリル系粘着剤に含まれてよい粘着性付与樹脂として例示したものが挙げられる。 The rubber-based pressure-sensitive adhesive may contain a tackifier in addition to the polymer component. In particular, in the case where the polymer component contains a natural rubber-based polymer having low tackiness of itself, the inclusion of the tackifier enables to exhibit high tackiness to many kinds of adherends. When the rubber-based pressure-sensitive adhesive contains a tackifier, examples of the tackifier include those exemplified as the tackifying resin which may be contained in the acrylic pressure-sensitive adhesive.
ゴム系粘着剤がポリマー成分と粘着性付与剤とを含む場合、粘着性付与剤の使用量(粘着性付与剤が2種以上である場合はその合計)は、例えば、ポリマー成分100質量部に対して20質量部〜150質量部(好ましくは30質量部〜100質量部)とすることができる。粘着性付与剤の使用量が20質量部以上であると、リードフレーム等の被着体に対する粘着力が充分に得られる傾向にある。一方、粘着性付与剤の使用量が150質量部以下であると、リードフレーム等の被着体に対する粘着力(特に、低温環境下における粘着力)が充分に得られる傾向にある。 When the rubber-based pressure-sensitive adhesive contains a polymer component and a tackifier, the amount of the tackifier used (the total amount of two or more tackifiers) is, for example, 100 parts by mass of the polymer component The amount can be 20 parts by mass to 150 parts by mass (preferably 30 parts by mass to 100 parts by mass). If the amount of the tackifier used is 20 parts by mass or more, adhesion to an adherend such as a lead frame tends to be sufficiently obtained. On the other hand, when the amount of tackifier used is 150 parts by mass or less, adhesion to an adherend such as a lead frame (particularly, adhesion in a low temperature environment) tends to be sufficiently obtained.
ゴム系粘着剤を基材上に付与する方法は、特に制限されない。例えば、適当な媒体中にゴム系粘着剤となる成分を溶解又は分散した粘着剤組成物を基材に塗付して乾燥させることにより基材上に直接粘着剤層を形成する方法、剥離性を有する表面上に形成した粘着剤層を基材に転写する方法、等の公知の方法を適宜採用することができる。粘着剤組成物は、例えば、ポリマー成分と、典型的には粘着性付与剤と、必要に応じて用いられる他の成分と、上記媒体とを、常法により混合して調製することができる。 The method for applying the rubber-based pressure-sensitive adhesive on the substrate is not particularly limited. For example, a method of forming a pressure-sensitive adhesive layer directly on a substrate by applying to a substrate a pressure-sensitive adhesive composition in which a component to be a rubber-based pressure-sensitive adhesive is dissolved or dispersed in a suitable medium and drying it A known method such as a method of transferring the pressure-sensitive adhesive layer formed on the surface having a surface to a substrate can be appropriately adopted. The pressure-sensitive adhesive composition can be prepared, for example, by mixing the polymer component, typically a tackifier, other components which are optionally used, and the above-mentioned medium according to a conventional method.
ゴム系粘着剤は、必要に応じて加硫促進剤を含んでもよい。加硫促進剤としては、ジチオカルバミン酸類(ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛等)、チアゾール類(2−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド等)、グアニジン類(ジフェニルグアニジン、ジ−o−トリルグアニジン等)、スルフェンアミド類(ベンゾチアジル−2−ジエチルスルフェンアミド、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド等)、チウラム類(テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等)、キサントゲン酸類(イソプロピルキサントゲン酸ナトリウム、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛等)、アルデヒドアンモニア類(アセトアルデヒドアンモニア、ヘキサメチレンテトラミン等)、アルデヒドアミン類(n−ブチルアルデヒドアニリン、ブチルアルデヒドモノブチルアミン等)、チオウレア類(ジエチルチオウレア、トリメチルチオウレア等)などが用いられる。ゴム系粘着剤に含まれる加硫促進剤は、1種単独でも2種以上であってもよい。例えば、ジチオカルバミン酸類とチウラム類とを併用してもよい。加硫促進剤の使用量は、例えば、ポリマー成分100質量部に対して0.1質量部〜10質量部(好ましくは0.5質量部〜5質量部)とすることができる。 The rubber pressure-sensitive adhesive may contain a vulcanization accelerator, if necessary. As a vulcanization accelerator, dithiocarbamates (sodium dimethyldithiocarbamate, sodium diethyldithiocarbamate, zinc dimethyldithiocarbamate, zinc diethyldithiocarbamate, etc.), thiazoles (2-mercaptobenzothiazole, dibenzothiazyl disulfide, etc.), guanidines (Diphenylguanidine, di-o-tolyl guanidine, etc.), Sulfenamides (benzothiazyl-2-diethylsulfenamide, N-cyclohexyl-2-benzothiazylsulfenamide etc.), Thiurams (Tetramethylthiuram monosulfide, etc.) , Tetramethylthiuram disulfide, etc., xanthogenic acids (sodium isopropyl xanthate, zinc isopropyl xanthate etc.), aldehydes ammonia (aceto) Aldehyde ammonia, hexamethylenetetramine, etc.), aldehydes amines (n- butyraldehyde aniline, butyraldehyde monobutylamine, etc.), thioureas (diethyl thiourea, trimethyl thiourea, etc.) and the like. The vulcanization accelerator contained in the rubber-based pressure-sensitive adhesive may be one kind alone or two or more kinds. For example, dithiocarbamic acids and thiurams may be used in combination. The use amount of the vulcanization accelerator can be, for example, 0.1 parts by mass to 10 parts by mass (preferably 0.5 parts by mass to 5 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the polymer component.
ゴム系粘着剤は、必要に応じて架橋剤を含んでもよい。架橋剤としては、イソシアネート化合物、イオウ、含イオウ化合物、フェノール樹脂、有機金属化合物等が挙げられる。架橋剤としてはイソシアネート化合物が好ましく、2官能以上のイソシアネート化合物がより好ましい。2官能以上のイソシアネート化合物としては、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(日本ポリウレタン工業株式会社製、商品名「コロネートL」)、トリメチロールプロパン/ヘキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(日本ポリウレタン工業株式会社製、商品名コロネートHL)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(日本ポリウレタン工業株式会社製、商品名「コロネートHX」)等のイソシアネート付加物;などが挙げられる。ゴム系粘着剤に含まれる架橋剤は、1種単独でも2種以上であってもよい。架橋剤の使用量(イソシアネート化合物の場合)は、ポリマー成分100質量部に対して0.3質量部〜10質量部(例えば0.5質量部〜5質量部)とすることが好ましい。 The rubber-based pressure-sensitive adhesive may optionally contain a crosslinking agent. As a crosslinking agent, an isocyanate compound, sulfur, a sulfur-containing compound, a phenol resin, an organic metal compound etc. are mentioned. As a crosslinking agent, an isocyanate compound is preferable, and a bifunctional or more functional isocyanate compound is more preferable. As the bifunctional or higher isocyanate compounds, lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylenediocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate Aromatic diisocyanates such as 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Corronate L"), trimethylolpropane / Hexamethylene diisocyanate trimer adduct (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name: Coronate HL), hexamethylene diisocyanate Isocyanurate body (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name "Coronate HX") isocyanate adducts of the like; and the like. The crosslinking agent contained in the rubber-based pressure-sensitive adhesive may be one kind alone, or two or more kinds. The amount of the crosslinking agent used (in the case of the isocyanate compound) is preferably 0.3 parts by mass to 10 parts by mass (for example, 0.5 parts by mass to 5 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the polymer component.
ゴム系粘着剤は、必要に応じて加硫促進助剤を含んでもよい。加硫促進助剤としては、ステアリン酸亜鉛等が挙げられる。加硫促進助剤を用いることで、加硫促進剤を活性にし、加硫効率を促進することができる。加硫促進助剤を含む場合、その使用量は、例えば、ポリマー成分100質量部に対して0.1質量部〜10質量部(好ましくは0.5質量部〜5質量部)とすることができる。 The rubber-based pressure-sensitive adhesive may contain a vulcanization acceleration auxiliary, if necessary. Examples of the vulcanization acceleration assistant include zinc stearate and the like. By using a vulcanization acceleration auxiliary, the vulcanization accelerator can be activated to accelerate the vulcanization efficiency. When the vulcanization accelerating auxiliary is contained, the amount used may be, for example, 0.1 parts by mass to 10 parts by mass (preferably 0.5 parts by mass to 5 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the polymer component. it can.
ゴム系粘着剤は、必要に応じて添加剤を含んでもよい。添加剤としては、軟化剤、難燃剤、帯電防止剤、光安定剤(ラジカル捕捉剤、紫外線吸収剤等)、酸化防止剤などが挙げられる。 The rubber-based pressure-sensitive adhesive may contain an additive as required. Examples of the additive include a softener, a flame retardant, an antistatic agent, a light stabilizer (a radical scavenger, an ultraviolet absorber and the like), an antioxidant and the like.
(4)ウレタン系粘着剤
本明細書においてウレタン系粘着剤は、ウレタンポリマーをベースポリマーとする粘着剤を意味する。ウレタンポリマーとしては、ポリオールとポリイソシアネート化合物を反応させて得られるポリマーが挙げられ、ポリオールと、過剰量のポリイソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマー(以下、「末端NCOプレポリマー」と称する)が好ましい。末端NCOプレポリマーは、各種のポリオールと、過剰量のポリイソシアネート化合物とを、例えば、OHとNCOの当量比(OHの数/NCOの数)が1/1.2〜3.5となるように反応させることにより合成することができる。反応は、必要により適当な反応触媒(ジブチル錫ジラウレート等の有機錫系触媒、オクチル酸ビスマス等のビスマス系触媒、1,4−ジアザ[2.2.2]ビシクロオクタン等の三級アミン系触媒など)の存在下で、例えば、20℃〜90℃(好ましくは60℃〜90℃)で1時間〜7時間の条件で行うことができる。(4) Urethane-Based Pressure-Sensitive Adhesive As used herein, a urethane-based pressure-sensitive adhesive means a pressure-sensitive adhesive having a urethane polymer as a base polymer. Examples of the urethane polymer include polymers obtained by reacting a polyol and a polyisocyanate compound, and a terminal isocyanate group-containing urethane prepolymer obtained by reacting a polyol and an excess amount of a polyisocyanate compound (hereinafter referred to as “terminal NCO” Preferred are "prepolymers". The terminal NCO prepolymer is such that, for example, the equivalent ratio of OH to NCO (number of OH / number of NCO) becomes 1 / 1.2-3.5, with various polyols and excess polyisocyanate compound. Can be synthesized by reacting with The reaction may be carried out using an appropriate reaction catalyst (organotin-based catalyst such as dibutyltin dilaurate, bismuth-based catalyst such as bismuth octylate), or tertiary amine-based catalyst such as 1,4-diaza [2.2.2] bicyclooctane. And the like, for example, at 20 ° C. to 90 ° C. (preferably 60 ° C. to 90 ° C.) for 1 hour to 7 hours.
末端NCOプレポリマーにおける末端イソシアネート基(NCO)の含有量は、プレポリマーの貯蔵安定性及び硬化物の柔軟性の観点から、0.2質量%〜15.0質量%であることが好ましく、0.5質量%〜3.5質量%であることがより好ましい。末端NCOプレポリマーの数平均分子量は、通常、3,000〜50,000であり、ハンドリングの観点から、4,000〜30,000であることが好ましい。 The content of terminal isocyanate group (NCO) in the terminal NCO prepolymer is preferably 0.2% by mass to 15.0% by mass from the viewpoint of storage stability of the prepolymer and flexibility of a cured product, and 0 It is more preferable that it is 0.5 mass%-3.5 mass%. The number average molecular weight of the terminal NCO prepolymer is usually 3,000 to 50,000, and preferably 4,000 to 30,000 from the viewpoint of handling.
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ショ糖等の多価アルコールにプロピレンオキサイド又はプロピレンオキサイドと、エチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドと、を付加重合したポリエーテルポリオール類;エチレングリコール、プロピレングリコール及びこれらのオリゴグリコール類;ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、及びポリテトラメチレンエーテルグリコール;ポリカプロラクトンポリオール;ポリエチレンアジペート等のポリエステルポリオール類;ポリブタジエンポリオール類;ヒマシ油等のヒドロキシ基を有する高級脂肪酸エステル類;ポリエーテルポリオール類又はポリエステルポリオール類にビニルモノマーをグラフト化したポリマーポリオール類;などが挙げられる。ウレタンポリマーの合成に用いるポリオールは、1種単独でも2種以上であってもよい。 As a polyol, a polyether obtained by addition polymerizing propylene oxide or propylene oxide and an alkylene oxide such as ethylene oxide to a polyhydric alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol or sucrose Polyols; ethylene glycol, propylene glycol and their oligoglycols; butylene glycol, hexylene glycol, and polytetramethylene ether glycol; polycaprolactone polyol; polyester polyols such as polyethylene adipate; polybutadiene polyols; hydroxy such as castor oil Group fatty acid esters; polyether polyols or polyester polyols Polymer polyols grafted vinyl monomer; and the like. The polyols used for the synthesis of the urethane polymer may be one kind alone or two or more kinds.
ポリオールは、ポリマーであってもよい。ポリオールがポリマーである場合、その数平均分子量は、反応性、作業性の観点から、500〜20,000であることが好ましく、1,000〜20,000であることがより好ましい。
発泡抑制、作業性、硬化性及び物性の安定性の観点からは、とりわけ、後述する特定の硬化触媒と組み合わせた際にこれらの特性の優れたバランスが得られる観点から、ポリオールは、プロピレンオキサイドの付加物としてのポリオキシアルキレンポリオールであるか、プロピレンオキサイドとエチレンオキサイドの付加物としてのポリオキシアルキレンポリオールであることが好ましい。実用性の観点からは、プロピレンオキサイドの付加物としてのポリオキシアルキレンポリオール(即ちポリプロピレンポリオール)がより好ましく、ポリプロピレングリコールがさらに好ましい。The polyol may be a polymer. When the polyol is a polymer, the number average molecular weight is preferably 500 to 20,000, and more preferably 1,000 to 20,000, from the viewpoint of reactivity and workability.
From the viewpoint of obtaining an excellent balance of these properties when combined with a specific curing catalyst described later, from the viewpoint of foam suppression, workability, curability and stability of physical properties, the polyol is a propylene oxide It is preferable that it is a polyoxyalkylene polyol as an adduct or a polyoxyalkylene polyol as an adduct of propylene oxide and ethylene oxide. From the viewpoint of practicability, polyoxyalkylene polyols (that is, polypropylene polyols) as adducts of propylene oxide are more preferable, and polypropylene glycols are more preferable.
ポリオールは、ロジンジオールであってもよい。ロジンジオールを使用することにより、粘着剤の粘着力がより優れたものになる。ロジンジオールは、分子内にロジン骨格と水酸基とを各々2個有するジオールである。
ロジンジオールとしては、ロジンと多価アルコールとを反応させて得られるロジンエステル、ロジンとビスフェノールAジグリシジルエーテル等との反応物などが挙げられる。これらのロジンジオールは、従来から既知の方法によって製造できる。
ロジンジオールのなかでも、NCO末端プレポリマーとの相溶性の観点からは、ポリオキシアルキレン骨格を有するものが好ましい。ポリオキシアルキレン骨格を有するロジンジオールの市販品としては、パインクリスタルD−6011、KE−615−3、D−6250(いずれも荒川化学工業株式会社)等が挙げられる。The polyol may be a rosin diol. By using a rosin diol, the tackiness of the pressure sensitive adhesive becomes better. The rosin diol is a diol having two rosin skeleton and two hydroxyl groups in the molecule.
Examples of rosin diols include rosin esters obtained by reacting rosin with polyhydric alcohol, and reaction products of rosin with bisphenol A diglycidyl ether and the like. These rosin diols can be produced by conventionally known methods.
Among the rosin diols, those having a polyoxyalkylene skeleton are preferable from the viewpoint of compatibility with the NCO-terminated prepolymer. As a commercial item of the rosin diol which has polyoxyalkylene frame | skeleton, pine crystal D-6011, KE-615-3, D-6250 (all are Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) etc. are mentioned.
ロジンジオールは、他のポリオールと併用することが好ましい。他のポリオールとしては、ポリプロピレングリコールが好ましい。ロジンジオールと他のポリオールとを併用する場合、ロジンジオールの使用量は、硬化後の性状の観点から、ポリオール全量の50質量%以下であることが好ましく、2質量%〜30質量%であることがより好ましく、3質量%〜15質量%であることがさらに好ましい。 The rosin diol is preferably used in combination with other polyols. Polypropylene glycol is preferred as the other polyol. When using rosin diol and another polyol in combination, the amount of rosin diol used is preferably 50% by mass or less of the total amount of the polyol, and 2% by mass to 30% by mass from the viewpoint of the properties after curing. Is more preferable, and 3% by mass to 15% by mass is more preferable.
ポリオールは、多官能ポリオールであってもよい。例えば、4官能以上(好ましくは4官能〜8官能)の多官能ポリオールを使用することで、粘着剤の硬化後の粘着力(ピール強度)がより優れたものになる。 The polyol may be a multifunctional polyol. For example, by using a tetrafunctional or higher (preferably tetrafunctional to 8-functional) polyfunctional polyol, the adhesive strength (peel strength) after curing of the pressure-sensitive adhesive becomes more excellent.
多官能ポリオールとしては、テトラオール(ペンタエリスリトール、ジグリセリン等)、ペンタオール(トリグリセリン、ガラクトース等)、ヘキサオール(ジペンタエリスリトール、ソルビトール等)、ヘプタオール、オクタオール(トリペンタエリスリトール、ショ糖等)、これらの多官能ポリオールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等を付加したものなどが挙げられる。汎用性と効果の観点からは、ペンタエリスリトールのアルコキシド付加物が好ましい。これらの多官能ポリオールは従来から既知の方法によって製造でき、市販品としても入手できる。多官能ポリオールの市販品としては、EL−410NE(旭硝子株式会社)、POLYPL 4525(Perstorp Specialty Chemicals AB社)等が挙げられる。 Examples of polyfunctional polyols include tetraols (pentaerythritol, diglycerin, etc.), pentaols (triglycerin, galactose, etc.), hexaols (dipentaerythritol, sorbitol, etc.), heptaols, octaols (tripentaerythritol, sucrose, etc. And those obtained by adding ethylene oxide, propylene oxide or the like to these polyfunctional polyols. From the viewpoint of versatility and effects, alkoxide adducts of pentaerythritol are preferred. These polyfunctional polyols can be produced by conventionally known methods, and can also be obtained as commercial products. Examples of commercially available polyfunctional polyols include EL-410NE (Asahi Glass Co., Ltd.) and POLYPL 4525 (Perstorp Specialty Chemicals AB).
多官能ポリオールは、ポリマーであってもよい。多官能ポリオールがポリマーである場合、その数平均分子量は、通常、100〜2,000であり、性状及び反応性の観点からは、300〜700であることが好ましい。 The multifunctional polyol may be a polymer. When the polyfunctional polyol is a polymer, the number average molecular weight thereof is usually 100 to 2,000, and preferably 300 to 700 from the viewpoints of properties and reactivity.
多官能ポリオールは、他のポリオールと併用することが好ましい。他のポリオールとしては、ポリプロピレングリコールが好ましく、ポリプロピレングリコールとロジンジオールの組み合わせがより好ましい。多官能ポリオールを他のポリオールと併用する場合、多官能ポリオールの使用量は、硬化物(粘着体)の柔軟性の観点からは、多官能ポリオールの水酸基の数がポリオール全体の水酸基の数の60%以下となる量であることが好ましく、5%〜20%となる量であることがより好ましい。 The polyfunctional polyol is preferably used in combination with other polyols. As another polyol, polypropylene glycol is preferable, and a combination of polypropylene glycol and rosin diol is more preferable. When a polyfunctional polyol is used in combination with other polyols, the amount of the polyfunctional polyol used is such that the number of hydroxyl groups of the polyfunctional polyol is 60 of the number of hydroxyl groups of the entire polyol from the viewpoint of the flexibility of the cured product (adhesive). The amount is preferably at most%, and more preferably at 5% to 20%.
ポリイソシアネート化合物は特に制限されず、芳香族、脂肪族又は脂環族に属する任意のものであってよい。具体的には、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、3,3’−ジメチル−4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、クルードTDI、ポリメチレン・ポリフェニルイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。また、これらのポリイソシアネート化合物のイソシアヌレート化物、カルボジイミド化物、ビューレット化物等であってもよい。ウレタンポリマーの合成に用いるポリイソシアネート化合物は、1種単独でも2種以上であってもよい。なかでも、プレポリマーの性状、硬化後の柔軟性、非黄変性及び安全性の観点からは、IPDIが好ましい。 The polyisocyanate compound is not particularly limited, and may be any of aromatic, aliphatic or alicyclic. Specifically, tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), 3,3'-dimethyl-4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, Naphthylene diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, crude TDI, polymethylene polyphenyl isocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI), hexamethylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, etc. may be mentioned. In addition, it may be isocyanurate, carbodiimide, biuret, etc. of these polyisocyanate compounds. The polyisocyanate compound used for the synthesis of the urethane polymer may be one kind alone or two or more kinds. Among them, IPDI is preferred in view of the properties of the prepolymer, flexibility after curing, non-yellowing and safety.
ポリイソシアネート化合物は、3官能以上(好適には3官能〜6官能)の多官能ポリイソシアネートを含むことが好ましい。3官能以上の多官能ポリイソシアネートを使用することで、粘着剤の硬化後の粘着力(ピール強度)がより優れたものになる。
多官能ポリイソシアネートの市販品としては、コロネートHX(脂環族ポリイソシアネート、日本ポリウレタン工業株式会社)、タケネートD−170N(脂環族ポリイソシアネート、武田薬品株式会社)、スミジュールN−3500(脂肪族ポリイソシアネート、住化バイエルウレタン株式会社)、スミジュールN−3200(脂肪族ポリイソシアネート、住化バイエルウレタン株式会社)、デュラネート24A−100及びデュラネートE−405−80T(旭化成ケミカルズ株式会社)等が挙げられる。The polyisocyanate compound preferably contains a trifunctional or higher (preferably trifunctional to hexafunctional) polyfunctional polyisocyanate. By using a trifunctional or higher polyfunctional polyisocyanate, the adhesive strength (peel strength) after curing becomes more excellent.
Commercially available polyfunctional polyisocyanates include Coronate HX (alicyclic polyisocyanate, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), Takenate D-170N (alicyclic polyisocyanate, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Semidur N-3500 (fat Family polyisocyanates, Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., Sumidul N-3200 (aliphatic polyisocyanate, Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.), Duranate 24A-100, Duranate E-405-80T (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), etc. It can be mentioned.
多官能ポリイソシアネート化合物は、他のポリイソシアネート化合物と併用することが好ましい。他のポリイソシアネート化合物としては、IPDIが好ましい。多官能ポリイソシアネート化合物と他のポリイソシアネート化合物とを併用する場合、多官能ポリイソシアネート化合物の使用量は、反応後の性状の観点から、多官能ポリイソシアネート化合物のNCO基の数がポリイソシアネート化合物全体のNCO基の数の60%以下となる量であることが好ましく、5%〜20%となる量であることがより好ましい。 The multifunctional polyisocyanate compound is preferably used in combination with another polyisocyanate compound. IPDI is preferable as another polyisocyanate compound. When using a polyfunctional polyisocyanate compound and another polyisocyanate compound in combination, the amount of the polyfunctional polyisocyanate compound used is the total number of NCO groups in the polyfunctional polyisocyanate compound from the viewpoint of the properties after the reaction. The amount is preferably 60% or less of the number of NCO groups, and more preferably 5% to 20%.
末端NCOプレポリマーは、必要に応じて、ポリオールと、過剰量のポリイソシアネート化合物と、モノオールを反応させて得ることができる。この場合、粘着剤の硬化後の粘着力(ピール強度)がより優れたものになる。 The terminal NCO prepolymer can be obtained, as required, by reacting a polyol, an excess amount of a polyisocyanate compound and a monool. In this case, the adhesive strength (peel strength) after curing of the adhesive is more excellent.
モノオールとしては、ポリオキシアルキレン系モノオール、ポリエステルモノオール、ポリエーテル・エステルモノオール、高級飽和モノオール、エチレン性不飽和二重結合を有するモノオール等が挙げられる。モノオールを使用する場合は、1種単独でも2種以上であってもよい。 Examples of monools include polyoxyalkylene monools, polyester monools, polyether / ester monools, higher saturated monools, monools having an ethylenically unsaturated double bond, and the like. When monool is used, it may be one kind alone or two or more kinds.
ポリオキシアルキレン系モノオールとしては、活性水素を1個含有するアルキル化合物等を開始剤として、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン等のアルキレンオキサイドを開環付加重合させた、分子内に水酸基を1個含有する高分子量のポリオキシアルキレン系モノオールなどが挙げられる。
ポリエステルモノオールとしては、例えば、既知のポリエステルポリオールの末端水酸基のアルキル化変性物、モノヒドロキシ化合物を開始剤として環状ラクトン化合物を開環付加共重合反応又はエステル化反応させて得られるラクトン系ポリエステルモノオール、多価アルコールと、飽和脂肪酸又は(メタ)アクリル酸、桂皮酸若しくは炭素数10以上の高級不飽和脂肪酸であるオレイン酸、リノール酸、リノレン酸等のエチレン性不飽和二重結合を有するカルボン酸と、から得られるエステルモノオールなどが挙げられる。
ポリエーテル・エステルモノオールとしては、脂肪酸エステルモノオールに前記(モノ)アルキレンオキサイドを付加重合させた、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステルモノオール等が挙げられる。
高級飽和モノオールとしては、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の炭素数10以上の直鎖状で一価の高級飽和アルコールなどが挙げられる。
エチレン性不飽和二重結合を有するモノオールとしては、オレイルアルコール、リノレイルアルコール、リノレニルアルコール等の炭素数10以上の直鎖状で一価の高級不飽和アルコール、アリルアルコールなどが挙げられる。
なかでも、汎用及び安全性の観点から、ポリオキシアルキレン系モノオールが好ましくポリオキシプロピレンアルキルエーテルがより好ましい。
モノオールは、ポリマーであってもよい。モノオールがポリマーである場合、その数平均分子量は、例えば100〜10,000であってよく、汎用性及びハンドリングの観点からは500〜10,000であることが好ましい。
ポリマーであるモノオールの市販品としては、PML−S1004F(旭硝子株式会社)等が挙げられる。
ポリマーであるモノオールを使用する場合、その使用量は、硬化後の性能の観点から、ポリオール全量に対して5質量%〜50質量%であることが好ましく、5質量%〜30質量%であることがより好ましい。As a polyoxyalkylene monool, ring-opening addition polymerization of an alkylene oxide such as ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran or the like using an alkyl compound containing one active hydrogen as an initiator, hydroxyl group in the molecule And high molecular weight polyoxyalkylene monools containing one.
Examples of polyester monools include alkylated modified products of terminal hydroxyl groups of known polyester polyols, and lactone-based polyester mono-esters obtained by subjecting a cyclic lactone compound to ring-opening addition copolymerization reaction or esterification reaction using a monohydroxy compound as an initiator. Carols, polyalcohols, and carboxylic acids having an ethylenically unsaturated double bond such as saturated fatty acid or (meth) acrylic acid, cinnamic acid, oleic acid which is a higher unsaturated fatty acid having 10 or more carbon atoms, linoleic acid, linolenic acid, etc. And esters and monools obtained from acids and the like.
Examples of the polyether / ester monool include polyoxyalkylene fatty acid ester monool obtained by addition-polymerizing the (mono) alkylene oxide to fatty acid ester monool.
Examples of higher saturated monools include linear, monovalent, higher saturated alcohols having 10 or more carbon atoms such as lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol and stearyl alcohol.
Examples of monools having an ethylenically unsaturated double bond include linear and monovalent higher unsaturated alcohols having 10 or more carbon atoms such as oleyl alcohol, linoleyl alcohol and linolenyl alcohol, allyl alcohol and the like .
Among them, from the viewpoint of general purpose and safety, polyoxyalkylene monools are preferable, and polyoxypropylene alkyl ether is more preferable.
The monool may be a polymer. When the monool is a polymer, its number average molecular weight may be, for example, 100 to 10,000, and preferably 500 to 10,000 from the viewpoint of versatility and handling.
As a commercial item of monool which is a polymer, PML-S1004F (Asahi Glass Co., Ltd.) etc. are mentioned.
When monool as a polymer is used, the amount used is preferably 5% by mass to 50% by mass, and 5% by mass to 30% by mass, with respect to the total amount of the polyol, from the viewpoint of performance after curing. Is more preferred.
ウレタン系粘着剤は、必要に応じて粘着性付与剤を含んでもよい。粘着性付与剤は、ウレタン系粘着剤に粘着性を付与することができるか、粘着性を向上させることができるものであれば特に限定されない。粘着性付与剤としては、例えば、アクリル系粘着剤に含まれてもよい粘着性付与樹脂として上述したものが挙げられる。 The urethane-based pressure-sensitive adhesive may contain a tackifier, if necessary. The tackifier is not particularly limited as long as it can impart tackiness to the urethane-based pressure-sensitive adhesive or can improve the tackiness. Examples of the tackifier include those described above as the tackifying resin which may be contained in the acrylic pressure-sensitive adhesive.
ウレタン系粘着剤が粘着性付与剤を含む場合、その含有量は、硬化後の物性と性能のバランスの観点から、粘着剤組成物全量の10質量%〜60質量%であることが好ましく、10質量%〜50質量%であることがより好ましい。 When the urethane-based pressure-sensitive adhesive contains a tackifier, the content thereof is preferably 10% by mass to 60% by mass of the total amount of the pressure-sensitive adhesive composition, from the viewpoint of the balance between physical properties after curing and performance. It is more preferable that it is mass%-50 mass%.
ウレタン系粘着剤は、必要に応じて反応性単官能化合物を含んでもよい。反応性単官能化合物を含むことで、粘着剤の硬化後の粘着力(ピール強度)がより優れたものになる。 The urethane-based pressure-sensitive adhesive may contain a reactive monofunctional compound as required. By including the reactive monofunctional compound, the adhesive strength (peel strength) after curing becomes more excellent.
反応性単官能化合物は、ウレタン反応において反応性を有する単官能化合物であって、粘着剤の硬化後の粘着力(ピール強度)を向上させることができるものであれば特に限定されない。具体的には、末端NCOプレポリマーの合成に用いてもよいモノオールとして上述したモノオール、単官能イソシアネート化合物(モノオールとジイソシアネートの反応物等)、その他のウレタン反応が可能な単官能組成物(アミン、アミド、チオール、カルボン酸等)などが挙げられる。使用される反応性単官能化合物は、1種単独であっても2種以上であってもよい。安全性及び汎用性の観点からは、単官能イソシアネート化合物が好ましく、モノオールとジイソシアネートの反応物がより好ましい。モノオールとジイソシアネートの反応物としては、バイエル社の商品名「アディティブTI」等が挙げられる。 The reactive monofunctional compound is not particularly limited as long as it is a monofunctional compound having reactivity in a urethane reaction and can improve the adhesive strength (peel strength) after curing of the pressure-sensitive adhesive. Specifically, monools mentioned above as monools which may be used for synthesis of terminal NCO prepolymers, monofunctional isocyanate compounds (reactants of monools and diisocyanates, etc.), and other monofunctional compositions capable of urethane reaction (Amine, amide, thiol, carboxylic acid, etc.) and the like. The reactive monofunctional compounds used may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of safety and versatility, monofunctional isocyanate compounds are preferable, and a reactant of monool and diisocyanate is more preferable. As a reaction product of monool and diisocyanate, the trade name "Additive TI" of Bayer AG and the like can be mentioned.
ウレタン系粘着剤が反応性単官能化合物を含む場合、その使用量は、硬化後の性能の観点から、粘着剤全量の5質量%〜50質量%であることが好ましく、5質量%〜30質量%であることがより好ましい。 When the urethane-based pressure-sensitive adhesive contains a reactive monofunctional compound, the amount used is preferably 5% by mass to 50% by mass, and 5% by mass to 30% by mass from the viewpoint of the performance after curing. More preferably, it is%.
ウレタン系粘着剤は、必要に応じて添加剤を含んでもよい。添加剤としては、ウレタン触媒、可塑剤(アクリル酸エステル系可塑剤、フタル酸ジエステル類、エポキシ化ヘキサヒドロフタル酸ジエステル類、アルキレンジカルボン酸ジエステル類、アルキルベンゼン類等)、充填剤(重質炭酸カルシウム、脂肪酸処理炭酸カルシウム、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、カーボンブラック、タルク、酸化チタン、バルーン、ビーズ等)、酸化防止剤(ヒンダードフェノール類等)、難燃剤、揺変性付与剤(コロイダルシリカ、有機ベントナイト、脂肪酸アマイド、ポリアマイドワックス、水添ひまし油等)、紫外線吸収剤(ベンゾトリアゾール類、ヒンダードアミン類等)、老化防止剤(ヒンダードフェノール類、メルカプタン類、スルフィド類、ジチオカルボン酸塩類、チオウレア類、チオホスフェイト類、チオアルデヒド類等)、密着剤(エポキシ化合物、シランカップリング剤等)、脱水剤などが挙げられる。 The urethane-based pressure-sensitive adhesive may optionally contain an additive. Additives include urethane catalysts, plasticizers (acrylic acid ester plasticizers, phthalic acid diesters, epoxidized hexahydrophthalic acid diesters, alkylene dicarboxylic acid diesters, alkylbenzenes, etc.), fillers (heavy calcium carbonate Fatty acid-treated calcium carbonate, fumed silica, precipitated silica, carbon black, talc, titanium oxide, balloon, beads, etc., antioxidant (hindered phenols etc.), flame retardant, thixotropic agent (colloidal silica, Organic bentonite, fatty acid amide, polyamide wax, hydrogenated castor oil, etc., UV absorber (benzotriazoles, hindered amines etc.), anti-aging agent (hindered phenols, mercaptans, sulfides, dithiocarboxylic acid salts, thiourea Species, thiophosphate DOO acids, thio-aldehydes, etc.), adhesion agent (an epoxy compound, a silane coupling agent, etc.), and the like dehydrating agent.
ウレタン触媒としては、DBU系触媒、アミン系触媒、有機カルボン酸金属塩、イミダゾール系触媒等が挙げられる。DBU系触媒としては、DBU[1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7]、DBUフェノール塩、DBUオクチル酸塩、DBUギ酸塩等が挙げられる。アミン系触媒としては、モノアミン(トリエチルアミン等)、ジアミン(N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン等)、トリアミン(テトラメチルグアニジン等)、環状アミン(トリエチレンジアミン等)、アルコールアミン(ジメチルアミノメタノール等)、エーテルアミン(ビス(2−ジメチルアミノエチル)エーテル等)などが挙げられる。有機カルボン酸金属塩としては、Sn系(ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸錫等)、Pb系(オクチル酸鉛等)、Zn系(オクチル酸亜鉛等)などが挙げられる。イミダゾール系触媒としては、2−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール等が挙げられる。 Examples of the urethane catalyst include DBU catalysts, amine catalysts, organic carboxylic acid metal salts, and imidazole catalysts. Examples of DBU catalysts include DBU [1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7], DBU phenol salt, DBU octylate, DBU formate and the like. Examples of amine catalysts include monoamines (such as triethylamine), diamines (such as N, N, N ', N'- tetramethylethylenediamine), triamines (such as tetramethylguanidine), cyclic amines (such as triethylenediamine), and alcohol amines (such as dimethylamine). Amino methanol etc., ether amine (bis (2-dimethylaminoethyl) ether etc.) etc. are mentioned. Examples of the organic carboxylic acid metal salt include Sn (such as dibutyltin dilaurate and tin octylate), Pb (such as lead octylate), and Zn (such as zinc octylate). Examples of the imidazole-based catalyst include 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole and the like.
ウレタン系粘着剤の作製方法は、特に制限されない。例えば、ウレタン系粘着剤に含まれるポリマー成分と、必要に応じて含まれる他の成分を混合することにより、一液型のウレタン系粘着剤として作製してもよい。ウレタン系粘着剤は実質的に溶媒を含まない無溶媒型の粘着剤であってもよい。ウレタン系粘着剤が実質的に溶媒を含まないと、粘着剤を熱により硬化させる際に、臭気、揮発性有機化合物(VOC)等の発生による環境汚染を抑制することができる。 The method for producing the urethane-based pressure-sensitive adhesive is not particularly limited. For example, it may be produced as a one-component urethane adhesive by mixing the polymer component contained in the urethane adhesive and other components contained as necessary. The urethane-based pressure-sensitive adhesive may be a solvent-free pressure-sensitive adhesive substantially free of solvent. When the urethane-based pressure-sensitive adhesive does not substantially contain a solvent, when the pressure-sensitive adhesive is cured by heat, environmental pollution due to generation of odor, volatile organic compound (VOC) or the like can be suppressed.
(フィラー)
粘着層は、フィラーを含んでもよい。粘着層がフィラーを含むことにより、粘着層の外表面(基材側とは逆の面)を粗化する等の効果が得られる。
フィラーの材質は特に制限されず、樹脂等の有機物質であっても、金属、金属酸化物等の無機物質であっても、有機物質と無機物質の組み合わせであってもよい。また、粘着層に含まれるフィラーは1種単独であっても2種以上であってもよい。(Filler)
The adhesive layer may contain a filler. When the adhesive layer contains a filler, an effect such as roughening the outer surface (surface opposite to the substrate side) of the adhesive layer can be obtained.
The material of the filler is not particularly limited, and may be an organic substance such as a resin, an inorganic substance such as a metal or a metal oxide, or a combination of an organic substance and an inorganic substance. The filler contained in the adhesive layer may be one kind alone or two or more kinds.
フィラーの体積平均粒子径は、特に制限されない。例えば、1μm〜20μmの範囲から選択できる。本明細書においてフィラーの体積平均粒子径は、レーザー回折法により測定される体積基準の粒度分布において小径側からの累積が50%となるときの粒子径(D50)である。 The volume average particle size of the filler is not particularly limited. For example, it can be selected from the range of 1 μm to 20 μm. In the present specification, the volume average particle size of the filler is the particle size (D50) at which the accumulation from the small diameter side is 50% in the volume-based particle size distribution measured by the laser diffraction method.
粘着層に含まれる粘着剤との親和性の観点からは、フィラーは樹脂粒子であることが好ましい。樹脂粒子を構成する樹脂としては、アクリル樹脂、オレフィン樹脂、スチレン樹脂、アクリロニトリル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。成形後のパッケージへの残渣抑制の観点からは、アクリル樹脂が好ましい。 From the viewpoint of the affinity to the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer, the filler is preferably a resin particle. As resin which comprises a resin particle, an acrylic resin, an olefin resin, a styrene resin, an acrylonitrile resin, a silicone resin etc. are mentioned. An acrylic resin is preferable from the viewpoint of suppressing the residue on the package after molding.
<基材>
基材の材質は、特に制限されない。金型への追従性の観点からは、樹脂が好ましい。樹脂としては、ポリエチレンテレフタラート(PET)等のポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルエーテル、ポリアミドイミド、フッ素含有樹脂などが挙げられる。樹脂を用いる場合は、封止工程中の加熱温度に対して充分な耐熱性を有するものであることが好ましい。<Base material>
The material of the substrate is not particularly limited. From the viewpoint of mold followability, resins are preferred. Examples of the resin include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyimides, polyamides, polyester ethers, polyamide imides, and fluorine-containing resins. When using resin, it is preferable to have sufficient heat resistance with respect to the heating temperature in a sealing process.
必要に応じ、基材の粘着層が設けられる側の面に基材と粘着層との間の密着力を向上させるための処理が施されていてもよい。処理の方法としては、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理、下塗り剤(プライマ)の塗布などが挙げられる。 As needed, the surface for the side in which the adhesion layer of a base material is provided may be processed in order to improve the adhesiveness between a base material and an adhesion layer. Examples of the method of treatment include surface treatment such as corona treatment and plasma treatment, and application of a primer (primer).
必要に応じ、基材の背面(粘着層側とは逆の面)に粘着フィルムのロールからの巻き出し性を調節するための背面処理剤が付与されていてもよい。背面処理剤としては、シリコーン樹脂、フッ素含有樹脂、ポリビニルアルコール、アルキル基を有する樹脂等の単体、変性体、混合物などが挙げられる。 As needed, the back surface processing agent for adjusting the unwindability from the roll of an adhesive film may be provided to the back surface (surface opposite to the adhesive layer side) of a base material. As a back surface processing agent, single-piece | units, such as a silicone resin, fluorine-containing resin, polyvinyl alcohol, resin which has an alkyl group, a modified body, a mixture, etc. are mentioned.
必要に応じ、粘着フィルムの巻き出し時、被着体からの剥離時等における静電気の発生を抑制するために、基材の背面又は粘着層が設けられる側の面に帯電防止剤が付与されていてもよい。帯電防止剤としては、第4級アンモニウム塩、ピリジウム塩、第1〜3級アミノ基等のカチオン性基を有するカチオン性帯電防止剤、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基等のアニオン性基を有するアニオン系帯電防止剤、アミノ酸系、アミノ酸硫酸エステル系等の両性帯電防止剤、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性基を有するノニオン系帯電防止剤、これらの帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤などが挙げられる。これらの帯電防止剤は、透明性が良好な点でも好適である。 If necessary, an antistatic agent is applied to the back surface of the substrate or the surface on which the adhesive layer is provided in order to suppress the generation of static electricity during unwinding of the adhesive film, peeling from the adherend, etc. May be Examples of the antistatic agent include cationic antistatic agents having a cationic group such as quaternary ammonium salt, pyridinium salt, and primary to tertiary amino groups, and anions such as sulfonic acid base, sulfuric acid ester base and phosphoric acid ester base. Anionic antistatic agent having a hydrophobic group, amphoteric antistatic agent such as amino acid type and amino acid sulfate ester type, nonionic antistatic agent having nonionic group such as amino alcohol type, glycerin type and polyethylene glycol type and the like A high molecular weight type of antistatic agent may be mentioned. These antistatic agents are also preferable in terms of good transparency.
以下に、本実施形態の離型フィルムについて、実施例に基づき説明する。ただし、本実施形態は以下の実施例に限定されるものではない。 Below, the release film of this embodiment is demonstrated based on an Example. However, the present embodiment is not limited to the following examples.
<実施例1>
粘着剤A100質量部と、触媒0.5質量部と、溶剤(トルエンとメチルイソブチルケトンの混合物、質量比1:1)275質量部とを配合し、ディスパーで撹拌して、粘着層形成用組成物を調製した。この粘着層形成用組成物を、基材(厚みが50μmのPETフィルム)の一方の面の全面に、粘着層の厚みが3μmとなるように塗布し、120℃で1分間加熱して粘着層を形成して、支持体を作製した。次いで、長さが232mm、幅が67mm、厚みが9μmの銅箔(「F2−WS」、古河電気工業株式会社)を、図2に示すように支持体の粘着層にラミネート法で貼り合わせて電磁波遮蔽シートを形成し、所定の形状に打ち抜いて離型フィルムを作製した。Example 1
100 parts by mass of the adhesive A, 0.5 parts by mass of the catalyst, and 275 parts by mass of a solvent (a mixture of toluene and methyl isobutyl ketone, mass ratio 1: 1) Prepared. The composition for forming an adhesive layer is coated on the entire surface of one side of a substrate (PET film with a thickness of 50 μm) so that the thickness of the adhesive layer is 3 μm, and heated at 120 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer. To produce a support. Next, a copper foil (“F2-WS”, Furukawa Electric Co., Ltd.) with a length of 232 mm, a width of 67 mm and a thickness of 9 μm is laminated to the adhesive layer of the support as shown in FIG. An electromagnetic wave shielding sheet was formed and punched into a predetermined shape to produce a release film.
<実施例2>
粘着剤B100質量部と、架橋剤A10質量部と、溶剤(トルエンとメチルエチルケトンの混合物、質量比8:2)227質量部とを配合し、ディスパーで撹拌して、粘着層形成用組成物を調製した。この粘着層形成用組成物を、基材(厚みが38μmのPETフィルム)の一方の面の全面に、粘着層の厚みが3μmとなるように塗布し、100℃で1分間加熱して粘着層を形成し、支持体を作製した。次いで、粘着層の全面に、イオンプレーティング法にてアルミニウム層を厚みが1μmとなるように形成して電磁波遮蔽シートを形成し、所定の形状に打ち抜いて離型フィルムを作製した。Example 2
100 parts by mass of the adhesive B, 10 parts by mass of the crosslinking agent A, and 227 parts by mass of a solvent (a mixture of toluene and methyl ethyl ketone, mass ratio 8: 2) are mixed and stirred by a disper to prepare a composition for forming an adhesive layer did. The composition for forming an adhesive layer is coated on the entire surface of one side of a substrate (PET film having a thickness of 38 μm) so that the thickness of the adhesive layer is 3 μm, and heated at 100 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer. To produce a support. Next, an aluminum layer was formed to a thickness of 1 μm by an ion plating method on the entire surface of the adhesive layer to form an electromagnetic wave shielding sheet, and it was punched into a predetermined shape to prepare a release film.
<実施例3>
粘着剤C100質量部と、架橋剤B17.4質量部と、フィラー10質量部と、溶剤(トルエンとメチルエチルケトンの混合物、質量比8:2)87質量部とを配合し、ディスパーで撹拌して、粘着層形成用組成物を調製した。この粘着層形成用組成物を用いたこと以外は実施例2と同様にして、離型フィルムを作製した。Example 3
100 parts by mass of the adhesive C, 17.4 parts by mass of the crosslinking agent B, 10 parts by mass of the filler, and 87 parts by mass of a solvent (a mixture of toluene and methyl ethyl ketone, mass ratio 8: 2) are stirred by a disper, The composition for adhesive layer formation was prepared. A release film was produced in the same manner as in Example 2 except that this composition for forming an adhesive layer was used.
<比較例1>
実施例2と同様にして調製した粘着層形成用組成物を用いて、実施例2と同様にして基材上に粘着層を形成して支持体を作製した。次いで、粘着層の上に実施例1と同様にして電磁波遮蔽シートを形成し、離型フィルムを作製した。Comparative Example 1
A pressure-sensitive adhesive layer was formed on a substrate using the composition for forming a pressure-sensitive adhesive layer prepared as in Example 2 in the same manner as in Example 2 to prepare a support. Then, an electromagnetic wave shielding sheet was formed on the adhesive layer in the same manner as in Example 1 to prepare a release film.
離型フィルムの作製に使用した各材料の詳細は、下記のとおりである。
(粘着剤)
・粘着剤A:付加反応型シリコーン系粘着剤、商品名「LTC755」、固形分30質量%、東レ・ダウコーニング株式会社
・粘着剤B:アクリル系粘着剤、商品名「S−43」、固形分24質量%、総研化学株式会社、ブチルアクリレート(BA)と4−ヒドロキシブチルアクリレート(4HBA)の混合モノマーで構成
・粘着剤C:アクリル系粘着剤、商品名「FS−1208」、固形分45質量%、ライオン・スペシャル・ケミカルズ株式会社、メタクリル酸エステルの複数種の混合モノマーで構成
(触媒)
・白金触媒(商品名「NC−25」、東レ・ダウコーニング株式会社)
(架橋剤)
・架橋剤A:商品名「コロネートHL」、固形分75質量%、東ソー株式会社、トリメチロールプロパン/ヘキサメチレンジイソシアネート3量体付加物の75%酢酸エチル溶液、1分子中のイソシアネート基数:3個
・架橋剤B:商品名「デュラネートE405−80T」、固形分80質量%、旭化成ケミカルズ株式会社、ポリイソシアネート系架橋剤(ヘキサメチレンジイソシアネート架橋剤(HMDI))、1分子中のイソシアネート基数:2個
・フィラー:架橋アクリル中分散粒子、商品名「MZ−10HN」、体積平均粒子径10μm、総研化学株式会社The detail of each material used for preparation of a mold release film is as follows.
(Adhesive)
· Adhesive A: Addition reaction type silicone adhesive, trade name "LTC 755", solid content 30 mass%, Toray Dow Corning Co., Ltd. · Adhesive B: acrylic adhesive, trade name "S-43", solid Min. 24% by mass, Soken Chemical Co., Ltd., a mixed monomer of butyl acrylate (BA) and 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) ・ Adhesive C: Acrylic adhesive, trade name “FS-1208”, solid content 45 %, Lion Special Chemicals Co., Ltd., composed of multiple mixed monomers of methacrylic acid ester (catalyst)
・ Platinum catalyst (brand name "NC-25", Toray Dow Corning Co., Ltd.)
(Crosslinking agent)
Crosslinking agent A: trade name "Coronato HL", solid content 75% by mass, Tosoh Corp., 75% ethyl acetate solution of trimethylolpropane / hexamethylene diisocyanate trimer adduct, number of isocyanate groups in one molecule: 3 -Crosslinking agent B: trade name "Duranate E405-80T", solid content 80% by mass, Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., polyisocyanate based crosslinking agent (hexamethylene diisocyanate crosslinking agent (HMDI)), number of isocyanate groups in one molecule: 2 Filler: Crosslinked acrylic dispersed particles, trade name "MZ-10HN", volume average particle diameter 10 μm, Soken Chemical Co., Ltd.
<評価試験>
作製した離型フィルムを用いて、以下の評価試験を行った。<Evaluation test>
The following evaluation test was done using the produced release film.
(1)粘着層−電磁波遮蔽シート間剥離力
電磁波遮蔽シートをラミネート法により形成した実施例1及び比較例1では、作製した離型フィルムを170℃雰囲気下に投入し、所定の時間経過後、テンシロン万能材料試験機(株式会社エー・アンド・デイ製)にて剥離角度180°、剥離速度0.3m/分の剥離条件で剥離力(N/50mm)を測定した。結果を表1に示す。
電磁波遮蔽シートをイオンプレーティング法により形成した実施例2及び実施例3では、作製した離型フィルムを所定の大きさにカットし、170℃のホットプレート上に粘着層が上になるように置き、封止材(商品名「CEL−9750」、日立化成株式会社)を粘着層の上に所定量散布し、厚みが100μmのPETフィルムを載せた。次いで、PETフィルムの上に4kgの重りを載せて、封止材が硬化するまで3分間放置した。その後、離型フィルムを50mm幅にカットし、170℃雰囲気下に投入した。1分経過後、テンシロン万能材料試験機(株式会社エー・アンド・デイ製)にて、剥離角度180°、剥離速度0.3m/分の剥離条件で剥離力を測定した。結果を表1に示す。(1) Peeling Force Between Adhesive Layer-Electromagnetic Wave Shielding Sheet In Example 1 and Comparative Example 1 in which the electromagnetic wave shielding sheet was formed by laminating method, the prepared release film was put into an atmosphere at 170 ° C., and after a predetermined time elapsed, Peeling force (N / 50 mm) was measured using a Tensilon universal material tester (manufactured by A & D Co., Ltd.) under a peeling angle of 180 ° and a peeling speed of 0.3 m / min. The results are shown in Table 1.
In Example 2 and Example 3 in which the electromagnetic wave shielding sheet was formed by the ion plating method, the prepared release film was cut into a predetermined size, and placed on a 170 ° C. hot plate with the adhesive layer on top A predetermined amount of a sealing material (trade name "CEL-9750", Hitachi Chemical Co., Ltd.) was sprayed on the adhesive layer, and a PET film having a thickness of 100 μm was placed thereon. A 4 kg weight was then placed on the PET film and left for 3 minutes until the encapsulant was cured. Thereafter, the release film was cut to a width of 50 mm, and was put into an atmosphere of 170 ° C. After 1 minute, the peel strength was measured with a TENSILON universal material tester (manufactured by A & D Co., Ltd.) under a peel angle of 180 ° and a peel speed of 0.3 m / min. The results are shown in Table 1.
(2)電磁波遮蔽シートの転写性
実施例1及び比較例1で作製した離型フィルムを所定の大きさにカットし、170℃のホットプレート上に粘着層が上になるように置き、封止材(商品名「CEL−9750」、日立化成株式会社)を粘着層の上に所定量散布し、厚みが100μmのPETフィルムを載せた。次いで、PETフィルムの上に4kgの重りを載せて、封止材が硬化するまで3分間放置した。その後、支持体(基材及び粘着層)から電磁波遮蔽シートを剥離して、電磁波遮蔽シートの転写性を目視にて確認した。
実施例2及び実施例3では、粘着層−電磁波遮蔽シート間剥離力の評価と同じく封止材が硬化した状態で、支持体(基材及び粘着層)から電磁波遮蔽シートを剥離して、電磁波遮蔽シートの転写性を目視にて確認した。(2) Transferability of Electromagnetic Wave Shielding Sheet The release films prepared in Example 1 and Comparative Example 1 are cut to a predetermined size, placed on a 170 ° C. hot plate with the adhesive layer on top, and sealed. A predetermined amount of a material (trade name “CEL-9750”, Hitachi Chemical Co., Ltd.) was dispersed on the adhesive layer, and a PET film having a thickness of 100 μm was placed thereon. A 4 kg weight was then placed on the PET film and left for 3 minutes until the encapsulant was cured. Then, the electromagnetic wave shielding sheet was peeled from the support (base material and adhesive layer), and the transferability of the electromagnetic wave shielding sheet was visually confirmed.
In Example 2 and Example 3, the electromagnetic wave shielding sheet is peeled off from the support (the base material and the adhesive layer) in a state where the sealing material is cured in the same manner as in the evaluation of the peeling force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet. The transferability of the shielding sheet was visually confirmed.
電磁波遮蔽シートの転写性は、電磁波遮蔽シートにシワ、折れ、破れ等が発生せずに支持体から剥離できた場合は「可」、電磁波遮蔽シートにシワ、折れ、破れ等が発生した、又は支持体から剥離できなかった場合は「不可」として評価した。結果を表1に示す。 The transferability of the electromagnetic wave shielding sheet is "OK" if the electromagnetic wave shielding sheet can be peeled off from the support without generation of wrinkles, breakage, tears, etc., the electromagnetic shielding sheets generate wrinkles, breakage, tears, etc. When it was not able to peel from the support, it was evaluated as "not good". The results are shown in Table 1.
表1の結果に示すように、粘着層と電磁波遮蔽シートの間の剥離力が0.10N/50mm〜2.00N/50mmである実施例の離型シートは、電磁波遮蔽シートの転写性が良好であった。一方、粘着層と電磁波遮蔽シートの間の剥離力が0.10N/50mm未満である比較例の離型シートは、剥離した電磁波遮蔽シートにシワが発生し、電磁波遮蔽シートの転写性が実施例より劣っていた。 As shown in the results of Table 1, the release sheet of the example in which the peeling force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet is 0.10 N / 50 mm to 2.00 N / 50 mm has good transferability of the electromagnetic wave shielding sheet. Met. On the other hand, in the release sheet of the comparative example in which the peeling force between the adhesive layer and the electromagnetic wave shielding sheet is less than 0.10 N / 50 mm, wrinkles are generated in the peeled electromagnetic wave shielding sheet, and the transferability of the electromagnetic wave shielding sheet is an example. It was inferior.
日本国特許出願第2016−091947号の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。 The disclosure of Japanese Patent Application No. 2016-091947 is incorporated herein by reference in its entirety. All documents, patent applications, and technical standards described herein are as specific and distinct as when individual documents, patent applications, and technical standards are incorporated by reference. Hereby incorporated by reference.
Claims (5)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016101821 | 2016-05-20 | ||
JP2016101821 | 2016-05-20 | ||
PCT/JP2017/018931 WO2017200103A1 (en) | 2016-05-20 | 2017-05-19 | Demolding film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017200103A1 true JPWO2017200103A1 (en) | 2019-04-18 |
JP6863375B2 JP6863375B2 (en) | 2021-04-21 |
Family
ID=60325170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018518395A Active JP6863375B2 (en) | 2016-05-20 | 2017-05-19 | Release film |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6863375B2 (en) |
KR (1) | KR20190010593A (en) |
CN (1) | CN109153239B (en) |
TW (1) | TWI782914B (en) |
WO (1) | WO2017200103A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019168008A1 (en) * | 2018-02-27 | 2019-09-06 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyester film |
KR20210018185A (en) * | 2018-06-08 | 2021-02-17 | 구라시키 보세키 가부시키가이샤 | Release film and release film manufacturing method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0817855A (en) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Nitto Denko Corp | Manufacture of semiconductor device and laminate used therefor |
JPH08288686A (en) * | 1995-04-20 | 1996-11-01 | Nec Corp | Semiconductor device |
WO2008093414A1 (en) * | 2007-01-31 | 2008-08-07 | Fujitsu Microelectronics Limited | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
WO2013183671A1 (en) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 日立化成株式会社 | Method for manufacturing semiconductor device |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4133637B2 (en) | 2003-07-11 | 2008-08-13 | 三井化学株式会社 | Electromagnetic wave shielding sheet for semiconductor element adhesion and semiconductor device |
JP2007287937A (en) | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Kyocera Chemical Corp | Resin-sealed semiconductor device and its manufacturing method |
WO2010023907A1 (en) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | 三井化学株式会社 | Mold release film for manufacturing semiconductor resin package and semiconductor resin package manufacturing method using same |
KR101388972B1 (en) * | 2009-03-31 | 2014-04-25 | 주식회사 잉크테크 | process for preparation of laminated metal film |
JP2012122058A (en) * | 2010-11-18 | 2012-06-28 | Nitto Denko Corp | Die bond film, dicing die bond film, method of manufacturing die bond film, and semiconductor device having die bond film |
JP2013021270A (en) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Nitto Denko Corp | Film for manufacturing semiconductor device |
KR20150135284A (en) * | 2013-03-22 | 2015-12-02 | 린텍 가부시키가이샤 | Protective film-forming film and protective film-forming composite sheet |
JP6184025B2 (en) * | 2014-09-04 | 2017-08-23 | 信越ポリマー株式会社 | Electromagnetic wave shielding film and method for producing flexible printed wiring board with electromagnetic wave shielding film |
-
2017
- 2017-05-19 KR KR1020187036121A patent/KR20190010593A/en not_active Application Discontinuation
- 2017-05-19 WO PCT/JP2017/018931 patent/WO2017200103A1/en active Application Filing
- 2017-05-19 TW TW106116563A patent/TWI782914B/en active
- 2017-05-19 CN CN201780031010.3A patent/CN109153239B/en active Active
- 2017-05-19 JP JP2018518395A patent/JP6863375B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0817855A (en) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Nitto Denko Corp | Manufacture of semiconductor device and laminate used therefor |
JPH08288686A (en) * | 1995-04-20 | 1996-11-01 | Nec Corp | Semiconductor device |
WO2008093414A1 (en) * | 2007-01-31 | 2008-08-07 | Fujitsu Microelectronics Limited | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
WO2013183671A1 (en) * | 2012-06-08 | 2013-12-12 | 日立化成株式会社 | Method for manufacturing semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201808629A (en) | 2018-03-16 |
TWI782914B (en) | 2022-11-11 |
CN109153239A (en) | 2019-01-04 |
JP6863375B2 (en) | 2021-04-21 |
KR20190010593A (en) | 2019-01-30 |
WO2017200103A1 (en) | 2017-11-23 |
CN109153239B (en) | 2021-05-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107207920B (en) | Adhesive sheet for semiconductor processing | |
TWI565591B (en) | A sheet having a subsequent resin layer, and a method for manufacturing the semiconductor device | |
CN107615454B (en) | Composite sheet for forming protective film | |
WO2017038915A1 (en) | Adhesive agent composition and adhesive sheet | |
CN108140585B (en) | No. 1 protective film-forming sheet | |
TWI758445B (en) | Film-type adhesive composite sheet and method for producing semiconductor device | |
CN107001875B (en) | Film-like adhesive composite sheet and method for manufacturing semiconductor device | |
JPWO2018181765A1 (en) | Adhesive sheet | |
WO2020189568A1 (en) | Adhesive sheet and semiconductor device production method | |
CN115397938A (en) | Double-sided adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor device | |
JP6863375B2 (en) | Release film | |
JP2012052037A (en) | Viscoelastic body and method for producing the same | |
TW202116944A (en) | Adhesive sheet including a polymer as a base polymer and thermally-expandable microspheres having an expansion starting temperature | |
WO2023007947A1 (en) | Mold release film and method for manufacturing semiconductor package | |
WO2017038918A1 (en) | Adhesive sheet | |
JP7129110B2 (en) | Laminate and method for producing cured sealing body | |
JP2015138940A (en) | Support tape for semiconductor | |
WO2023136145A1 (en) | Resin composition | |
WO2023136146A1 (en) | Resin composition | |
WO2021215354A1 (en) | Double-sided adhesive tape | |
CN115029080A (en) | Adhesive sheet | |
KR20240055747A (en) | Adhesive sheet for temporary fixation of electronic components | |
CN116964171A (en) | Hot melt adhesive composition and adhesive sheet | |
CN116745380A (en) | Acrylic adhesive, acrylic adhesive composition, adhesive film, and flexible device | |
WO2017038914A1 (en) | Adhesive sheet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210302 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210315 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6863375 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |