JPWO2017085874A1 - 真空処理装置および質量分析装置 - Google Patents
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Abstract
Description
内部を真空状態にできる処理室と、
前記処理室に連設された、大気状態と真空状態の間で切り替え可能なロードロック室と、
前記処理室と前記ロードロック室を連通する連通部と、
前記連通部を通して前記処理室と前記ロードロック室の間で移動可能な、処理対象となる対象物が載置されるステージと、
前記ステージに固定された、前記連通部の前記処理室側の開口よりも大きい封止部と、を備える。
このように、この態様では、ステージの位置が連通部の閉鎖/開放と連動しており、対象物を処理室からロードロック室に移送すれば、自ずと、ロードロック室と処理室とが分断された状態となる。したがって、ロードロック室と処理室との間の交換動作に要する時間を短く抑えることができる。
また、この態様では、連通部の閉鎖/開放の動作を、対象物を移動させる動作と連動させる構成としているので、装置の構成部品点数を少なくすることができ、装置の製造コストを低く抑えることができる。
また、この態様では、連通部の閉鎖/開放のための構成をシンプルにすることができるので、ロードロック室の容積を小さく抑えることができる。これによって、ロードロック室を真空引きするための時間を短く(例えば、数秒程度に)抑えることができる。
前記処理室の内壁における前記連通部の前記処理室側の開口の上部に水平に設けられた回動軸に軸支されて、前記内壁に当接する閉状態と、前記内壁から離間した開状態との間で切り替え可能に設けられた板状部材と、
前記板状部材に形成された、前記ステージを通過させるための貫通口と、
を備え、
前記板状部材が閉状態にあるときに、前記貫通口における前記内壁側の開口端が、前記連通部の前記処理室側の開口と対応する位置に形成されるとともに、前記貫通口が、前記内壁から遠ざかるにつれて斜め下方向に傾斜して形成され、
前記ステージにおける前記封止部が固定されている側の端部に、前記封止部に近づくにつれて、前記貫通口と同じ角度で斜め下方向に傾斜した傾斜部分が形成され、
前記封止部が、前記貫通口における前記内壁と逆側の開口端よりも大きく、
前記ステージが前記ロードロック室側にある状態において、前記ステージの前記傾斜部分が前記貫通口の内部に配置された状態となるとともに、前記封止部が前記板状部材に当接して前記板状部材を閉状態とする。
前記板状部材を、前記処理室の内壁から離間させる方向に付勢する付勢部材と、
前記板状部材と前記処理室の内壁とがなす角度が、所定の角度よりも大きくならないように規制する規制部材と、
をさらに備え、
前記板状部材と前記処理室の内壁とがなす角度が前記所定の角度にあるとき、前記貫通口における前記内壁と逆側の開口端が、前記ステージと同じ高さに位置する。
前記ステージを移動させる移動機構、
をさらに備え、
前記移動機構が、
前記封止部と連結されたベース部材と、
前記処理室の内部において前記ベース部材を案内する第1ガイドレールと、
一端において前記ベース部材と連結されるとともに、前記処理室の側壁に形成された孔に挿通されて、他端が前記処理室の外に配置された連結棒と、
前記連結棒の前記他端に連結された可動板と、
前記可動板を案内する第2ガイドレールと、
前記可動板と前記側壁との間に配置され、前記処理室の気密性を保持したままで、前記可動板の変位に追従するベローズと、
を備え、
ロードロック室側から処理室側に向かって見て、前記可動板が、前記連通部の処理室側の開口よりも大きい。
図1、図2は、真空処理装置の一例である質量分析装置1の一部を示した縦断面図である。図1には、ステージ5がロードロック室2側にある状態が示されており、図2には、ステージ5が処理室3側にある状態が示されている。
ロードロック室2は、上述したとおり、装置外部との間および処理室3との間で試料プレート9の授受を行うためのチャンバーであり、試料プレート9の授受を行うために必要最小限のサイズに形成されている。具体的には、ロードロック室2は、その内容積が、ステージ5における試料プレート9の載置部分51を収容可能な必要最小限の大きさとなるように、形成されている。以下において、「ステージ5がロードロック室2側にある状態」とは、試料プレート9の載置部分51の全体がロードロック室2内に配置された状態をいう。
処理室3では、真空下で、ステージ5上の試料プレート9に保持されている試料90にレーザ光源(図示省略)からのレーザ光を照射してイオン化し、イオン化された物質を引き出し電極31で引き出す処理が行われる。ただし、上述したとおり、試料プレート9においては、その複数の凹部91の各々に試料90が保持されている。各凹部91に保持されている試料90に順にレーザ光を照射するべく、上記の処理は、移動機構7がステージ5をレーザ光源に対して処理室3内で移動させつつ行われる。引き出し電極31で引き出された物質は、加速され、質量電荷比に応じて分離されて、検出される(分離および検出に係る構成については、図示省略)。
ステージ5は、試料プレート9が載置される部材である。具体的には、ステージ5の一方の端部(先端部)には、試料プレート9を載置するための平坦な領域である載置部分51が形成されている。ステージ5の他方の端部(基端部)は封止部6を介して移動機構7に連結されており、この連結状態において、載置部分51は水平となる。
移動機構7は、ステージ5を水平面内で(具体的には、X方向(ロードロック室2と処理室3との並び方向)、および、Y方向に)移動させる機構である。この移動機構7は、ステージ5を連通部10を通じて処理室3とロードロック室2との間で移動させるための機構であるとともに、上述したように、ステージ5を処理室3内で移動させる(すなわち、レーザ光源に対して相対移動させる)ための機構でもある。
質量分析装置1では、ステージ5がロードロック室2に配置されると、連通部10が閉鎖されるようになっている。連通部10の閉鎖に関する構成について、図1、図2に加え、図3〜図7を参照しながら説明する。図3は、板状部材11を、図1の-X方向から見た図である。図4は、ステージ5および封止部6を、図1の-X方向から見た図である。図5〜図7は、連通部10の閉鎖に関する構成を説明するための要部拡大図である。図5には、ステージ5がロードロック室2側にあって連通部10が閉鎖されている状態が示されている。図6には、ステージ5がロードロック室2側から処理室3側に移動されている途中の状態が示されている。図7には、ステージ5が処理室3側にある状態が示されている。
板状部材11は、連通部10の処理室3側の開口(すなわち、処理室3の内壁30における連通部10の開口であり、以下、単に「開口」ともいう)300よりも大きな平板状の部材であり、その主面で開口300の周囲の領域を処理室3側から覆うように設けられている。具体的には、処理室3の内壁30であって、開口300の上部に、水平に延在する回動軸12が配設されている。この回動軸12にはヒンジ部材13が回動可能に配設されており、板状部材11は、その上辺において、このヒンジ部材13にねじ14等で固定されている。これによって、板状部材11は、内壁30に当接する閉状態(図5に示す状態)と、内壁30から離間した開状態(図6、図7に示す状態)との間で切り替え可能に設けられる。
封止部6は、上述したとおり、ステージ5の一方の端部(基端部)に固定されている。封止部6における、ステージ5の基端部が取り付けられている面(以下「封止面」ともいう)60は、板状部材11に形成されている貫通口17の第2開口端172よりも大きなサイズとされており、封止部6は貫通口17内に進入しない。したがって、ステージ5がロードロック室2側に移動されていくと、ある時点で封止部6が板状部材11に当接し、ステージ5がさらに移動されると、封止部6が付勢部材15の付勢力(具体的には、スプリングヒンジのスプリング力)に逆らって板状部材11を回動させて最終的に板状部材11を処理室3の内壁30に押し当てる(つまり、板状部材11を閉状態とする)。
次に、質量分析装置1の動作について、図1〜図7を参照しながら説明する。なお、以下に説明する一連の動作は、制御部8の制御下で行われる。
質量分析装置1において、ステージ5が、大気状態のロードロック室2に配置されているときに、停電などの予期せぬ事態により移動機構7の駆動力が失われてしまった場合について、図1、図8を参照しながら説明する。以下の説明において、封止部6、ベース部材71、連結棒72、および、可動板73を一つの部材と見て、この部材を以下「着目部材80」と呼ぶこととする。図8は、着目部材80にかかる大気の力を説明するための図である。
上記の実施形態において、板状部材11における封止部6側の面に、板状部材11と封止部6との間をシールするシール部を設けてもよい。このようなシール部は、具体的には、第2開口端172を取り囲む土手状の突起であり、封止部6が板状部材11に当接したときに、このシール部の全周が、第2開口端172を取り囲んで、密着状態で封止面60に突き当たる。このようなシール部を設ける場合、第3シール部61を省略してもよい。
なお、好ましくは、内壁30にも、これと封止部6aとの間をシールするシール部(第5シール部)33aが形成される。第5シール部33aは、具体的には、開口300を取り囲む土手状の突起であり、ステージ5aがロードロック室2に配置されたときに、第5シール部33aの全周が、開口300を取り囲んで、密着状態で封止面60aに突き当たる。なお、当然のことながら、第4シール部61aと第5シール部33aとは、互いに干渉しない位置に形成されるとともに、互いに同じ高さとされる。もっとも、第4シール部61aと第5シール部33aとのうちの一方を省略してもよい。
2 ロードロック室
3 処理室
4 排気系統
5 ステージ
6 封止部
7 移動機構
8 制御部
9 試料プレート
10 連通部
11 板状部材
12 回動軸
13 ヒンジ部材
15 付勢部材
16 規制部材
17 貫通口
18 第1シール部
33 第2シール部
51 載置部分
52 傾斜部分
60 封止面
61 第3シール部
71 ベース部材
72 連結棒
73 可動板
74 ベローズ
171 板状部材の第1開口端
172 板状部材の第2開口端
300 連通部の開口
Claims (5)
- 内部を真空状態にできる処理室と、
前記処理室に連設された、大気状態と真空状態の間で切り替え可能なロードロック室と、
前記処理室と前記ロードロック室を連通する連通部と、
前記連通部を通して前記処理室と前記ロードロック室の間で移動可能な、処理対象となる対象物が載置されるステージと、
前記ステージに固定された、前記連通部の前記処理室側の開口よりも大きい封止部と、を備える真空処理装置。 - 請求項1に記載の真空処理装置であって、
前記処理室の内壁における前記連通部の前記処理室側の開口の上部に水平に設けられた回動軸に軸支されて、前記内壁に当接する閉状態と、前記内壁から離間した開状態との間で切り替え可能に設けられた板状部材と、
前記板状部材に形成された、前記ステージを通過させるための貫通口と、
を備え、
前記板状部材が閉状態にあるときに、前記貫通口における前記内壁側の開口端が、前記連通部の前記処理室側の開口と対応する位置に形成されるとともに、前記貫通口が、前記内壁から遠ざかるにつれて斜め下方向に傾斜して形成され、
前記ステージにおける前記封止部が固定されている側の端部に、前記封止部に近づくにつれて、前記貫通口と同じ角度で斜め下方向に傾斜した傾斜部分が形成され、
前記封止部が、前記貫通口における前記内壁と逆側の開口端よりも大きく、
前記ステージが前記ロードロック室側にある状態において、前記ステージの前記傾斜部分が前記貫通口の内部に配置された状態となるとともに、前記封止部が前記板状部材に当接して前記板状部材を閉状態とする、
真空処理装置。 - 請求項2に記載の真空処理装置であって、
前記板状部材を、前記処理室の内壁から離間させる方向に付勢する付勢部材と、
前記板状部材と前記処理室の内壁とがなす角度が、所定の角度よりも大きくならないように規制する規制部材と、
をさらに備え、
前記板状部材と前記処理室の内壁とがなす角度が前記所定の角度にあるとき、前記貫通口における前記内壁と逆側の開口端が、前記ステージと同じ高さに位置する、
真空処理装置。 - 請求項2または3に記載の真空処理装置であって、
前記ステージを移動させる移動機構、
をさらに備え、
前記移動機構が、
前記封止部と連結されたベース部材と、
前記処理室の内部において前記ベース部材を案内する第1ガイドレールと、
一端において前記ベース部材と連結されるとともに、前記処理室の側壁に形成された孔を挿通されて、他端が前記処理室の外に配置された連結棒と、
前記連結棒の前記他端に連結された可動板と、
前記可動板を案内する第2ガイドレールと、
前記可動板と前記側壁との間に配置され、前記処理室の気密性を保持したままで、前記可動板の変位に追従するベローズと、
を備え、
前記ロードロック室側から前記処理室側に向かって見て、前記可動板が、前記連通部の処理室側の開口よりも大きい、
真空処理装置。 - 質量分析装置であって、
内部を真空状態にできる処理室と、
前記処理室に連設された、大気状態と真空状態の間で切り替え可能なロードロック室と、
前記処理室と前記ロードロック室を連通する連通部と、
前記連通部を通して前記処理室と前記ロードロック室の間で移動可能な、処理対象となる対象物が載置されるステージと、
前記ステージに固定された、前記連通部の前記処理室側の開口よりも大きい封止部と、を備える質量分析装置。
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