JPWO2016002617A1 - 検出装置、検出方法、処理装置および処理方法 - Google Patents

Abstract

本発明の検出装置（ＤＡ１）は、光学フィルム（ＯＰ１）の第一面（ＯＰ１ａ）を支持する支持面（Ｂ１ａ）を有し、支持面（Ｂ１ａ）内の少なくとも一部に反射面（ＲＳ１）を有する支持体（Ｂ１）と、反射面（ＲＳ１）上に位置する光学フィルム（ＯＰ１）に向けて光学フィルム（ＯＰ１）の第二面（ＯＰ１ｂ）側から光を照射する光源部（ＩＬ１）と、反射面（ＲＳ１）上に位置する光学フィルム（ＯＰ１）の反射光像を光学フィルム（ＯＰ１）の第二面（ＯＰ１ｂ）側から撮像する撮像部（ＣＭ１）と、光学フィルム（ＯＰ１）の反射光像に基づいて、反射面（ＲＳ１）上に位置する偏光パターン列（ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂ）を検出するパターン検出部（ＩＰ１）と、を含む。

Description

本発明は、検出装置、検出方法、処理装置および処理方法に関するものである。
本出願は、２０１４年６月３０日に日本に出願された特願２０１４−１３４３５１号に基づき、優先権を主張し、その内容をここに援用する。

立体画像を表示する方式として、ＦＰＲ（Ｆｉｌｍ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｒｅｔａｒｄｅｒ）方式と呼ばれる方式が知られている。ＦＰＲ方式の３Ｄ液晶ディスプレイでは、右眼用画像と左眼用画像とを分離するために、液晶パネルの表面にＦＰＲフィルムと呼ばれるパターン化位相差フィルムが配置される（特許文献１参照）。

ＦＰＲフィルムは、右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とを含む。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とは、液晶パネルの右眼用画素列と左眼用画素列に対応して交互に配置される。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とは、互いに遅相軸の方向が直交する。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とが配置されるアクティブエリアの外側には、アライメント用の偏光パターン列が配置されることもある。

特開２０１２−３２４４５号公報

ＦＰＲフィルムには、多数の偏光パターン列が微細な幅で形成される。そのため、ＦＰＲフィルムを所定の幅または形状に切断したり、ＦＰＲフィルムを液晶パネルに貼合したりするときには、偏光パターン列の位置を正確に検出し、その位置に基づいて、ＦＰＲフィルムをアライメントしなければならない。

例えば、特許文献１には、偏光パターン列の検出装置として、ＦＰＲフィルムの下面側から光を照射し、ＦＰＲフィルムの上面側からカメラで撮像する装置が記載されている。
ＦＰＲフィルムと光源との間には偏光板が配置され、ＦＰＲフィルムとカメラとの間には、ＦＰＲフィルム側から位相差板（１／４波長板）と偏光板が順に配置される。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列は、フィルムの長手方向に沿って延在する。これらの偏光パターン列は、ＦＰＲフィルムの巻き出しおよび搬送に伴って連続的に検出される。

しかしながら、特許文献１の構成では、ＦＰＲフィルムの下面側に光源が設置されるため、ＦＰＲフィルムの下面側には、支持体を配置することができない。よって、ＦＰＲフィルムが、支持体によって支持されない不安定な位置で、偏光パターン列の検出を行わなければならない。支持体に貫通孔を設けることも考えられるが、貫通孔を通過する光のみでは、十分にＦＰＲフィルムを照明することはできない。

また、ＦＰＲフィルムの最表面には、プロテクションフィルムやセパレータフィルムなどの保護フィルムが設けられる。保護フィルムは、複屈折性を有しており、意図せぬ位相差を生じさせる。保護フィルムが存在しなければ、右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列は、明パターンと暗パターンとして表示されるが、保護フィルムが存在すると、明パターンと暗パターンのコントラストが低下し、両者を明確に区別することができない。そのため、光学測定を行う前に、保護フィルムを剥離するなどの工夫が必要になる。

また、ＦＰＲフィルムは、液晶パネルの表示面側の偏光板の表面に貼合されるが、最近では、偏光板とＦＰＲフィルムとを一体化した偏光板一体型のＦＰＲフィルムを液晶パネルの表面に貼合することも検討されている。この構成では、偏光板の面内の光学軸のばらつきにより、上述の明パターンと暗パターンのコントラストがさらに低下し、よりいっそう両者を区別することが困難になる。

本発明の目的は、偏光パターン列を精度よく検出することが可能な検出装置、検出方法、処理装置および処理方法を提供することにある。

本発明の第一の形態に係る検出装置は、位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出装置であって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体と、前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する光源部と、前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像部と、前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出部と、を含む。

本発明の第一の形態に係る検出装置において、前記パターン検出部は、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出することができる。

本発明の第二の形態に係る検出装置は、位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出装置であって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体と、前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する光源部と、前記光源部から前記光学フィルムに向かう前記光の光路上に設けられた偏光板と、前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像部と、前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出部と、を含む。

本発明の第二の形態に係る検出装置において、前記パターン検出部は、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出することができる。

本発明の第二の形態に係る検出装置において、前記偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する調整部を含むことができる。

本発明の第一の形態に係る検出方法は、位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出方法であって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持ステップと、前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する照射ステップと、前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像ステップと、前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出ステップと、を含む。

本発明の第一の形態に係る検出方法において、前記パターン検出ステップは、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出することができる。

本発明の第二の形態に係る検出方法は、位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出方法であって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持ステップと、前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から偏光板を介して光を照射する照射ステップと、前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像ステップと、前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出ステップと、を含む。

本発明の第二の形態に係る検出方法において、前記パターン検出ステップは、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出することができる。

本発明の第二の形態に係る検出方法において、前記偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する調整ステップを含むことができる。

本発明の第一の形態に係る処理装置は、位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、本発明の第一の形態に係る検出装置を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う。

本発明の第二の形態に係る処理装置は、位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、本発明の第二の形態に係る検出装置を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う。

本発明の第一の形態に係る処理方法は、位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、本発明の第一の形態に係る検出方法を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う。

本発明の第一の形態に係る処理方法は、位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、本発明の第二の形態に係る検出方法を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う。
なお、本発明における「光学フィルムに所定の処理を行う」とは、偏光パターン列の位置に基づいて、光学フィルムの被貼合物に対する位置を制御したり、あるいは、光学フィルムをスリット加工する際に、光学フィルムの幅方向における蛇行を制御したりすることをいう。

本発明によれば、偏光パターン列を精度よく検出することが可能な検出装置、検出方法、処理装置および処理方法を提供することができる。

本発明の第一の実施の形態に係る検出装置の概略図である。 本発明の第二の実施の形態に係る検出装置の概略図である。 光学フィルムの一例を示す断面図である。 光学フィルムの反射光像の光量分布および色分布を示す図である。 本発明の第三の実施の形態に係る検出装置の概略図である。 液晶パネルと光学フィルムとの相対貼合位置の調整方法を説明する図である。 貼合ドラムによる液晶パネルへの光学フィルムの貼合工程を説明する図である。 貼合ドラムによる液晶パネルへの光学フィルムの貼合工程を説明する図である。 本発明の第四の実施の形態に係る検出装置の概略図である。 光学フィルムの一例を示す平面図である。 スリット加工装置の概略図である。

［第一の実施の形態］
図１は、本発明の第一の実施の形態に係る検出装置ＤＡ１の概略図である。

本実施形態の検出装置ＤＡ１は、支持体Ｂ１と、撮像ユニットＵ１と、パターン検出部ＩＰ１と、を含む。検出装置ＤＡ１は、光学フィルムＯＰ１に含まれる偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂを検出する。

光学フィルムＯＰ１は、位相差層ＯＰ１１と、パターン化位相差層ＯＰ１２と、偏光子層ＯＰ１３と、を少なくとも含む。位相差層ＯＰ１１と、パターン化位相差層ＯＰ１２と、偏光子層ＯＰ１３は、光学フィルムＯＰ１の第一面（支持体Ｂ１によって支持される側の面）ＯＰ１ａ側から第二面（支持体Ｂ１によって支持される側とは反対側の面）ＯＰ１ｂ側に向けて、この順で設けられている。光学フィルムＯＰ１のうち、位相差層ＯＰ１１を除く部分が、光学フィルム本体部ＯＰＣ１である。

パターン化位相差層ＯＰ１２は、互いに遅相軸ＲＴＡＸの方向が異なる複数の偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂを含む。パターン化位相差層ＯＰ１２は、例えば、遅相軸ＲＴＡＸの方向が互いに直交する第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂとを含む。第一偏光パターン列ＯＰ１２ａの遅相軸ＲＴＡＸは、光学フィルムＯＰ１の法線方向から見て、例えば、偏光子層ＯＰ１３の偏光軸（透過軸）ＰＬＡＸに対して右回りに４５°の角度をなす。第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの遅相軸ＲＴＡＸは、光学フィルムＯＰ１の法線方向から見て、例えば、偏光子層ＯＰ１３の偏光軸ＰＬＡＸに対して左回りに４５°の角度をなす。第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂは、その長手方向と直交する方向に交互に配置されている。

位相差層ＯＰ１１は、光学フィルム本体部ＯＰＣ１の保護フィルム（プロテクションフィルム）として、光学フィルム本体部ＯＰＣ１に対して剥離可能に設けられる。保護フィルムは、通常、二軸延伸によって製造され、複屈折性を有している。保護フィルムは、パターン化位相差層ＯＰ１２や偏光子層ＯＰ１３などに比べて位相差が十分に制御されていない。そのため、保護フィルムは、パターン化位相差層ＯＰ１２を透過した光に対して意図せぬ位相差を付与する。このような位相差は、光学測定の精度を低下させるため、排除されるべきであるが、本実施形態では、このような位相差を積極的に利用して、偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂの検出を行っている。この点については、後述する。

光学フィルムＯＰ１は、位相差層ＯＰ１１、パターン化位相差層ＯＰ１２および偏光子層ＯＰ１３以外の層を含むことができる。例えば、図３に示した光学フィルムＯＰ３の一部もしくは全部を光学フィルムＯＰ１として用いることができる。

図３の光学フィルムＯＰ３は、第一位相差層（プロテクションフィルム）ＯＰ３１、基材層ＯＰ３３、光配向層ＯＰ３４、パターン化位相差層ＯＰ３５、第一接着層ＯＰ３６、偏光子層ＯＰ３７、第二接着層ＯＰ３８、偏光子保護層ＯＰ３９、粘着層ＯＰ４０および第二位相差層（セパレータフィルム）ＯＰ４１を、厚み方向で、この順で含む。光学フィルムＯＰ３のうち、第一位相差層ＯＰ３１と第二位相差層ＯＰ４１を除く部分が、光学フィルム本体部ＯＰ４２である。

第一位相差層ＯＰ３１が図１の位相差層ＯＰ１１に対応し、パターン化位相差層ＯＰ３５が図１のパターン化位相差層ＯＰ１２に対応し、偏光子層ＯＰ３７が図１の偏光子層ＯＰ１３に対応し、光学フィルム本体部ＯＰ４２が図１の光学フィルム本体部ＯＰＣ１に対応する。本実施形態では、例えば、光学フィルムＯＰ３から第二位相差層ＯＰ４１を剥離して得られる光学フィルムＯＰ４５を光学フィルムＯＰ１として用いることができる。

以下、光学フィルムＯＰ３の具体的な構成を説明する。

＜偏光子層＞
偏光子層ＯＰ３７は、入射する光のうち、ある方向の振動面を有する光を透過し、それと直交する振動面を有する光を吸収する。偏光子層ＯＰ３７を介して射出される光は直線偏光となる。

偏光子層ＯＰ３７としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程と、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することによって二色性色素を吸着させる工程と、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程と、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程と、を経て製造される偏光フィルムを用いることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他にも、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などを挙げることができる。

二色性色素としては、例えば、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法を採用することができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前に行なってもよいし、二色性色素による染色と同時に行なってもよいし、二色性色素による染色の後、例えばホウ酸処理中に行なってもよい。

偏光子層ＯＰ３７の厚みは、例えば、平均厚さで５μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。

＜パターン化位相差層＞
パターン化位相差層ＯＰ３５は、入射する直線偏光を２種の偏光状態の光として射出する。パターン化位相差層ＯＰ３５は、光配向層ＯＰ３４上に形成されている。

光配向層ＯＰ３４は、液晶性を有する材料（以下、液晶材料と称する）に対して配向規制力を有する。光配向層ＯＰ３４は、重合性の光配向材料を用いて形成される。光配向材料としては、偏光光で露光されることにより、配向規制力を発現するものが用いられる。光配向材料に偏光光を露光し、配向規制力を発現させた上で重合させることで、配向規制力を保持した光配向層ＯＰ３４が形成される。このような光配向材料としては、通常知られたものを用いることができる。

光配向層ＯＰ３４は、例えば、配向規制力の方向が互いに直交する第一配向領域と第二配向領域とを含む。第一配向領域と第二配向領域は、それぞれ光学フィルムＯＰ３の一辺と平行な方向に帯状に延在する。第一配向領域と第二配向領域は、自身の延在方向と直交する方向に交互に設けられる。

パターン化位相差層ＯＰ３５は、光配向層ＯＰ３４の第一配向領域に対応する第一偏光パターン列ＯＰ３５ａと、第二配向領域に対応する第二偏光パターン列ＯＰ３５ｂと、を含む。第一偏光パターン列ＯＰ３５ａと第二偏光パターン列ＯＰ３５ｂは、互いに遅相軸が直交する。第一偏光パターン列ＯＰ３５ａは、直線偏光を第一の円偏光に変化させる。第二偏光パターン列ＯＰ３５ｂは、直線偏光を第一の円偏光とは回転方向が異なる第二の円偏光に変化させる。

パターン化位相差層ＯＰ３５は、重合性の官能基を有する液晶材料を用いて形成される。パターン化位相差層ＯＰ３５は、光配向層ＯＰ３４が有する第一配向領域および第二配向領域の配向規制力に応じて液晶材料を２方向に配列させ、さらに、液晶材料が有する重合性の官能基を反応させて、用いる液晶材料の液晶相を維持して硬化させることにより得られる。このような重合性の液晶材料としては、通常知られたものを用いることができる。

＜基材層＞
基材層ＯＰ３３は、光配向層ＯＰ３４およびパターン化位相差層ＯＰ３５を支持する基材として用いられる。光配向層ＯＰ３４およびパターン化位相差ＯＰ３５は、基材層ＯＰ３３の表面に光配向材料および液晶材料を塗布することにより形成される。

基材層ＯＰ３３の形成材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリレート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂やポリプロピレン系樹脂を包含するポリオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂などを挙げることができる。

基材層ＯＰ３３の厚みは、例えば、平均厚さで４０μｍ以上１００μｍ以下とすることができる。

＜偏光子保護層＞
偏光子保護層ＯＰ３９の形成材料としては、上述の基材層ＯＰ３３と同様のものを用いることができる。このような材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリレート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂やポリプロピレン系樹脂を包含するポリオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂などを挙げることができる。

偏光子保護層ＯＰ３９の厚みは、例えば、平均厚さで５μｍ以上８０μｍ以下とすることができる。

＜接着層＞
第一接着層ＯＰ３６および第二接着層ＯＰ３８の形成材料は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂またはウレタン樹脂を用いた組成物を主成分として水に溶解したものまたは水に分散させた水系接着剤や、光硬化性樹脂と光カチオン重合開始剤などを含有する無溶剤の光硬化性接着剤が挙げられる。第一接着層ＯＰ３６および第二接着層ＯＰ３８の形成材料としては、製造時の体積収縮が少なく、厚さの制御が容易である観点から、光硬化性接着剤を用いることが好ましく、紫外線硬化型接着剤を用いることがより好ましい。

紫外線硬化型接着剤としては、液状の塗布可能な状態で供給される限りにおいて、従来から偏光板の製造に使用されている各種のものを用いることができる。紫外線硬化型接着剤は、耐候性や重合性などの観点から、カチオン重合性の化合物、例えば、エポキシ化合物、より具体的には、特開２００４−２４５９２５号公報に記載されるような、分子内に芳香環を有しないエポキシ化合物を、紫外線硬化性成分の一つとして含有するものが好ましい。

このようなエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルを代表例とする芳香族エポキシ化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物を核水添し、それをグリシジルエーテル化して得られる水素化エポキシ化合物、脂環式環に結合するエポキシ基を分子内に少なくとも１個有する脂環式エポキシ化合物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテルを代表例とする脂肪族エポキシ化合物などが挙げられる。

紫外線硬化型接着剤には、エポキシ化合物を代表例とするカチオン重合性化合物のほか、重合開始剤、特に紫外線の照射によりカチオン種またはルイス酸を発生し、カチオン重合性化合物の重合を開始させるための光カチオン重合開始剤が配合される。さらに、紫外線硬化型接着剤には、加熱によって重合を開始させる熱カチオン重合開始剤、その他、光増感剤などの各種添加剤が配合されていてもよい。

第一接着層ＯＰ３６および第二接着層ＯＰ３８の形成材料は、同じであっても、あるいは異なっていてもよいが、生産性の観点からは、適度の接着力が得られるという前提で、第一接着層ＯＰ３６および第二接着層ＯＰ３８を、同じ接着剤を用いて形成することが好ましい。

第一接着層ＯＰ３６および第二接着層ＯＰ３８の厚みは、例えば、平均厚さで０．５μｍ以上５μｍ以下とすることができる。

＜粘着層＞
粘着層ＯＰ４０は、例えば、光学フィルムＯＰ４５を液晶パネルの表示面に貼合するために用いられる。粘着層ＯＰ４０を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルなどをベース樹脂とするものを挙げることができる。その中でも、アクリル系樹脂をベース樹脂とするアクリル系粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を保持し、さらに耐候性や耐熱性などに優れ、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれなどの剥離問題が生じにくいため、好適に用いられる。

アクリル系粘着剤を構成するアクリル系樹脂には、エステル部分が、メチル基、エチル基、ブチル基、又は２−エチルヘキシル基のような炭素数２０以下のアルキル基を有するアクリル酸アルキルエステルと、（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチルのような官能基含有（メタ）アクリル系モノマーとのアクリル系共重合体が好適に用いられる。

このようなアクリル系共重合体を含む粘着層ＯＰ４０は、液晶パネルに貼合した後に何らかの不具合があって剥離する必要が生じた場合に、ガラス基板に糊残りなどを生じさせることなく、比較的容易に剥離することができる。アクリル系共重合体は、そのガラス転移温度が２５℃以下であることが好ましく、０℃以下であることがより好ましい。また、このアクリル系共重合体は、通常１０万以上の重量平均分子量を有する。

粘着層ＯＰ４０の厚みは、例えば、平均厚さで１μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。

＜第一位相差層＞
第一位相差層（プロテクションフィルム）ＯＰ３１は、基材層ＯＰ３３とともにパターン化位相差層ＯＰ３５を保護する。第一位相差層ＯＰ３１は、基材層ＯＰ３３に対して剥離自在に設けられている。

第一位相差層ＯＰ３１は、透明樹脂フィルムに粘着・剥離性の樹脂層又は付着性の樹脂層を形成して、弱い粘着性を付与したものが用いられる。透明樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフトレート、ポリエチレン、及びポリプロピレンのような熱可塑性樹脂の押出フィルム、それらを組み合わせた共押出フィルム、それらを一軸又は二軸に延伸したフィルムなどを挙げることができる。透明樹脂フィルムとしては、透明性及び均質性に優れ、廉価であるポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンの一軸又は二軸延伸フィルムを用いることが好ましい。

粘着・剥離性の樹脂層としては、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、スチレン−ブタジエン共重合樹脂系粘着剤、ポリイソブチレン系粘着剤、ビニルエーテル系樹脂粘着剤、シリコーン系樹脂粘着剤などを挙げることができる。また、付着性の樹脂層としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂などを挙げることができる。粘着・剥離性の樹脂層としては、透明性に優れるアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。

第一位相差層ＯＰ３１の厚みは、例えば、平均厚さで１５μｍ以上７５μｍ以下とすることができる。

＜第二位相差層＞
第二位相差層（セパレータフィルム）ＯＰ４１は、粘着層ＯＰ４０を覆って粘着層ＯＰ４０を保護する。第二位相差層ＯＰ４１は、粘着層ＯＰ４０に対して剥離自在に設けられている。第二位相差層ＯＰ４１としては、第一位相差層ＯＰ３１と同様の透明樹脂フィルムを用いることができる。

第二位相差層ＯＰ４１の厚みは、例えば、平均厚さで１５μｍ以上７５μｍ以下とすることができる。

図１に戻って、支持体Ｂ１は、光学フィルムＯＰ１の第一面ＯＰ１ａを支持する支持面Ｂ１ａを有する。支持体Ｂ１は、支持面Ｂ１ａ内の少なくとも一部に、光学フィルムＯＰ１を第二面ＯＰ１ｂ側から第一面ＯＰ１ａ側に透過した光を反射する反射面ＲＳ１を有する。反射面ＲＳ１の材料や構成は、特に限定されない。反射面ＲＳ１は、支持体Ｂ１の表面を鏡面加工することによって形成されていてもよく、支持体Ｂ１の表面に金属反射膜や反射型偏光板等の反射部材を配置することによって形成されていてもよい。また、支持面Ｂ１ａ全体が反射面ＲＳ１となっていてもよく、支持面Ｂ１ａの一部の領域のみが反射面ＲＳ１となっていてもよい。支持体Ｂ１は、光学フィルムＯＰ１を安定的に保持できるものであればよい。支持体Ｂ１の形状は、特に限定されず、板状、柱状、筒状など、任意の形状を採用することができる。支持面Ｂ１ａの形状も、平面や湾曲面など、任意の形状を採用することができる。

撮像ユニットＵ１は、光源部ＩＬ１と、撮像部ＣＭ１と、を含む。撮像ユニットＵ１は、例えば、一の偏光パターン列を透過して反射面ＲＳ１で反射された光が、同じ一の偏光パターン列を透過して撮像部ＣＭ１に入射するように、光源部ＩＬ１と撮像部ＣＭ１とを近接させて一体に保持している。

光源部ＩＬ１は、反射面ＲＳ１上に位置する光学フィルムＯＰ１に向けて、光学フィルムＯＰ１の第二面ＯＰ１ｂ側から光を照射する。光源部ＩＬ１としては、ＬＥＤなどの公知の光源を用いることができる。光源部ＩＬ１は、例えば、光学フィルムＯＰ１に向けて白色光を照射するが、光源部ＩＬ１が照射する光はこれに限られない。本実施形態では、位相差層ＯＰ１１、パターン化位相差層ＯＰ１２および偏光子層ＯＰ１３の位相差や波長分散特性などに応じて、適切な波長の光を光源部ＩＬ１から照射することができる。

撮像部ＣＭ１は、反射面ＲＳ１上に位置する光学フィルムＯＰ１の反射光像を、光学フィルムＯＰ１の第二面ＯＰ１ｂ側から撮像する。撮像部ＣＭ１としては、ＣＣＤカメラなどの公知の撮像手段を用いることができる。

パターン検出部ＩＰ１は、光学フィルムＯＰ１の反射光像に基づいて、反射面ＲＳ１上に位置する偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂを検出し、偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂの境界線の位置情報を抽出する。パターン検出部ＩＰ１としては、公知の画像処理手段を用いることができる。撮像部ＣＭ１によって撮像された反射光像の画像信号は、パターン検出部ＩＰ１によってデジタルデータ化された画像データに変換され、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理が施される。

第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂは、偏光子層ＯＰ１３の偏光軸ＰＬＡＸに対する遅相軸ＲＴＡＸのなす方向が互いに異なる。そのため、偏光子層ＯＰ１３、パターン化位相差層ＯＰ１２および位相差層ＯＰ１１を透過し、反射面ＲＳ１で反射して、再度、位相差層ＯＰ１１、パターン化位相差層ＯＰ１２および偏光子層ＯＰ１３を透過した光の輝度や色は、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａを透過したものと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを透過したものとで異なる。よって、パターン検出部ＩＰ１は、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの反射光像の輝度または色の違いに基づいて、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを検出する。

例えば、図４中の（ａ）および（ｂ）に示すように、光源部ＩＬ１から白色光を照射すると、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａを透過して撮像部ＣＭ１に入射する光は、赤色Ｒで光量も大きいのに対し、第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを透過して撮像部ＣＭ１に入射する光は、緑色Ｇで光量も小さいというような現象が生じる。パターン検出部ＩＰ１は、反射光像の画像データに対して、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理を施すことにより、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａおよび第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを検出する。色抽出処理や二値化処理は、いずれか一つを選択して用いることもできるが、両者を併用して用いることもできる。例えば、パターン検出部ＩＰ１は、反射光像の画像データにおいて，より明るく表示される色（図４中では、例えば、赤色Ｒ）を有する部分を抽出し、抽出された画像データをさらに二値化処理することにより、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂとを、明パターンと暗パターンとして検出する。色抽出処理や二値化処理のアルゴリズムは多数知られており、特定の検出方法に限定されない。

複数の偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂの反射光像のコントラスト（反射光像の輝度の比）を調整するために、光源部ＩＬ１は、赤色や緑色などの色光を照射してもよい。例えば、光源部ＩＬ１から赤色Ｒの光を照射すると、赤色Ｒを殆ど含まない第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの反射光像は黒となる。よって、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａの反射光像の輝度と、第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの反射光像の輝度との比（以下、「第一偏光パターン列と第二偏光パターン列の反射光像のコントラスト」という）が大きくなり、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの検出が容易になる。

光源部ＩＬ１は、緑色Ｇの光を照射することもできる。しかし、より明るく表示される色（図４中では、例えば、赤色Ｒ）を照射する光源部ＩＬ１を用いるほうが、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの反射光像のコントラストを高める上で有利である。

上述のように、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの反射光像のコントラストは、光学フィルムＯＰ１に入射する光の波長によって異なる。光源部ＩＬ１から照射される光の波長は、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂの反射光像のコントラストが、白色光を照射する場合に比べて相対的に大きくなるような波長に設定することができる。

以上のように、本実施形態の検出装置ＤＡ１では、偏光子層ＯＰ１３およびパターン化位相差層ＯＰ１２を透過した光を、位相差層ＯＰ１１を介して反射面ＲＳ１に入射させ、反射面ＲＳ１で反射した光を、再度、位相差層ＯＰ１１を介してパターン化位相差層ＯＰ１２および偏光子層ＯＰ１３に入射させる。そのため、撮像部ＣＭ１によって撮像される反射光像には、色や輝度の異なる複数のパターン列が、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂに対応して表示される。よって、この反射光像の画像データに対して色抽出処理や二値化処理などの画像処理を施せば、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを精度よく検出することができる。

例えば、位相差層ＯＰ１１が、パターン化位相差層ＯＰ１２と反射面ＲＳ１との間に設けられていない場合は、撮像部ＣＭ１によって撮像される反射光像は全面黒の画像となる。よって、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを検出することはできない。位相差層ＯＰ１１がパターン化位相差層ＯＰ１２と反射面ＲＳ１との間に設けられることによって、偏光子層ＯＰ１３から漏れる光が発生し、その光の色や輝度も、第一偏光パターン列ＯＰ１２ａを透過したものと第二偏光パターン列ＯＰ１２ｂを透過したものとで異なる。

位相差層ＯＰ１１は、パターン化位相差層ＯＰ１２や偏光子層ＯＰ１３などに比べて、その位相差が十分に制御されていないため、光学測定においては不都合を生じさせることが多い。そのため、光学測定の前に予め位相差層を剥離するなどの工夫が必要であるが、本実施形態では、位相差層ＯＰ１１の位相差を積極的に利用して、位相差層ＯＰ１１を剥離することなく、偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂを検出する。これにより、偏光パターン列ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂを精度よく効率的に検出することが可能な検出装置および検出方法を提供することができる。

［第二の実施の形態］
図２は、本発明の第二の実施の形態に係る検出装置ＤＡ２の概略図である。

本実施形態の検出装置ＤＡ２は、支持体Ｂ２と、撮像ユニットＵ２と、パターン検出部ＩＰ２と、調整部ＰＬＲと、を含む。検出装置ＤＡ２は、光学フィルムＯＰ２に含まれる偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂを検出する。

光学フィルムＯＰ２は、位相差層ＯＰ２１と、偏光子層ＯＰ２２と、パターン化位相差層ＯＰ２３と、を少なくとも含む。位相差層ＯＰ２１と、偏光子層ＯＰ２２と、パターン化位相差層ＯＰ２３は、光学フィルムＯＰ２の第一面（支持体Ｂ２によって支持される側の面）ＯＰ２ａ側から第二面（支持体Ｂ２によって支持される側とは反対側の面）ＯＰ２ｂ側に向けて、この順で設けられている。光学フィルムＯＰ２のうち、位相差層ＯＰ２１を除く部分が、光学フィルム本体部ＯＰＣ２である。

パターン化位相差層ＯＰ２３は、互いに遅相軸ＲＴＡＸの方向が異なる複数の偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂを含む。パターン化位相差層ＯＰ２３は、例えば、遅相軸ＲＴＡＸの方向が互いに直交する第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂとを含む。第一偏光パターン列ＯＰ２３ａの遅相軸ＲＴＡＸは、光学フィルムＯＰ２の法線方向から見て、例えば、偏光子層ＯＰ２２の偏光軸（透過軸）ＰＬＡＸ１に対して右回りに４５°の角度をなす。第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの遅相軸ＲＴＡＸは、光学フィルムＯＰ２の法線方向から見て、例えば、偏光子層ＯＰ２２の偏光軸ＰＬＡＸ１に対して左回りに４５°の角度をなす。第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂは、その長手方向と直交する方向に交互に配置されている。

位相差層ＯＰ２１は、光学フィルム本体部ＯＰＣ２の保護フィルム（セパレータフィルム）として、光学フィルム本体部ＯＰＣ２に剥離可能に設けられる。保護フィルムは、通常、二軸延伸によって製造され、複屈折性を有している。保護フィルムは、パターン化位相差層ＯＰ２３や偏光子層ＯＰ２２などに比べて位相差が十分に制御されていない。そのため、保護フィルムは、パターン化位相差層ＯＰ２３を透過した光に対して意図せぬ位相差を付与する。このような位相差は、光学測定の精度を低下させるため、排除されるべきであるが、本実施形態では、このような位相差を積極的に利用して、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂの検出を行っている。この点については、後述する。

光学フィルムＯＰ２は、位相差層ＯＰ２１、偏光子層ＯＰ２２およびパターン化位相差層ＯＰ２３以外の層を含むことができる。本実施形態では、例えば、図３に示した光学フィルムＯＰ３を光学フィルムＯＰ２として用いることができる。この場合、第二位相差層ＯＰ４１が図２の位相差層ＯＰ２１に対応し、偏光子層ＯＰ３７が図２の偏光子層ＯＰ２２に対応し、パターン化位相差層ＯＰ３５が図２のパターン化位相差層ＯＰ２３に対応し、光学フィルム本体部ＯＰ４２が図２の光学フィルム本体部ＯＰＣ２に対応する。

支持体Ｂ２は、光学フィルムＯＰ２の第一面ＯＰ２ａを支持する支持面Ｂ２ａを有する。支持体Ｂ１は、支持面Ｂ２ａ内の少なくとも一部に、光学フィルムＯＰ２を第二面ＯＰ２ｂ側から第一面ＯＰ２ａ側に透過した光を反射する反射面ＲＳ２を有する。反射面ＲＳ２の材料や構成は、特に限定されない。反射面ＲＳ２は、支持体Ｂ２の表面を鏡面加工することによって形成されていてもよく、支持体Ｂ２の表面に金属反射膜や反射型偏光板等の反射部材を配置することによって形成されていてもよい。また、支持面Ｂ２ａ全体が反射面ＲＳ２となっていてもよく、支持面Ｂ２ａの一部の領域のみが反射面ＲＳ２となっていてもよい。
支持体Ｂ２は、光学フィルムＯＰ２を安定的に保持できるものであればよい。支持体Ｂ２の形状は、特に限定されず、板状、柱状、筒状など、任意の形状を採用することができる。支持面Ｂ２ａの形状も、平面や湾曲面など、任意の形状を採用することができる。

撮像ユニットＵ２は、光源部ＩＬ２と、撮像部ＣＭ２と、偏光板ＰＬＦと、を含む。撮像ユニットＵ２は、例えば、一の偏光パターン列を透過して反射面ＲＳ２で反射された光が、同じ一の偏光パターン列を透過して撮像部ＣＭ２に入射するように、光源部ＩＬ２と撮像部ＣＭ２とを近接させて一体に保持している。

光源部ＩＬ２は、反射面ＲＳ２上に位置する光学フィルムＯＰ２に向けて、光学フィルムＯＰ２の第二面ＯＰ２ｂ側から光を照射する。偏光板ＰＬＦは、光源部ＩＬ２から光学フィルムＯＰ２に向かう光の光路上に設けられる。光源部ＩＬ２から照射された光は、偏光板ＰＬＦを透過して直線偏光に変換される。光源部ＩＬ２としては、ＬＥＤなどの公知の光源を用いることができる。光源部ＩＬ２は、例えば、光学フィルムＯＰ２に向けて白色光を照射するが、光源部ＩＬ２が照射する光はこれに限られない。本実施形態では、位相差層ＯＰ２１、偏光子層ＯＰ２２、パターン化位相差層ＯＰ２３および偏光板ＰＬＦの位相差や波長分散特性などに応じて、適切な波長の光を光源部ＩＬ２から照射することができる。

撮像部ＣＭ２は、反射面ＲＳ２上に位置する光学フィルムＯＰ２の反射光像を、光学フィルムＯＰ２の第二面ＯＰ２ｂ側から撮像する。撮像部ＣＭ２としては、ＣＣＤカメラなどの公知の撮像手段を用いることができる。

パターン検出部ＩＰ２は、光学フィルムＯＰ２の反射光像に基づいて、反射面ＲＳ２上に位置する偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂを検出し、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂの境界線の位置情報を抽出する。パターン検出部ＩＰ２としては、公知の画像処理手段を用いることができる。撮像部ＣＭ２によって撮像された反射光像の画像信号は、パターン検出部ＩＰ２によってデジタルデータ化された画像データに変換され、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理が施される。

第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂは、偏光板ＰＬＦの偏光軸（透過軸）ＰＬＡＸ２に対する遅相軸ＲＴＡＸのなす方向が互いに異なる。そのため、偏光板ＰＬＦ、パターン化位相差層ＯＰ２３、偏光子層ＯＰ２２および位相差層ＯＰ２１を透過し、反射面ＲＳ２で反射して、再度、位相差層ＯＰ２１、偏光子層ＯＰ２２およびパターン化位相差層ＯＰ２３を透過した光の輝度や色は、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａを透過したものと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂを透過したものとで異なる。よって、パターン検出部ＩＰ２は、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの反射光像の輝度または色の違いに基づいて、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂを検出する。

パターン検出部ＩＰ２は、反射光像の画像データに対して、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理を施すことにより、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａおよび第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂを検出する。色抽出処理や二値化処理は、いずれか一つを選択して用いることもできるが、両者を併用して用いることもできる。例えば、パターン検出部ＩＰ２は、反射光像の画像データにおいて、より明るく表示される色を有する部分を抽出し、抽出された画像データをさらに二値化処理することにより、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂとを、明パターンと暗パターンとして検出する。上述のような色抽出処理や二値化処理のアルゴリズムは多数知られており、特定の検出方法に限定されない。

複数の偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂの反射光像のコントラスト（反射光像の輝度の比）を調整するために、光源部ＩＬ２は、赤色や緑色などの色光を照射してもよい。第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの反射光像のコントラストは、光学フィルムＯＰ２に入射する光の波長によって異なる。光源部ＩＬ２から照射される光の波長は、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの反射光像のコントラストが、白色光を照射する場合に比べて相対的に大きくなるような波長に設定することができる。

調整部ＰＬＲは、偏光板ＰＬＦの偏光軸ＰＬＡＸ２と、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂの遅相軸ＲＴＡＸとの相対角度を調整する。調整部ＰＬＲによって、偏光板ＰＬＦの偏光軸ＰＬＡＸ２に対する、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａおよび第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの遅相軸ＲＴＡＸのなす角度を調整することにより、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの反射光像の非対称性（色や輝度などの相違）を大きくすることができる。よって、パターン検出部ＩＰ２は、反射面ＲＳ２上に位置する偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂを精度よく検出することができる。
なお、上記した偏光板ＰＬＦの偏光軸ＰＬＡＸ２と、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂの遅相軸ＲＴＡＸとの相対角度の調整は、例えば、調整部ＰＬＲにより、偏光板ＰＬＦを回転可能な治具に貼り付けた後、作業者が光学フィルムＯＰ２の反射光像を確認しながら、回転可能な治具に貼り付けられた偏光板ＰＬＦを、治具ごと回転させることで行うことができる。この場合、作業者が光学フィルムＯＰ２の反射光像を確認しながら治具を回転させ、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの非対称性が最も大きくなったと判断した位置で、治具の回転を停止する手順とすることができる。一方、上記の相対角度の調整は、調整部ＰＬＲにより、治具を図示略のモータ等で回転させることで、自動で行うことも可能である。また、上記の相対角度の調整は、１回の工程毎に実施してもよいが、原反ロール（図１０中の符号Ｒ１を参照）の交換時に光学フィルムＯＰ２の反射光像を確認し、この反射光像における非対称性が大きい場合には相対角度の調整を行わず、非対称性が小さくパターン認識が良好で無いときのみ調整してもよい。

以上のように、本実施形態の検出装置ＤＡ２においても、位相差層ＯＰ２１の位相差を積極的に利用して、位相差層ＯＰ２１を剥離することなく、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂを検出する。そのため、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂを精度よく効率的に検出することが可能な検出装置および検出方法を提供することができる。また、本実施形態では、調整部ＰＬＲによって、第一偏光パターン列ＯＰ２３ａと第二偏光パターン列ＯＰ２３ｂの反射光像の非対称性を大きくすることができる。よって、偏光パターン列ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂの検出精度が高まる。

［第三の実施の形態］
図５は、本発明の第三の実施の形態に係る検出装置ＤＡ３の概略図である。
図６は、液晶パネルＰと光学フィルムＦ１との相対貼合位置を調整する方法を説明する図である。
図７Ａおよび図７Ｂは、液晶パネルＰへの光学フィルムＦ１の貼合工程を説明する図である。

図５に示すように、本実施形態の検出装置ＤＡ３は、支持体（貼合ドラム）３２と、撮像ユニット３５と、パターン検出部ＩＰ３と、を含む。検出装置ＤＡ３は、光学フィルムＦ１に含まれる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図６参照）を検出する。

図５ないし図７Ａ、図７Ｂに示すように、本実施形態の検出装置ＤＡ３は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図６参照）の位置（例えば、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置）に基づいて、光学フィルムＦ１を液晶パネルＰにアライメントして貼合する貼合装置１３の一部を構成する。貼合装置１３は、検出装置ＤＡ３のほかに、制御装置２５、駆動装置４２、貼合ステージ４１、撮像ユニット３６などを含む。支持体３２は、保持面３２ａに保持した光学フィルムＦ１を液晶パネルＰに貼合するドラム状の貼合部材である。よって、以下では、「支持体」を「貼合ドラム」と表記して説明を行う。

光学フィルムＦ１は、図１に示した光学フィルムＯＰ１と同様に、位相差層と、パターン化位相差層と、偏光子層とを、少なくとも第一面（貼合ドラム３２によって支持される側の面）側から第二面（貼合ドラム３２によって支持される側とは反対側の面）側に向けて、この順で含む。本実施形態では、例えば、図３に示した光学フィルムＯＰ４５を光学フィルムＦ１として用いることができる。偏光パターン列ＡＰＡａおよび偏光パターン列ＤＰＡａが、図３の第一偏光パターン列ＯＰ３５ａに対応し、偏光パターン列ＡＰＡｂおよび偏光パターン列ＤＰＡｂが、図３の第二偏光パターン列ＯＰ３５ｂに対応する。

図５に示すように、光学フィルムＦ１は、液晶パネルＰの表示領域と対向するアクティブエリアＡＣと、液晶パネルＰの表示領域の周辺部に位置する周辺領域と対向する周辺エリアＳＲと、を含む枚葉状のフィルムである。

図５および図６に示すように、アクティブエリアＡＣには、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列ＤＰＡａ，ＤＰＡｂが、液晶パネルＰの複数の画素列に対応して設けられている。液晶パネルＰの表示領域には、右眼用画像を表示する右眼用画素列と、左眼用画像を表示する左眼用画素列と、が交互に配置される。そのため、アクティブエリアＡＣには、右眼用画素列に対応した右眼用偏光パターン列ＤＰＡａと、左眼用画素列に対応した左眼用偏光パターン列ＤＰＡｂと、が交互に配置される。

周辺エリアＳＲには、遅相軸の方向が右眼用偏光パターン列ＤＰＡａと平行な第一偏光パターン列ＡＰＡａと、遅相軸の方向が左眼用偏光パターン列ＤＰＡｂと平行な第二偏光パターン列ＡＰＡｂと、が交互に配置される。周辺エリアＳＲに設けられる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂは、単独で、または、アクティブエリアＡＣに設けられる偏光パターン列ＤＰＡａ，ＤＰＡｂとともに、光学フィルムＦ１を液晶パネルＰにアライメントするためのアライメント基準として用いることができる。偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂの検出を容易にするために、例えば、周辺エリアＳＲに設けられる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂのうち、少なくとも一の偏光パターン列の幅は、アクティブエリアＡＣに設けられる偏光パターン列ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの幅よりも広くすることができる。

図５に示すように、貼合ドラム３２は、光学フィルムＦ１の幅方向と平行な円筒状の保持面３２ａを有する。保持面３２ａは、光学フィルムＦ１の第一面（図３の第一位相差層ＯＰ３１の下面）を支持する支持面である。保持面３２ａは、例えば、光学フィルムＦ１の貼合面（図３の粘着層ＯＰ４０の表面）よりも弱い貼着力を有し、光学フィルムＦ１の表面保護フィルム（図３の第一位相差層ＯＰ３１）を繰り返し貼着、剥離可能とされる。貼合ドラム３２は、例えば、金属製のドラムの外周面に粘着シートを巻きつけることにより作製される。この粘着シートの表面が保持面３２ａとなる。保持面３２ａの幅方向中央部は、光学フィルムＦ１が保持される保持領域ＦＡである。

貼合ドラム３２は、保持面３２ａ内の複数箇所に、光学フィルムＦ１を第二面側から第一面側に透過した光を反射する反射面３９を有する。反射面３９は、例えば、保持面３２ａの表面に、金属反射膜や反射型偏光板等の反射部材を配置することにより形成される。

反射面３９は、保持面３２ａ内において、アライメント基準となる偏光パターン列が配置される部分に設けられる。反射面３９が配置された位置が、偏光パターン列を検出可能な検出領域となる。保持面３２ａに設けられた複数の検出領域のうち、一または複数の検出領域において検出された偏光パターン列をアライメント基準とすることができる。本実施形態では、例えば、保持領域ＦＡの中央部と両端部の各々に、同一形状の複数の反射面３９が、貼合ドラム３２の回転方向に沿って互いに等しい間隔で設けられる。保持領域ＦＡの中央部に設けられた反射面３９は、光学フィルムＦ１のアクティブエリアＡＣの中央部と対向する。保持領域ＦＡの端部に設けられた反射面３９は、光学フィルムＦ１のアクティブエリアＡＣと周辺エリアＳＲとの境界線と対向する。

駆動装置４２は、貼合ドラム３２を回転軸ＲＡの回りに回転させるとともに、貼合ドラム３２を回転軸ＲＡと直交する水平方向および鉛直方向に移動させる。駆動装置４２は、制御装置２５に電気的に接続されており、制御装置２５により駆動装置４２の駆動が制御される。

撮像ユニット３５は、光源部３５ａと、撮像部３５ｂと、を含む。撮像ユニット３５は、例えば、一の偏光パターン列を透過して反射面３９で反射された光が、同じ一の偏光パターン列を透過して撮像部３５ｂに入射するように、光源部３５ａと撮像部３５ｂとを近接させて一体に保持している。図５では、便宜上、撮像ユニット３５を一つのみ示したが、撮像ユニット３５は、例えば、反射面３９の設置位置に対応して、貼合ドラム３２の幅方向（回転軸ＲＡと平行な方向）に複数設けることができる。また、撮像ユニット３５を貼合ドラム３２の幅方向に移動させる移動機構を設け、一つの撮像ユニット３５によって複数の検出領域の偏光パターン列が検出されるようにしてもよい。

光源部３５ａは、反射面３９上に位置する光学フィルムＦ１に向けて、光学フィルムＦ１の第二面側から光を照射する。光源部３５ａとしては、ＬＥＤなどの公知の光源を用いることができる。光源部３５ａは、例えば、光学フィルムＦ１に向けて白色光を照射するが、光源部３５ａが照射する光はこれに限られない。例えば、光学フィルムＦ１に含まれる位相差層、パターン化位相差層および偏光子層の位相差や波長分散特性などに応じて、適切な波長の光を光源部３５ａから照射することができる。

撮像部３５ｂは、反射面３９上に位置する光学フィルムＦ１の反射光像を光学フィルムＦ１の第二面側から撮像する。撮像部３５ｂとしては、ＣＣＤカメラなどの公知の撮像手段を用いることができる。

パターン検出部ＩＰ３は、光学フィルムＦ１の反射光像に基づいて、反射面３９上に位置する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図６参照）を検出し、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報を抽出する。パターン検出部ＩＰ３としては、公知の画像処理手段を用いることができる。撮像部３５ｂによって撮像された反射光像の画像信号は、パターン検出部ＩＰ３によってデジタルデータ化された画像データに変換され、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理が施される。前述のように、遅相軸の方向が異なる二つの偏光パターン列の反射光像は、色や輝度が互いに異なる。そのため、画像データに対して色抽出処理や二値化処理などの画像処理を施すことにより、偏光パターン列を精度よく検出することができる。

複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの反射光像のコントラスト（反射光像の輝度の比）を調整するために、光源部３５ａは、赤色や緑色などの色光を照射してもよい。複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの反射光像のコントラストは、光学フィルムＦ１に入射する光の波長によって異なる。光源部３５ａから照射される光の波長は、複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの反射光像のコントラストが、白色光を照射する場合に比べて相対的に大きくなるような波長に設定することができる。

制御装置２５は、パターン検出部ＩＰ３が抽出した偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図６参照）の境界線の位置情報を取得する。制御装置２５は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、貼合ドラム３２に対する光学フィルムＦ１の配置位置を確認する。制御装置２５は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、駆動装置（不図示）により、貼合ステージ４１（図６参照）を貼合ドラム３２の回転軸ＲＡと直交する方向及び貼合ドラム３２の回転軸ＲＡと平行な方向にそれぞれ移動させたり、回転装置（不図示）により、貼合ステージ４１を水平面内で回転させたりする。これにより、貼合ステージ４１に保持された液晶パネルＰと、貼合ドラム３２に保持された光学フィルムＦ１との相対貼合位置を調整するべくアライメントを行う。

制御装置２５は、コンピュータシステムを含んで構成される。コンピュータシステムは、ＣＰＵ等の演算処理部と、メモリやハードディスク等の記憶部とを含む。パターン検出部ＩＰ３の機能は、演算処理部によって実現される。制御装置２５は、コンピュータシステムの外部の装置との通信を実行可能なインターフェースを含み、検出装置ＤＡ３、駆動装置４２および貼合ステージ４１（図６参照）などの外部の装置の動作を統括的に制御する。

以下、図６を用いて、液晶パネルＰと光学フィルムＦ１との相対貼合位置の調整方法を説明する。図６において、右段の図は、貼合ドラム３２に貼着された光学フィルムＦ１の配置位置の説明図であり、左段の図は、貼合ステージ４１に保持された液晶パネルＰの配置位置の説明図であり、下段の図は、貼合ステージ４１の調整量の説明図である。図６では、便宜上、反射面３９の図示は省略している。

図６の右段に示すように、撮像ユニット３５により、保持面３２ａに貼着保持された光学フィルムＦ１の角部が撮像される。光学フィルムＦ１には、貼合ドラム３２の回転軸に沿う一辺と平行な方向に、複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂが配列して設けられている。撮像ユニット３５は、貼合ドラム３２の回転に伴って、その回転方向に沿う光学フィルムＦ１の一辺の両角部を撮像する。

図５に示したパターン検出部ＩＰ３は、撮像ユニット３５により撮像された光学フィルムＦ１の角部の反射光像に基づいて、光学フィルムＦ１の角部に位置する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを検出し、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報を抽出する。また、パターン検出部ＩＰ３は、光学フィルムＦ１の角部に位置する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡのうち、特定の２つの偏光パターン列（例えば、アクティブエリアに最も近い周辺エリアの２つの偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ）の境界線の端部の位置を、光学フィルムＦ１の角部の位置ＥＧＰとして検出する。パターン検出部ＩＰ３によって検出された光学フィルムＦ１の角部の位置ＥＧＰは、光学フィルムＦ１を液晶パネルＰに貼合する際の光学フィルムＦ１のアライメント基準となる。

以下の説明において、撮像ユニット３５により撮像される光学フィルムＦ１の２つの角部の間の、貼合ドラム３２の周方向に沿う距離を、カメラ間距離Ｌｃと称する。カメラ間距離Ｌｃは、上述した光学フィルムＦ１の回転方向に沿う一辺の長さと概ね等しい。

例えば、貼合ドラム３２の回転に伴って光学フィルムＦ１がカメラ間距離Ｌｃだけ移動するとき、光学フィルムＦ１の角部ＥＧＰの位置が始点Ｅｐ１から終点Ｅｐ２まで移動する。撮像ユニット３５およびパターン検出部ＩＰ３により検出された始点Ｅｐ１及び終点Ｅｐ２の位置情報は、制御装置２５に送られる。制御装置２５は、図６の下段に示すように、カメラ間距離Ｌｃと、貼合ドラム３２の回転軸と平行な方向における始点Ｅｐ１と終点Ｅｐ２との間の距離Ｌｅ（以下、始点／終点偏差Ｌｅと称する。）と、に基づいて、補正角度α（ｔａｎα＝Ｌｅ／Ｌｃ）を算出する。

図６の左段に示すように、後述する撮像ユニット３６（図７Ａおよび図７Ｂ参照）により、貼合ステージ４１に保持された液晶パネルＰの角部が撮像される。例えば、液晶パネルＰの各角部には、マークＰｍ（例えば、本実施形態では３つのマークＰｍ１，Ｐｍ２，Ｐｍ３）が付されている。撮像ユニット３６により検出された第一マークＰｍ１、第二マークＰｍ２及び第三マークＰｍ３の位置情報は、制御装置２５に送られる。制御装置２５は、撮像ユニット３６の検出情報に基づき、貼合ステージ４１の駆動を制御し、貼合ステージ４１に保持された液晶パネルＰのアライメントを行う。制御装置２５は、補正角度αに基づき、図示略の回転装置を駆動制御し、貼合ステージ４１を水平面内で角度αだけ回転させる。これにより、貼合ドラム３２に対する液晶パネルＰのアライメントが行われる。

以下、図７Ａおよび図７Ｂを用いて、貼合ドラム３２による液晶パネルＰへの光学フィルムＦ１の貼合工程を説明する。

図７Ａに示すように、制御装置２５は、貼合ステージ４１の上方の所定位置まで貼合ドラム３２を移動させる。制御装置２５は、光学フィルムＦ１の角部ＥＧＰの位置情報と、液晶パネルＰの第一マークＰｍ１、第二マークＰｍ２及び第三マークＰｍ３の位置情報と、に基づいて、光学フィルムＦ１の右眼用偏光パターン列ＤＰＡａおよび左眼用偏光パターン列ＤＰＡｂが、液晶パネルＰに設けられた右眼用画素および左眼用画素と平面的に重なるように、貼合ドラム３２と貼合ステージ４１とのアライメントを行う。

制御装置２５は、貼合時、貼合ドラム３２を下降させることで、保持面３２ａに貼着された光学フィルムＦ１の先端部を、液晶パネルＰの端部に上方から押し付けた状態とする。
貼合ドラム３２は、光学フィルムＦ１が液晶パネルＰに押圧された状態となるように下降する。このとき、貼合ドラム３２は、保持面３２ａに保持された光学フィルムＦ１を液晶パネルＰに押し付けて回転させることにより、光学フィルムＦ１を液晶パネルＰに貼合する。

図７Ｂに示すように、制御装置２５は、貼合時に、貼合ドラム３２の回転に伴って、貼合ステージ４１を、貼合ドラム３２の回転軸と直交する方向に相対移動させる。本実施形態では、貼合ドラム３２が左回りに回転しており、貼合ステージ４１が紙面右方向に移動する。なお、貼合ステージ４１を移動させずに貼合ドラム３２を回転させつつ、貼合ドラム３２を紙面左方向に移動させる構成としても良い。

例えば、貼合ドラム３２の回転駆動と、貼合ステージ４１による液晶パネルＰの移動動作とは同期して行われる。これにより、光学フィルムＦ１と液晶パネルＰとの間に摩擦が生じることを抑制できる。これにより、光学フィルムＦ１を、液晶パネルＰに対して、ずれを抑えながら貼合させることができる。

貼合ドラム３２は、例えば、光学フィルムＦ１の貼合面（図３の粘着層ＯＰ４０の表面）よりも弱い貼着力を有し、光学フィルムＦ１の表面保護フィルム（図３の第一位相差層ＯＰ３１）を繰り返し貼着、剥離可能とされているので、貼合面側が液晶パネルＰに押圧された光学フィルムＦ１は、保持面３２ａから剥離されて液晶パネルＰ側に貼合される。

図示は省略するが、液晶パネルＰの光学フィルムＦ１が貼合された面とは反対側の面には、偏光板や輝度向上フィルムなどの光学フィルムが貼合される。これにより、立体表示が可能な光学表示デバイスが提供される。

以上のように、本実施形態の検出装置ＤＡ３においても、第一の実施の形態と同様に、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを精度よく効率的に検出することができる。本実施形態の貼合装置１３は、検出装置ＤＡ３により抽出された偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、光学フィルムＦ１と液晶パネルＰとのアライメントを行うため、光学フィルムＦ１と液晶パネルＰとの貼合精度を高めることができる。よって、表示品質に優れた光学表示デバイスを提供することができる。

［第四の実施の形態］
図８は、第四の実施の形態に係る検出装置ＤＡ４の概略図である。
図９は、光学フィルムＦ２の概略構成を示す平面図である。
図１０は、スリット加工装置５０の概略図である。

本実施形態の検出装置ＤＡ４は、支持体６１と、撮像ユニット６２と、パターン検出部ＩＰ４と、調整部６３と、を含む。検出装置ＤＡ４は、光学フィルムＦ２に含まれる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）を検出する。

図８ないし図１０に示すように、本実施形態の検出装置ＤＡ３は、光学フィルムＦ２をスリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３に沿ってスリット加工する、スリット加工装置５０の一部を構成する。スリット加工装置５０は、検出装置（第一検出装置）ＤＡ４のほかに、フィルム供給部５１、フィルム巻き取り部５２，５３、耳巻き取り部５４、第一蛇行制御部５５、第二蛇行制御部５６、第二検出装置５７、切断部５８および制御装置７０などを含む。

光学フィルムＦ２は、図２に示した光学フィルムＯＰ２と同様に、位相差層と偏光子層とパターン化位相差層とを少なくとも第一面（支持体６１によって支持される側の面）側から第二面（支持体６１によって支持される側とは反対側の面）側に向けて、この順で含む。本実施形態では、例えば、図３に示した光学フィルムＯＰ３を光学フィルムＦ２として用いることができる。

図９に示すように、光学フィルムＦ２は、アクティブエリアＡＣと周辺エリアＳＲとを、長手方向と直交する幅方向において交互に含む、長尺状のフィルムである。アクティブエリアＡＣは、例えば、図６に示した液晶パネルＰの表示領域と対向する部分であり、周辺エリアＳＲは、液晶パネルＰの表示領域の周辺部に位置する周辺領域と対向する部分である。

光学フィルムＦ２は、液晶パネル複数分（図９では例えば２つ分）の幅を有する。光学フィルムＦ２は、後述するスリット加工装置５０（図１０参照）を用いて、スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３に沿って切断される。スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３は周辺エリアＳＲ内に設定される。これにより、光学フィルムＦ２は、液晶パネル１つ分の幅を有する複数の長尺フィルムに分割される。分割して得られた一の長尺フィルムは、液晶パネルＰのサイズにカットされ、図７Ａおよび図７Ｂに示した貼合装置１３を用いて液晶パネルＰに貼合される。

光学フィルムＦ２のアクティブエリアＡＣおよび周辺エリアＳＲの構成は、第三の実施の形態で説明したものと同じである。よって、ここでは、その詳細な説明は省略する。スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３は、例えば、周辺エリアＳＲに設けられた偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂの境界線の位置に設定される。

図８に示すように、支持体６１は、光学フィルムＦ２の幅方向と平行な円柱状の支持面６１ａを有する。支持体６１は、例えば、光学フィルムＦ２の搬送経路ＦＣＬ（図１０参照）を構成する複数の搬送ロールのうちの一つである。支持体６１は、光学フィルムＦ２の第一面（図３の第二位相差層４１の上面）を支持しつつ、光学フィルムＦ２の搬送に伴って回転する。支持体６１は、例えば、鏡面加工を施された金属製のロールであり、支持面６１ａ全体が反射面となっている。

撮像ユニット６２は、光源部６２ａと、撮像部６２ｂと、偏光板６２ｃと、を含む。撮像ユニット６２は、例えば、一の偏光パターン列を透過して反射面（支持面６１ａ）で反射された光が、同じ一の偏光パターン列を透過して撮像部６２ｂに入射するように、光源部６２ａと撮像部６２ｂとを近接させて一体に保持している。

光源部６２ａは、反射面上に位置する光学フィルムＦ２に向けて光学フィルムＦ２の第二面（図３の第一位相差層ＯＰ３１の下面）側から光を照射する。偏光板６２ｃは、光源部６２ａから光学フィルムＦ２に向かう光の光路上に設けられる。光源部６２ａから照射された光は、偏光板６２ｃを透過して直線偏光に変換される。光源部６２ａとしては、ＬＥＤなどの公知の光源を用いることができる。光源部６２ａは、例えば、光学フィルムＦ２に向けて白色光を照射するが、光源部６２ａが照射する光はこれに限られない。例えば、光学フィルムＦ２に含まれる位相差層、パターン化位相差層および偏光子層や偏光板６２ｃの位相差や波長分散特性などに応じて、適切な波長の光を光源部６２ａから照射することができる。

撮像部６２ｂは、反射面上に位置する光学フィルムＦ２の反射光像を光学フィルムＦ２の第二面側から撮像する。撮像部６２ｂとしては、ＣＣＤカメラなどの公知の撮像手段を用いることができる。

パターン検出部ＩＰ４は、光学フィルムＦ２の反射光像に基づいて、反射面上に位置する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを検出し、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）の境界線の位置情報を抽出する。パターン検出部ＩＰ４としては、公知の画像処理手段を用いることができる。撮像部６２ｂによって撮像された反射光像の画像信号は、パターン検出部ＩＰ４によってデジタルデータ化された画像データに変換され、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理が施される。前述のように、遅相軸の方向が異なる二つの偏光パターン列の反射光像は、色や輝度が互いに異なる。そのため、画像データに対して色抽出処理や二値化処理などの画像処理を施すことにより、偏光パターン列を精度よく検出することができる。

光源部６２ａは、複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの反射光像のコントラスト（反射光像の輝度の比）を調整するために、赤色や緑色などの色光を照射してもよい。複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの反射光像のコントラストは、光学フィルムＦ２に入射する光の波長によって異なる。光源部６２ａから照射される光の波長は、複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの反射光像のコントラストが、白色光を照射する場合に比べて相対的に大きくなるような波長に設定することができる。

調整部６３は、偏光板６２ｃの偏光軸と偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）の遅相軸との相対角度を調整する。調整部６３によって、偏光板６２ｃの偏光軸に対する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの遅相軸のなす角度を調整することにより、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＤＰＡａと偏光パターン列ＡＰＡｂ，ＤＰＡｂの反射光像の非対称性（色や輝度などの相違）を大きくすることができる。よって、パターン検出部ＩＰ４は、反射面上に位置する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを精度よく検出することができる。

制御装置７０は、パターン検出部ＩＰ４が抽出した偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報を取得する。制御装置７０は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、支持体６１に対する光学フィルムＦ２の配置位置を確認する。制御装置７０は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、予め設定された走行位置に対して、実際の光学フィルムＦ２の走行位置がどの程度ずれているかを検出する。
制御装置７０は、光学フィルムＦ２の走行位置のずれを低減するように、図１０に示した第一蛇行制御部５５により、フィルム供給部５１を光学フィルムＦ２の搬送方向と直交する幅方向に移動させる。

制御装置７０は、コンピュータシステムを含んで構成される。コンピュータシステムは、ＣＰＵ等の演算処理部と、メモリやハードディスク等の記憶部とを含む。パターン検出部ＩＰ４の機能は、演算処理部によって実現される。制御装置７０は、コンピュータシステムの外部の装置との通信を実行可能なインターフェースを含み、第一検出装置ＤＡ４、フィルム供給部５１、フィルム巻き取り部５２，５３、耳巻き取り部５４、第一蛇行制御部５５、第二蛇行制御部５６、第二検出装置５７および切断部５８などの外部の装置の動作を統括的に制御する。

以下、図１０を用いて、スリット加工装置５０の構成を説明する。

フィルム供給部５１は、光学フィルムＦ２を巻き取った原反ロールＲ１を保持するとともに、光学フィルムＦ２を、その長手方向に繰り出す。フィルム供給部５１から繰り出された光学フィルムＦ２の搬送経路ＦＣＬには、搬送方向上流側から、第一蛇行制御部５５、第一検出装置ＤＡ４、第二蛇行制御部５６、第二検出装置５７および切断部５８が順に配置される。

フィルム供給部５１から繰り出された光学フィルムＦ２の繰り出し直後の走行位置は、第一検出装置ＤＡ４を用いて検出される。第一検出装置ＤＡ４は、光学フィルムＦ２に設けられた複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）を検出する。制御装置７０は、第一検出装置ＤＡ４によって検出された複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの位置（例えば、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置）に基づいて、光学フィルムＦ２の走行位置のずれを検出し、第一蛇行制御部５５を制御して光学フィルムＦ２の蛇行を制御する。

第一蛇行制御部５５によって蛇行が制御された後の光学フィルムＦ２の走行位置は、第二検出装置５７を用いて検出される。第二検出装置５７は、光学フィルムＦ２に設けられた複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）を検出する。制御装置７０は、第二検出装置５７によって検出された複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの位置（例えば、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置）に基づいて、光学フィルムＦ２の走行位置のずれを検出し、第二蛇行制御部５６を制御して光学フィルムＦ２の蛇行を制御する。

第一蛇行制御部５５は、例えば、第一検出装置ＤＡ４および制御装置７０により検出された光学フィルムＦ２の走行位置のずれに基づいて、フィルム供給部５１によって光学フィルムＦ２が繰り出される位置（原反ロールＲ１の位置）を光学フィルムＦ２の幅方向に移動させる。第一蛇行制御部５５により、光学フィルムＦ２の走行位置のずれが粗く制御される。

第二検出装置５７は、第一検出装置ＤＡ４と同様の構成を有する。第二検出装置５７は、支持体６６の反射面で反射された光学フィルムＦ２の反射光像を撮像ユニット６７により撮像し、その撮像結果に基づいて、反射面上に位置する偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）を検出し、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報を抽出する。

制御装置７０は、第二検出装置５７が抽出した偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図９参照）の境界線の位置情報を取得する。制御装置７０は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、支持体６６に対する光学フィルムＦ２の配置位置を確認する。制御装置７０は、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、予め設定された走行位置に対して、実際の光学フィルムＦ２の走行位置がどの程度ずれているかを検出する。制御装置７０は、光学フィルムＦ２の走行位置が予め設定された走行位置と一致するように、第二蛇行制御部５６を制御して光学フィルムＦ２の走行位置を調整する。

第二蛇行制御部５６は、例えば、第二検出装置５７および制御装置７０により検出された光学フィルムＦ２の走行位置のずれに基づいて、光学フィルムＦ２を支持する第一ガイドロール６４および第二ガイドロール６５を、光学フィルムＦ２の搬送方向に対して傾斜させる。第一ガイドロール６４と第二ガイドロール６５とは、互いに回転軸を平行にして配置される。第二蛇行制御部５６は、第一ガイドロール６４と第二ガイドロール６５の回転軸の方向を、光学フィルムＦ２の走行方向に対して一体に傾斜させる。これにより、光学フィルムＦ２の走行位置が幅方向に微調整され、光学フィルムＦ２は予め設定された走行位置を走行するようになる。

なお、第二蛇行制御部５６は、光学フィルムＦ２を支持する一本のガイドロールを、光学フィルムＦ２の搬送方向に対して傾斜させる構成であってもよい。

切断部５８に搬送される光学フィルムＦ２の走行位置は、第一蛇行制御部５５および第二蛇行制御部５６によって精密に制御される。第一蛇行制御部５５および第二蛇行制御部５６の構成は、上記のものに限定されない。第一蛇行制御部５５としては、第二蛇行制御部５６よりも光学フィルムＦ２の走行位置を大きく調整できるものが好ましい。第二蛇行制御部５６としては、第一蛇行制御部１０５よりも光学フィルムＦ１の走行位置を精密に調整できるものが好ましい。

また、第一蛇行制御部５５、第一検出装置ＤＡ４、第二蛇行制御部５６および第二検出装置５７の配置は、上記のものに限定されない。第一検出装置ＤＡ４は、第一蛇行制御部５５の上流側でもよいし、下流側でもよい。第二検出装置５７は、第二蛇行制御部５６の上流側でもよいし、下流側でもよい。第二検出装置５７は、第一蛇行制御部５５によって光学フィルムＦ２の蛇行を制御する位置よりも下流側で、且つ、切断部５８によって光学フィルムＦ２を切断する位置よりも上流側で、光学フィルムＦ２の複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを検出するものであればよい。第二蛇行制御部５６は、第一蛇行制御部５５によって光学フィルムＦ２の蛇行を制御する位置よりも下流側で且つ切断部５８によって光学フィルムＦ２を切断する位置よりも上流側で、光学フィルムＦ２の蛇行を制御するものであればよい。

切断部５８は、光学フィルムＦ２を、図９中に示したスリットラインＳＬ１，ＳＬ２、ＳＬ３に沿って切断する。切断部５８は、例えば、切断刃やレーザーカッターなどにより構成することができる。切断部５８は、スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３の配置間隔と同じ間隔で、光学フィルムＦ２の幅方向に複数配置される。制御装置７０は、切断部５８の直下にスリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３が配置されるように、第一蛇行制御部５５および第二蛇行制御部５６により光学フィルムＦ２の走行位置を制御する。切断部５８は、第一蛇行制御部５５および第二蛇行制御部５６によって光学フィルムＦ２の蛇行を制御する位置よりも下流側で、光学フィルムＦ２を、その搬送方向と平行なスリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３に沿って切断する。

切断部５８によって幅方向に分割された光学フィルムＦ２のうち、アクティブエリアＡＣを含む部分は、フィルム巻き取り部５２，５３により巻き取られ、液晶パネル一つ分の幅を有する長尺状フィルムの原反ロールＲ２，Ｒ３として提供される。切断部５８によって分割された光学フィルムＦ２のうち、アクティブエリアＡＣを含まない部分は、耳巻き取り部５４により巻き取られ、廃棄される。

以上のように、本実施形態の第一検出装置ＤＡ４および第二検出装置５７においても、第二の実施の形態と同様に、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを精度よく効率的に検出することができる。本実施形態のスリット加工装置５０は、第一検出装置ＤＡ４および第二検出装置５７により検出された偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置情報に基づいて、光学フィルムＦ２の走行位置を制御する。そのため、走行位置の制御を精度よく行うことができる。また、走行位置の制御を第一蛇行制御部５５と第二蛇行制御部５６を用いて二段階で行うため、光学フィルムＦ２の走行位置のずれを殆どなくすことができる。よって、走行位置のずれによりアクティブエリアＡＣを誤って切断してしまうおそれが低減され、歩留りが向上する。また、走行位置のずれを考慮した余剰部分（周辺エリア）の幅を狭くすることができるため、光学フィルムＦ２の無駄が少なくなり、製造コストが低減される。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されるものではない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において、設計要求等に基づき、種々変更可能である。

例えば、上記の実施の形態では、本発明に係る検出装置を備えた処理装置の一例として、貼合装置やスリット加工装置を挙げたが、処理装置はこれに限定されない。本発明に係る検出装置および検出方法は、偏光パターン列の位置に基づいて処理を行うことが必要な種々の処理装置および処理方法に適用することができる。

また、上記の実施の形態では、パターン化位相差層に含まれる偏光パターン列として二種類の偏光パターン列を説明した。しかし、パターン化位相差層に含まれる偏光パターン列は二種類に限定されず、三種類以上とすることもできる。この場合も、複数の偏光パターン列の反射光像は、互いに輝度や色などが異なるものとなる。よって、パターン検出部は、複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、複数の偏光パターン列を検出することができる。

本発明に係る検出装置、検出方法、処理装置および処理方法によれば、偏光パターン列を精度よく検出することが可能な検出装置、検出方法、処理装置および処理方法を提供することができる。

１３…貼合装置（処理装置）、３２…貼合ドラム（支持体）、３２ａ…保持面（支持面）、３５ａ…光源部、３５ｂ…撮像部、３９…反射面、５０…スリット加工装置（処理装置）、５７…第二検出装置、６１…支持体、６１ａ…支持面、６２ａ…光源部、６２ｂ…撮像部、６２ｃ…偏光板、６３…調整部、ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ…偏光パターン列、Ｂ１，Ｂ２…支持体、Ｂ１ａ，Ｂ２ａ…支持面、ＣＭ１，ＣＭ２…撮像部、ＤＡ１，ＤＡ２，ＤＡ３，ＤＡ４…検出装置、Ｆ１，Ｆ２…光学フィルム、ＩＬ１，ＩＬ２…光源部、ＩＰ１，ＩＰ２，ＩＰ３，ＩＰ４…パターン検出部、ＯＰ１，ＯＰ２，ＯＰ３，ＯＰ４５…光学フィルム、ＯＰ１ａ，ＯＰ２ａ…第一面、ＯＰ１ｂ，ＯＰ２ｂ…第二面、ＯＰ１１，ＯＰ２１，ＯＰ３１，ＯＰ４１…位相差層、ＯＰ１２，ＯＰ２３，ＯＰ３５…パターン化位相差層、ＯＰ１２ａ，ＯＰ１２ｂ，ＯＰ２３ａ，ＯＰ２３ｂ…偏光パターン列、ＯＰ１３，ＯＰ２２，ＯＰ３７…偏光子層、ＰＬＡＸ２…偏光板の偏光軸、ＰＬＦ…偏光板、ＰＬＲ…調整部、ＲＳ１，ＲＳ２…反射面、ＲＴＡＸ…偏光パターン列の遅相軸

Claims (14)

1. 位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出装置であって、
   前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体と、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する光源部と、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像部と、
   前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出部と、
   を含む検出装置。
2. 前記パターン検出部は、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出する
   請求項１に記載の検出装置。
3. 位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出装置であって、
   前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体と、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する光源部と、
   前記光源部から前記光学フィルムに向かう前記光の光路上に設けられた偏光板と、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像部と、
   前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出部と、
   を含む検出装置。
4. 前記パターン検出部は、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出する
   請求項３に記載の検出装置。
5. 前記偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する調整部を含む
   請求項３または４に記載の検出装置。
6. 位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出方法であって、
   前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持ステップと、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する照射ステップと、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像ステップと、
   前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出ステップと、
   を含む検出方法。
7. 前記パターン検出ステップは、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出する
   請求項６に記載の検出方法。
8. 位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する検出方法であって、
   前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持面を有し、前記支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する反射面を有する支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する支持ステップと、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から偏光板を介して光を照射する照射ステップと、
   前記反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する撮像ステップと、
   前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出するパターン検出ステップと、
   を含む検出方法。
9. 前記パターン検出ステップは、前記複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、前記複数の偏光パターン列を検出する
   請求項８に記載の検出方法。
10. 前記偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する調整ステップを含む
    請求項８または９に記載の検出方法。
11. 位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、請求項１または２に記載の検出装置を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う処理装置。
12. 位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、請求項３ないし５のいずれか１項に記載の検出装置を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う処理装置。
13. 位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、請求項６または７に記載の検出方法を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う処理方法。
14. 位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を、請求項８ないし１０のいずれか１項に記載の検出方法を用いて検出し、前記偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムに所定の処理を行う処理方法。

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