JPWO2015194608A1 - 成形品、成形型及び成形型の製造方法 - Google Patents
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Abstract
巨視的に鏡面状の成形面である上面(10a)を有し、上面(10a)上の局所的な領域に凹で形成される装飾部(10d)を有し、装飾部(10d)の段差量は、上面(10a)から対称的な形状成分を加味した凹凸成分の半分より小さいため、成形品(10)の成形において、硬化収縮時の応力が上面(10a)全体に分散されて特定の部分に集中することがなくなり、成形材であるガラスがスムーズに離型されるため、透明な材料に装飾部(10d)を設けても、白濁及び欠けがない成形品(10)を得ることができる。
Description
本発明は、透明な材料で形成され表面に文字、模様、図柄等の装飾部を有する成形品、当該成形品を製造するための成形型、及び当該成形型の製造方法に関する。
装飾パネルとして、透明な材料の表面に文字、模様、図柄等を表した凹凸(装飾部)を有するものをモールド法にて製造する場合、所望の装飾部の形状を反転させた装飾転写部を成形型に設ける必要がある。ここで、成形型の表面粗さが平坦なほど、成形される成形品の透明性が高くなるため、成形型の転写面全域を鏡面に仕上げる必要がある。例えば、レーザー彫刻によって樹脂成形品の表面に装飾部を有する凹構造を加工した場合、加工面の表面粗さが悪くなり、白濁してしまう。しかし、特許文献1に記載の装飾パネルの製造方法では、成形型上にインクによって形成された文字、模様、図柄等を印刷し、そのインクの凹凸をアクリル樹脂等に転写させることで、成形品の表面に装飾部を白濁させることなく形成している。
モールド成形では、溶けた成形材を成形型に流し込み、成形型の装飾転写部を転写した後、成形材が硬化するという現象が起こる。しかし、成形型の転写面に装飾転写部が設けられていると、成形材は装飾転写部で成形型と干渉して自由に収縮することができず、硬化収縮時の応力が装飾転写部に集中する。この応力によって硬化後の成形材が成形型から離型できなくなる場合や、離型時に装飾部に欠けが発生する場合があり問題となる。ガラスのような脆く欠けやすい成形材を用いるときに、この応力による欠けが問題となりやすい。欠けが発生しないように、成形型の装飾転写部にテーパーを設けて離型しやすい形状にすることが行われているが、装飾が小さい場合、テーパーによって装飾も小さくなり視認性が悪くなる場合がある。特許文献1に記載の製造方法で白濁がおきないようにインクの凸凹を用いて装飾部を形成することができるが、インクをフィルム状の印刷基材に印刷したり、成形後に印刷基材をアクリル樹脂から引きはがす手間が発生してしまう。また、特許文献1には、装飾部の欠けに関する課題について記載されていない。
本発明は、透明な材料の表面に文字、模様、図柄等の装飾部を設けても、白濁及び欠けがない成形品を提供することを目的とする。
また、本発明は、上述の成形品を製造するための成形型及び当該成形型の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る成形品は、所定領域で巨視的に鏡面状の成形面を有し、所定領域内であって成形面上の局所的な領域に凹及び凸のいずれかで形成される装飾部を有し、装飾部の段差量は、成形面から対称的な形状成分を加味した凹凸成分の半分より小さい。ここで、巨視的に鏡面状とは、微視的に観察すると凹凸を有するが、所定領域を全体的に観察すると鏡面状であることを意味する。対称的な形状成分とは、上記所定領域内の断面において微細な凹凸をならした近似曲線を意味する。
上記成形品によれば、装飾部の段差量は成形面全体から見れば微小であり、成形面の凹凸の主成分が鏡面状の凹凸成分すなわちうねり成分となる。そのため、硬化収縮時の応力は成形面全体に分散されて特定の部分に集中することがなくなり、成形材をスムーズに離型することができる。これにより、透明な材料に装飾部を設けても、白濁及び欠けがない成形品となる。特に、成形材がガラスのような脆い材料である場合でも装飾部に欠けが発生しなくなり、装飾部のエッジが立つので、たとえ、装飾部の段差量が小さくても明確に認識できる。
本発明の具体的な態様又は観点では、上記成形品において、装飾部の段差をΔとし、成形面の表面形状のPV値をA1としたときに、以下の条件式を満足する。
A1/2>Δ
A1/2>Δ
本発明の別の観点では、装飾部の段差量は、1μm以下である。この場合、装飾部の輪郭を形成する段差部分で欠けが発生することを確実に防止することができる。
本発明のさらに別の観点では、成形品は、ガラスで形成される。
上記課題を解決するため、本発明に係る成形型は、所定領域で巨視的に鏡面状の転写面を有し、所定領域内であって転写面上の局所的な領域に凹及び凸のいずれかで形成される装飾転写部を有し、装飾転写部の段差量は、転写面から対称的な形状成分を加味した凹凸成分の半分より小さい。
上記成形型によれば、装飾転写部の段差量は転写面全体から見れば微小であり、転写面の凹凸の主成分が鏡面状の凹凸成分となる。そのため、硬化収縮時の応力は成形品の成形面全体に分散されて特定の部分に集中することがなくなり、成形材をスムーズに離型することができる。
本発明の具体的な態様又は観点では、上記成形型において、装飾転写部の段差をΔとし、転写面の表面形状のPV値をA1としたときに、以下の条件式を満足する。
A1/2>Δ
A1/2>Δ
本発明の別の観点では、転写面は、離型処理層を有する。この場合、離型処理層を剥離及び再形成すれば、1つの母材で装飾部の形状に応じた成形型を得ることができ、コストを削減することができる。
本発明のさらに別の観点では、離型処理層の厚さは、装飾転写部の段差量よりも大きい。この場合、離型処理層を剥離した後の成形型の母材を装飾転写部がない状態にすることができる。
上記課題を解決するため、本発明に係る成形型の製造方法は、成形型の転写面の所定領域を巨視的に鏡面状に加工する鏡面加工工程と、鏡面加工工程後、所定領域内の転写面上に装飾転写部に対応するマスクパターンを形成するマスク形成工程と、マスクパターンの露出部分をドライエッチングによってエッチングし、装飾転写部を形成する装飾加工工程と、を備える。
上記成形型の製造方法によれば、装飾転写部を形成する前に転写面全域を鏡面状に加工することにより、簡易に装飾転写部の段差量よりも大きい凹凸成分を有する成形面を得ることができる。また、例えばガスクラスターイオンビームを用いることにより、装飾部転写部は、表面粗さが平坦な面を加工することができ、鏡面加工工程で得られた鏡面性と同等かそれ以上の鏡面性を得ることができる。これにより、転写面全域において鏡面状態を保つことができる。
本発明の具体的な態様又は観点では、上記成形型の製造方法において、ドライエッチングにおいて、ガスクラスターイオンビームを用いる。この場合、ガスクラスターイオンビームの照射時間等によって、1μm以下のような微小な加工量も高精度に狙うことができる。
本発明の別の観点では、鏡面加工工程後、マスク形成工程前に、鏡面状の下地面上に離型処理層を形成する層形成工程を備える。この場合、離型処理層上に装飾転写部を形成することができる。
本発明のさらに別の観点では、鏡面加工工程において、転写面は、機械研磨によって鏡面加工される。
〔第1実施形態〕
図1A及び1B等を参照して、本発明の第1実施形態に係る成形品について説明する。
図1A及び1B等を参照して、本発明の第1実施形態に係る成形品について説明する。
成形品10は、ガラスのプレス成形等によって形成される透明又は光透過性を有する部材である。成形品10は、矩形の輪郭を有する板状の部材であるが、図1Bに示すように、断面に沿った特定方向に関して中央が厚くなっており、円筒又は蒲鉾状の外形を有する。成形品10の上面10aは、全体的な領域10nが円筒面となっており、成形品10の下面10bや側面10cは、平坦面となっている。これらのうち、上面10aと下面10bとは、成形されたままの状態で鏡面状の成形面となっている。側面10cについては、成形時の鏡面状の成形面を残すこともできるが、磨りガラス状の加工を施すこともできる。なお、本実施形態において、所定領域として上面10a全域が鏡面状となっているが、上面10aのうち後述する装飾部10dを含む領域が鏡面状になっていればよく、例えば成形品10の外縁付近については鏡面状でなくてもよい。
成形品10の上面10aにおいて、円筒面の領域10nのうち局所的な領域からレリーフ状の突起パターンとして装飾部10dが形成されている。装飾部10dは、文字、模様、図柄等を表した立体的な構造部分であり、例えば略一様な厚みを有する。装飾部10dの厚み又は段差量は、例えば数μm以下であり、好ましくは1μm以下である。なお、成形品10の厚みは数mm程度となっている。
成形品10は、例えばカバーガラスその他の装飾部品又は装飾用品として用いることができる。成形品10の上面10aに形成された装飾部10dは、数μm以下と極めて低いが、成形品10に当てる光の角度や観察方向の調整によって淡く浮き出す模様として観察される。このため、成形品10は、無色又は有色の透明部材であることが望ましい。
成形品10の上面10aに設けられた装飾部10dは、エッジの立った形状を有する。つまり、装飾部10dは、輪郭に対応する側面11aと、側面11aに囲まれた平坦面11bとを有する。側面11aは、鏡面状の周囲の領域10nから略垂直に立ち上がっている。仮に側面11aが周囲の領域10nから略垂直に立ち上がっていなければ、その段差が少ないこともあって視覚的に認識できなくなる。また、段差量が大きいほど装飾部10dの視認は容易になると言える。その一方で、側面11aの段差量が大きいと、プレス成形が困難になる。つまり、略垂直に立ち上がる部分は、成形型(不図示)と噛み合う傾向が強く、この成形型の熱膨張係数と成形品10の熱膨張係数とに比較的大きな差がある場合、装飾部10dの側面11aのエッジに応力が集中して欠けが発生しやすくなり、離型も容易でなくなる。そのため、成形品10の良品の製造が困難になり或いは歩留まりが低下する。このように、装飾部10dの段差の設定は、適度な見やすさと製造の容易さとをバランスさせることが容易でないという事情があった。
ところで、成形品10の面10a,10bは、設計通りの曲面又は平面であることが望ましいが、金型の加工精度等に起因して若干の僅かなうねりを有するものとなる。このようなうねりは、成形品10が光学部品等である場合、極めて少なく設定されるのが通常であるが、用途によっては許容値をある程度大きくできる可能性もある。そして、うねりが成形品10の微細な段差よりも十分に大きければ、成形時に段差に応力が集中しにくくなり、成形品10の離型が容易になって成形品10の装飾部10dに欠けが生じにくくなると考えられる。本願発明者は、この点に着目し、成形品10の装飾部10dを見やすいものとしつつ製造に際して欠けが形成されにくくなるような成形方法や成形型を考案した。
以下、図1A等に示す成形品10を製造するための成形型及び成形装置の一例について具体的に説明する。
図2に示すように、成形型40は、上型41と下型42とを有する。上型41には、転写面41aが形成され、下型42にも、転写面42aが形成されている。上型41の転写面41aは、鏡面状に加工され、全体として対称性を有するが、成形品10の装飾部10dに対応する装飾転写部41dを有する。下型42の転写面42aは、鏡面状に加工され、全体として対称性を有する。上型41と下型42との間には、溶融ガラスGMがプレスされた状態で充填されている。この溶融ガラスGMは、平板状の成形品10に成形され、成形品10には、装飾転写部41dに対応する装飾部10dが形成される。なお、上型41と下型42との間には隙間を設けている。これは、溶融ガラスGMの体積に変動があっても同様の厚みの成形品10を成形するためである。
図3A〜3Cを参照して、成形品10の装飾部10dとして目的とする段差の形成を可能にするような成形品10の表面のうねりについて説明する。図3Aは、図1Bに対応し、成形品10の上面10aの形状を誇張して示した図となっている。上面10aは、円筒面であり、点線で示すような円弧31となるべきところ、実際は、実線で示すように非対称的なうねりUを有する形状となっている。円弧31は、対称的な形状成分である近似Rであり、上面10aを例えば最小自乗法によってフィッティングすることで得られる。図3Bは、上面10aの形状を近似Rである円弧31からの偏差として示した図である。図3Cは、図3Bを縦方向にさらに拡大した図であり、上面10aのうねりUが誇張された状態で示されている。上面10aに形成された装飾部10dは、上面10aのうねりUに重畳する状態で周囲の領域10nから突起している。
図3Cに示す例では、上面10aのうねり成分のPV(Peak to Valley)値は、上面10aにおける装飾部10dの段差量、つまり装飾凹凸段差Δよりも大きくなり、成形品10の製造時に、装飾部10dの段差に応力が集中しにくくなるので、装飾部10dに欠けを生じさせないで、成形品10の離型性を確保でき、ガラスのような脆い材料であっても装飾部10dの外周に欠けが生じにくいものとなっている。
図4A及び4Bを参照して、成形品10の上面10a又は上型41の転写面41aに形成される装飾凹凸段差Δの適正な範囲について考える。図3Cでも説明したように、装飾凹凸段差Δが成形品10の上面10a又は上型41の転写面41aに形成されているうねり成分のPV値よりも小さければ装飾部10dに欠けが生じにくいが、製品上で装飾凹凸段差Δとうねり成分とを区別して計測等を行うことは容易でない。このため、うねり成分のPV値に代えて表面形状のPV値を用いる。表面形状のPV値をA1とし、うねり成分のPV値をA0とした場合、
A1≦A0+Δ、つまりA0≧A1−Δ … (1)
となる。ここで、うねり成分のPV値A0が装飾凹凸段差Δよりも大きいことが前提となっており、
A0>Δ … (2)
が満たされるべきであり、より確実には
A1−Δ>Δ … (3)
が満たされるものとする。つまり、
A1/2>Δ … (4)
が満たされるものとする。すなわち、装飾部10dの段差量は、上面10aから対称的な形状成分を加味した凹凸成分、すなわち表面形状のPV値A1の半分より小さくなっている。ここで、対称的な形状成分とは、所定領域内の断面において微細な凹凸をならした近似曲線を意味しており、図3A及び3Bで説明した近似Rと同意である。上記の式(4)の式を満たす場合、成形品10の上面10aに形成される装飾凹凸段差Δが成形品10の上面10aに形成されているうねり成分のPV値よりも確実に小さくなり、成形品10の製造時に成形品10の離型性を確保でき、装飾部10dの外周に欠けが生じることを防止できる。
A1≦A0+Δ、つまりA0≧A1−Δ … (1)
となる。ここで、うねり成分のPV値A0が装飾凹凸段差Δよりも大きいことが前提となっており、
A0>Δ … (2)
が満たされるべきであり、より確実には
A1−Δ>Δ … (3)
が満たされるものとする。つまり、
A1/2>Δ … (4)
が満たされるものとする。すなわち、装飾部10dの段差量は、上面10aから対称的な形状成分を加味した凹凸成分、すなわち表面形状のPV値A1の半分より小さくなっている。ここで、対称的な形状成分とは、所定領域内の断面において微細な凹凸をならした近似曲線を意味しており、図3A及び3Bで説明した近似Rと同意である。上記の式(4)の式を満たす場合、成形品10の上面10aに形成される装飾凹凸段差Δが成形品10の上面10aに形成されているうねり成分のPV値よりも確実に小さくなり、成形品10の製造時に成形品10の離型性を確保でき、装飾部10dの外周に欠けが生じることを防止できる。
以上は、成形品10又は上型41の特定断面について考えたが、成形品10の任意の断面において同様の条件が成り立つことが望ましく、図3Aの円弧31は、円筒面その他の対称形状成分(又は対称形状成分面)で考えることが厳密である。このような対称形状成分に対する成形品10の上面10a又は上型41の転写面41aの偏差又は面精度として処理することで、装飾凹凸段差Δや凹凸成分のPV値A1の管理の確実性が増す。
図5Aに示すように、図2に示す成形型40を組み込んだ成形装置100は、原材料であるガラスを溶融して直接プレスする加圧成形のための装置である。成形装置100は、主要な部材である金型装置60の他に、成形品10の製造にあたって金型装置60に移動、開閉動作等を行わせるための制御駆動装置100a、ガラス滴形成装置100b(図5B参照)等をさらに備える。
金型装置60は、固定側の第1成形型61と、可動側の第2成形型62とを備える。第1成形型61は、その先端に図4に示す成形型40のうち下型42に相当する部分を有し、第2成形型62は、その先端に成形型40のうち上型41に相当する部分を有する。成形の際、第1成形型61は固定状態に維持され、第2成形型62は第1成形型61に対向するように移動して、両型61,62を互いに突き合わせるような型閉じが行われる。
図5Aを参照しつつ第1成形型61について説明する。第1成形型61は、下型42と、支持部61bと、ヒーター部61cとを備える。第1成形型61のうち下型42は円筒状であり、転写面42aを有する。第1成形型61の支持部61bの根元に設けたヒーター部61cには、下型42を適度に加熱するための電気ヒーター61hが内蔵されている。
次に、第2成形型62について説明する。第2成形型62は、上型41と、支持部62bと、ヒーター部62cとを備える。第2成形型62のうち上型41は円筒状であり、転写面41aを有する。第2成形型62の支持部62bの根元に設けたヒーター部62cには、上型41を適度に加熱するための電気ヒーター62hが内蔵されている。
第2成形型62と第1成形型61とは、加圧成形時において、第2成形型62の転写面41aと、第1成形型61の転写面42aとがそれぞれ同軸に配置され、プレス時及び冷却時に互いに所定間隔だけ離間する等、適切な位置関係を保つものとなっている。
制御駆動装置100aは、金型装置60又は成形型40による成形品10の成形のために、電気ヒーター61h,62hへの給電の制御や、第1成形型61及び第2成形型62の開閉動作等の成形装置100全体の制御を行う。なお、制御駆動装置100aに駆動された第2成形型62は、水平なAB方向に移動可能であるとともに、鉛直のCD方向に移動可能になっている。例えば両型61,62を合わせて型閉じを行う際には、まず第1成形型61の上方位置に第2成形型62を移動させて両型61,62の軸CX1,CX2を一致させ、延いては上側の転写面41aと下側の転写面42aとをそれぞれ一致させ、第2成形型62を降下させて第1成形型61側に所定の力で押し付ける。
図5Bに示すように、ガラス滴形成装置100bは、原材料供給部91を有する。原材料供給部91は不図示のヒーターにより加熱され、原材料供給部91内のガラスを溶融状態にしており、ノズル91aから滴下されるガラスの溶融状態を維持している。原材料供給部91は、制御駆動装置100aにより移動や溶融ガラスGの滴下タイミングが制御される。
原材料供給部91は、不図示の坩堝等で溶融させた溶融ガラスGを溜めており、所定のタイミングで溶融ガラスGをノズル91aから吐出することにより、液滴状の溶融ガラスGである溶融ガラス滴GDを滴下させる部分である。
以下、成形品10の製造方法の一例について説明する。図5Bに示すように、原材料供給部91のノズル91aから滴下された溶融ガラス滴GDを下型42の転写面42aで受ける。溶融ガラス滴GDは、第1成形型61に設けた下型42の転写面42a上に広がって冷却される。そして、下型42上の溶融ガラスが完全に固化する前であって加圧変形可能な温度の間に、下型42上の溶融ガラスに第2成形型62に設けた上型41を相対的に押圧して成形する(成形工程)。この際、第1成形型61の上方位置に第2成形型62を移動させて両型61,62の軸CX1,CX2を一致させ、延いては上側の転写面41aと下側の転写面42aとを対向させた状態で押圧する。なお、第2成形型62は、第1成形型61と同程度の温度に加熱されている。その後、上下型41,42間の融合ガラスの温度が漸次低下していくことにより、上下面10a,10b等を有する装飾パネルとしての成形品10が成形される。成形品10を十分に冷却した後、第1成形型61及び第2成形型62の加圧を解除して、第2成形型62を上昇させることにより、成形品10を離型し、型外へ取り出す(取出工程)。
以下、図2及び図4B等に示す成形型40、特に装飾転写部41dを設けた上型41の製造方法の一例について具体的に説明する。
成形型40のうち、上型41は、切削等によって所望の形状に形成され、鏡面状に形成された下地面41jを表側に有している。上型41の下地面41jは、巨視的には、対称形状を有するものであり、具体的には円筒の凹面に切削加工される。ここで、下地面41jは、微視的には、図4Bに示すようなうねりを有している。このようなうねり成分のPV値(振れ幅)は、装飾転写部41dの深さに対応した値を有し、具体的には数μm以上(例えば8μm)となっている。下地面41jのうねりは、加工制御によって強制的に設けることができるが、加工精度として不可避的に生じるものであってもよい。下地面41jは、仕上げ加工によって最終的には巨視的に全域が鏡面状の転写面41aとなる(鏡面加工工程)。ここで、巨視的に鏡面状とは、微細に観察すると凹凸を有するが、所定領域を全体的に観察すると鏡面状であることを意味する。なお、上型41の下地面41jすなわち鏡面は、切削によって仕上げることもできるが、最後に機械研磨工程を追加することもできる。
その後、上型41の下地面41jには、所望の輪郭を有する浅い凹部が形成され、装飾転写部41dとされる。装飾転写部41dの形成には、例えばドライエッチング(具体的にはガスクラスターイオンビーム)が利用される。鏡面加工工程後の転写面41aに、マスクパターンを形成し(マスク形成工程)、マスクパターンの露出部分をエッチングすることで、転写面41a上に所望のパターンを有する装飾転写部41dを形成することができる(装飾加工工程)。
図6は、上型41の下地面41j又は転写面41aに装飾転写部41dを形成するためのエッチング装置の一例を示す。このエッチング装置300は、上型41となるべき被加工物WA表面のエッチングのためにガスクラスターイオンビーム(GCIB)を照射するものであり、装置本体70と、支持装置駆動部81と、制御装置82とを備える。
装置本体70は、真空技術を利用してエッチングによる研磨を行う装置であり、ソースチャンバー71aとイオンチャンバー71bとプロセスチャンバー71cとを備える。各チャンバー71a,71b,71cには、真空ポンプを含む排気装置72が付随している。
ソースチャンバー71aは、ガスを真空中に噴射する部分である。ガス源73aから延びるノズル73bから供給されるガスは、例えばアルゴンガス、酸素ガス、窒素ガス、SF6ガス、ヘリウムガスの他、化合物の炭酸ガス等であり、2種以上のガスを混合することも可能である。ソースチャンバー71aとイオンチャンバー71bとを仕切るスキマー73cは、開口を有し、ノズル73bから噴射された高圧ガスのうち中心側のガスクラスターを選択的に通過させてビーム化する。つまり、ソースチャンバー71aからは、ガスクラスタービームB1が射出される。
イオンチャンバー71bは、ガスクラスタービームB1を研磨用のガスクラスターイオンビームB2にする部分である。イオンチャンバー71bにおいて、上流のイオン化部74aは、フィラメントを有する。このフィラメントからの熱電子をガスクラスタービームB1に衝突させることで、ガスクラスタービームB1を荷電粒子ビームとする。下流のレンズ部74cは、加速部74bを経た荷電粒子ビームを照射軸AXに沿って略平行に進むビームとする。この結果、イオンチャンバー71bの内部アパーチャー74fからは、コリメートされ比較的大きな直径を有するガスクラスターイオンビームB2が射出される。内部アパーチャー74fは、シャッター機能も有しており、ガスクラスターイオンビームB2を所望のタイミングでオン・オフすることができる。
ガスクラスターイオンビームB2を構成する粒子は、後述する被加工物WAに照射されることによる被加工物WAとの衝突によって壊れ、その際に、クラスター構成原子又は分子と被加工物構成原子又は分子との多体衝突が生じ、被加工物WAの表面に対して水平方向への運動が顕著となる。これにより、被加工物WAの表面における突起が主に削られ、原子サイズでの平坦な超精密研磨が可能となる。
プロセスチャンバー71cは、被加工物WAに対してガスクラスターイオンビームB2を衝突させてサブミクロン又はナノメートルのオーダーで精密研磨処理する部分であり、支持装置75を備える。支持装置75は、ステージ75aを有し、被加工物WAをステージ75a上に支持してガスクラスターイオンビームB2に対する被加工物WAの姿勢を所望の状態に調整する。被加工物WAは、成形型40の上型41の加工前すなわち転写面41aに装飾転写部41dを形成する前の状態に対応し、装飾転写部41dとなるべき部分を除いた残りの部分にマスクMAを形成したものとなっている。
制御装置82は、装置本体70の動作を統括的に制御している。つまり、制御装置82は、装置本体70を適宜動作させて被加工物WAの表面をエッチングし、所望の深さの凹部を形成する。この凹部は、上型41の転写面41aに形成すべき装飾転写部41dに相当する。その他、制御装置82は、ガス源73a、イオン化部74a、加速部74b、レンズ部74c、排気装置72等の動作状態を直接的又は間接的に監視し制御している。
エッチングに際しては、被加工物WAをステージ75a上に固定する。被加工物WAは、下地面41jを形成した上型41であり、転写面41aとなるべき鏡面状の下地面41jがマスクMAによって局所的に覆われている。マスクMAは、レジストその他で形成され装飾転写部41dに対応する位置に開口THを有している。被加工物WAにガスクラスターイオンビームB2を所定時間照射すると、開口THの部分で下地面41jがエッチングされ、凹部として装飾転写部41dを形成することができる。この装飾転写部41dの深さは、上述のように数μm以下、好ましくは1μm以下である。このように、ガスクラスターイオンビームは、照射時間等の調整によって、1μm以下のような微小な加工量も高精度に狙うことができるため、本工程に適している。
図6に示すエッチング装置300を用いた場合、装飾転写部41dに鏡面を形成できる。つまり、GCIBによる加工粗さは、研磨面(鏡面)と同等かそれ以上とできるので、装飾転写部41dの底面は、鏡面となる。上型41の下地面41jが研削による場合、平滑性があまり良好でない場合もあり得る。この場合、被加工物WAを一旦プロセスチャンバー71c外に取り出してマスクMAを除去するならば、転写面41a全体をGCIBで軽くエッチングすることができ、転写面41aの鏡面性を高めることができる。
本実施形態の成形品等によれば、装飾部10dの段差量が成形面である上面10a全体から見れば微小であり、上面10aの凹凸の主成分が上面10a全域に及ぶ鏡面状の凹凸成分又はうねり成分となる。そのため、硬化収縮時の応力は上面10a全体に分散されて特定の部分に集中することがなくなり、成形材であるガラスをスムーズに離型することができる。これにより、透明な材料に装飾部10dを設けても、白濁及び欠けがない成形品10となる。
〔第2実施形態〕
以下、本発明に係る第2実施形態の成形品、成形型等について説明する。第2実施形態の成形品等は、第1実施形態の成形品等を一部変更したものであり、特に説明しない事項は、第1実施形態と同様である。
以下、本発明に係る第2実施形態の成形品、成形型等について説明する。第2実施形態の成形品等は、第1実施形態の成形品等を一部変更したものであり、特に説明しない事項は、第1実施形態と同様である。
図7は、第2実施形態の成形品を成形するための成形型を説明する図であり、図4Bを一部変更したものとなっている。上型41は、母材41pの下地面141j上に離型処理層41qを設けたものである。上型41において、離型処理層41qの表面である下地面41jに第1実施形態と同様のドライエッチング等によって装飾転写部41dが形成されている。つまり、図6に示すエッチング装置300を用い、ステージ75a上に被加工物WAをセットする。この場合、被加工物WAは、上型41の母材41p上に離型処理層41qを形成した状態に対応し、装飾転写部41dとなるべき部分を除いた残りの部分にマスクMAを形成したものとなっている。離型処理層41qは、例えばCr、Ti、及びAlのいずれかの金属若しくはそれらを含む化合物(例えばTiO2、Cr2O3、TiN、TiAlN)、又はAu、Pt、Ir、及びRhのいずれかの貴金属若しくはそれらを含む合金(例えばPt−Ir合金)等で形成される層であり、化学的或いは物理的な成膜法(例えばコート又はメッキ等)によって形成される(層形成工程)。層形成工程は、第1実施形態で説明した鏡面加工工程後、マスク形成工程前に行われる。
離型処理層41qの厚みtは、装飾転写部41dの装飾凹凸段差Δよりも大きいことが前提となっており、
t>Δ … (5)
となっている。このように、離型処理層41qの厚みtの値を装飾凹凸段差Δよりも大きくすることにより、エッチングによって形成される装飾転写部41dにおいて母材41pの下地面141jが露出することを防止できる。離型処理層41qの厚みtは、具体的には1μm以上、好ましくは数μm以上となっている。なお、離型処理層41qのうねり成分は、母材41pの下地面141jと略等しくなっている。離型処理層41qに形成する装飾凹凸段差Δと、離型処理層41q又は下地面141jのうねり成分PV値A0等との関係は、第1実施形態の場合と同様であるので、詳細な説明は省略する。
t>Δ … (5)
となっている。このように、離型処理層41qの厚みtの値を装飾凹凸段差Δよりも大きくすることにより、エッチングによって形成される装飾転写部41dにおいて母材41pの下地面141jが露出することを防止できる。離型処理層41qの厚みtは、具体的には1μm以上、好ましくは数μm以上となっている。なお、離型処理層41qのうねり成分は、母材41pの下地面141jと略等しくなっている。離型処理層41qに形成する装飾凹凸段差Δと、離型処理層41q又は下地面141jのうねり成分PV値A0等との関係は、第1実施形態の場合と同様であるので、詳細な説明は省略する。
本実施形態のように上型41に離型処理層41qを設けることにより、装飾転写部41dの変更が容易である。つまり、離型処理層41qをウェットエッチング等によって除去すると、母材41pの下地面141jが露出し、この下地面141jは既定のうねりを有するので、この下地面141j上に再度離型処理層41qを形成し、ドライエッチング等によって別パターンの装飾転写部41dを形成すれば、1つの母材41pに複数種類の装飾転写部41dを簡易に設けることができ、コストダウンを達成できる。なお、離型処理層41qは、これが劣化した場合に剥離することもできる。この場合、上型41の寿命を比較的長くすることができる。
なお、離型処理層41qに装飾転写部41dを形成した後、離型処理層41qの表面である転写面41a全体をGCIBで軽くエッチングすることができ、転写面41aの鏡面性を高めることができる。
以上、実施形態に即して本発明を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、成形品10の上面10aは、円筒面に限らず、平面、球面、放物面等とすることができる。この場合、平面、球面、放物面等の理想面からのずれをうねり成分と考えるものとする。
以上の説明では、成形品10の上面10aにのみ装飾転写部41dを形成する場合について説明したが、下型42も上型41と同様に加工することで、下面10bにも同一パターン又は別パターンの装飾転写部41dを形成することができる。
また、上記実施形態において、エッチングによって上型41に装飾転写部41dを形成するためのマスクMAは、下地面41jをコートするレジストに限らず、上型41から離れて配置される金属板であってもよい。この場合、金属板に形成された開口パターンに対応する装飾転写部41dを形成することができる。
また、上記実施形態において、成形品10をガラスで形成したが、樹脂で形成してもよい。
また、上記実施形態において、装飾部10dを凸状としたが、凹形状にしてもよい。この場合、成形型40の装飾転写部41dは、装飾部10dの形状に対応した凸形状となる。
Claims (12)
- 所定領域で巨視的に鏡面状の成形面を有し、
前記所定領域内であって前記成形面上の局所的な領域に凹及び凸のいずれかで形成される装飾部を有し、
前記装飾部の段差量は、前記成形面から対称的な形状成分を加味した凹凸成分の半分より小さい成形品。 - 前記装飾部の段差をΔとし、前記成形面の表面形状のPV値をA1としたときに、以下の条件式を満足する、請求項1に記載の成形品。
A1/2>Δ - 前記装飾部の段差量は、1μm以下である、請求項1及び2のいずれか一項に記載の成形品。
- ガラスで形成される、請求項1から3までのいずれか一項に記載の成形品。
- 所定領域で巨視的に鏡面状の転写面を有し、
前記所定領域内であって前記転写面上の局所的な領域に凹及び凸のいずれかで形成される装飾転写部を有し、
前記装飾転写部の段差量は、前記転写面から対称的な形状成分を加味した凹凸成分の半分より小さい成形型。 - 前記装飾転写部の段差をΔとし、前記転写面の表面形状のPV値をA1としたときに、以下の条件式を満足する、請求項5に記載の成形型。
A1/2>Δ - 前記転写面は、離型処理層を有する、請求項5及び6のいずれか一項に記載の成形型。
- 前記離型処理層の厚さは、前記装飾転写部の段差量よりも大きい、請求項7に記載の成形型。
- 成形型の転写面の所定領域を巨視的に鏡面状に加工する鏡面加工工程と、
前記鏡面加工工程後、前記所定領域内の前記転写面上に装飾転写部に対応するマスクパターンを形成するマスク形成工程と、
前記マスクパターンの露出部分をドライエッチングによってエッチングし、前記装飾転写部を形成する装飾加工工程と、
を備える成形型の製造方法。 - 前記ドライエッチングにおいて、ガスクラスターイオンビームを用いる、請求項9に記載の成形型の製造方法。
- 前記鏡面加工工程後、前記マスク形成工程前に、鏡面状の下地面上に離型処理層を形成する層形成工程を備える、請求項9及び10のいずれか一項に記載の成形型の製造方法。
- 前記鏡面加工工程において、前記転写面は、機械研磨によって鏡面加工される、請求項9から11までのいずれか一項に記載の成形型の製造方法。
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