JPWO2016098400A1 - 撮像装置組立体、3次元形状測定装置及び動き検出装置 - Google Patents
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Abstract
Description
y=L・tan(β)・tan(α)/{tan(α)+tan(β)} (A)
参照光パターンを出射する光源、
撮像装置、並びに、
光源及び撮像装置を制御する制御装置、
を備えており、
制御装置の制御下、光源は、参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体に向けて出射し、
撮像装置は、高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を制御装置に出力し、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を制御装置に出力し、
制御装置は、第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する。
偏光された参照光パターンを出射する光源、
撮像装置、並びに、
光源及び撮像装置を制御する制御装置、
を備えており、
撮像装置は、参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光軸を有する第1偏光子、及び、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光軸を有する第2偏光子を備えており、
撮像装置は、第1偏光子を通過した偏光光に基づき得られた第1画像信号を制御装置に出力し、第2偏光子を通過した偏光光に基づき得られた第2画像信号を制御装置に出力し、
制御装置は、第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する。
1.本開示の第1の態様〜第2の態様に係る撮像装置組立体、本開示の3次元形状測定装置、本開示の動き検出装置全般に関する説明
2.実施例1(本開示の第1の態様に係る撮像装置組立体)
3.実施例2(実施例1の変形)
4.実施例3(実施例1〜実施例2の変形)
5.実施例4(本開示の第2の態様に係る撮像装置組立体)
6.実施例5(実施例4の変形)
7.実施例6(実施例4の別の変形)
8.その他
本開示の第1の態様〜第2の態様に係る撮像装置組立体、あるいは又、本開示の3次元形状測定装置、本開示の動き検出装置に備えられた本開示の第1の態様〜第2の態様に係る撮像装置組立体を、総称して、『本開示の撮像装置組立体等』と呼ぶ場合があるし、本開示の第1の態様に係る撮像装置組立体、あるいは又、本開示の3次元形状測定装置、本開示の動き検出装置に備えられた本開示の第1の態様に係る撮像装置組立体を、総称して、『本開示の第1の態様に係る撮像装置組立体等』と呼ぶ場合があるし、本開示の第2の態様に係る撮像装置組立体、あるいは又、本開示の3次元形状測定装置、本開示の動き検出装置に備えられた本開示の第2の態様に係る撮像装置組立体を、総称して、『本開示の第2の態様に係る撮像装置組立体等』と呼ぶ場合がある。
T1>T2
を満足する構成とすることができる。撮像装置組立体の使用者からの指示に基づき、撮像時間T1,T2を可変とすることもできるし、T1/T2の割合を可変とすることもできる。
1撮像フレームは複数の期間に分割されており、
その内の1つの期間は低輝度照射状態とされ、
残りの期間は高輝度照射状態とされる構成とすることができる。そして、この場合、限定するものではないが、
撮像フレームレートは30フレーム/秒であり、
1撮像フレームは、2以上の期間(例えば、2乃至4)に分割されている構成とすることができる。
撮像装置は、第1の方向及び第2の方向に2次元マトリクス状に配列された撮像素子を有し、
撮像装置は、ローリングシャッター機構を有し、
制御装置は、高輝度照射状態において全ての撮像素子が参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を制御装置に出力し、低輝度照射状態において全ての撮像素子が少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を制御装置に出力ように、光源及び撮像装置を制御する形態とすることができる。
T1>T2
を満足することが好ましく、これによって、光源から出射される参照光パターンの輝度(光源の発する光の光量)の低減を図ることができる。但し、これに限定するものではなく、例えば、
T1/T2=1
とすることもできる。撮像時間T1,T2は、撮像装置の仕様等に基づき決定すればよい。
参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体を照射し、
高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を得る一方、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する。
偏光された参照光パターンを被写体に照射し、
参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光した偏光光に基づき第1画像信号を得る一方、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光した偏光光、又は、偏光方向に依らない光に基づき第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する。
参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体を照射し、
高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を得る一方、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成し、
参照光パターン画像信号から3次元形状を算出する。
偏光された参照光パターンを被写体に照射し、
参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光した偏光光に基づき第1画像信号を得る一方、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光した偏光光、又は、偏光方向に依らない光に基づき第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成し、
参照光パターン画像信号から3次元形状を算出する。
参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体を照射し、
高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を、順次、撮像して第1画像信号を得る一方、低輝度照射状態において少なくとも被写体を、順次、撮像して第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を、順次、生成し、
参照光パターン画像に基づき、被写体の3次元形状を、順次、算出し、算出した3次元形状から被写体の特徴点を、順次、抽出して被写体の特徴点の位置を、順次、算出し、算出した特徴点の位置の変化から被写体の動きを検出する。
偏光された参照光パターンを被写体に照射し、
参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光した偏光光に基づき第1画像信号を、順次、得る一方、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光した偏光光、又は、偏光方向に依らない光に基づき第2画像信号を、順次、得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を、順次、生成し、
参照光パターン画像に基づき、被写体の3次元形状を、順次、算出し、算出した3次元形状から被写体の特徴点を、順次、抽出して被写体の特徴点の位置を、順次、算出し、算出した特徴点の位置の変化から被写体の動きを検出する。
T1>T2
とした。シャッター機構として、グローバルシャッター機構、ローリングシャッター機構のいずれも用いることができる。図12A、図12B、図13A、図13Bに、シャッター機構としてローリングシャッター機構を用いた場合の、1撮像フレーム当たりの撮像時間T1,T2を模式的に示す。図12A、図12B、図13A、図13Bに示す例にあっては、1秒当たりの撮像フレーム数を30(撮像フレームレート:30fps)とし、1撮像フレームは、2以上の期間、具体的には、4つの期間に均等に分割されている。各図において、時刻t11からt12にあっては高輝度照射状態にある。また、時刻t21からt22にあっては低輝度照射状態にある。
(第1画像信号)−{2+(期間−3の時間長さ)/(T2の時間長さ)}×(第2画像信号)
被写体からの光を集光するレンズ系20、並びに、
X軸方向及びY軸方向の2次元マトリクス状に撮像素子41が配列されて成り、光入射側に第1偏光子221、第2偏光子222を有し、レンズ系20によって集光された光を電気信号に変換する撮像素子アレイ40、
を具備している。各偏光子221,222の消光比は、例えば、3以上、より具体的には10以上である。
[A01]《撮像装置組立体:第1の態様》
参照光パターンを出射する光源、
撮像装置、並びに、
光源及び撮像装置を制御する制御装置、
を備えており、
制御装置の制御下、光源は、参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体に向けて出射し、
撮像装置は、高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を制御装置に出力し、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を制御装置に出力し、
制御装置は、第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する撮像装置組立体。
[A02]制御装置はフレームメモリを備えており、
第1画像信号及び第2画像信号のいずれか一方をフレームメモリに記憶する[A01]に記載に撮像装置組立体。
[A03]高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像するときの撮像時間をT1、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像するときの撮像時間をT2としたとき、
T1>T2
を満足する[A01]又は[A02]に記載に撮像装置組立体。
[A04]撮像装置組立体の使用者からの指示に基づき、撮像時間T1,T2は可変とされ、又は、T1/T2の割合は可変とされる[A03]に記載の撮像装置組立体。
[A05]1撮像フレームは複数の期間に分割されており、
その内の1つの期間は低輝度照射状態とされ、
残りの期間は高輝度照射状態とされる[A01]又は[A02]に記載に撮像装置組立体。
[A06]撮像フレームレートは30フレーム/秒であり、
1撮像フレームは、2以上の期間に分割されている[A05]に記載の撮像装置組立体。
[A07]高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像する撮像期間と、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像する撮像期間が繰り返され、前者の撮像期間が後者の撮像期間よりも長い[A01]又は[A02]に記載に撮像装置組立体。
[A08]撮像装置は、第1の方向及び第2の方向に2次元マトリクス状に配列された撮像素子を有し、
撮像装置は、ローリングシャッター機構を有し、
制御装置は、高輝度照射状態において全ての撮像素子が参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を制御装置に出力し、低輝度照射状態において全ての撮像素子が少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を制御装置に出力ように、光源及び撮像装置を制御する[A01]乃至[A07]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[A09]高輝度出射状態において光源は動作状態とされ、低輝度出射状態において光源は不動作状態とされる[A01]乃至[A08]のいずれか1項に記載に撮像装置組立体。
[A10]撮像装置を1つ備えている[A01]乃至[A09]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[A11]制御装置は、得られた参照光パターン画像信号から、アクティブステレオ法に基づき、撮像装置から被写体までの距離を求める[A10]に記載の撮像装置組立体。
[A12]撮像装置はステレオ撮像装置から構成されている[A01]乃至[A09]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[A13]制御装置は、得られた参照光パターン画像信号から、ステレオ法に基づき、撮像装置から被写体までの距離を求める[A12]に記載の撮像装置組立体。
[A14]光源は赤外線を出射する[A01]乃至[A13]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[A15]光源は半導体発光素子から成る[A01]乃至[A14]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[B01]《撮像装置組立体:第2の態様》
偏光された参照光パターンを出射する光源、
撮像装置、並びに、
光源及び撮像装置を制御する制御装置、
を備えており、
撮像装置は、参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光軸を有する第1偏光子、及び、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光軸を有する第2偏光子を備えており、
撮像装置は、第1偏光子を通過した偏光光に基づき得られた第1画像信号を制御装置に出力し、第2偏光子を通過した偏光光に基づき得られた第2画像信号を制御装置に出力し、
制御装置は、第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する撮像装置組立体。
[B02]制御装置はフレームメモリを備えており、
第1画像信号及び第2画像信号のいずれか一方をフレームメモリに記憶する[B01]に記載に撮像装置組立体。
[B03]撮像装置を1つ備えており、
撮像装置は、第1偏光子及び第2偏光子を備えている[B01]又は[B02]に記載の撮像装置組立体。
[B04]制御装置は、得られた参照光パターン画像信号から、アクティブステレオ法に基づき、撮像装置から被写体までの距離を求める[B03]に記載の撮像装置組立体。
[B05]撮像装置を2つ備えており、
一方の撮像装置は第1偏光子を備えており、他方の撮像装置は第2偏光子を備えている[B01]又は[B02]に記載の撮像装置組立体。
[B06]制御装置は、得られた参照光パターン画像信号から、アクティブステレオ法に基づき、撮像装置から被写体までの距離を求める[B05]に記載の撮像装置組立体。
[B07]撮像装置を2つ備えており、
各撮像装置は、第1偏光子及び第2偏光子を備えている[B01]又は[B02]に記載の撮像装置組立体。
[B08]制御装置は、得られた参照光パターン画像信号から、ステレオ法に基づき、撮像装置から被写体までの距離を求める[B07]に記載の撮像装置組立体。
[B09]光源は赤外線を出射する[B01]乃至[B08]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[B10]光源は半導体発光素子から成る[B01]乃至[B09]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体。
[C01]《3次元形状測定装置》
[A01]乃至[B10]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体を備えた3次元形状測定装置。
[C02]演算装置を更に備えており、
演算装置は、参照光パターン画像信号から被写体の3次元形状を算出する[C01]に記載の3次元形状測定装置。
[D01]《動き検出装置》
[A01]乃至[B10]のいずれか1項に記載の撮像装置組立体を備えた動き検出装置。
[D02]演算装置を更に備えており、
演算装置は、参照光パターン信号から被写体の3次元形状を算出し、算出した3次元形状から被写体の特徴点を抽出して被写体の特徴点の位置を算出し、算出した特徴点の位置の変化から被写体の動きを検出する[D01]に記載の動き検出装置。
[E01]《撮像方法:第1の態様》
参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体を照射し、
高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を得る一方、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する撮像方法。
[E02]《撮像方法:第2の態様》
偏光された参照光パターンを被写体に照射し、
参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光した偏光光に基づき第1画像信号を得る一方、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光した偏光光、又は、偏光方向に依らない光に基づき第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する撮像方法。
[E03]《3次元形状測定方法:第1の態様》
参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体を照射し、
高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を得る一方、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成し、
参照光パターン画像信号から3次元形状を算出する3次元形状測定方法。
[E04]《3次元形状測定方法:第2の態様》
偏光された参照光パターンを被写体に照射し、
参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光した偏光光に基づき第1画像信号を得る一方、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光した偏光光、又は、偏光方向に依らない光に基づき第2画像信号を得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成し、
参照光パターン画像信号から3次元形状を算出する3次元形状測定方法。
[E05]《動き検出方法:第1の態様》
参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体を照射し、
高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を、順次、撮像して第1画像信号を、順次、得る一方、低輝度照射状態において少なくとも被写体を、順次、撮像して第2画像信号を、順次、得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を、順次、生成し、
参照光パターン画像に基づき、被写体の3次元形状を、順次、算出し、算出した3次元形状から被写体の特徴点を、順次、抽出して被写体の特徴点の位置を、順次、算出し、算出した特徴点の位置の変化から被写体の動きを検出する動き検出方法。
[E06]《動き検出方法:第2の態様》
偏光された参照光パターンを被写体に照射し、
参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光した偏光光に基づき第1画像信号を、順次、得る一方、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光した偏光光、又は、偏光方向に依らない光に基づき第2画像信号を、順次、得た後、
第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を、順次、生成し、
参照光パターン画像に基づき、被写体の3次元形状を、順次、算出し、算出した3次元形状から被写体の特徴点を、順次、抽出して被写体の特徴点の位置を、順次、算出し、算出した特徴点の位置の変化から被写体の動きを検出する動き検出方法。
Claims (19)
- 参照光パターンを出射する光源、
撮像装置、並びに、
光源及び撮像装置を制御する制御装置、
を備えており、
制御装置の制御下、光源は、参照光パターンを高輝度及び低輝度のそれぞれで被写体に向けて出射し、
撮像装置は、高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を制御装置に出力し、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を制御装置に出力し、
制御装置は、第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する撮像装置組立体。 - 制御装置はフレームメモリを備えており、
第1画像信号及び第2画像信号のいずれか一方をフレームメモリに記憶する請求項1に記載に撮像装置組立体。 - 高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像するときの撮像時間をT1、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像するときの撮像時間をT2としたとき、
T1>T2
を満足する請求項1に記載に撮像装置組立体。 - 撮像装置組立体の使用者からの指示に基づき、撮像時間T1,T2は可変とされ、又は、T1/T2の割合は可変とされる請求項3に記載の撮像装置組立体。
- 1撮像フレームは複数の期間に分割されており、
その内の1つの期間は低輝度照射状態とされ、
残りの期間は高輝度照射状態とされる請求項1に記載の撮像装置組立体。 - 撮像フレームレートは30フレーム/秒であり、
1撮像フレームは、2以上の期間に分割されている請求項5に記載の撮像装置組立体。 - 高輝度照射状態において参照光パターン及び被写体を撮像する撮像期間と、低輝度照射状態において少なくとも被写体を撮像する撮像期間が繰り返され、前者の撮像期間が後者の撮像期間よりも長い請求項1に記載の撮像装置組立体。
- 撮像装置は、第1の方向及び第2の方向に2次元マトリクス状に配列された撮像素子を有し、
撮像装置は、ローリングシャッター機構を有し、
制御装置は、高輝度照射状態において全ての撮像素子が参照光パターン及び被写体を撮像して第1画像信号を制御装置に出力し、低輝度照射状態において全ての撮像素子が少なくとも被写体を撮像して第2画像信号を制御装置に出力ように、光源及び撮像装置を制御する請求項1に記載の撮像装置組立体。 - 高輝度出射状態において光源は動作状態とされ、低輝度出射状態において光源は不動作状態とされる請求項1に記載に撮像装置組立体。
- 撮像装置を1つ備えている請求項1に記載の撮像装置組立体。
- 撮像装置はステレオ撮像装置から構成されている請求項1に記載の撮像装置組立体。
- 偏光された参照光パターンを出射する光源、
撮像装置、並びに、
光源及び撮像装置を制御する制御装置、
を備えており、
撮像装置は、参照光パターンの偏光方向と平行な方向に偏光軸を有する第1偏光子、及び、参照光パターンの偏光方向と直交する方向に偏光軸を有する第2偏光子を備えており、
撮像装置は、第1偏光子を通過した偏光光に基づき得られた第1画像信号を制御装置に出力し、第2偏光子を通過した偏光光に基づき得られた第2画像信号を制御装置に出力し、
制御装置は、第1画像信号と第2画像信号との差分から参照光パターン画像信号を生成する撮像装置組立体。 - 制御装置はフレームメモリを備えており、
第1画像信号及び第2画像信号のいずれか一方をフレームメモリに記憶する請求項12に記載に撮像装置組立体。 - 撮像装置を1つ備えており、
撮像装置は、第1偏光子及び第2偏光子を備えている請求項12に記載の撮像装置組立体。 - 撮像装置を2つ備えており、
一方の撮像装置は第1偏光子を備えており、他方の撮像装置は第2偏光子を備えている請求項12に記載の撮像装置組立体。 - 請求項1乃至請求項15のいずれか1項に記載の撮像装置組立体を備えた3次元形状測定装置。
- 演算装置を更に備えており、
演算装置は、参照光パターン画像信号から被写体の3次元形状を算出する請求項16に記載の3次元形状測定装置。 - 請求項1乃至請求項15のいずれか1項に記載の撮像装置組立体を備えた動き検出装置。
- 演算装置を更に備えており、
演算装置は、参照光パターン信号から被写体の3次元形状を算出し、算出した3次元形状から被写体の特徴点を抽出して被写体の特徴点の位置を算出し、算出した特徴点の位置の変化から被写体の動きを検出する請求項18に記載の動き検出装置。
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