JPWO2016027397A1 - 固体撮像装置及びカメラ - Google Patents

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Abstract

複数の画素(21)で構成される撮像部(20)と、電荷蓄積期間を制御するとともに、複数の画素(21)から行単位で画素(21)を選択する行選択回路(25)と、行選択回路(25)で選択された画素(21)から信号を読み出す読み出し回路(30)とを備え、撮像部(20)を構成する複数の画素(21)のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素(21)のいずれかに分類され、行選択回路(25)は、撮像部(20)における同一行に配置された画素について、複数の種類のうちの第1の種類の画素(21)(G画素(21a)、R画素(21b)、B画素(21c))の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、第2の種類の画素(21)(IR画素(21d))の電荷蓄積期間が第2の電荷蓄積期間となるように、電荷蓄積期間を制御する。

Description

本発明は、行列状に配置された受光用の画素を備える固体撮像装置、及び、その固体撮像装置を備えるカメラに関する。
近年、デジタルカメラや携帯電話等における画質の向上を実現するために、様々な固体撮像装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1の固体撮像装置によれば、ベイヤー配列の1ユニットを構成するRGBG画素のうちの1つのGフィルタをIR(infrared)フィルタに置き換え、RGBフィルタを第1のモード用、IRフィルタを第2のモード用に振り分けて信号処理をすることにより、昼間での色再現性と夜間での感度向上とを両立している。
特開2005−6066号公報
しかしながら、上記従来の技術では、フィルタの光学特性の不完全性等により、各画素に不要な成分の光が混入してしまい、高い画質を得られない等の問題が生じる。具体的には、上記従来の技術では、各色フィルタの透過特性が完全ではないために、各画素における混色が問題となる。たとえば、可視光とIRの両方の成分をもつ光源を撮影した場合には、R画素、G画素、及び、B画素には、それぞれの色成分の光だけでなく、ある程度、IR成分の光も入射してしまう。また、IR画素には、IR成分の光だけでなく、ある程度、R成分等の光も混入してしまう。このような混色を補正するために、デジタルカメラ等では、固体撮像装置で得られた各色成分を示すデジタル値を用いてソフトウェア的に補正処理が行われるが、このような後処理では、画質向上の程度に限界がある。
なお、混色の問題は、画素を測距用のセンサとして用いた場合には、測距における精度の劣化となり、また、画素を試料の定性又は定量分析用のセンサとして用いた場合には、分析における精度の劣化となってしまう。よって、上記従来の技術では、混色により、信号処理の精度が劣化するという問題がある。
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、複数の種類の画素のそれぞれに不要な成分の光が混入してしまうことによる信号処理の精度の劣化を抑制することができる固体撮像装置及びその固体撮像装置を備えるカメラを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一形態に係る固体撮像装置は、行列状に配置され、電荷蓄積期間における受光量に応じて蓄積した電荷に応じた信号を保持する複数の画素で構成される撮像部と、前記電荷蓄積期間を制御するとともに、前記複数の画素から行単位で画素を選択する行選択回路と、前記行選択回路で選択された前記画素から、前記画素に保持された信号を読み出して出力する読み出し回路とを備え、前記撮像部を構成する複数の画素のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素のいずれかに分類され、前記行選択回路は、前記撮像部における同一行に配置された画素について、前記複数の種類のうちの第1の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、前記複数の種類のうちの前記第1の種類とは異なる第2の種類の画素の電荷蓄積期間が前記第1の電荷蓄積期間とは異なる第2の電荷蓄積期間となるように、前記電荷蓄積期間を制御する。
これにより、同一行の画素であっても、画素の種類に応じて独立した電荷蓄積期間を設けることができるので、画素の種類ごとに、その画素の種類に応じた最適なタイミング、又は、長さで、電荷蓄積期間を設けることで、信号処理の精度が向上される。たとえば、各画素にはその画素の種類に対応する光源からの光だけが入射するタイミングで電荷を蓄積させることができ、信号処理の精度(画質、測距精度、又は、分析精度等)の劣化が抑制される。
ここで、前記第1の種類の画素は、第1の波長帯の光を受光する画素であり、前記第2の種類の画素は、前記第1の波長帯とは異なる第2の波長帯の光を受光する画素であってもよい。
これにより、波長の異なる光源の種類と発光のタイミングとに同期させて各色成分用の画素の電荷蓄積期間を設定することで、画素における混色が抑制される。たとえば、IR光の発光期間では、IR光用の画素だけが電荷を蓄積し、可視光用の画素が電荷を蓄積しないように電荷蓄積期間を設けることができる。よって、画素における混色が抑制され、信号処理の精度(画質等)の劣化が抑制される。
また、前記第1の波長帯は、可視光の波長帯であり、前記第2の波長帯は、赤外光又は紫外光の波長帯であってもよい。
これにより、可視光用の画素と赤外光用の画素における混色、又は、可視光用の画素と紫外光用の画素における混色が抑制され、画質等の劣化が抑制される。
また、前記第1の種類の画素は、第1の方向からの光を受光する画素であり、前記第2の種類の画素は、前記第1の方向とは異なる第2の方向からの光を受光する画素であってもよい。
これにより、受光する光の方向が異なる光源の種類に応じて独立した電荷蓄積期間を設けることができるので、画素の種類ごとに、その画素の種類に応じた最適なタイミング、又は、長さで、電荷蓄積期間を設けることで、信号処理の精度(2方向からの光による信号を用いた測距精度)の劣化が抑制される。
また、前記第1の方向からの光は、前記第1の種類の画素において、画素がもつ受光領域のうちの全ての領域に入射される光であり、前記第2の方向からの光は、前記第2の種類の画素において、画素がもつ受光領域のうちの一部の領域に入射される光であるであってもよい。このとき、前記第1の電荷蓄積期間と前記第2の電荷蓄積期間とは、期間の長さが異なってもよい。
これにより、各画素では、各画素に入射する光の強さに応じた長さの期間だけ電荷が蓄積される。たとえば、受光領域のうちの一部の領域に光が入射する第2の種類の画素の電荷蓄積期間を、受光領域のうちの全ての領域に光が入射する第1の種類の画素の電荷蓄積期間よりも長く設定できる。よって、強度が弱い光を受光する第2の種類の画素について、光量不足による信号処理の精度の劣化が抑制される。
なお、前記第1の電荷蓄積期間と前記第2の電荷蓄積期間とは、一部が重複した期間であってもよい。
また、前記読み出し回路は、前記撮像部を構成する全ての前記第1の種類の画素から前記信号を読み出した後に、前記撮像部を構成する全ての前記第2の種類の画素から前記信号を読み出してもよい。
これにより、第1の種類の画素と、第2の種類の画素とで、読み出し方法(回路動作)が異なっている場合であっても、同一種類の全ての画素からの読み出しを終えるまで、読み出し方法を切り替える必要がなくなり、その結果、読み出し方法を切り替える頻度が低くなり、回路の動作が不安定になってしまうことが回避される。
また、前記読み出し回路は、前記第1の種類の画素から読み出した信号を第1の倍率で増幅し、前記第2の種類の画素から読み出した信号を前記第1の倍率とは異なる第2の倍率で増幅してもよい。
これにより、同一種類の全ての画素から信号を読み出し終えるまで、増幅の倍率を変更しなくて済むので、増幅の倍率を切り替える頻度が低くなり、回路の動作が不安定になってしまうことが回避される。
また、上記目的を達成するために、本発明の一形態に係るカメラは、上記いずれかの固体撮像装置を備えるカメラである。
これにより、同一行の画素であっても、画素の種類に応じて独立した電荷蓄積期間を設けることができるので、画素の種類ごとに、その画素の種類に応じた最適なタイミング、又は、長さで、電荷蓄積期間を設けることで、信号処理の精度(画質、測距精度、又は、分析精度等)の劣化が抑制される。
本発明に係る固体撮像装置及びカメラにより、複数の種類の画素のそれぞれに不要な成分の光が混入してしまうことによる信号処理の精度の劣化が抑制される。
図1は、本発明の実施の形態1における固体撮像装置の回路図である。 図2は、図1に示された撮像部と読み出し回路(画素電流源、クランプ回路及びS/H回路)の詳細な回路図である。 図3は、図1に示された読み出し回路を構成するカラムADCの詳細な回路図である。 図4は、図1に示された固体撮像装置の主要な動作を示すタイミングチャートである。 図5は、図1に示された固体撮像装置の電荷蓄積のタイミングを示す図である。 図6は、本発明の実施の形態2における固体撮像装置の回路図である。 図7は、図6に示された撮像部を構成する各画素の構造を示す断面図及び各画素の水平方向と感度の関係を示す図である。 図8は、図6に示された固体撮像装置の電荷蓄積のタイミングを示す図である。 図9は、GL画素及びGR画素に入射した光の強度の差分と被写体までの距離との関係を示す図である。 図10は、本発明の実施の形態3におけるカメラの外観図である。 図11は、図10に示されたカメラの構成の一例を示すブロック図である。
以下、本発明の一態様に係る固体撮像装置及びカメラについて、図面を参照しながら具体的に説明する。
なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも本発明の一具体例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、動作タイミング等は、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明する。
(実施の形態1)
まず、本発明の実施の形態1における固体撮像装置について説明する。
図1は、本発明の実施の形態1における固体撮像装置10の回路図である。この固体撮像装置10は、被写体からの受光量に応じた電気信号を出力するイメージセンサ(本実施の形態では、CMOSイメージセンサ)であり、撮像部20、行選択回路25及び読み出し回路30を備える。本実施の形態では、固体撮像装置10は、可視光画像と赤外光画像(近赤外光画像含む)の両方を同時に撮像できるイメージセンサである。
撮像部20は、行列状に配置され、電荷蓄積期間における受光量に応じて蓄積した電荷に応じた信号を保持する複数の画素21で構成される回路である。この撮像部20を構成する複数の画素21のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素(本実施の形態では、G画素21a、R画素21b、B画素21c、IR画素21d)のいずれかに分類される。なお、G画素21a、R画素21b、B画素21c及びIR画素21dは、それぞれ、G(緑)フィルタ、R(赤)フィルタ、B(青)フィルタ、及び、IR(赤外)フィルタを有する画素であり、図1に示されるように、ベイヤー配列における1つのG画素をIR画素に置き換えた配列で配置されている。IRフィルタは、例えば、RフィルタとBフィルタとを積層することで作製してもよい。RフィルタとBフィルタとは、いずれも、IR成分を透過する特性を有するので、RフィルタとBフィルタの両方を通過する光は、主にIR成分の光となる。
また、本実施の形態の撮像部20には、2列分の画素21ごとに、列方向に配置された1本の列信号線22が配置されている。つまり、この撮像部20は、列信号線22の左右に位置する2つの画素で1つのセルが構成される(つまり、行方向に並ぶ2個の受光素子ごとに1個の増幅トランジスタが設けられる)、いわゆる横2画素1セルの構成を備える。
行選択回路25は、撮像部20における電荷蓄積期間を制御するとともに、撮像部20を構成する複数の画素21から行単位で画素21を選択する回路である。この行選択回路25は、撮像部20における電荷蓄積期間の制御として、電子シャッターにより、撮像部20における同一行に配置された画素について、複数の種類のうちの第1の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、複数の種類のうちの第1の種類とは異なる第2の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間とは異なる第2の電荷蓄積期間となるように、電荷蓄積期間を制御する。第1の種類の画素は、第1の波長帯(ここでは、可視光の波長帯)の光を受光する画素であり、本実施の形態では、G画素21a、R画素21b、B画素21cである。また、第2の種類の画素は、第1の波長帯とは異なる第2の波長帯(ここでは、赤外光)の光を受光する画素であり、本実施の形態では、IR画素である。
読み出し回路30は、行選択回路25で選択された画素21から、その画素21に保持された信号(画素信号)を読み出して出力する回路であり、画素電流源31、クランプ回路32、S/H(サンプルホールド)回路33、及び、カラムADC34を有する。画素電流源31は、列信号線22を介して画素21から信号を読み出すための電流を列信号線22に供給する回路である。クランプ回路32は、相関2重サンプリングによって画素21で発生する固定パターンノイズを除去するための回路である。S/H回路33は、画素21から列信号線22に出力された画素信号を保持する回路である。カラムADC34は、S/H回路33でサンプルホールドされた画素信号をデジタルに変換する回路である。
図2は、図1に示された撮像部20、並びに、読み出し回路30の画素電流源31、クランプ回路32及びS/H回路33の詳細な回路図である。なお、本図では、1本の列信号線22に関連する回路だけが図示されている。また、撮像部20については、偶数行の画素だけが図示されている。
B画素21cは、PD(受光素子)40、FD(フローティングディフュージョン)41、リセットトランジスタ42、転送トランジスタ43、増幅トランジスタ44及び行選択トランジスタ45を備える。PD(受光素子)40は、受光した緑色光を光電変換する素子であり、このB画素21cの受光量に応じた電荷を発生する。FD(フローティングディフュージョン)41は、PD40及び46で発生した電荷を保持するコンデンサである。リセットトランジスタ42は、PD40及び46、並びに、FD41をリセットするための電圧を印加するのに用いられるスイッチトランジスタである。転送トランジスタ43は、PD40に蓄積された電荷をFD41に転送するためのスイッチトランジスタである。増幅トランジスタ44は、FD41における電圧を増幅するトランジスタである。行選択トランジスタ45は、増幅トランジスタ44を列信号線22に接続し、これによって、このB画素21cからの画素信号を列信号線22に出力させるためのスイッチトランジスタである。
一方、IR画素21dは、PD(受光素子)46及び転送トランジスタ47を備える。PD(受光素子)46は、受光した近赤外光を光電変換する素子であり、このIR画素21dの受光量に応じた電荷を発生する。転送トランジスタ47は、PD46に蓄積された電荷をFD41に転送するためのスイッチトランジスタである。
行選択回路25は、撮像部20の行ごとに、制御信号として、リセット信号RST、奇数列転送信号TRAN1、偶数列転送信号TRAN2、及び、行選択信号SELを出力する。リセット信号RSTは、リセットトランジスタ42のゲートに供給され、奇数列転送信号TRAN1は、B画素21cの転送トランジスタ43のゲートに供給され、偶数列転送信号TRAN2は、IR画素21dの転送トランジスタ47のゲートに供給され、行選択信号SELは、行選択トランジスタ45のゲートに供給される。
なお、本図には、画素21として、偶数行に配置されるB画素21c及びIR画素21dだけが示されているが、奇数行に配置されるG画素21a及びR画素21bについても、それぞれ、G画素21a及びR画素21bと同じ構成を備える。
画素電流源31は、列信号線22ごとに、列信号線22に接続された電流源トランジスタ50を備える。電流源トランジスタ50は、画素21から画素信号を読み出すときに、行選択信号SELで選択された画素21に対して一定電流を供給することにより、選択された画素21から列信号線22への読み出しを可能にする。
クランプ回路32は、列信号線22ごとに、列信号線22に一端が接続されたクランプ容量51と、クランプ容量51の他端に接続されたクランプトランジスタ52とを備える。このクランプ回路32は、画素21からの読み出しが行われるときに、FD41がリセットされた時の電圧(リセット電圧)と、PD40(46)に蓄積された電荷がFD41に転送された後の電圧(リード電圧)との差分を画素信号として求める(相関2重サンプリング)ために設けられている。そのために、画素21から画素信号を読み出すときに、クランプ容量51の他端を一定の電位(クランプ電位)に固定するために、クランプトランジスタ52がスイッチトランジスタとして機能する。
S/H回路33は、列信号線22ごとに、クランプ回路32で求められた画素信号をサンプリングするサンプリングトランジスタ53と、サンプリングされた画素信号を保持するホールド容量54とを備える。
図3は、図1に示された読み出し回路30を構成するカラムADC34の詳細な回路図である。カラムADC34は、列信号線22ごとに設けられたAD変換器の集まりであり、ランプ波生成器60と、列信号線22ごとに設けられたコンパレータ61(61a〜61c)及びカウンタ62(62a〜62c)を備える。ランプ波生成器60は、一定の傾斜で電圧が変化するランプ波を生成する。コンパレータ61は、S/H回路33でサンプルホールドされた画素信号の電圧と、ランプ波生成器60が生成したランプ波の電圧とを比較し、画素信号の電圧がランプ波の電圧に達した時点(比較信号)をカウンタ62に通知する。カウンタ62は、外部から入力される一定周波数のクロック信号の供給を受けており、ランプ波生成器60がランプ波を生成し始めてからコンパレータ61から比較信号を受け取るまでの間に入力されたクロックの個数をカウントしてラッチし、出力する。
なお、ランプ波生成器60は、カラムADC34における変換ゲインを可変にするために、少なくとも2種類の傾斜のランプ波を選択的に生成することができる。本実施の形態では、第1の種類の画素から読み出した信号を第1の倍率で増幅し、第2の種類の画素から読み出した信号を第1の倍率とは異なる第2の倍率で増幅する。具体的には、ランプ波生成器60は、G画素21a、R画素21b及びB画素21cからの画素信号については、第1の倍率(例えば、2倍(×2))でAD変換するために、より緩やかな傾斜のランプ波を生成し、一方、IR画素21dからの画素信号については、第2の倍率(例えば、1倍(×1))でAD変換するために、より急な傾斜のランプ波を生成する。
次に、以上のように構成された本実施の形態における固体撮像装置10の動作について説明する。
図4は、本実施の形態における固体撮像装置10の主要な動作を示すタイミングチャートである。図4の(a)は、固体撮像装置10の撮像部20における電子シャッターによるPDリセットの動作を示し、図4の(b)は、固体撮像装置10の撮像部20における画素からの読み出し動作(画素信号(リセット電圧とリード電圧)の読み出し)を示す。
図4の(a)に示されるように、電子シャッターによるPDリセットでは、行選択回路25からのリセット信号RSTによって、対象となる画素21のリセットトランジスタ42が一時的にオンすると同時に、奇数列の画素21については、行選択回路25からの奇数列転送信号TRAN1によって転送トランジスタ43(偶数列の画素21については、行選択回路25からの偶数列転送信号TRAN2によって転送トランジスタ47)も一時的にオンする。これによって、この画素21のPD40(又は、PD46)は、一定の電圧(図2における電圧V)の印加によってリセットされ、この直後から、受光量に応じた電荷蓄積が開始される。
また、図4の(b)に示されるように、画素からの読み出し動作では、行選択回路25からの行選択信号SELによって行選択トランジスタ45がオンしている間に、行選択回路25からのリセット信号RSTによってリセットトランジスタ42が一時的にオンした後に、奇数列の画素21については、行選択回路25からの奇数列転送信号TRAN1によって画素21の転送トランジスタ43(偶数列の画素21については、行選択回路25からの偶数列転送信号TRAN2によって転送トランジスタ47)が一時的にオンする。リセットトランジスタ42がオンしている間に、FD41がリセットされ、そのときのFD41の電圧(リセット電圧)が増幅トランジスタ44及び行選択トランジスタ45を介して列信号線22に読み出され、転送トランジスタ43(47)がオンしている間に、PD40(又は、PD46)からFD41に電荷が転送され、そのときのFD41の電圧(リード電圧)が増幅トランジスタ44及び行選択トランジスタ45を介して列信号線22に読み出され、クランプ回路32で、リセット電圧とリード電圧との差分(画素信号)が求められ、その差分(画素信号)がカラムADC34でデジタル値に変換される。
図5は、本実施の形態における固体撮像装置10の電荷蓄積のタイミングを示す図である。なお、本図の上部には、被写体における(あるいは、被写体に向けた)可視用光源(近赤外成分なし)及び近赤外用光源の出射タイミングも併せて図示されている。ここでは、可視用光源については、太陽光又は照明光の下で、被写体で反射した可視光が常時、固体撮像装置10に入射することが示されている。一方、近赤外用光源については、固体撮像装置10の動作と同期して近赤外光を照射する光源が設けられ、その光源から、図5に示されるタイミングで(パルス的に)、被写体に向けて強い近赤外光が照射され、被写体で反射された近赤外光が固体撮像装置10に入射されることが示されている。ここで、「強い近赤外光」とは、固体撮像装置10に入射する近赤外光の強度が、固体撮像装置10に入射する可視光の強度に比べて極めて大きくなるような(固体撮像装置10に入射する可視光の強度(RBG成分)を無視できる程度の)強さの近赤外光を意味する。
また、図5の電荷蓄積のタイミングを示す図において、縦軸は、撮像部20を構成する画素21の行(行1〜行n)を示し、横軸は、時間を示す。また、左上から右下の方向に斜めに走る一重破線は、IR画素21dにおけるPDリセット(電子シャッターによるPDのリセット)のタイミングを示し、同様の方向に斜めに走る一重実線は、IR画素21dからの読み出し(画素信号(リセット電圧とリード電圧)の読み出し)のタイミングを示す。一方、同様の方向に斜めに走る二重点線は、RGB画素(R画素21b、G画素21a及びB画素21c)におけるPDリセット(電子シャッターによるPDのリセット)のタイミングを示し、同様の方向に斜めに走る二重実線は、RGB画素からの読み出し(画素信号(リセット電圧とリード電圧)の読み出し)のタイミングを示す。
なお、画素からの読み出しの対象となる撮像部20の行については、IR画素21dからの読み出しでは、撮像部20における偶数行の画素だけが読み出され、RGB画素からの読み出しでは、撮像部20における全行(奇数行及び偶数行)の画素が読み出される。
本図に示されるように、この固体撮像装置10では、IR画素21dの電荷蓄積期間(IR画素21dのPDリセットから読み出しまで)は、RGB画素の電荷蓄積期間(RGB画素のPDリセットから読み出しまで)に比べて長い期間に設定されている。そして、IR画素21dの電荷蓄積期間とRGB画素の電荷蓄積期間とは、一部が重複するように設定されている。
ところが、近赤外用光源からの近赤外光が固体撮像装置10に入射する期間は、IR画素21dの電荷蓄積期間のうち、RGB画素の電荷蓄積期間でない期間である。具体的には、RGB画素の読み出し終了時からRGB画素のPDリセットの開始時まで(2本の一点鎖線で挟まれた区間)に収まる期間である。よって、IR画素21dの電荷蓄積期間では、可視光と近赤外光の両方が固体撮像装置10に入射しているが、上述したように、近赤外光の強度は可視光に比べて極めて大きく、可視光の強度を無視できるので、IR画素21dには、可視光の影響をほとんど受けることなく、近赤外光の強度に応じた電荷が蓄積される。
一方、近赤外光に比べて可視光の強度は小さいが、RGB画素の電荷蓄積期間では、可視光だけが固体撮像装置10に入射しているので、RGB画素には、近赤外光の影響を受けることなく、可視光の強度に応じた電荷が蓄積される。しかも、本実施の形態では、カラムADC34は、相対的に電荷量が少ないRBG画素からの読み出し時には、IR画素21dからの読み出し時の変換ゲイン(例えば、1倍(×1))よりも高い変換ゲイン(例えば、2倍(×2))で、AD変換を行う。よって、カラムADC34において、相対的に小さい信号であるRGB画素からの画素信号は、IR画素21dからの画素信号に比べ、高い倍率で増幅される。
このように、本実施の形態の固体撮像装置10では、第1の種類の画素(本実施の形態では、RGB画素)と第2の種類の画素(本実施の形態では、IR画素)とで、電荷蓄積期間が独立して設定されるので、それぞれの種類の画素に対応する種類の光源の出射タイミングを調整する自由度が増し、それぞれの種類の画素のS/N比を向上させる撮影が可能になる。これにより、固体撮像装置10から出力されるデジタル信号が示す画素信号のS/N比が向上され、信号処理の精度(ここでは、画質)の劣化が抑制される。
なお、図5におけるIR画素21dの読み出しタイミング(一重実線)とRGB画素の読み出しタイミング(二重実線)とが重複していないことから分かるように、本実施の形態の固体撮像装置10では、撮像部20を構成する全行のIR画素21dの読み出しを完了してから、撮像部20を構成する全行のRBG画素の読み出しが行われている。つまり、本実施の形態の固体撮像装置10では、読み出し回路30は、撮像部20を構成する全ての第1の種類の画素から信号を読み出した後に、撮像部20を構成する全ての第2の種類の画素から信号が読み出される。これにより、カラムADC34の変換ゲインの切り替えが頻繁に行われることによる回路の不安定な動作が回避される。
また、IRフィルタを、RフィルタとBフィルタとの積層で作製した場合には、一般に、そのようなIRフィルタは、IR以外の成分も、ある程度、透過してしまう。つまり、IR画素における混色が問題となる。本実施の形態のように、可視用光源の強度を無視できる程度に強い近赤外用光源を用いることができる場合には、その混色成分を無視できるが、近赤外用光源の強度を大きくできない場合には、IR画素における混色が問題となる。その場合には、図5に示された2種類の光源の出射タイミング、及び、2種類の画素の電荷蓄積期間を入れ替えてもよい。
つまり、近赤外用光源については、常時、近赤外光が固体撮像装置10に入射するように設定し、可視用光源については、固体撮像装置10の動作と同期してパルス的に可視光が固体撮像装置10に入射するように設定する。その結果、RGB画素の電荷蓄積期間のうち、IR画素21dの電荷蓄積期間でない期間において、可視光が固体撮像装置10に入射され、IR画素21dの電荷蓄積期間では、近赤外光だけが固体撮像装置10に入射される。これにより、IR画素21dによって、可視光の影響を受けない近赤外光だけの強度を得ることができ、強い近赤外光を用いなくても、IR画素21dにおける混色が抑制される。
なお、本実施の形態では、RGB画素とIR画素とで電荷蓄積期間を異なるタイミングに設定したが、このような設定に限られず、撮影環境又は撮影対象に依存して、R画素、G画素、B画素、及び、IR画素のうちのいずれの電荷蓄積期間を異なるタイミングに設定してもよい。
また、本実施の形態では、撮像部20は、RBG画素とIR画素とで構成されたが、RBG画素とUV(紫外光)画素とで構成されてもよい。このときには、近赤外光の光源に代えて、紫外光の光源を用いればよい。これにより、UV画素が試料の分析(紫外分光計等)に用いられる場合には、紫外光を用いた信号処理の精度の劣化が抑制され、分析精度が向上される。
以上のように、本実施の形態における固体撮像装置10は、行列状に配置され、電荷蓄積期間における受光量に応じて蓄積した電荷に応じた信号を保持する複数の画素21で構成される撮像部20と、電荷蓄積期間を制御するとともに、複数の画素21から行単位で画素21を選択する行選択回路25と、行選択回路25で選択された画素21から、その画素21に保持された信号を読み出して出力する読み出し回路30とを備える。そして、撮像部20を構成する複数の画素21のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素のいずれかに分類され、行選択回路25は、撮像部20における同一行に配置された画素について、複数の種類のうちの第1の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、複数の種類のうちの第1の種類とは異なる第2の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間とは異なる第2の電荷蓄積期間となるように、電荷蓄積期間を制御する。
これにより、同一行の画素であっても、画素の種類に応じて独立した電荷蓄積期間を設けることができるので、画素の種類ごとに、その画素の種類に応じた最適なタイミング、又は、長さで、電荷蓄積期間を設けることで、信号処理の精度が向上される。たとえば、各画素にはその画素の種類に対応する光源からの光だけが入射するタイミングで電荷を蓄積させることができ、信号処理の精度(画質、測距精度、又は、分析精度等)の劣化が抑制される。
ここで、第1の種類の画素21は、第1の波長帯の光を受光する画素であり、第2の種類の画素21は、第1の波長帯とは異なる第2の波長帯の光を受光する画素である。これにより、波長の異なる光源の種類と発光のタイミングとに同期させて各色成分用の画素の電荷蓄積期間を設定することで、画素における混色が抑制される。たとえば、可視光の発光期間では、可視光用の画素だけが電荷を蓄積し、IR用の画素が電荷を蓄積しないように電荷蓄積期間を設けることができる。よって、画素における混色が抑制され、信号処理の精度(画質等)の劣化が抑制される。
より詳しくは、第1の波長帯は、可視光の波長帯であり、第2の波長帯は、赤外光又は紫外光の波長帯である。これにより、可視光用の画素と赤外光用の画素における混色、又は、可視光用の画素と紫外光用の画素における混色が抑制され、画質等の劣化が抑制される。
また、読み出し回路30は、撮像部20を構成する全ての第1の種類の画素21から信号を読み出した後に、撮像部20を構成する全ての第2の種類の画素21から信号を読み出す。これにより、第1の種類の画素と、第2の種類の画素とで、読み出し方法(回路動作)が異なっている場合であっても、同一種類の全ての画素からの読み出しを終えるまで、読み出し方法を切り替える必要がなくなり、その結果、読み出し方法を切り替える頻度が低くなり、回路の動作が不安定になってしまうことが回避される。
また、読み出し回路30は、第1の種類の画素21から読み出した信号を第1の倍率で増幅し、第2の種類の画素21から読み出した信号を第1の倍率とは異なる第2の倍率で増幅する。これにより、同一種類の全ての画素から信号を読み出し終えるまで、増幅の倍率を変更しなくて済むので、増幅の倍率を切り替える頻度が低くなり、回路の動作が不安定になってしまうことが回避される。
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2における固体撮像装置について説明する。
図6は、本発明の実施の形態2における固体撮像装置10aの回路図である。この固体撮像装置10aは、被写体からの受光量に応じた電気信号を出力するイメージセンサ(本実施の形態では、CMOSイメージセンサ)であり、撮像部20a、行選択回路25a及び読み出し回路30を備える。本実施の形態では、固体撮像装置10aは、可視光画像の撮像と測距機能とを有するイメージセンサである。なお、実施の形態1と同じ構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
撮像部20aを構成する複数の画素21のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素(本実施の形態では、G画素21a、R画素21b、B画素21c、GL画素21e、GR画素21f)のいずれかに分類される。GL画素21e及びGR画素21fは、測距用のG画素である。左右に並ぶ1対のGL画素21e及びGR画素21fは、それらの画素に撮像された被写体までの距離を算出するのに用いられる。
本図に示されるように、この撮像部20aでは、ベイヤー配列における1つのG画素をGL画素21e又はGR画素21fに置き換えた配列で、画素21が配置されている。なお、本実施の形態では、GL画素21e及びGR画素21fは、行方向及び列方向に1画素をおいて交互に並ぶように配置されているが、このような配置に限られず、2画素以上おいて並べて配置されてもよい。また、撮像部全体に対し不均一な密度で配置してもよい。
図7は、図6に示された撮像部20aを構成する各画素(G画素21a、R画素21b、B画素21c、GL画素21e、GR画素21f)の構造を示す断面図、及び各画素の水平方向と感度の関係を示す図である。図7の(a)は、G画素21a、R画素21b及びB画素21cの断面を示し、図7の(b)は、GL画素21eの断面を示し、図7の(c)は、GR画素21fの断面を示す。なお、図7では、各画素のカラーフィルタの図示は省略されている。
図7の(a)に示されるように、G画素21a、R画素21b及びB画素21cでは、シリコン基板等の基板28に埋め込まれるようにPD28aが形成され、PD28a及び基板28を覆うように絶縁層27が形成され、絶縁層27の上に、カラーフィルタ(図示せず)とマイクロレンズ26とが形成されている。
また、図7の(b)に示されるように、GL画素21eでは、図7の(a)に示されたG画素21a、R画素21b及びB画素21cの構成要素に加えて、左方向から入射してくる光を遮る遮光部27aが形成されている。
また、図7の(c)に示されるように、GR画素21fでは、図7の(a)に示されたG画素21a、R画素21b及びB画素21cの構成要素に加えて、右方向から入射してくる光を遮る遮光部27bが形成されている。
本実施の形態では、G画素21a、R画素21b及びB画素21cは、第1の方向からの光を受光する第1の種類の画素に相当する。ここで、第1の方向からの光は、第1の種類の画素において、画素がもつ受光領域のうちの全ての領域に入射される光を意味する。つまり、第1の種類の画素(G画素21a、R画素21b及びB画素21c)は、受光領域のうちの全ての領域に入射される光、つまり、強度が強い光を受ける画素である。一方、GL画素21e及びGR画素21fは、第1の方向とは異なる第2の方向からの光を受光する第2の種類の画素に相当する。ここで、第2の方向からの光は、第2の種類の画素において、画素がもつ受光領域のうちの一部の領域に入射される光を意味する。つまり、第2の種類の画素(GL画素21e及びGR画素21f)は、受光領域のうちの一部の領域に入射される光、つまり、遮光部27a及び27bによって強度が弱い光を受ける画素である。
行選択回路25aは、撮像部20aにおける電荷蓄積期間を制御するとともに、撮像部20aを構成する複数の画素21から行単位で画素21を選択する回路である。この行選択回路25aは、撮像部20aにおける電荷蓄積期間の制御として、電子シャッターにより、撮像部20aにおける同一行に配置された画素について、複数の種類のうちの第1の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、複数の種類のうちの第1の種類とは異なる第2の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間とは異なる第2の電荷蓄積期間となるように、電荷蓄積期間を制御する点は、実施の形態1と同じである。ただし、本実施の形態では、第1の種類の画素は、第1の方向からの光を受光する画素(G画素21a、R画素21b、B画素21c)であり、第2の種類の画素は、第2の方向からの光を受光する画素(GL画素21e及びGR画素21f)である。よって、本実施の形態では、行選択回路25aは、第1の電荷蓄積期間と第2の電荷蓄積期間の長さが異なるように、電荷蓄積期間を制御する。
具体的には、行選択回路25aは、図8に示されるように、強度が弱い光を受ける第2の種類の画素(GL画素21e及びGR画素21f)の電荷蓄積期間が、強度が強い光を受ける第1の種類の画素(G画素21a、R画素21b、B画素21c)の電荷蓄積期間よりも長くなるように、電荷蓄積期間を制御する。これにより、遮光部27a及び27bによって強度が弱い光を受ける第2の種類の画素(GL画素21e及びGR画素21f)における光量不足による信号処理の精度(ここでは、測距精度)の劣化が抑制される。
なお、左右に並ぶ1対のGL画素21e及びGR画素21fを用いた測距は、次の原理(位相差)を利用して、固体撮像装置10aから出力されたデジタル値を用いた演算によって行われる。
つまり、図7に示される断面図から分かるように、GL画素21e及びGR画素21fによって、異なる2方向から入射した光の強さが判明する。ところで、被写体が遠方にあるほど、被写体からの光は、平行光に近付き、遮光部27a及び27bで遮光されることなくGL画素21e及びGR画素21fのPD28aに入射する光量が多くなる。よって、GL画素21e及びGR画素21fに入射した光の強度の差分(左右の画像信号の差)は、被写体が遠方にあるほど、ゼロに近づく。
図9は、GL画素21e及びGR画素21fに入射した光の強度の差分(左右の画像信号の差)と被写体までの距離との関係を示す図である。図9に示される関係を利用して、GL画素21e及びGR画素21fの光量の差分から、被写体までの距離を算出することができる。つまり、同一の被写体から出射され、左右方向に分離されて得られる左右の画像信号の位相差を検出し、検出した位相差に所定の演算を施すことで、被写体までの距離が算出される。
以上のように、本実施の形態における固体撮像装置10aによれば、受光する光の方向が異なる光源の種類に応じて独立した電荷蓄積期間が設けられる。つまり、強度が弱い光を受ける第2の種類の画素(GL画素21e及びGR画素21f)の電荷蓄積期間が、強度が強い光を受ける第1の種類の画素(G画素21a、R画素21b、B画素21c)の電荷蓄積期間よりも長く設定される。これにより、遮光部27a及び27bによって強度が弱い光を受ける第2の種類の画素(GL画素21e及びGR画素21f)の光量不足による信号処理の精度(ここでは、測距精度)の劣化が抑制される。
なお、本実施の形態では、測距用の1対の画素(GL画素21e及びGR画素21f)は、左右に離して配置されたが、上下に離して配置されてもよい。上述と同様の原理で距離を測定できるからである。
このように、本実施の形態における固体撮像装置10aは、行列状に配置され、電荷蓄積期間における受光量に応じて蓄積した電荷に応じた信号を保持する複数の画素21で構成される撮像部20aと、電荷蓄積期間を制御するとともに、複数の画素21から行単位で画素21を選択する行選択回路25aと、行選択回路25aで選択された画素21から、その画素21に保持された信号を読み出して出力する読み出し回路30とを備える。そして、撮像部20aを構成する複数の画素21のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素のいずれかに分類され、行選択回路25aは、撮像部20aにおける同一行に配置された画素について、複数の種類のうちの第1の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、複数の種類のうちの第1の種類とは異なる第2の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間とは異なる第2の電荷蓄積期間となるように、電荷蓄積期間を制御する。
ここで、第1の種類の画素21は、第1の方向からの光を受光する画素であり、第2の種類の画素21は、第1の方向とは異なる第2の方向からの光を受光する画素である。これにより、受光する光の方向が異なる光源の種類に応じて独立した電荷蓄積期間を設けることができるので、画素の種類ごとに、その画素の種類に応じた最適なタイミング、又は、長さで、電荷蓄積期間を設けることで、信号処理の精度(2方向からの光による信号を用いた測距精度)の劣化が抑制される。
より詳しくは、第1の方向からの光は、第1の種類の画素21において、画素21がもつ受光領域のうちの全ての領域に入射される光であり、第2の方向からの光は、第2の種類の画素21において、画素21がもつ受光領域のうちの一部の領域に入射される光である。これに対応して、第1の電荷蓄積期間と第2の電荷蓄積期間とは、期間の長さが異なる。これにより、各画素では、各画素に入射する光の強さに応じた長さの期間だけ電荷が蓄積される。たとえば、受光領域のうちの一部の領域に光が入射する第2の種類の画素の電荷蓄積期間を、受光領域のうちの全ての領域に光が入射する第1の種類の画素の電荷蓄積期間よりも長く設定できる。よって、強度が弱い光を受光する第2の種類の画素について、光量不足による信号処理の精度の劣化が抑制される。
(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3におけるカメラについて説明する。
上記した実施の形態1及び2における固体撮像装置10及び10aは、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、又は、携帯電話等のモバイル機器向けカメラモジュール等の撮像装置が備える撮像デバイス(画像入力装置)として適用することができる。
図10は、本発明の実施の形態3におけるカメラ70の外観図を示す。図11は、本発明の実施の形態3に係るカメラ70の構成の一例を示すブロック図である。このカメラ70は、撮像デバイス72に加えて、その撮像デバイス72の撮像部に入射光を導く(被写体像を結像する)光学系として、たとえば入射光(像光)を撮像面上に結像させるレンズ71を有する。さらに、このカメラ70は、撮像デバイス72を駆動するコントローラ74と、撮像デバイス72の出力信号を処理する信号処理部73とを備える。
撮像デバイス72は、レンズ71によって撮像面に結像された像光を画素単位で電気信号に変換して得られる画像信号を出力する。この撮像デバイス72として、実施の形態1又は2における固体撮像装置10又は10aが用いられる。
信号処理部73は、撮像デバイス72から出力される画像信号に対して、ホワイトバランス、測距のための演算等を含む種々の信号処理を行うDSP(Digital Signal Processor)等である。コントローラ74は、撮像デバイス72や信号処理部73に対する制御を行うシステムプロセッサ等である。
信号処理部73で処理された画像信号は、例えばメモリ等の記録媒体に記録される。記録媒体に記録された画像情報は、プリンタ等によってハードコピーされる。また、信号処理部73で処理された画像信号を液晶ディスプレイ等のモニタに動画として映し出される。
上述したように、デジタルスチルカメラ等の撮像装置において、撮像デバイス72として上述した固体撮像装置10又は10aを搭載することで、信号処理の精度(画質、測距精度、又は、分析精度)の高いカメラが実現される。
以上、本発明に係る固体撮像装置及びカメラについて、実施の形態1〜3に基づいて説明したが、本発明は、これらの実施の形態に限定されない。本発明の趣旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を実施の形態に施したもの、及び、実施の形態における任意の構成要素を組み合わせて実現される別の形態も、本発明の範囲内に含まれてもよい。
たとえば、実施の形態1の撮像部20では、IR画素21dは、撮像部20の行方向及び列方向に、1画素おきに配置されたが、2以上の画素おきに配置されてもよい。IR画素の配置形態については、求められるIR画像の解像度を考慮し、適宜決定すればよい。
また、一つの撮像部に、RGB画素、IR画素、UV画素、及び、測距用画素(GL画素及びGR画素)から任意に選択される2以上の種類の画素が配置されてもよい。たとえば、RGB画素、IR画素、UV画素、及び、測距用画素(GL画素及びGR画素)が撮像部に配置されてもよい。これにより、紫外、可視、赤外による撮像(あるいは、分析)と測距とを同時に行うことができる高機能な固体撮像装置が実現される。このときには、電荷蓄積期間についても、3以上の種類の電荷蓄積期間が設けられてもよい。
また、上記実施の形態では、撮像部は、横2画素1セルの構成を備えたが、これに限られず、1個の受光素子ごとに1個の増幅トランジスタが設けられる1画素1セル、列方向に並ぶ2個の受光素子ごとに1個の増幅トランジスタが設けられる縦2画素1セル、列方向及び行方向に隣接する4個の受光素子ごとに1個の増幅トランジスタが設けられる4画素1セルの構成を備えてもよい。
本発明は、固体撮像装置及びカメラとして、特に、信号処理の精度が高いビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、さらには携帯電話等のモバイル機器向けカメラ等に利用できる。
10、10a 固体撮像装置
20、20a 撮像部
21 画素
21a G画素
21b R画素
21c B画素
21d IR画素
21e GL画素
21f GR画素
22 列信号線
25、25a 行選択回路
27 絶縁層
27a、27b 遮光部
28 基板
28a PD(受光素子)
30 読み出し回路
31 画素電流源
32 クランプ回路
33 S/H回路
34 カラムADC
40、46 PD(受光素子)
41 FD(フローティングディフュージョン)
42 リセットトランジスタ
43、47 転送トランジスタ
44 増幅トランジスタ
45 行選択トランジスタ
50 電流源トランジスタ
51 クランプ容量
52 クランプトランジスタ
53 サンプリングトランジスタ
54 ホールド容量
60 ランプ波生成器
61 コンパレータ
62 カウンタ
70 カメラ
71 レンズ
72 撮像デバイス
73 信号処理部
74 コントローラ

Claims (10)

  1. 行列状に配置され、電荷蓄積期間における受光量に応じて蓄積した電荷に応じた信号を保持する複数の画素で構成される撮像部と、
    前記電荷蓄積期間を制御するとともに、前記複数の画素から行単位で画素を選択する行選択回路と、
    前記行選択回路で選択された前記画素から、前記画素に保持された信号を読み出して出力する読み出し回路とを備え、
    前記撮像部を構成する複数の画素のそれぞれは、異なる特性の光を受光する複数の種類の画素のいずれかに分類され、
    前記行選択回路は、前記撮像部における同一行に配置された画素について、前記複数の種類のうちの第1の種類の画素の電荷蓄積期間が第1の電荷蓄積期間となり、前記複数の種類のうちの前記第1の種類とは異なる第2の種類の画素の電荷蓄積期間が前記第1の電荷蓄積期間とは異なる第2の電荷蓄積期間となるように、前記電荷蓄積期間を制御する
    固体撮像装置。
  2. 前記第1の種類の画素は、第1の波長帯の光を受光する画素であり、
    前記第2の種類の画素は、前記第1の波長帯とは異なる第2の波長帯の光を受光する画素である
    請求項1記載の固体撮像装置。
  3. 前記第1の波長帯は、可視光の波長帯であり、
    前記第2の波長帯は、赤外光又は紫外光の波長帯である
    請求項2記載の固体撮像装置。
  4. 前記第1の種類の画素は、第1の方向からの光を受光する画素であり、
    前記第2の種類の画素は、前記第1の方向とは異なる第2の方向からの光を受光する画素である
    請求項1記載の固体撮像装置。
  5. 前記第1の方向からの光は、前記第1の種類の画素において、画素がもつ受光領域のうちの全ての領域に入射される光であり、
    前記第2の方向からの光は、前記第2の種類の画素において、画素がもつ受光領域のうちの一部の領域に入射される光である
    請求項4記載の固体撮像装置。
  6. 前記第1の電荷蓄積期間と前記第2の電荷蓄積期間とは、期間の長さが異なる
    請求項1〜5のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  7. 前記第1の電荷蓄積期間と前記第2の電荷蓄積期間とは、一部が重複した期間である
    請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  8. 前記読み出し回路は、前記撮像部を構成する全ての前記第1の種類の画素から前記信号を読み出した後に、前記撮像部を構成する全ての前記第2の種類の画素から前記信号を読み出す
    請求項1〜7のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  9. 前記読み出し回路は、前記第1の種類の画素から読み出した信号を第1の倍率で増幅し、前記第2の種類の画素から読み出した信号を前記第1の倍率とは異なる第2の倍率で増幅する
    請求項8記載の固体撮像装置。
  10. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の固体撮像装置を備えるカメラ。
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