CN108352289B - 真空处理装置和质谱分析仪 - Google Patents

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Abstract

在负载锁定室与处理室之间移送对象物并且将负载锁定室和处理室分割开的动作所需要的时间被抑制得较短。真空处理装置(1)包括：处理室(3)，能够使其内部为真空状态；负载锁定室(2)，其与处理室(3)相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；连通部(10)，其使处理室(3)与负载锁定室(2)连通；载置台(5)，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由连通部(10)在处理室(3)与负载锁定室(2)之间移动；以及密封部(6)，其固定于载置台(5)，比连通部(10)的处理室(3)侧的开口大。

Description

真空处理装置和质谱分析仪
技术领域
本发明涉及一种在真空下对对象物进行处理的真空处理装置。例如，涉及一种在真空下对试样进行质谱分析的质谱分析仪。
背景技术
作为在真空下对对象物进行处理的真空处理装置，例如，已知有一种这样的质谱分析仪：在真空下向试样照射激光使其离子化，使离子化物质加速，根据质荷比分离、检测飞行离子(例如，专利文献1)。
在这种装置的情况下，例如，打开处理室与装置外部之间的门，将对象物搬入处理室，关闭门之后使处理室为真空，对对象物进行处理。在处理结束时，破坏处理室的真空，之后打开门将对象物从处理室搬出。然而，对于像这样每次更换对象物都破坏处理室的真空，然后进行抽真空这样的形态，更换对象物花费时间，导致装置的处理能力降低。
因此，有时在处理室与装置外部之间设置负载锁定(load lock)室(例如，专利文献2)。在专利文献2的装置中，打开将装置外部和负载锁定室分隔开的门(第1门)，将对象物搬入负载锁定室，对负载锁定室进行抽真空。并且，在负载锁定室达到期望的真空度时，打开将负载锁定室和处理室(维持在期望的真空度的处理室)分隔开的门(第2门)。具体而言，该第2门由闸阀构成。当第2门打开时，配置在处理室的输送机器人伸长可伸缩的臂使其进入负载锁定室，抓住负载锁定室内的对象物，之后，缩回臂使其返回处理室，将对象物移送到处理室。当臂离开负载锁定室时，关闭第2门，在处理室对对象物进行处理。在对对象物进行的处理结束时，打开第2门。于是，输送机器人利用臂抓住处理室内的已完成处理的对象物，使臂进入负载锁定室，将对象物移送到负载锁定室，并将对象物载置在负载锁定室内的预定位置。之后，等待输送机器人的臂离开负载锁定室，关闭第2门。当第2门关闭而处理室和负载锁定室被分割开时，使负载锁定室向大气开放，将对象物从装置搬出。
通常，负载锁定室形成为与装置外部之间交接对象物所需要的最小限度的大小。因而，与配置有处理所需要的设备等的处理室的内容积相比，负载锁定室的内容积较小。当在装置设置负载锁定室时，具有这样的优点：在更换对象物时仅对内容积比较小的负载锁定室进行抽真空即可，能够抑制对内容积比较大的处理室进行抽真空的频率。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第8872103号说明书
专利文献2：日本特开2012-015331号公报
发明内容
发明要解决的问题
当在装置设置负载锁定室时，能够得到上述的优点，但会产生以下的缺点。即，在不设置负载锁定室的情况下，仅进行在装置外与处理室之间搬出/搬入对象物的动作即可，但在设置负载锁定室的情况下，除在装置外与负载锁定室之间搬出/搬入对象物的动作之外，还必须进行在负载锁定室与处理室之间移送对象物并且将负载锁定室和处理室分割开的动作(以下，简称为“更换动作”)。例如，在专利文献2的形态下，该更换动作如上述那样通过以下这样的一连串的动作实现，即：打开第2门，输送机器人使抓住已完成处理的对象物的臂进入负载锁定室将对象物移送到负载锁定室，等待输送机器人的臂离开负载锁定室之后关闭第2门。在该情况下，更换动作所需要的时间成为将臂的移动时间和门的开闭时间都计算在内的时间。
本发明要解决的问题在于提供一种能够将设置有负载锁定室的装置结构的负载锁定室与处理室之间的更换动作所需要的时间抑制得较短的技术。
用于解决问题的方案
为了解决上述问题而做成的本发明的真空处理装置包括：
处理室，能够使其内部为真空状态；
负载锁定室，其与所述处理室相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；
连通部，其使所述处理室与所述负载锁定室连通；
载置台，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由所述连通部在所述处理室与所述负载锁定室之间移动；以及
密封部，其固定于所述载置台，比所述连通部的所述处理室侧的开口大。
在载置台在负载锁定室侧的状态下，从外部向负载锁定室搬入处理前的对象物并将其载置于载置台。此时，连通部的处理室侧的开口成为被固定于载置台的密封部密封的状态。因而，处理室不会向大气开放。在负载锁定室从大气状态切换为真空状态后，使载置有处理前的对象物的载置台从负载锁定室向处理室移动，将对象物移送到处理室。之后，在处理室中，在真空下对载置台上的对象物进行处理。在处理室内的处理结束时，使载置有处理后的对象物的载置台从处理室向负载锁定室侧移动，将对象物移送到负载锁定室。在载置台配置在负载锁定室侧时，连通部的处理室侧的开口再次成为被密封部密封的状态。在该状态下，使负载锁定室向大气开放，将载置台上的对象物向装置外部搬出。
像这样，在该形态中，载置台的位置与连通部的封闭/打开联动，只要将对象物从处理室移送到负载锁定室，就自然会成为负载锁定室和处理室被分割开的状态。因而，能够将负载锁定室与处理室之间的更换动作所需要的时间抑制得较短。
并且，在该形态中，为连通部的封闭/打开动作与使对象物移动的动作联动的结构，因此能够减少装置的构成零件的个数，能够将装置的制造成本抑制得较低。
并且，在该形态中，能够使用于封闭/打开连通部的结构简单化，因此能够将负载锁定室的容积抑制得较小。因此，能够将用于对负载锁定室进行抽真空的时间抑制得较短(例如，几秒左右)。
优选的是，真空处理装置包括：
板状构件，其被水平设置于所述处理室的内壁的位于所述连通部的所述处理室侧的开口的上部的位置的转动轴轴支承，并且被设为能够在与所述内壁抵接的关闭状态和与所述内壁分开的打开状态之间切换；以及
贯通口，其形成于所述板状构件，用于供所述载置台通过，
所述贯通口的所述内壁侧的开口端形成于在所述板状构件处于关闭状态时与所述连通部的所述处理室侧的开口相对应的位置，并且所述贯通口形成为随着远离所述内壁而向斜下方倾斜，
在所述载置台的固定有所述密封部的一侧的端部形成有倾斜部分，该倾斜部分随着向所述密封部靠近而以与所述贯通口相同的角度向斜下方倾斜，
所述密封部比所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端大，
在所述载置台在所述负载锁定室侧的状态下，所述载置台的所述倾斜部分成为配置在所述贯通口的内部的状态，并且所述密封部与所述板状构件抵接，所述板状构件为关闭状态。
在该形态中，在载置台在负载锁定室侧的状态下，连通部的处理室侧的开口被密封部隔着板状构件密封。在此，板状构件的贯通口倾斜地形成，与此相对应地，在载置台的基端部形成有倾斜部分。因此，能够与该倾斜部分的倾斜相应地使密封部相对于载置台的上表面的位置较低。若采用该形态，则即使在处理室的布局上在靠近载置台的上表面的位置配置有一些零件等的情况下，也能够避免该零件与密封部相干涉。
例如，在作为真空处理装置的一种的质谱分析仪中，用于引出向载置台上的对象物(试样)照射激光而使其离子化得到的物质的电极(所谓的引出极)设在与载置台上的对象物非常靠近的位置(例如，与对象物之间的分开距离为3mm左右的位置)。在该情况下，如果在固定于载置台的密封部具有突出为比载置台的上表面高的部分，则该部分有可能与引出极相干涉，但如果采用上述的形态，则能够使密封部的位置较低，因此不易形成突出为比载置台的上表面高的部分。
优选的是，真空处理装置还包括：
施力构件，其用于对所述板状构件向远离所述处理室的内壁的方向施力；以及
限制构件，其用于限制所述板状构件与所述处理室的内壁所成的角度，以避免其大于预定的角度，
在所述板状构件与所述处理室的内壁所成的角度为所述预定的角度时，所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端位于与所述载置台相同的高度。
在该形态中，板状构件被施力构件向远离处理室的内壁的方向施力，因此在密封部离开板状构件时(即，在载置台开始从负载锁定室向处理室移动时)，会自然地成为打开状态。但是，板状构件在转动预定的角度时，这次被限制构件限制，以避免板状构件进一步转动。在被限制构件限制的状态下，板状构件成为这样的姿势：贯通口的与内壁相反的一侧的开口端位于与载置台相同的高度。因而，载置台在从处理室向负载锁定室移动时能够通过贯通口而不会被该开口端卡住。
优选的是，真空处理装置还包括用于使所述载置台移动的移动机构，
所述移动机构包括：
基座构件，其与所述密封部连结；
第1导轨，其用于在所述处理室的内部引导所述基座构件；
连结棒，其一端与所述基座构件连结，并且贯穿被形成于所述处理室的侧壁的孔，另一端配置在所述处理室的外部；
可动板，其连结于所述连结棒的所述另一端；
第2导轨，其用于引导所述可动板；以及
波纹管，其配置在所述可动板与所述侧壁之间，以保持所述处理室的气密性的状态追随所述可动板的位移，
在从所述负载锁定室侧向所述处理室侧进行观察时，所述可动板比所述连通部的处理室侧的开口大。
假设当前将密封部、基座构件、连结棒和可动板视为一个构件，并将该构件称作“关注构件”。在载置台配置在大气状态的负载锁定室的状态下，隔着板状构件向处理室侧推压关注构件的大气的力的大小与连通部的处理室侧的开口的面积(沿着水平方向进行观察时的面积)成正比。另一方面，朝向负载锁定室侧推压关注构件的大气的力的大小与可动板的面积(沿着水平方向进行观察时的面积)成正比。在此，如果采用从负载锁定室侧向处理室侧进行观察时可动板比连通部的开口大的结构，则在载置台配置在大气状态的负载锁定室的状态下，即使移动机构的驱动力丧失，关注构件也会成为被推压于负载锁定室侧的状态，维持负载锁定室和处理室被分割开的状态。即，即使因停电等出乎意料的状况导致移动机构的驱动力丧失，也能够确保处理室的密封不被破坏。
发明的效果
在载置台在负载锁定室的状态下，连通部的处理室侧的开口被固定于载置台的密封部密封，因此，只要将对象物从处理室移送到负载锁定室，就会自然地成为负载锁定室和处理室被分割开的状态。因而，能够将负载锁定室与处理室之间的更换动作所需要的时间抑制得较短。
附图说明
图1是表示质谱分析仪的一部分的纵剖视图，是表示载置台在负载锁定室侧的状态的图。
图2是表示质谱分析仪的一部分的纵剖视图，是表示载置台在处理室侧的状态的图。
图3是对板状构件从图1的-X方向进行观察而得到的图。
图4是从图1的-X方向观察载置台和密封部而得到的图。
图5是用于说明与连通部的封闭相关的结构的主要部分放大图。
图6是用于说明与连通部的封闭相关的结构的另一主要部分放大图。
图7是用于说明与连通部的封闭相关的结构的又一主要部分放大图。
图8是用于说明作用于关注构件的大气的力的图。
图9是用于说明其他实施方式的与连通部的封闭相关的结构的主要部分放大图。
具体实施方式
以下，边参照附图边说明本发明的优选的实施方式。
＜1.实施方式的真空处理装置＞
图1、图2是表示作为真空处理装置的一例的质谱分析仪1的一部分的纵剖视图。图1示出了载置台5在负载锁定室2侧的状态，图2示出了载置台5在处理室3侧的状态。
质谱分析仪1是在真空下向对象物(试样90(参照图4))照射激光使其离子化并根据质荷比分离、检测飞行离子的装置。其中，试样90被保持在试样板9上。具体而言，试样板9是板状的构件，其上表面形成有多个凹部91。通过向该多个凹部91中的各凹部滴下试样90，而在试样板9上保持试样90(参照图4)。
质谱分析仪1包括：负载锁定室2，其用于与装置外部之间以及与处理室3之间交接试样板9；处理室3，其用于对保持于试样板9的试样90进行处理；以及排气系统4，其用于对负载锁定室2和处理室3分别独立地进行排气。负载锁定室2和处理室3相连续地设置，它们之间形成有使负载锁定室2与处理室3连通的连通部10。并且，质谱分析仪1还包括：载置台5，其供试样板9载置；密封部6，其固定于载置台5；以及移动机构7，其用于使载置台5移动。而且，质谱分析仪1还包括用于控制其所包括的各部并对试样板9执行一连串的处理的控制部8。
＜负载锁定室2＞
如上述那样，负载锁定室2是用于与装置外部之间以及与处理室3之间交接试样板9的室，形成为交接试样板9所需要的最小限度的大小。具体而言，负载锁定室2形成为其内容积为能够收纳载置台5的供试样板9载置的载置部分51的所需最小限度的大小。以下，“载置台5在负载锁定室2侧的状态”是指供试样板9载置的整个载置部分51配置在负载锁定室2内的状态。
负载锁定室2包括试样板9的插入口21和用于开闭插入口21的门22。在载置台5在负载锁定室2侧的状态下，载置台5的顶端到达插入口21的附近，在该状态下，操作者能够从插入口21插入试样板9并将其载置于载置台5的载置部分51。
负载锁定室2经由嵌插有阀41的配管与真空泵43连接。在门22被关闭并且连通部10被封闭时，负载锁定室2成为密闭空间。在该状态下，若真空泵43被驱动并且阀41被打开时，则负载锁定室2会成为真空状态。
＜处理室3＞
在处理室3中进行这样的处理：在真空下，向保持于载置台5上的试样板9的试样90照射来自激光源(未图示)的激光使其离子化，利用引出极31引出离子化物质。其中，如上述那样，试样90保持于试样板9的多个凹部91中的各凹部。为了向保持于各凹部91的试样90依次照射激光，一边利用移动机构7使载置台5相对于激光源在处理室3内移动一边进行上述的处理。利用引出极31引出的物质被加速，并被根据质荷比分离、检测(分离和检测的结构未图示)。
另外，在想要利用引出极31引出离子化物质时，对引出极31施加几kV的脉冲高电压，以在其与试样板9之间形成期望的电场梯度。在此，试样板9与引出极31之间的分开距离越大，则施加于引出极31的电压必须越大，而若想要对引出极31施加较大的电压，则需要使电源大型化、提高与电压供给相关的零件的耐压性等。由于存在这样的情况，因此优选引出极31位于非常靠近试样板9的位置(优选与试样板9之间的分开距离为几mm左右的位置)。因此，在质谱分析仪1中，引出极31被配置为其下端位于与载置于载置台5的试样板9的上表面所通过的水平面分开非常小的距离(例如3mm)的位置。
处理室3经由嵌插有阀42的配管与真空泵43连接。在连通部10被封闭时，处理室3成为密闭空间。在该状态下，若真空泵43被驱动并且阀42被打开，则处理室3会成为真空状态，能够执行上述的处理。但是，如后述那样，处理室3在连续地处理多张试样板9的期间维持在期望的真空度，不用每次更换试样板9都对处理室3抽真空。
＜载置台5＞
载置台5是供试样板9载置的构件。具体而言，在载置台5的一端部(顶端部)形成有供试样板9载置的为平坦的区域的载置部分51。载置台5的另一端部(基端部)借助密封部6与移动机构7连结，在该连结状态下，载置部分51是水平的。
载置台5的基端部固定于密封部6，在该基端部形成有随着向密封部6靠近而向斜下方倾斜的倾斜部分52。这与后述的板状构件11的贯通口17倾斜地形成相对应，倾斜部分52的倾斜角度与贯通口17的倾斜角度相同。
＜移动机构7＞
移动机构7是用于使载置台5在水平面内(具体而言，沿着X方向(负载锁定室2和处理室3的排列方向)和Y方向)移动的机构。该移动机构7是用于使载置台5经由连通部10在处理室3与负载锁定室2之间移动的机构，并且如上述那样还是用于使载置台5在处理室3内移动(即，相对于激光源移动)的机构。
移动机构7包括与密封部6连结的基座构件71。基座构件71固定在线性块713上，该线性块713配置在沿着Y方向铺设在处理室3内的Y导轨712上。并且，Y导轨712固定在线性块715上，该线性块715配置在沿着X方向铺设在处理室3内的X导轨(第1导轨)714上。X导轨714和Y导轨712以水平延伸的方式铺设，以确保借助密封部6与基座构件71连结的载置台5的载置部分51在水平面内移动。
基座构件71与连结棒72的一端固定在一起。连结棒72贯穿被形成于处理室3的侧壁的孔，连结棒72的另一端与配置在处理室3的外部的可动板73连结。在从负载锁定室2侧向处理室3侧进行观察时，可动板73为比连通部10的处理室3侧的开口300大的大小。
可动板73与处理室3的外壁之间利用波纹管74密闭。即，波纹管74的一端安装于处理室3的外壁，并且另一端安装于可动板73，波纹管74以保持处理室3的气密性的状态追随可动板73的位移。
可动板73与用于使其沿着Y方向移动的Y驱动器731连接。可动板73和Y驱动器731配置在X载置台733上，该X载置台733搭载在沿着X方向铺设的X导轨(第2导轨)732上。X载置台733与用于使其沿着X方向移动的X驱动器734连接。Y驱动器731、第2导轨732、X载置台733和X驱动器734配置在处理室3的外部。其中，优选第1导轨714和第2导轨732配置在共用的基台70上，以容易确保彼此的位置精度。另外，X驱动器734和Y驱动器731能够采用例如基于滚珠丝杠的驱动方式、基于线性马达的驱动方式或者带驱动方式等。
＜2.与连通部10的封闭相关的结构＞
在质谱分析仪1中，在载置台5配置在负载锁定室2时，连通部10封闭。对于与连通部10的封闭相关的结构，除了参照图1、图2之外，还参照图3～图7进行说明。图3是对板状构件11从图1的-X方向进行观察而得到的图。图4是对载置台5和密封部6从图1的-X方向进行观察而得到的图。图5～图7是用于说明与连通部10的封闭相关的结构的主要部分放大图。图5示出了载置台5在负载锁定室2侧而连通部10封闭的状态。图6示出了载置台5从负载锁定室2侧向处理室3侧移动的中途的状态。图7示出了载置台5在处理室3侧的状态。
＜板状构件11＞
板状构件11是比连通部10的处理室3侧的开口(即，连通部10在处理室3的内壁30的开口，以下，也简称为“开口”)300大的平板状的构件，被设为利用其主表面从处理室3侧覆盖开口300的周围的区域。具体而言，在处理室3的内壁30且是开口300的上部配置有水平延伸的转动轴12。铰链构件13能够转动地配置于该转动轴12，板状构件11的上侧利用螺纹件14等固定于该铰链构件13。由此，板状构件11被设为能够在与内壁30抵接的关闭状态(图5所示的状态)和与内壁30分开的打开状态(图6、图7所示的状态)之间切换。
铰链构件13是组装有施力构件(具体而言，例如扭簧)15的所谓的弹簧铰链。板状构件11被该施力构件15始终朝向远离处理室3的内壁30的方向(即，打开方向)施力(箭头AR11)。
在处理室3的内壁30且是比开口300靠下侧的位置设有限制构件16，该限制构件16用于限制板状构件11与内壁30所成的角度，以避免其大于预定的角度。限制构件16例如是截面为L字状的构件，在板状构件11与处理室3的内壁30所成的角度成为预定的角度时，卡挂于该板状构件11的下部，而限制该角度以避免其大于预定的角度(图6、图7所示的状态)。具体而言，该预定的角度是这样的角度：在板状构件11与处理室3的内壁30所成的角度为该预定的角度时，后述的第2开口端172位于与载置台5的高度(具体而言，载置台5移动的水平面的高度)相同的高度。
在板状构件11形成有供载置台5通过的贯通口17。贯通口17形成为随着远离处理室3的内壁30而向斜下方倾斜，相比于在与内壁30相对的面开口的开口端(第1开口端)171而言，在与内壁30相反的一侧的面开口的开口端(第2开口端)172形成在较低的位置。其中，第1开口端171形成于在板状构件11处于关闭状态时与开口300相对应的位置(具体而言，与开口300重合的位置)。因而，第2开口端172配置在比开口300低的位置。如上述那样，在载置台5的基端部形成有以与贯通口17相同的角度倾斜的倾斜部分52，在载置台5在负载锁定室2侧的状态下，倾斜部分52成为配置在该贯通口17的内部的状态(图5所示的状态)。
另外，在本实施方式中，连通部10的开口300以及贯通口17的各开口端(第1开口端171和第2开口端172)全都为大致相同的形状和大致相同的大小。
在板状构件11形成有用于密封其与内壁30之间的密封部(第1密封部)18。具体而言，第1密封部18是包围第1开口端171的堤坝状的突起，在板状构件11处于关闭状态时，第1密封部18的整周将开口300和第1开口端171一并包围起来，并以贴紧状态与内壁30抵接。
另外，在本实施方式中，在内壁30也形成有用于密封其与板状构件11之间的密封部(第2密封部)33。具体而言，第2密封部33是包围开口300的堤坝状的突起，在板状构件11处于关闭状态时，第2密封部33的整周将开口300和第1开口端171一并包围起来，并以贴紧状态与板状构件11抵接。当然，第1密封部18和第2密封部33形成在互不干涉的位置，并且彼此为相同的高度。但也可以省略第1密封部18和第2密封部33中的一者。
＜密封部6＞
如上述那样，密封部6固定于载置台5的一端部(基端部)。密封部6的安装有载置台5的基端部的面(以下也称作“密封面”)60的尺寸大于形成于板状构件11的贯通口17的第2开口端172的尺寸，密封部6不会进入贯通口17内。因而，在载置台5向负载锁定室2侧移动时，在某一时刻密封部6与板状构件11抵接，如果载置台5进一步移动，则密封部6克服施力构件15的作用力(具体而言，弹簧铰链的弹簧力)使板状构件11转动而最终将板状构件11推压于处理室3的内壁30(即，使板状构件11为关闭状态)。
在密封面60形成有用于密封其与板状构件11之间的密封部(第3密封部)61。具体而言，第3密封部61是能够包围第2开口端172的堤坝状的突起，在载置台5配置在负载锁定室2侧时，第3密封部61的整周包围第2开口端172，并以贴紧状态与板状构件11抵接。
如上述那样，在载置台5的基端部形成有以与板状构件11的贯通口17相同的角度倾斜的倾斜部分52，与倾斜部分52的倾斜相应地，密封部6相对于载置台5的上表面而言位置较低。因此，能够确保密封部6与引出极31互不干涉。
＜3.质谱分析仪1的动作＞
接着，参照图1～图7说明质谱分析仪1的动作。其中，以下要说明的一连串的动作是在控制部8的控制下进行的。
在质谱分析仪1能够接收新的试样板9的状态下，载置台5配置在负载锁定室2侧，并且门22处于打开状态(图1所示的状态)。在载置台5配置在负载锁定室2时，成为载置台5的倾斜部分52配置在贯通口17的内部的状态，密封部6与板状构件11抵接，板状构件11为关闭状态。并且，此时，板状构件11与处理室3的内壁30之间被第1密封部18和第2密封部33密封，并且板状构件11与密封面60之间被第3密封部61密封。因此，连通部10的开口300被封闭。因而，即使打开门22，处理室3的真空也不会被破坏。
在门22被打开时，操作者将保持有试样90的试样板9从插入口21插入并将试样板9载置于载置台5的载置部分51。在利用未图示的传感器等检测到载置台5上载置有新的试样板9时，关闭门22而封闭插入口21，负载锁定室2成为密闭空间。之后，驱动真空泵43并打开阀41。由此，负载锁定室2被减压。
在负载锁定室2成为期望的真空状态时，移动机构7开始使载置有试样板9的载置台5从负载锁定室2侧向处理室3侧移动。在载置台5开始移动时，与密封部6抵接而成为关闭状态的板状构件11在施力构件15的作用力下转动而逐渐远离处理室3的内壁30。并且，在板状构件11与内壁30所成的角度成为预定的角度时，板状构件11被限制构件16卡住，板状构件11的转动停止。之后，在使载置台5进一步向处理室3侧移动而试样板9到达处理室3内的期望位置时，开始对试样板9进行处理。在处理室3进行的处理的内容如上述那样。
在对试样板9进行的处理结束时，移动机构7开始使载置有试样板9的载置台5从处理室3侧向负载锁定室2侧移动。载置台5的顶端依次经由板状构件11的贯通口17和连通部10进入负载锁定室2。另外，如上述那样，板状构件11的姿势被限制构件16限制为第2开口端172到达载置台5移动的高度。因而，载置台5不会被第2开口端172卡住，能够从贯通口17通过。
在载置台5移动一定距离时，密封部6与板状构件11抵接。在使载置台5进一步移动时，板状构件11被密封部6推压而克服施力构件15的作用力进行转动。之后，在载置台5完全配置在负载锁定室2侧时，板状构件11与处理室3的内壁30抵接而成为关闭状态。如上述那样，此时，开口300被封闭。
在载置台5配置在负载锁定室2侧后，破坏负载锁定室2的真空，打开门22。如上述那样，在载置台5在负载锁定室2侧时，开口300被封闭，因此，即使打开门22，处理室3的真空也不会被破坏。在操作者经由插入口21取出试样板9时，质谱分析仪1返回到能够接收新的试样板9的状态。
＜4.丧失动力时＞
参照图1、图8说明这样的情况：在质谱分析仪1中，在载置台5配置在大气状态的负载锁定室2时，因停电等出乎意料的状况导致移动机构7的驱动力丧失。在以下的说明中，将密封部6、基座构件71、连结棒72和可动板73视为一个构件，以下，将该构件称作“关注构件80”。图8是用于说明作用于关注构件80的大气的力的图。
假设当前负载锁定室2为大气状态，处理室3为真空状态，载置台5配置在负载锁定室2侧(图1所示的状态)。此时，隔着板状构件11向处理室3侧推压关注构件80的大气的力F1的大小与连通部10的处理室3侧的开口300的面积(从负载锁定室2侧向处理室3侧进行观察时的面积)A1成正比。另一方面，朝向负载锁定室2侧推压关注构件80的大气的力F2的大小与可动板73的面积(从负载锁定室2侧向处理室3侧进行观察时的面积)A2成正比。
在此，可动板73形成为其面积A2大于开口300的面积A1。因而，与朝向处理室3侧推压关注构件80的大气的力F1相比，朝向负载锁定室2侧推压关注构件80的大气的力F2较大。因此，即使移动机构7的驱动力丧失，关注构件80也会在大气的力的作用下维持在被推压于负载锁定室2侧的状态。即，维持负载锁定室2和处理室3被分割开的状态。像这样，在质谱分析仪1中，即使在负载锁定室2为大气状态时因停电等出乎意料的状况导致移动机构7的驱动力丧失，也能够确保处理室3的密封不被破坏。
＜5.其他实施方式＞
在上述实施方式中，也可以在板状构件11的靠密封部6侧的面设置用于密封板状构件11与密封部6之间的密封部。具体而言，这样的密封部是包围第2开口端172的堤坝状的突起，在密封部6与板状构件11抵接时，该密封部的整周包围第2开口端172，并以贴紧状态与密封面60抵接。在设置这样的密封部的情况下，也可以省略第3密封部61。
在上述实施方式中，并非一定要设置板状构件11。图9示出了不设置板状构件11的情况的结构例。在该情况下，载置台5a整体由平板状的构件形成，没有形成倾斜的部分。并且，密封部6a的密封面60a的尺寸大于连通部10的开口300的尺寸，密封部6a不会进入连通部10内。并且，在密封面60a形成有用于密封其与处理室3的内壁30之间的密封部(第4密封部)61a。具体而言，第4密封部61a是能够包围开口300的堤坝状的突起，在载置台5a配置在负载锁定室2侧时，第4密封部61a的整周包围开口300，并以贴紧状态与内壁30抵接。
另外，优选的是，在内壁30也形成有用于密封其与密封部6a之间的密封部(第5密封部)33a。具体而言，第5密封部33a是包围开口300的堤坝状的突起，在载置台5a配置于负载锁定室2时，第5密封部33a的整周包围开口300，并以贴紧状态与密封面60a抵接。当然，第4密封部61a和第5密封部33a形成在互不干涉的位置，并且彼此为相同的高度。但也可以省略第4密封部61a和第5密封部33a中的一者。
在上述实施方式中，在板状构件11设有对其向打开方向施力的施力构件15，并且设有用于限制板状构件11的姿势的限制构件16，但这些结构并不是必须的。例如，也可以是这样的形态：设置用于开闭板状构件11的开闭开关等，控制部8控制该开闭开关。
在上述实施方式中，示出了本发明应用于质谱分析仪的情况，但本发明能够应用于除质谱分析仪以外的各种真空处理装置。
附图标记说明
1、质谱分析仪；2、负载锁定室；3、处理室；4、排气系统；5、载置台；6、密封部；7、移动机构；8、控制部；9、试样板；10、连通部；11、板状构件；12、转动轴；13、铰链构件；15、施力构件；16、限制构件；17、贯通口；18、第1密封部；33、第2密封部；51、载置部分；52、倾斜部分；60、密封面；61、第3密封部；71、基座构件；72、连结棒；73、可动板；74、波纹管；171、板状构件的第1开口端；172、板状构件的第2开口端；300、连通部的开口。

Claims (4)

1.一种真空处理装置，其中，
该真空处理装置包括：
处理室，能够使其内部为真空状态；
负载锁定室，其与所述处理室相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；
连通部，其使所述处理室与所述负载锁定室连通；
载置台，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由所述连通部在所述处理室与所述负载锁定室之间移动；
密封部，其固定于所述载置台，比所述连通部的所述处理室侧的开口大；
板状构件，其被水平设置于所述处理室的内壁的位于所述连通部的所述处理室侧的开口的上部的位置的转动轴轴支承，并且被设为能够在与所述内壁抵接的关闭状态和与所述内壁分开的打开状态之间切换；以及
贯通口，其形成于所述板状构件，用于供所述载置台通过，
所述贯通口的所述内壁侧的开口端形成于在所述板状构件处于关闭状态时与所述连通部的所述处理室侧的开口相对应的位置，并且所述贯通口形成为随着远离所述内壁而向斜下方倾斜，
在所述载置台的固定有所述密封部的一侧的端部形成有倾斜部分，该倾斜部分随着向所述密封部靠近而以与所述贯通口相同的角度向斜下方倾斜，
所述密封部比所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端大，
在所述载置台在所述负载锁定室侧的状态下，所述载置台的所述倾斜部分成为配置在所述贯通口的内部的状态，并且所述密封部与所述板状构件抵接，所述板状构件为关闭状态。
2.根据权利要求1所述的真空处理装置，其中，
该真空处理装置还包括：
施力构件，其用于对所述板状构件向远离所述处理室的内壁的方向施力；以及
限制构件，其用于限制所述板状构件与所述处理室的内壁所成的角度，以避免其大于预定的角度，
在所述板状构件与所述处理室的内壁所成的角度为所述预定的角度时，所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端位于与所述载置台相同的高度。
3.根据权利要求1或2所述的真空处理装置，其中，
该真空处理装置还包括用于使所述载置台移动的移动机构，
所述移动机构包括：
基座构件，其与所述密封部连结；
第1导轨，其用于在所述处理室的内部引导所述基座构件；
连结棒，其一端与所述基座构件连结，并且贯穿被形成于所述处理室的侧壁的孔，另一端配置在所述处理室的外部；
可动板，其连结于所述连结棒的所述另一端；
第2导轨，其用于引导所述可动板；以及
波纹管，其配置在所述可动板与所述侧壁之间，以保持所述处理室的气密性的状态追随所述可动板的位移，
在从所述负载锁定室侧向所述处理室侧进行观察时，所述可动板比所述连通部的处理室侧的开口大。
4.一种质谱分析仪，其中，
该质谱分析仪包括：
处理室，能够使其内部为真空状态；
负载锁定室，其与所述处理室相连续地设置，能够在大气状态和真空状态之间切换；
连通部，其使所述处理室与所述负载锁定室连通；
载置台，其供作为处理对象的对象物载置，能够经由所述连通部在所述处理室与所述负载锁定室之间移动；
密封部，其固定于所述载置台，比所述连通部的所述处理室侧的开口大；
板状构件，其被水平设置于所述处理室的内壁的位于所述连通部的所述处理室侧的开口的上部的位置的转动轴轴支承，并且被设为能够在与所述内壁抵接的关闭状态和与所述内壁分开的打开状态之间切换；以及
贯通口，其形成于所述板状构件，用于供所述载置台通过，
所述贯通口的所述内壁侧的开口端形成于在所述板状构件处于关闭状态时与所述连通部的所述处理室侧的开口相对应的位置，并且所述贯通口形成为随着远离所述内壁而向斜下方倾斜，
在所述载置台的固定有所述密封部的一侧的端部形成有倾斜部分，该倾斜部分随着向所述密封部靠近而以与所述贯通口相同的角度向斜下方倾斜，
所述密封部比所述贯通口的与所述内壁相反的一侧的开口端大，
在所述载置台在所述负载锁定室侧的状态下，所述载置台的所述倾斜部分成为配置在所述贯通口的内部的状态，并且所述密封部与所述板状构件抵接，所述板状构件为关闭状态。
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