JPWO2015133391A1 - トランジスタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
周知のように、トランジスタの製造では、加熱や溶液の塗布等を伴う工程も多い。ところが、フィルム、特にプラスチックフィルムは、従来より基板として用いられているガラス等に比して、温度や湿度による伸縮が大きい。
そのため、フィルムを基板として用いる場合には、基板の伸縮に起因して、トランジスタを構成する部材のパターンズレ(位置ズレ)が生じてしまい、適正なトランジスタを安定して製造することができない。
基板に形成したアライメントマークの位置は、当然、既知である。従って、検出したアライメントマークの位置や間隔と、もとのアライメントマークの形成位置や間隔との違いから、アライメントマークの位置ズレすなわち基板の伸縮を検出できる。従って、アライメントマークの検出結果に応じて、アライメントマークに対して適正な位置にパターンを形成するように、パターンを再設定(再演算)し、再設定したパターンに応じて、例えば、インクジェットやレーザビーム露光等によってパターンを形成することで、パターンズレの無いトランジスタを作製できる。
また、フォトリソグラフィを利用するトランジスタの製造においては、フォトマスクを用いた露光によるパターンの形成が行われる。しかしながら、アライメントマークの検出結果に応じて、形成するパターンの位置を再設定する方法は、フォトマスクを用いる方法には利用できない。あるいは、アライメントマークの検出結果に応じて、形成するパターンの位置を再設定する方法を、フォトマスクを用いる方法に利用するためには、1つのパターンに対して、多数の種類のフォトマスクを用意する必要がある。
3つ以上のアライメントマークが形成された基板を用い、
アライメントマークを検出して、アライメントマークの検出結果に応じて、基板の伸縮を制御する伸縮制御処理を、1回以上、行うことを特徴とするトランジスタの製造方法を提供する。
また、伸縮制御処理が、基板の温度制御および基板の湿度制御の少なくとも一方であるのが好ましい。
また、アライメントマークの検出結果から、アイメントマークのズレの大きさを検出して、アイメントマークのズレの大きさと、基板の線膨張係数および吸湿膨張係数の少なくとも一方とから、基板の温度制御および基板の湿度制御の少なくとも一方を行うのが好ましい。
また、基板をキャリアに固定してトランジスタの製造を行うものであり、基板をキャリアに固定した状態で、基板の線膨張係数および吸湿膨張係数の少なくとも一方を知見しておき、知見した情報を用いて、基板の温度制御および基板の湿度制御の少なくとも一方を行うのが好ましい。
また、伸縮処理制御による基板の温度および湿度の少なくとも一方を保った状態で、印刷法もしくはフォトマスクを用いるパターン露光を行うことにより、トランジスタの製造におけるパターン形成を行うのが好ましい。
また、伸縮制御処理が湿度制御であり、基板に湿度を制御したガスを吹き付けることにより、伸縮制御処理を行うのが好ましい。
また、長尺な基板を長手方向に搬送しつつ、アライメントマークの検出を行い、アライメントマークの検出位置の下流において伸縮制御処理を行い、伸縮制御処理の下流においてトランジスタの製造におけるパターン形成を行うのが好ましい。
また、基板が、支持体にガスバリア膜を形成してなるガスバリアフィルムであって、ガスバリア膜が、有機層と無機層とを交互に1層以上積層してなるものであるのが好ましい。
また、無機層が、窒化ケイ素膜であるのが好ましい。
また、有機半導体層の形成工程を含むのが好ましい。
また、最初に行う伸縮制御処理よりも前に、基板の熱処理を行うのが好ましい。
さらに、アライメントマークの形成工程を含み、アライメントマークを、トランジスタの製造における最下層のパターンを行う際に形成するのが好ましい。
そのため、本発明の製造方法によれば、電極や配線等のパターンズレが無い適正なトランジスタを安定して製造できる。しかも、アライメントマークの検出結果に応じたパターンの再設定(再演算)が不要であるため、トランジスタの製造コストを低減できる。さらに、本発明の製造方法によれば、1つのフォトマスクで、フォトマスクを用いる方法にも対応できる。
本発明のトランジスタの製造方法は、3つ以上のアライメントマークが形成されたフィルム基板10を用いて、トランジスタを形成するものである。
図1(A)〜図2(G)に示す例は、一例として、本発明のトランジスタの製造方法を、アライメントマーク12が形成されたフィルム基板10の上にゲート電極14を形成し、ゲート電極14を覆ってゲート絶縁膜16を形成し、ゲート絶縁膜16の上にソース電極18およびドレイン電極20を形成し、ゲート絶縁膜16ならびにソース電極18およびドレイン電極20の上に半導体層24を形成する、ボトムゲート−ボトムコンタクト型のトランジスタの製造に利用した例である。
しかしながら、本発明は、これに限定はされず、トップゲート−ボトムコンタクト型、ボトムゲート−トップコンタクト型、トップゲート−ボトムコンタクト型など、公知の各種のトランジスタの製造に利用可能である。
プラスチックフィルムの形成材料としては、一例として、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、弗素樹脂、ポリイミド、弗素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂などが挙げられる。
その中でも特に、このようなプラスチックフィルムを支持体として、その表面に、ガスバリア膜として、アクリル樹脂やメタクリル樹脂等からなる有機層と、酸化ケイ素や窒化ケイ素等からなる無機層とを交互に形成してなる、有機−無機積層型のガスバリアフィルムは、基板10として特に好適に利用される。
基板10として有機−無機積層型のガスバリアフィルムを利用する場合において、有機層および無機層の形成材料は、各種のものが利用可能である。ここで、無機層は、一般的に伸縮に対して弱く、伸縮によってクラックを生じる場合がある。無機層にクラックが生じると、ガスバリア性能の劣化が起こる。そのため、無機層は、窒化ケイ素膜が好ましく、特に、CVDで成膜した窒化ケイ素膜が好ましい。CVDで成膜した窒化ケイ素膜は、膜中に水素原子を含むため、水素結合により高い伸縮性が得られると考えられる。
なお、基板10として有機−無機積層型のガスバリアフィルムを用いる場合には、最下層は、有機層でも無機層でもよい。また、最上層も、有機層でも無機層でもよい。さらに、有機層と無機層との積層数も、1層ずつであってもよく、複数の有機層および無機層を交互に積層したものでもよく、有機層と無機層との数が異なるものでもよい。
ガスバリアフィルムの最下層とは、支持体表面に形成される層である。ガスバリアフィルムの最上層とは、支持体と逆側のガスバリアフィルムの表面の層である。
基板10としてガスバリアフィルムを用いる場合に、トランジスタに対して、ガスバリア膜の内側に支持体が有ると、支持体に含まれる水分や支持体の経時変化が、トランジスタに悪影響を与える可能性が有る。これに対し、トランジスタをガスバリア膜の上に形成することにより、この不都合を回避できる。
プラスチックフィルムは、通常、延伸を行って製造する。この際、MD方向とTD方向とで、延伸の量が異なる場合が多い。そのため、プラスチックフィルムは、多くの場合、MD方向とTD方向とで熱収縮率が異なる。MD方向とは、プラスチックの製造におけるフィルムの搬送方向であり、TD方向とは、MD方向すなわちフィルムの搬送方向と直交する方向である。
後述するが、本発明の製造方法では、好ましい態様として、基板10の温度制御や湿度制御によって、基板10の伸縮を制御する伸縮制御処理を行う。伸縮制御処理とは、言い換えれば、アライメントマークの位置ズレを改善する処理である。
しかしながら、MD方向とTD方向とで熱収縮率が異なると、温度制御や湿度制御による伸縮制御処理を適正に行うことができない。
そのため、本発明の製造方法においては、必要に応じて、トランジスタの製造に先立って、基板10すなわちプラスチックフィルムのMD方向とTD方向との熱収縮を無くすための熱処理(熱収縮枯らし/熱緩和処理)を行うのが好ましい。
また、熱処理の温度や時間等の熱処理の条件は、使用する基板10の形成材料、厚さ等に応じて、トランジスタの製造プロセスを通じてMD方向とTD方向との収縮を無くすことができる条件を、適宜、設定すればよい。一例として、トランジスタの製造プロセス中における最高温度以上の温度で、熱処理を行う条件が例示される。
ここで、以下に示すトランジスタの製造は、基板10のみを用いて行ってもよい。しかしながら、基板10の形成材料や厚さ等によっては、基板10のみでは、剛性が弱く、基板10の形状が不安定になってしまう場合が有る。
従って、好ましくは、基板10の裏面(トランジスタの非形成面)にガラス板等のキャリア基板を貼着して、トランジスタの製造を行う。これにより、基板10の形状を適正に保った状態で、後述するゲート電極14の形成等を行うことができる。
基板10へのキャリア基板の貼着は、キャリアフィルム(再剥離性能を有するフィルム)等を用いる公知の方法で行えばよい。
ゲート電極14の形成材料は、薄膜トランジスタでゲート電極として利用されている公知の物が、各種、利用可能である。一例として、アルミニウム、クロム、銅、モリブデン、タングステン、金、銀等の金属、合金、酸化インジウム錫(ITO)等の透明導電性酸化物(TCO)、ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルホン酸(PEDOT−PSS)等の導電性高分子、これらの積層構造等が例示される。
一例として、スパッタリングや真空蒸着等の気相成膜法(気相堆積法)とフォトリソグラフィとを利用する方法、気相成膜法とシャドウマスクとを利用する方法、インクジェットなどの印刷による方法等が例示される。シャドウマスクとは、非形成部(非成膜部)を覆うマスクである。
これにより、アライメントマークの検出を行わなくても、ゲート電極14(最下層のパターン)をアライメントマークとの位置関係を適正にして作製できる。また、ゲート電極14と同時にアライメントマークを形成できるため、アライメントマークを別に形成する場合と比較して、工程数を減らすことができる点でも好ましい。
この場合には、ゲート電極14とアライメントマーク12とは、同じ材料で形成されても、異なる材料で形成されてもよい。また、ゲート電極14とアライメントマーク12との形成方法が異なってもよい。
具体的には、前述のゲート電極14の形成材料に加え、各種の染料や顔料を含むインキ等が例示される。
具体的には、前述のゲート電極14の形成方法等が例示される。
3つ以上のアライメントマーク12を形成することで、x−y方向(2軸方向)でアライメントマーク12の位置ズレすなわち基板10の伸縮を検出できるので、後述する伸縮制御処理を適正に行うことが可能になる。
さらに、アライメントマーク12の形成位置、各アライメントマーク12の間隔などの互いの位置関係も、後述する伸縮制御処理によって、アライメントマーク12の位置ズレを好適に直せる位置等を、基板10の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
一例として、酸化ケイ素(SiOx)、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル等の金属酸化物、窒化ケイ素(SiNx)等の金属窒化物、窒化酸化ケイ素(SiOxNy)等の金属窒化酸化物(金属酸化窒化物)、ダイヤモンド状炭素(DLC)等の無機材料や各種高分子材料、これらの積層構造等が例示される。
一例として、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等の各種の物理的気相成膜法(PVD)、原子層堆積法(ALD法またはALE法)を含む各種の化学的気相成膜法(CVD)、塗布法、印刷法、転写法等が例示される。
なお、ゲート電極14を形成する際に、形成装置に対する位置決めに、基板10に形成したアライメントマーク12を利用してもよい。この点に関しては、後述する半導体層24やレジスト層32の形成等でも同様である。
ソース電極18およびドレイン電極20の形成材料は、有機薄膜トランジスタで利用されている公知の物が、各種、利用可能である。一例として、前述のゲート電極14で例示した各種の材料が例示される。
なお、シャドウマスクを用いる気相堆積による成膜、インクジェットなどの印刷等によってソース電極18およびドレイン電極20を形成する場合でも、パターン形成を行う前、好ましくはさらにパターンの形成中に、以下に示す温度制御や湿度制御等の伸縮制御処理を行えばよい。
次いで、図1(D)に示すように、金属層30を覆って、フォトレジストからなるレジスト層32を形成する。レジスト層32の形成は、レジスト層32となるフォトレジスト等を含む溶液をスピンコート等で塗布し、その後、ポストベークを行う方法等、トランジスタの製造で利用されている公知のレジスト層32の形成方法で行えばよい。
アライメントマーク12の検出は、CCDセンサ等の撮像素子を用いる方法、アライナー等と同様に顕微鏡を利用する方法等、アライメントマークを利用する薄膜トランジスタの製造で利用されている各種の方法が利用可能である。
なお、アライメントマーク12の検出は、表面すなわちトランジスタの形成面から行っても、裏面から行ってもよい。
これに対応して、図2(E)に概念的に示すように、フォトマスク34を用いるパターン露光すなわちパターン形成(パターンニング)を行う前に、レジスト層32を形成した基板10を温度調節手段40に載置して、基板10を加熱して伸長させて、基板10のアライメントマーク12とフォトマスク34のアライメントマーク36とを一致させる。
なお、基板10が伸長していた場合には、基板10を冷却して収縮させることにより、基板10のアライメントマーク12とフォトマスク34のアライメントマーク36とを一致させる。
さらに、必要に応じて、基板10および/またはフォトマスク34を移動して、基板10とフォトマスク34との位置および/または角度を合せる。
フォトマスク34のアライメントマーク36は、レジスト層32を露光する際における面方向の位置が、基板10に形成したアライメントマーク12と一致するように形成されている。そのため、加熱による基板10のアライメントマーク12とフォトマスク34のアライメントマーク36とを一致させること、すなわちアライメントマーク12の位置ズレを改善することによって、基板10の伸縮を改善して、アライメントマーク12を形成した時と同じ状態にできる。
従って、この加熱によるアライメントマーク12の位置の改善によって、符号32aで示すソース電極18およびドレイン電極20の形成位置に正確に対応して、レジスト層32をパターン露光できる。すなわち、パターンズレを生じることなく、ゲート電極14に対して適正な位置に、ソース電極18およびドレイン電極20を形成できる。
従来のアライメントマークを利用するトランジスタの製造方法では、アライメントマークの検出結果に応じて、パターンを再設定し、再設定したパターンに応じて電極等を形成することにより、パターンズレを防止している。しかしながら、このような従来の方法では、アライメントマークの検出結果に応じたパターンの再設定を行うため、トランジスタの製造コストが向上してしまう。また、アライメントマークの検出結果に応じて、形成するパターンを再設定する方法は、フォトマスクを用いる方法には利用できず、あるいは、1つのパターンに対して、多数のフォトマスクを用意する必要がある。
従って、本発明の製造方法によれば、パターンズレを生じることなく電極等をパターン形成できるのみならず、パターンの再設定を不要にして、トランジスタの製造コストを低減できる。また、本発明の製造方法によれば、1つのフォトマスクで、フォトマスクによるパターン露光が可能である。
温度制御による伸縮制御処理は、一例として、アライメントマーク12の位置ズレ量と、基板10の線膨張係数(熱膨張係数)との関係を知見しておき、例えば、アライメントマーク12の位置ズレ量と、この位置ズレを改善するための加熱温度/冷却温度との関係とを示すテーブル(LUT)や演算式を作成し、このテーブルや演算式を用いて、基板10の温度制御を行う方法が例示される。
この場合には、キャリア基板に基板10を貼着(固定)した状態で、基板10の線膨張係数を知見して、アライメントマーク12の位置ズレ量と、この位置ズレを改善するための加熱温度/冷却温度との関係とを示すテーブルや演算式を作成するのが好ましい。
しかしながら、好ましくは、温度制御による伸縮制御処理を行った状態でアライメントマーク12を再検出して、アライメントマーク12が位置ズレしている場合には、さらに温度調節を行って、アライメントマークを検出し、アライメントマーク12が、位置ズレ無く、適正な位置に有ることを確認した後に、パターン露光(パターン形成)を行うのが好ましい。
しかしながら、本発明は、この方法以外にも、各アライメントマーク12の間隔を検出して、適正な間隔となるように基板10の温度を制御する方法、基板10の端部からの距離など各アライメントマーク12の位置を検出して、各アライメントマーク12の位置が適正な位置となるように基板10の温度を制御する方法、これらを併用する方法等で、基板10のアライメントマーク12の位置ズレを改善してもよい。
しかしながら、図示例のように、温度制御を行った状態すなわち伸縮制御処理における基板温度を保った状態で、フォトマスク34等によるパターン露光、シャドウマスクを用いる気相堆積による成膜、インクジェットなどの印刷を行って、パターン形成を行うことにより、より適正にアライメントマーク12の位置ズレを無くした状態で、パターン形成を行うことが可能になる。
なお、本発明の製造方法において、湿度制御は、水分のみならずレジスト層32を形成するための溶液等に用いられる溶剤も対象とする。従って、基板10の加湿および除湿とは、水分のみならず、基板10における溶剤含有量の制御を含んでもよい。
一例として、基板10を乾燥したガスあるいは湿らせたガス(加湿ガス)を吹き付ける方法、高湿雰囲気中あるいは乾燥雰囲気中に保持する方法、真空環境での脱水等が例示される。なお、基板10としてガスバリアフィルムを用いる場合には、ガスの吹き付けは、ガスバリア膜と逆側(支持体側)から行う必要が有る。
いずれの方法でも、基板10を収縮させる場合には除湿(乾燥)するように、基板10を伸長させる場合には加湿するように、湿度制御を行う。
さらに、伸縮制御方法は、温度制御および湿度制御以外にも、基板10を引っ張ることで伸長して、アライメントマーク12の位置ズレを改善する方法も、利用可能である。
ここで、図示例においては、アライメントマーク12の検出結果に応じて、温度制御によって基板10を伸縮させる伸縮制御処理を行い、アライメントマーク12の位置ズレを改善した上で、レジスト層32のパターン露光を行っている。従って、パターンズレを生じることなく、ソース電極18およびドレイン電極20を形成できる。
半導体層24の形成材料は、アモルファスシリコン、多結晶シリコン、有機半導体材料、酸化物半導体等、薄膜トランジスタで利用されている、各種の材料が利用可能である。
中でも、軽量化、低コスト化、柔軟化等の点で、6,13−ビス(トリイソプロピルシリルエチニル)ペンタセン(TIPSペンタセン)等のペンタセン誘導体、5,11‐ビス(トリエチルシリルエチニル)アントラジチオフェン(TES‐ADT)等のアントラジチオフェン誘導体、ベンゾジチオフェン(BDT)誘導体、ジオクチルベンゾチエノベンゾチオフェン(C8−BTBT)等のベンゾチエノベンゾチオフェン(BTBT)誘導体、ジナフトチエノチオフェン(DNTT)誘導体、ジナフトベンゾジチオフェン(DNBDT)誘導体、6,12‐ジオキサアンタントレン(ペリキサンテノキサンテン)誘導体、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド(NTCDI)誘導体、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド(PTCDI)誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリ(2,5‐ビス(チオフェン‐2‐イル)チエノ[3,2‐b]チオフェン)(PBTTT)誘導体、テトラシアノキノジメタン(TCNQ)誘導体、オリゴチオフェン類、フタロシアニン類、フラーレン類等の有機半導体材料は、好適に利用される。
しかしながら、本発明は、これ以外にも、前述のボトムゲート−ボトムコンタクト型のトランジスタのみならず、トップゲート−ボトムコンタクト型、ボトムゲート−トップコンタクト型、および、トップゲート−ボトムコンタクト型等の各種のトランジスタの製造において、ゲート電極の形成時、ゲート絶縁膜の形成時、半導体層の形成時、ソース電極およびドレイン電極の形成時等に、アライメントマーク12を検出して、その検出結果に応じて基板10の伸縮を制御する伸縮制御処理を行ってもよい。
特に、ボトムゲート型のトランジスタの製造におけるソース電極およびドレイン電極のパターン形成や、トップゲート型のトランジスタの製造におけるゲート電極のパターン形成など、上層あるいは下層のパターンとのパターンズレが問題になり、高精度なパターン形成が要求される工程に対応して、伸縮制御処理を行うのが好ましい。
周知のように、RtoRとは、長尺な基板(被処理物)を巻回してなるロールから、基板を送り出し、長手方向に搬送しつつ、塗布組成物の塗布や乾燥等を行い、処理済の基板をロール状に巻き取る製造方法である。
図3(A)に示す製造装置48は、長尺な被処理材50をロール状に巻回してなる被処理材ロール50Rから被処理材50を引き出して、長手方向に搬送しつつパターン形成を行い、描画を行った処理済材52をロール状に巻回して処理済材ロール52Rとするものである。
このような製造装置48は、基本的に、マーク検出部54と、伸縮制御部56と、パターン形成部58とを有して構成される。なお、製造装置48は、これらの部材以外にも、被処理材50等を適正に搬送するための搬送ローラ対やガイド部材、各種のセンサ等、公知のRtoRによる装置が有する各種の部材を有してもよい。
また、図3(B)に示すように、被処理材50の基板60には、長手方向の同位置において、幅方向の両端部近傍に、長手方向に等間隔でアライメントマーク12が形成されている。なお、この長尺な基板60も、トランジスタの製造に先立ち、熱処理が施されるのが好ましい。さらに、この長尺な基板60にも、裏面にキャリア基板を貼着して、トランジスタの製造を行ってもよい。
しかしながら、本発明の製造方法をRtoRに利用する場合には、これ以外にも、パターン形成を含む複数の工程あるいはトランジスタ製造の全工程を、1回のロールからの被処理材50の送り出し、および、処理済の被処理材50のロールへの巻取りの間に行ってもよい。
例えば、1回のロールからの被処理材50の送り出し、および、処理済の被処理材50のロールへの巻取の間に、レジスト液の塗布、プリベーク(塗布したレジスト液からの溶媒の乾燥除去)、アライメントマーク12の位置ズレの改善(温度/湿度調節)、および、パターン形成を、連続的に行ってもよい。
マーク検出部54は、被処理材50の基板60に形成されたアライメントマーク12を検出して、検出結果を伸縮制御部56の制御部56aに送る。マーク検出部54によるアライメントマーク12の検出方法は、公知の各種の手段が利用可能であり、例えばCCDセンサ等の撮像素子を用いてアライメントマーク12を検出すればよい。
すなわち、制御部56aには、基板60に形成されたアライメントマーク12の正確な位置、および、前述のアライメントマーク12の位置ズレ量と、この位置ズレを改善するための加熱温度/冷却温度との関係を示すテーブルを記憶している。基板60に形成されたアライメントマーク12の正確な位置としては、一例として、幅方向および長手方向のアライメントマーク12の間隔等が例示される。
制御部56aは、マーク検出部54によるアライメントマークの検出結果から、アライメントマーク12の位置ズレ量を検出する。次いで、テーブルを用いて、位置ズレ量から温度調節手段56bによる加熱温度あるいは冷却温度を決定し、温度調節手段56bに指示を出す。
なお、温度調節手段56bによる温度調節は、パターン形成部58の上流までであってもよい。しかしながら、図示例の製造装置48においては、温度調節手段56bは、好ましい態様として、パターン形成部58によるパターン形成領域まで、被処理材50の温度調節(湿度調節)を行う。
この場合には、製造装置48には、温度調節手段56bに変えて、乾燥ガスや加湿ガスを被処理材50(基板60)に吹き付けるガスの吹き付け手段等が設けられる。また、制御部56aには、アライメントマーク12の位置ズレ量と、この位置ズレを改善するための加湿/除湿(乾燥)との関係を示すテーブルが記憶される。
例えば、製造装置48が、図1(B)に示す、基板10の上にゲート電極14およびゲート絶縁膜16を形成してなる物を被処理材50とする装置である場合には、パターン形成部58としては、ソース電極18およびドレイン電極20をパターン形成するための、被処理材50の幅方向(搬送方向と直交する方向)にノズル列を有するインクジェットプリンタが例示される。
あるいは、製造装置48が、図1(D)に示す、基板10の上にゲート電極14、ゲート絶縁膜16、金属層30およびレジスト層32を形成してなる物を被処理材50とする装置である場合には、パターン形成部58としては、レジスト層32をパターン露光するための、被処理材50の幅方向に光ビームを走査する光ビーム走査装置が例示される。
また、被処理材50(レジスト層32等)にパターン露光を行う場合には、パターン形成部58は、フォトマスクを利用する露光装置であってもよい。
製造装置48において、被処理材ロール50Rから引き出され、長手方向に搬送されると、マーク検出部54が基板60に形成されたアライメントマーク12を検出し、アライメントマーク12の検出結果を伸縮制御部56の制御部56aに送る。
制御部56aは、アライメントマークの検出結果から、アライメントマーク12の位置ズレ量を検出し、前述のテーブルを用いて、温度調節手段56bによる加熱温度あるいは冷却温度を決定し、温度調節手段56bに指示を出す。
温度調節手段56bは、制御部56aからの指示に応じて、被処理材50を加熱もしくは冷却する。これにより、基板60が伸縮して伸縮制御処理され、アライメントマークの位置ズレが改善される。さらに、温度調節を行った後、必要に応じて、インクジェットヘッドやフォトマスクの位置および/または角度を調節して、被処理材50とパターン形成部58との位置および/または角度を合せる。
パターン形成部58は、長手方向に搬送され、温度調節手段56bによって温度調節された被処理材50にパターン形成を行う。ここで、被処理材50は、温度調節手段56bによる温度調節によって、アライメントマークの位置ズレが改善されている。従って、パターン形成部58は、パターンズレを生じることなく、被処理材50の適正な位置にパターンを形成できる。
パターンを形成された処理済材52は、次いで、処理済材ロール52Rにロール状に巻回される。
基板として、5×5cmのガスバリアフィルムを用意した。
このガスバリアフィルムは、厚さ100μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムを支持体として、表面に、厚さ2μmのアクリル系ポリマーからなる有機層を有し、この有機層の上に、プラズマCVD法によって形成した厚さ30nmの窒化ケイ素からなる無機層を有する、前述の有機−無機積層型のガスバリアフィルムである。
まず、この基板に、150℃の熱処理を24時間行った。次いで、熱処理を行った基板の裏面(PENフィルム側)に、キャリアフィルムを用いて、キャリア基板としてガラス板を貼着した。
この金薄膜の上に、レジスト層を形成した。レジスト層は、スピンコータによって形成した。
レジスト層を形成した基板を、顕微鏡のステージに載置した。この顕微鏡のステージは、加熱冷却機構を有する。ステージ上に載置した基板の上に、アライメントマークに対応する遮光部を有するガラスマスクを重ねて、ステージ上で紫外線による露光を行った。
露光後、顕微鏡のステージから基板を取り外し、現像によってアライメントマークの形成部以外のレジストを除去した。その後、エッチングを行って金薄膜を除去し、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
放置後、同じ顕微鏡のステージに基板を載置し、露光を行ったガラスマスクを重ねて、顕微鏡によって、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、3μmであった(比較例1)。
なお、本例におけるアライメントマークの位置ズレとは、基板の1つのアライメントマークを、ガラスマスクのアライメントマークに重ねた状態における、他の3つのアライメントマークの位置ズレの平均である。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、トランジスタの製造工程を想定した模擬プロセスとして、150℃の環境に30分放置した。
放置後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、10μmであった(比較例2)。
次いで、顕微鏡のステージの加熱冷却機構を駆動して、基板を35℃に加熱した。基板を加熱した後、同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例2)。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、トランジスタの製造工程を想定した模擬プロセスとして、水に5分浸漬した。
浸漬後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、6μmであった(比較例3)。
次いで、顕微鏡のステージの加熱冷却機構を駆動して、基板を20℃に冷却した。基板を冷却した後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例3)。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、トランジスタの製造工程を想定した模擬プロセスとして、アセトンに5分浸漬した。
浸漬後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、5μmであった(比較例4)。
次いで、顕微鏡のステージの加熱冷却機構を駆動して、基板を20℃に冷却した。基板を冷却した後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例4)。
基板として、ガスバリアフィルムに変えて厚さ100μmのポリイミド(PI)フィルムを用いた以外(実施例5)、
基板として、ガスバリアフィルムに変えて厚さ100μmのPENフィルムを用いた以外(実施例6)、
基板として、ガスバリアフィルムに変えて厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた以外(実施例7)、
は、実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
放置後、同じ顕微鏡のステージに基板を載置し、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。測定後、顕微鏡のステージの加熱冷却機構を駆動して、
基板を29℃に加熱(実施例5)、
基板を27℃に加熱(実施例6)、
基板を22℃に冷却(実施例7)、した。
基板の温度調節を行った後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、何れの例も、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった。
結果を、下記の表1にまとめて示す。
また、この特性を利用して、基板の温度制御による伸縮制御処理を行う本発明によれば、アライメントマークの位置ズレを改善して、パターンズレの無いトランジスタを製造できる。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、実施例1と同様に、室温で24時間、放置した。
放置後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは3μmであった(比較例8)。
その後、基板に、水に潜らせた空気を、30秒間、吹き付けた。以下、水に潜らせた空気を『加湿空気』とも言う。加湿空気の吹きつけは、PENフィルム側から行った。
加湿空気を吹き付けた後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例8)。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、トランジスタの製造工程を想定した模擬プロセスとして、150℃の環境に30分放置した。
放置後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは10μmであった(比較例9)。
次いで、ステージから基板を取り外し、キャリア基板としてのガラス板を剥離した。
その後、PENフィルム側から、基板に加湿空気を、2分間、吹き付けた。
加湿空気を吹き付けた後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例9)。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、トランジスタの製造工程を想定した模擬プロセスとして、水に5分間浸漬した。
浸漬後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは6μmであった(比較例10)。
次いで、ステージから基板を取り外し、キャリア基板としてのガラス板を剥離した。
その後、PENフィルム側から、基板に乾燥空気を、1分間、吹き付けた。
乾燥空気を吹き付けた後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例10)。
実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
この基板を、トランジスタの製造工程を想定した模擬プロセスとして、アセトンに5分間浸漬した。
浸漬後、実施例1と同様にアライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは5μmであった(比較例11)。
次いで、ステージから基板を取り外し、キャリア基板としてのガラス板を剥離した。
その後、PENフィルム側から、基板に乾燥空気を、1分間、吹き付けた。
乾燥空気を吹き付けた後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、1μm未満であった(実施例11)。
基板として、ガスバリアフィルムに変えて厚さ100μmのPIフィルムを用いた以外(実施例12)、
基板として、ガスバリアフィルムに変えて厚さ100μmのPENフィルムを用いた以外(実施例13)、
基板として、ガスバリアフィルムに変えて厚さ100μmのPETフィルムを用いた以外(実施例14)、
は、実施例1と同様にして、4隅に金のアライメントマークを有する基板を作製した。
放置後、同じ顕微鏡のステージに基板を載置し、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。
次いで、ステージから基板を取り外し、キャリア基板としてのガラス板を剥離した。
その後、
基板に加湿空気を(実施例12)、
基板に加湿空気を(実施例13)、
基板に乾燥空気を(実施例14)、
それぞれ、30秒間、吹き付けた。
空気を吹き付けた後、実施例1と同様に、アライメントマークの位置ズレを測定した。その結果、アライメントマークの位置ズレは、いずれも1μm未満であった。
結果を下記の表2にまとめて示す。
図1(A)〜図2(G)に示す方法で、実施例1と同様の基板10の上に、16個のボトムゲートボトムコンタクト型の有機薄膜トランジスタを作製した。実施例1と同様の基板10とは、前述のように、PENフィルムを支持体として、支持体の表面に有機層を有し、有機層の上に無機層を有する、有機−無機積層型のガスバリアフィルムである。
この基板の無機層側の表面に、真空蒸着によって、厚さ50nmのアルミニウム膜を形成した。
次いで、フォトマスクを用いるフォトリソグラフィによって、長さ10μmのゲート電極14を形成した。また、ゲート電極14の形成と同時に、基板10の4隅に円形のアライメントマーク12を形成した。
次いで、ゲート絶縁膜16の上に、金を真空蒸着して、金属層30を形成した。さらに、金属層30の上に、フォトレジストを含む溶液をスピンコートによって塗布して、レジスト層32を形成した。
なお、露光に先立ち、フォトマスク34のアライメントマーク36を用いて、基板10のアライメントマーク12の位置ズレを検出した。さらに、露光前および露光中に、基板10を36℃に加熱した。
さらに、半導体層24の上に、封止層形成用組成物(Cytop CTL-107MK、AGC社製)をスピンコートして、140℃で20分間ベークを行い、厚さ2μmの封止層(最上層)を形成して、16個の有機薄膜トランジスタを得た。
フォトマスク34を用いるレジスト層32の露光前および露光中における加熱に変えて、キャリア基板としてのガラス板を剥離し、支持体(PENフィルム側)から加湿空気を、2分間、吹き付け、その後、フォトマスク34を用いる露光を行い、その後、再度、キャリア基板としてのガラス板を貼着して、これ以降の工程を行った以外は、実施例15と同様に、16個の有機薄膜トランジスタを作製した。
フォトマスク34を用いるレジスト層32の露光前および露光中における加熱を行わない以外は、実施例15と同様に、16個の有機薄膜トランジスタを作製した。
その結果、実施例15および実施例16は、16個の有機薄膜トランジスタが、全て、適正に作動した。
これに対し、比較例12では、16個の有機薄膜トランジスタの内、4個しか適正に作動しなかった。
その結果、フォトマスク34を用いるレジスト層32の露光に対応して、実施例15と同様の温度制御を行った場合、および、実施例16と同様の湿度制御を行った場合には、同様に、16個の有機薄膜トランジスタが、全て、適正に作動した。
これに対し、比較例12と同様に伸長制御処理を行わなかった場合には、同様に、16個の有機薄膜トランジスタの内、4個しか適正に作動しなかった。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
12,36 アライメントマーク
14 ゲート電極
16 ゲート絶縁膜
18 ソース電極
20 ドレイン電極
24 半導体層
30 金属層
32 レジスト層
34 フォトマスク
48 製造装置
50 被処理材
52 処理済材
54 マーク検出部
56 伸縮制御部
56a 制御部
56b 温度調節手段
58 パターン形成部
Claims (13)
- フィルムを基板とするトランジスタの製造において、
3つ以上のアライメントマークが形成された基板を用い、
前記アライメントマークを検出して、前記アライメントマークの検出結果に応じて、前記基板の伸縮を制御する伸縮制御処理を、1回以上、行うことを特徴とするトランジスタの製造方法。 - 前記トランジスタの製造が、少なくとも、ゲート電極の形成工程、ゲート絶縁膜の形成工程、半導体層の形成工程、ならびに、ソース電極およびドレイン電極の形成工程を含み、
前記ゲート電極の形成工程、ゲート絶縁膜の形成工程、半導体層の形成工程、ならびに、ソース電極およびドレイン電極の形成工程の少なくとも1つの工程の途中あるいは前に、前記伸縮制御処理を行う請求項1に記載のトランジスタの製造方法。 - 前記伸縮制御処理が、前記基板の温度制御および前記基板の湿度制御の少なくとも一方である請求項1または2に記載のトランジスタの製造方法。
- 前記アライメントマークの検出結果から、前記アイメントマークのズレの大きさを検出して、前記アイメントマークのズレの大きさと、前記基板の線膨張係数および吸湿膨張係数の少なくとも一方とから、前記基板の温度制御および前記基板の湿度制御の少なくとも一方を行う請求項3に記載のトランジスタの製造方法。
- 前記基板をキャリアに固定して前記トランジスタの製造を行うものであり、前記基板をキャリアに固定した状態で、前記基板の線膨張係数および吸湿膨張係数の少なくとも一方を知見しておき、前記知見した情報を用いて、前記基板の温度制御および前記基板の湿度制御の少なくとも一方を行う請求項4に記載のトランジスタの製造方法。
- 前記伸縮処理制御による基板の温度および湿度の少なくとも一方を保った状態で、印刷法もしくはフォトマスクを用いるパターン露光を行うことにより、トランジスタの製造におけるパターン形成を行う請求項3〜5のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。
- 前記伸縮制御処理が湿度制御であり、前記基板に湿度を制御したガスを吹き付けることにより、前記伸縮制御処理を行う請求項3〜6のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。
- 長尺な基板を長手方向に搬送しつつ、前記アライメントマークの検出を行い、前記アライメントマークの検出位置の下流において前記伸縮制御処理を行い、前記伸縮制御処理の下流においてトランジスタの製造におけるパターン形成を行う請求項1〜7のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。
- 前記基板が、支持体にガスバリア膜を形成してなるガスバリアフィルムであって、
前記ガスバリア膜が、有機層と無機層とを交互に1層以上積層してなるものである請求項1〜8のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。 - 前記無機層が、窒化ケイ素膜である請求項9に記載のトランジスタの製造方法。
- 有機半導体層の形成工程を含む請求項1〜10のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。
- 最初に行う前記伸縮制御処理よりも前に、前記基板の熱処理を行う請求項1〜11のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。
- 前記アライメントマークの形成工程を含み、前記アライメントマークを、トランジスタの製造における最下層のパターンを行う際に形成する請求項1〜12のいずれか1項に記載のトランジスタの製造方法。
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