JPWO2015115419A1 - センサ装置 - Google Patents

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Abstract

本発明の一の実施形態に係るセンサ装置は、素子基板と、前記素子基板の上面に位置している素子電極と、前記素子電極の少なくとも一部を覆っている絶縁性部材と、前記素子基板の上面または前記絶縁性部材の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、前記固定化膜の表面粗さは、前記素子電極の表面粗さよりも小さい。本発明の他の実施形態に係るセンサ装置は、前記固定化膜の表層部の酸素量が、前記素子電極の表層部の酸素量よりも小さい。

Description

本発明は、検体の性質あるいは検体に含まれる成分を測定することができるセンサ装置に関するものである。
弾性表面波素子などの検出素子を用いて、検体の性質あるいは成分を測定するセンサ装置が知られている(例えば、特開平5−240762号公報参照。)。
例えば、弾性表面波素子を用いたセンサ装置は、圧電基板上に検体の試料に含まれる成分と反応する検出部を設け、この検出部を伝搬した弾性表面波の変化を測定することによって検体の性質あるいは成分を検出するものである。
しかしながら、弾性表面波素子などの検出素子の検出部において、検出対象の検出感度あるいは検出精度が充分ではなかった。
そこで、検出対象を感度良くあるいは精度良く検出することができるセンサ装置が求められていた。
本発明の一の実施形態に係るセンサ装置は、素子基板と、前記素子基板の上面に位置している素子電極と、前記素子電極の少なくとも一部を覆っている絶縁性部材と、前記素子基板の上面または前記絶縁性部材の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、前記固定化膜の表面粗さは、前記素子電極の表面粗さよりも小さい。
本発明の他の実施形態に係るセンサ装置は、素子基板と、前記素子基板の上面に位置している素子電極と、前記素子電極の少なくとも一部を覆っている絶縁性部材と、前記素子基板の上面または前記絶縁性部材の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、前記固定化膜の表層部の酸素量は、前記素子電極の表層部の酸素量よりも小さい。
本発明のさらに他の実施形態に係るセンサ装置は、素子基板と、前記素子基板の上面に位置している素子電極と、前記素子基板の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、前記固定化膜の表面粗さは、前記素子電極の表面粗さよりも小さく、前記固定化膜の表層部の酸素量は、前記素子電極の表層部の酸素量よりも小さい。
このようなセンサ装置によれば、固定化膜の表面粗さは素子電極の表面粗さよりも小さい、あるいは、固定化膜の表層部の酸素量は素子電極の表層部の酸素量よりも小さいことから、検体に含まれる検出対象の検出に寄与する構成(例えば、官能基、有機部材、あるいは生体材料)を固定化膜の表面(上面)に対して効果的に固定化することができ、その結果、検出対象を感度良くあるいは精度良く検出することが可能となる。
本発明の第1実施形態に係るセンサ装置を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図であって(a)のA−A線における断面図、(c)は幅方向の断面図であって紙面に対して上から順に、(a)のa−a線、b−b線およびc−c線のそれぞれにおける断面図である。 図1のセンサ装置の一部を拡大して示す断面図である。 図1のセンサ装置の検出素子を示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のd−d線における断面図、(c)は(a)のe−e線における断面図である。 図1のセンサ装置の変形例を示す図であり、図3(b)に対応する断面図である。 図3(b)に示すセンサ装置の一部を拡大して示す断面図である。 図1のセンサ装置の分解平面図である。 図1のセンサ装置の製造工程を示す平面図である。 図1のセンサ装置の変形例を示す平面図であり、(a)および(b)は図7(d)に対応する図であり、(c)は図1(a)に対応する図である。 図1のセンサ装置の変形例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図であって(a)のA−A線における断面図、(c)は幅方向の断面図であって紙面に対して上から順に、(a)のa−a線、b−b線およびc−c線のそれぞれにおける断面図である。 図9のセンサ装置の製造工程を示す平面図である。 図1のセンサ装置の変形例を示す図であり、特に製造工程を示す図である。 図1のセンサ装置の変形例を示す平面図であり、図7(d)に対応する図である。 本発明の第2実施形態に係るセンサ装置を示す図であり、図2(a)に対応する図である。 図13のセンサ装置の変形例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図であって(a)のA−A線における断面図である。 図13のセンサ装置の変形例を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図であって(a)のA−A線における断面図である。 図13のセンサ装置の変形例を示す図であり、長さ方向の断面図である。
以下、本発明の実施形態に係るセンサ装置について、検体が液体状(検体液)である場合を例にとって、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下に説明する各図面において同じ構成部材には同じ符号を付すものとする。また、各部材の大きさや部材同士の間の距離などは模式的に図示しており、現実のものとは異なる場合がある。さらに、以下の説明においては、センサ装置を構成する素子基板、絶縁性部材、固定化膜などの各部材の上面を、便宜上、表面と言うことがある。
<第1実施形態>
本発明の第1実施形態に係るセンサ装置100について、図1〜図7を用いて説明する。
本実施形態に係るセンサ装置100は、図1に示すように、主に第1カバー部材1、中間カバー部材1A、第2カバー部材2および検出素子3を備える。
具体的には、センサ装置100は、図1(b)に示すように、検体液が流入する流入部14と、流入部14と連続しており且つ中間カバー部材1Aと第2カバー部材2とで囲まれて少なくとも検出部13まで延びている流路15とを備えている。流入部14は、図1(b)に示すように、中間カバー部材1Aの上面および第2カバー部材2の側面に位置している。なお、流入部14は、図16(b)に示すように、第2カバー部材2を厚み方向に貫通するようにしてもよい。
本実施形態に係るセンサ装置100では、第1カバー部材1の上面に検出素子3と流路15の少なくとも一部を構成する中間カバー部材1Aとを併設したことから、厚みのある検出素子3を用いた場合でも流入部14から検出部13に至る検体液の流路15を確保することができ、毛細管現象などによって流入部14から吸引された検体液を検出部13まで流すことができる。すなわち、厚みを有する検出素子3を用いつつ、それ自体に検体液の吸引機構を備えた測定作業が簡便なセンサ装置100を提供することができる。また、検体液の流路15において、検出素子3よりも上流側に位置している部材表面の検体液に対する接触角θ1a、θ2aは、検出素子3(検出部13)の表面の検体液に対する接触角θ3よりも小さいことから、流入部14から流入した検体液を上流側に位置する部材表面を通じて検出素子3(検出部13)に向かってスムーズに流すことが可能となる。
(第1カバー部材1)
第1カバー部材1は、図1(b)に示すように平板状である。第1カバー部材1の厚さは、例えば、0.1mm〜0.5mmである。第1カバー部材1の平面形状は概ね長方形状である。第1カバー部材1の長さ方向の長さは、例えば、1cm〜5cmであり、幅方向の長さは、例えば、1cm〜3cmである。第1カバー部材1の材料としては、例えば、紙、プラスチック、セルロイド、セラミックス、不織布、ガラスなどを用いることができる。必要な強度とコストとを兼ね備える観点からプラスチックを用いることが好ましい。
また、第1カバー部材1の上面には、図1(a)に示すように、端子6および端子6から検出素子3の近傍まで引き回された配線7が形成されている。端子6は、第1カバー部材1の上面において、検出素子3に対して幅方向に両側に形成されている。センサ装置100を外部の測定器(図示せず)で測定する際に、端子6と外部の測定器とが電気的に接続される。また、端子6と検出素子3とは、配線7などを介して電気的に接続されている。そして、外部の測定器からの信号が端子6を介してセンサ装置100に入力されるとともに、センサ装置100からの信号が端子6を介して外部の測定器に出力されることとなる。
(中間カバー部材1A)
本実施形態において、図1(a)および図1(b)に示すように、中間カバー部材1Aが、第1カバー部材1の上面に、検出素子3と並んで位置している。また、中間カバー部材1Aと検出素子3とは間隙を介して位置している。
中間カバー部材1Aは、平板状の板に凹部形成部位4を有する部材であり、その厚さは、例えば、0.1mm〜0.5mmである。なお、中間カバー部材1Aの厚さは、検出素子3の厚さよりも大きいことが好ましい。
本実施形態において、凹部形成部位4は、図1(a)、図1(b)および図6に示すように、第1上流部1Aaおよび第1下流部1Abを分断する部位である。凹部形成部位4が設けられた中間カバー部材1Aを、平板状の第1カバー部材1と接合することによって、図2(a)に示すように、第1カバー部材1および中間カバー部材1Aによって素子収容凹部5が形成されることとなる。すなわち、凹部形成部位4の内側に位置する第1カバー部材1の上面が素子収容凹部5の底面となり、凹部形成部位4の内壁が素子収容凹部5の内壁となる。言い換えれば、凹部形成部位4から露出する第1カバー部材1の上面が素子収容凹部5の底面となり、凹部形成部位4の内壁が素子収容凹部5の内壁となる。
中間カバー部材1Aの材料としては、例えば、樹脂(プラスチックを含む)、紙、不織布、ガラスなどを用いることができ、より具体的には、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料を用いることが好ましい。なお、第1カバー部材1の材料と中間カバー部材1Aの材料とを異なるようにしてもよい。
また、本実施形態において、中間カバー部材1Aは、第1上流部1Aaと第1下流部1Abとを有しており、図1(a)に示すように、センサ装置100を第2カバー部材2の上面側から透視する上面透視(上面視)において、検出素子3は、第1上流部1Aaと第1下流部1Abとの間に位置している。これによれば、流路15のうち第1上流部1Aaを通って検出素子3上を流れる検体液は、測定に必要な量を超える量が第1下流部1Ab側に流れていくことから、検出素子3に適切な量の検体液を供給することが可能となる。
(第2カバー部材2)
第2カバー部材2は、図1(b)および図1(c)に示すように、検出素子3の少なくとも一部を覆うとともに中間カバー部材1Aに接合されている。第2カバー部材2の材料としては、例えば、樹脂(プラスチックを含む)、紙、不織布、ガラスなどを用いることができ、より具体的には、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料を用いることが好ましい。なお、第1カバー部材1の材料と第2カバー部材2の材料とを同一としてもよい。これによって、互いの熱膨張係数の差に起因する変形を抑制することが可能となる。なお、第2カバー部材2は、中間カバー部材1Aにのみ接合される構成、あるいは第1カバー部材1および中間カバー部材1Aの双方に接合される構成にしてもよい。
ここで、第2カバー部材2は、第3基板2aと第4基板2bとを有する。
第3基板2aは、中間カバー部材1Aの上面に貼り合わされている。第3基板2aは平板状であり、その厚さは、例えば、0.1mm〜0.5mmである。第4基板2bは、第3基板2aの上面に貼り合わされている。第4基板2bは、平板状であり、その厚さは、例えば、0.1mm〜0.5mmである。そして、図6に示すように、第3基板2aには流路15を形成する切欠きが形成されていることから、第4基板2bが第3基板2aと接合されることによって、図1(b)に示すように、第2カバー部材2の下面に流路15が形成されることとなる。流路15は、流入部14から少なくとも検出部13の直上領域まで延びており、断面形状は、例えば、矩形状である。
本実施形態において、流路15の端部は、図1(b)に示すように、第3基板2aが存在せずに第4基板2bと中間カバー部材1Aとの隙間が排気孔18として機能する。排気孔18は、流路15内の空気などを外部に放出するためのものである。排気孔18は、円柱状または四角柱状など、流路15内の空気を抜くことができればどのような形状であってもよい。ただし、排気孔18の開口が大きすぎると、流路15内に存在する検体液が外気に触れる面積が大きくなり、検体液の水分が蒸発しやすくなる。そうすると、検体液の濃度変化が起こりやすくなり、測定精度の低下を招くこととなる。そのため、排気孔18の開口は、必要以上に大きくならないように設定することが好ましい。具体的には、円柱状からなる排気孔18の場合にはその直径を1mm以下となるようにし、四角柱からなる排気孔18の場合にはその1辺が1mm以下となるようにしている。また、排気孔18の内壁は疎水性となっている。これにより、流路15内に満たされた検体液が排気孔18から外部に漏れ出ることが抑制される。
第1カバー部材1、中間カバー部材1Aおよび第2カバー部材2は、すべて同じ材料によって形成することもできる。それによれば、各部材の熱膨張係数をほぼ揃えることができるため、部材ごとの熱膨張係数の差に起因する変形が抑制される。また、検出部13には後述するような生体材料13b3が塗布されることがあるが、その中には紫外線などの外部の光によって変質しやすいものもある。その場合は、第1カバー部材1、中間カバー部材1Aおよび第2カバー部材2の材料として、遮光性を有する不透明なものを用いるとよい。一方、検出部13の外部の光による変質がほとんど起こらない場合は、流路15を構成する第2カバー部材2を透明に近い材料によって形成してもよい。この場合は、流路15内を流れる検体液の様子を視認することができる。
(検出素子3)
検出素子3は、図1(b)に示すように、第1カバー部材1の上面に位置している素子基板10、および素子基板10の上面または後述する絶縁性部材28の上面に位置しており且つ検体液に含まれる検出対象の検出を行なう少なくとも1つの検出部13を有する。検出素子3の詳細については、図2(b)および図3に示している。
なお、本実施形態においては、図3に示すように、素子基板10の上面に素子電極(電極パターン)29が設けられており、且つ、素子電極29を覆うように絶縁性部材28が設けられている。なお、素子電極29としては、検出素子3としてSAW素子を用いる場合にはIDT(Interdigital Transducer)電極および引出し電極などが相当する。本実施形態においては、図3に示すように、素子基板10の上面には、後述する、第1IDT電極11、第2IDT電極12、第1引出し電極19および第2引出し電極20などが設けられている。
本実施形態では、図2(b)に示すように、素子基板10の上面に、第2カバー部材2が、例えばIDT電極11、12上に固定されている。
(素子基板10)
素子基板10は、例えば、タンタル酸リチウム(LiTaO3)単結晶、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)単結晶または水晶などの圧電性を有する単結晶の基板からなる。素子基板10の平面形状および各種寸法は適宜に設定されてよい。一例として、素子基板10の厚さは、0.3mm〜1mmである。
次に、素子電極29として、IDT電極11、12および引出し電極19、20について順に説明する。
(IDT電極11、12)
図3に示すように、第1IDT電極11は、素子基板10の上面に位置しており、1対の櫛歯電極を有する。各櫛歯電極は、互いに対向する2本のバスバー、および各バスバーから他のバスバー側へ延びる複数の電極指を有している。そして、1対の櫛歯電極は、複数の電極指が互いに噛み合うように配置されている。第2IDT電極12も、第1IDT電極11と同様、素子基板10の上面に位置しており、1対の櫛歯電極を有する。図3に示されている第1IDT電極11および第2IDT電極12は、トランスバーサル型のIDT電極を構成している。
第1IDT電極11は、所定の弾性表面波(SAW:Surface Acoustic Wave)を発生させるためのものであり、第2IDT電極12は、第1IDT電極11で発生したSAWを受信するためのものである。そのため、第1IDT電極11で発生したSAWを第2IDT電極12が受信できるように、第1IDT電極11と第2IDT電極とは同一直線上に配置されている。なお、SAWの周波数特性については、第1IDT電極11および第2IDT電極12の電極指の本数、隣接する電極指同士の距離、ならびに電極指の交差幅などをパラメータとして、設計することができる。IDT電極によって励振されるSAWとしては、種々の振動モードのものが存在するが、本実施形態に係る検出素子3においては、例えば、SH波(shear horizontal wave)とよばれる横波の振動モードを利用している。
SAWの周波数は、例えば、数メガヘルツ(MHz)から数ギガヘルツ(GHz)の範囲内において設定可能である。中でも、数百MHzから2GHzとすれば、実用的であり、かつ検出素子3の小型化ひいてはセンサ装置100の小型化を実現することができる。
ここで、第1IDT電極11および第2IDT電極12の材料としては、例えば、金、アルミニウム、あるいはアルミニウムと銅との合金(アルミニウム合金)などが挙げられる。また、これらの電極は、多層構造としてもよい。多層構造とする場合は、例えば、1層目にチタンまたはクロムを含め、2層目に金、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含め、3層目にチタンまたはクロムを含めことができる。この場合には、3層目のチタンまたはクロムは表面を酸化させてもよく、これによれば、後述する絶縁性部材28であるSiO2との密着性を向上させることが可能となる。多層構造の具体例としては、チタン上に金およびチタンを順に形成した3層構造(Ti/Au/Ti)、チタン上に金および酸化チタンを順に形成した3層構造(Ti/Au/TiO2)などが挙げられる。また、多層構造とする場合は、複数の層のうち最上層を後述する固定化膜13aと異なる材料で構成してもよい。この点は、後述する第1引出し電極19および第2引出し電極20についても同様である。
また、第1IDT電極11および第2IDT電極12の厚さは、例えば、30nm〜300nmに設定することができる。第1IDT電極11および第2IDT電極12の厚さを30nm以上とすれば、弾性表面波の伝送損失を低減することができる。また、第1IDT電極11および第2IDT電極12の厚さを300nm以下とすれば、検出の感度低下を抑制することができる。
なお、SAWの伝搬方向(幅方向)であって第1IDT電極11および第2IDT電極12のそれぞれのSAWの伝搬方向(幅方向)における外側に、SAWの反射抑制のための弾性部材(吸音部材)を設けてもよい。
(引出し電極19、20)
図3(a)に示すように、第1引出し電極19は、第1IDT電極11に接続されており、第2引出し電極20は、第2IDT電極12に接続されている。
また、第1引出し電極19は、第1IDT電極11から検出部13とは反対側に引き出され、第1引出し電極19の端部19eは第1カバー部材1に設けられた配線7に電気的に接続されている。第2引出し電極20は、第2IDT電極12から検出部13とは反対側に引き出され、第2引出し電極20の端部20eは配線7に電気的に接続されている。図3(a)および図3(c)に示すように、第1引出し電極19の端部19eおよび第2引出し電極20の端部20eは、後述する絶縁性部材28に覆われておらずに露出している。なお、図3(a)では、絶縁性部材28で覆われておらずに露出している部位に模様(縦線のハッチング)を付与して示している。
ここで、第1引出し電極19および第2引出し電極20の材料としては、第1IDT電極11および第2IDT電極12と同様の材料を用いることができる。また、第1引出し電極19の端部19eおよび第2引出し電極20の端部20eを多層構造とする場合は、その具体例としては、チタン上に金を形成した2層構造(Ti/Au)、チタン上に金、チタン、チタンおよび金を順に形成した5層構造(Ti/Au/Ti/Ti/Au)、チタン上に金、酸化チタン、チタンおよび金を順に形成した5層構造(Ti/Au/TiO2/Ti/Au)などが挙げられる。
第1引出し電極19および第2引出し電極20の厚さは、例えば、30nm〜300nmに設定することができる。これによれば、第1IDT電極11および第2IDT電極12との間における通電を確保することができる。また、第1引出し電極19および第2引出し電極20の厚さは、第1IDT電極11および第2IDT電極12と同等にしてもよい。これによれば、引出し電極とIDT電極とを同一工程で作製することによって製造工程を簡素化することが可能であるとともに、引出し電極とIDT電極との接続部において電極表面に段差が生じないため、絶縁性部材28との密着を均一にすることが可能となる。その結果、例えば、応力印加によって絶縁性部材28にクラックなどが発生することを抑制できる。
(絶縁性部材28)
絶縁性部材28は、素子電極(IDT電極11、12および引出し電極19、20など)29の酸化防止などに寄与するものであり、図3に示すように、素子電極29の少なくとも一部を覆っている。
本実施形態では、図3(b)に示すように、絶縁性部材28は、第1IDT電極11および第2IDT電極12を覆っている。また、絶縁性部材28は、第1引出し電極19および第2引出し電極20も覆っている。但し、図3(a)および図3(c)に示すように、第1引出し電極19の端部19eおよび第2引出し電極20の端部20eは、それぞれの少なくとも一部が絶縁性部材28によって被覆されていない部位を有する。そして、図2(b)に示すように、この被覆されていない部位と配線7とが金属細線(導線)27を用いて電気的に接続されている。なお、絶縁性部材28は、金属細線27および配線7を覆うように形成されてもよい。
絶縁性部材28の材料としては、例えば、酸化珪素(SiO2)、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化珪素およびシリコンなどが挙げられる。絶縁性部材28は、例示した材料のうちSiO2を有するのがよい。
また、絶縁性部材28の厚さは、例えば、10nm〜2000nmに設定することができる。絶縁性部材28の厚さを10nm以上にすれば、優れた温度特性を有することができるとともに、IDT電極11、12などに対して充分な絶縁性を備えることができる。絶縁性部材28の厚さを2000nm以下にすれば、検出の感度低下を抑制することができるとともに優れた温度特性を有することができる。
ここで、図4は、図1のセンサ装置の変形例を示す図であり、図3(b)に対応する断面図である。
図4(a)において、絶縁性部材28は、素子基板10の一部のみを覆っている。そして、素子基板10の表面(上面)であって絶縁性部材28で覆われていない部位に、検出部13が形成されている。これによれば、絶縁性部材28で覆われていない部位では素子基板10の表面近傍において弾性表面波の振幅が強くなるとともに、当該部位において素子基板10の表面と後述する反応部13bとが近接していることから、検出の感度を向上させることができる。
図4(b)において、絶縁性部材28は、素子基板10を覆っている。ただし、絶縁性部材28で覆っている部位のうち検出部13が形成されている部位の厚さは、その他の部位の厚さよりも大きい。言い換えれば、図4(b)に示す断面視において、絶縁性部材28の上面は、後述する固定化膜13aに覆われている被覆部位28aよりも被覆部位28aに連続する外周部位28bの方が低い。これによれば、例えば、後述する固定化膜13aの表面に対して反応部13bを固定化するなどの液体操作を行なう際に、検出部13とその他の領域とを分離して行なうことが容易となる。例えば、貫通孔を有する治具をその貫通孔によって検出部13を囲うように挿入すれば、治具を容易に位置合わせすることができる。
図4(c)において、絶縁性部材28は、素子基板10を覆っている。ただし、絶縁性部材28で覆っている部位のうち検出部13が形成されている部位の厚さは、その他の部位の厚さよりも小さい。言い換えれば、図4(c)に示す断面視において、絶縁性部材28の上面は、固定化膜13aに覆われている被覆部位28aよりも被覆部位28aに連続する外周部位28bの方が高い。これによれば、図4(a)の変形例と同様の効果を有するとともに、図4(b)の変形例と同様に治具の位置合わせにおける容易性を有する。なお、本変形例における被覆部位28aは、絶縁性部材28の上面のうち固定化膜13aに覆われている部位に加えて、その周辺部位も含んでいる。
(検出部13)
図3に示すように、検出部13は、検体液に含まれる検出対象の検出を行なうものであり、素子基板10の上面(表面)または絶縁性部材28の上面であって第1IDT電極11と第2IDT電極12との間に位置している。検出部13は、素子基板10の上面(表面)または絶縁性部材28の上面(表面)に位置している固定化膜13aと、固定化膜13aの上面に位置している反応部13bとを有する。
(固定化膜13a)
まず、固定化膜13aは、素子基板10の上面(表面)または絶縁性部材28の上面(表面)に位置しているとともに、その上面(表面)に反応部13bを固定化するものである。本実施形態では、上述のとおり、検出部13が第1IDT電極11と第2IDT電極12との間に位置していることから、固定化膜13aも第1IDT電極11と第2IDT電極12との間に位置している。より具体的には、センサ装置100を第2カバー部材2の上面側から透視する上面透視において、固定化膜13aが第1IDT電極11と第2IDT電極12との間に位置している。
固定化膜13aの材料としては、例えば、金属を用いることができる。また、固定化膜13aは、第1IDT電極11および第2IDT電極12などの素子電極29と同一の材料を有することができる。さらに、素子電極29および固定化膜13aは、Auを有することができる。なお、固定化膜13aの材料としては、第1IDT電極11および第2IDT電極12と同様の材料に加えて、その他の貴金属材料(例えば、白金、銀、パラジウムおよびそれらの合金など)を用いることができる。また、固定化膜13aは多層構造としてもよい。固定化膜13aを多層構造とする場合は、例えば、クロムあるいはチタン、およびクロム(チタン)上に形成された金の2層構造、金上に形成された酸化チタンの3層構造とすることができる。多層構造の具体例としては、チタン上に金を形成した2層構造(Ti/Au)、チタン上に金および酸化チタンを順に形成した3層構造(Ti/Au/TiO2)などが挙げられる。特に、チタン上に金を形成した2層構造(Ti/Au)によれば、後述する固定化膜13aの表層部の酸素量が、素子電極29の表層部の酸素量よりも小さくなるように設定しやすい。なお、固定化膜13aの材料としては、上述したもの以外に、例えば、SiO2などを用いることができる。
固定化膜13aの厚さは、例えば、30nm〜300nmに設定することができる。固定化膜13aの厚さを30nm以上にすれば、検出の感度低下を抑制することができる。また、固定化膜13aの厚さを300nm以下にすれば、弾性表面波の伝送損失を低減することができる。また、図3または図4(b)に示す構成において、固定化膜13aの厚さは素子電極(IDT電極11、12および引出し電極19、20など)29の厚さよりも小さく設定することが好ましい。これによれば、弾性表面波の伝送損失を低減することが可能となる。また、図4(a)および図4(c)に示す構成において、固定化膜13aの厚さを素子電極(IDT電極11、12および引出し電極19、20など)29の厚さと同じかまたはそれよりも大きく設定することが好ましい。これによれば、検出の感度を向上させることが可能である。
ここで、固定化膜13aの表面粗さは、素子電極29の表面粗さよりも小さく設定することができる。例えば、固定化膜13aの表面粗さを0.1nm〜5nm、素子電極29の表面粗さを固定化膜13aの表面粗さと同様の範囲内で固定化膜13aの表面粗さがより小さくなるように設定すればよい。これによれば、固定化膜13aの表面に対して、後述する多くの有機部材13b2を高い均一性にて結合させることが可能となる。それ故、その後に固定化膜13aの表面に後述する生体材料13b3が意図せず結合することを抑制できるとともに、生体材料13b3の有機部材13b2への固定化量の安定性を向上させることができる。なお、固定化膜13aの表面粗さを、素子電極29の表面粗さよりも小さく設定することによって、有機部材13b2を用いることなく、固定化膜13aの表面に対して生体材料13b3を結合させる場合においても、多くの生体材料13b3を高い均一性にて形成することが可能となる。
以上のように、本実施形態に係るセンサ装置100によれば、固定化膜13aの表面粗さが素子電極29の表面粗さよりも小さいことから、固定化膜13aの表面(上面)に対して、検体液に含まれる検出対象以外の物質が非特異吸着することを抑制しつつ、検体液に含まれる検出対象の検出に寄与する構成を効果的に固定化することができ、その結果、検出対象を精度良く検出することが可能となる。それに加えて、素子電極29の表面粗さはある程度の大きさを有することから、その表面に形成する絶縁性部材28と優れた密着性を有することが可能となる。また、固定化膜13aの表面粗さは、第1IDT電極11および第2IDT電極12のいずれの表面粗さよりも小さいのが好ましい。
表面粗さは、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)により測定することができる。例えば、表面粗さを測定する対象表面を含む断面をTEMにより観察して、対象表面のpeak−valley値を測定すればよい。TEMによる観察は、上述した断面のうち任意に選定した2〜10箇所について行なうのがよく、その平均値をpeak−valley値とするのがよい。なお、例えば、固定化膜13aの表面に後述する反応部13bが固定化されておらず、固定化膜13aの表面が露出しているような場合には、表面粗さとして算術平均粗さRaを用いてもよい。表面粗さRaは、例えば、走査型プローブ顕微鏡(SPM)により測定することができる。例えば、先端径が10nm相当の単結晶Siローテーションプローブをタッピングモードで走査範囲1〜3μm□、走査速度0.702Hzの条件で対象表面に対して走査させればよい。上述したこれらの測定条件において、例えば、固定化膜13aの表面粗さを平均値で1.7nm程度、素子電極29の表面粗さを平均値で2.0nm程度とすればよい。
また、固定化膜13aの表層部の酸素量は、素子電極29の表層部の酸素量よりも小さく設定することができる。例えば、固定化膜13aの表層部の酸素量を11atomic%未満、素子電極29の表層部の酸素量を17〜20atomic%に設定すればよい。これによれば、固定化膜13aの表面に対して、後述するSH基(チオール基)などの官能基13b1を効果的に結合させることが可能となる。そして、官能基13b1を介して、後述する多くの有機部材13b2を高い均一性にて結合させることができる。それ故、その後に固定化膜13aの表面に後述する生体材料13b3が意図せず結合することを抑制できるとともに、生体材料13b3の有機部材13b2への固定化量の安定性を向上させることができる。なお、固定化膜13aの表層部の酸素量を、素子電極29の表層部の酸素量よりも小さく設定することによって、有機部材13b2を用いることなく、固定化膜13aの表面に対して、官能基13b1を介して生体材料13b3を結合させる場合においても、多くの生体材料13b3を高い均一性にて形成することが可能となる。
以上のように、本実施形態に係るセンサ装置100によれば、固定化膜13aの表層部の酸素量は、素子電極29の表層部の酸素量よりも小さいことから、検体液に含まれる検出対象の検出に寄与する構成を固定化膜13aの表面に効果的に固定化することができ、その結果、検出対象を精度良く検出することが可能となる。なお、固定化膜13aの表層部の酸素量は、第1IDT電極11および第2IDT電極12のいずれの表層部の酸素量よりも小さいのが好ましい。
ここで、固定化膜13aおよび素子電極29の各表層部の酸素量は、例えば、電子エネルギー損失分光法(EELS)を用いて測定することができる。例えば、固定化膜13aが金(Au)の場合には、固定化膜13aの表面近傍を含む断面において、Auの結合状態をEELSにより測定すればよい。なお、固定化膜13aおよび素子電極29の各表層部の酸素量は、後述するX線光電子分光法(XPS)を用いて測定することもできる。いずれの測定方法においても、固定化膜13aの表面から2nm程度までの深さを表層部として酸素量を測定すればよい。例えば、X線源であるAlKα線(1486.6eV,24.8W,15kV)を固定化膜13aの表面の約100μmφの領域に照射し、表面から出た電子の運動エネルギーを検出すればよい。その際、検出器のpass energyは224eV程度に設定すればよい。例えば、固定化膜13aが金(Au)の場合、このようなXPSによる金(Au)表面の分析において、通常、Au 4fおよびO 1sによる信号がそれぞれ、binding energy 84eVおよび530eV付近に表れ、O 1sの信号強度から、表層部の酸素量を定量することができる。また、金が酸化して酸化金(Au23)を形成する様子は、Au 4fに生じる+1.5〜2eV程度の化学シフトにより観測することができる。また、標準サンプルのAu23の検量線からその量を定量することができる。なお、表面に吸着するOH基(ヒドロキシル基)に起因するO 1sの信号は、約1eV高いbinding energy(約531eV)に表れることから、表面に吸着するOH基による酸素と固定化膜13a(金)の表層部の酸素とを区別することができる。
(反応部13b)
次に、反応部13bは、検体液中の検出対象と化学反応を生じる部位であり、図5に示すように、固定化膜13aの表面(上面)に位置している。反応部13bとしては、例えば、固定化膜13aの表面に、後述するような官能基13b1を介して生体材料13b3を固定化する構成、あるいは、図5に示すように、官能基13b1および有機部材13b2を介して生体材料13b3を固定化する構成などが挙げられる。言い換えれば、官能基13b1は、直接あるいは有機部材13b2などを介して、固定化膜13aの表面に生体材料13b3を固定化する役割を有する。このような構成を有する反応部13bは、例えば、検体液との接触に起因して、検体液中の特定の検出対象がその検出対象に対応するアプタマーなどの生体材料13b3などと結合する。
官能基13b1としては、例えば、SH基(チオール基)が挙げられ、それ以外にも、アミノ基、カルボキシル基、マレイミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、アルデヒド基、アジド基、N−ヒドロキシスクシンイミド基、エポキシ基、カルボニルジイミダゾール基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、ヒドラジド基、ビニル基、トシル基、トレシル基、スクシンイミド基、スルホン化スクシンイミド基およびビオチンなどが挙げられる。反応部13bは、例示した官能基13b1のうち固定化膜13aの上面と結合しているチオール基を有するのがよい。また、反応部13bは、チオール基と結合している有機部材13b2をさらに有するのがよい。
有機部材13b2としては、例えば、デキストラン、アガロース、アルギン酸、カラゲナンおよびこれらに類する糖類またはこれらのいずれかの誘導体、あるいはポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、オリゴエチレングリコール、ポリエチレングリコール、セルロースおよびこれらに類する有機ポリマー、ならびに自己組織化単分子層(SAM膜)などが挙げられる。ここで、自己組織化単分子層としては、例えば、約1〜400の炭素長の直鎖状または分岐状の炭化水素鎖を含むものが挙げられる。炭化水素鎖は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルカリール(alkaryl)基、アラルキル基、およびこれらの任意の組み合わせを含み得る。例えば、HS−(CH2n−NH3+Cl-、HS−(CH2n−COOHなどが挙げられる。好ましくは、n=約3〜30炭素長のアルキル鎖である。
なお、有機部材13b2は、固定化膜13a側から順に、分子量が小さい材料と当該材料よりも分子量が大きい材料とを積層した構成にすることができる。分子量が小さい材料の方が、固定化膜13aの表面をより均一且つ密に覆うことができるとともに、分子量が大きい材料の方が、より非特異的な結合を抑制することができる。それ故、これらを組み合わせることによって、生体材料13b3を固定化するのに適した下地とすることが可能となる。なお、有機部材13b2を複数層で構成する場合には、その最下層に、自己組織化単分子層(SAM膜)を用いることができる。これによれば、固定化膜13aの表面を高い密度で覆うことが可能となる。
生体材料13b3は、特定の物質と選択性を持って結合する分子認識能を有するものであり、ペプチド、タンパク質(抗体を含む)および核酸(アプタマーを含む)から選ばれる少なくとも1種を含むのがよい。また、生体材料13b3は、固定化膜13aの上方に固定化されている。具体的に説明すると、生体材料13b3は、上述したように、固定化膜13aの表面に、官能基13b1を介して固定化するか、あるいは両端部にホモ二官能基あるいはヘテロ二官能基を有する有機部材13b2を介して固定化することができる。例えば、アプタマーなどの生体材料13b3は、固定化膜13aの表面のほぼ全域を覆う有機部材13b2の上面(上部)に固定化するか、あるいは固定化膜13aの表面に官能基13b1を介して固定化するとともに固定化されたアプタマーの周囲に有機部材13b2を固定化すればよい。このようにすれば、アプタマーを、配向性を持って固定化させることができるため、固定化膜13aの表面に効率的により多くの量を固定化することが可能となる。すなわち、アプタマーの一端側に官能基13b1を結合させることで、そのアプタマーの他方の部位にある検出対象との結合部を固定化膜13aの上方に向けることができるため、それぞれのアプタマーを隣接して密に配置することが可能となる。
なお、より特定の物質との結合能が改善されたアプタマーは、種々の修飾基を伴うことがあるため疎水性となりやすいので、官能基13b1を介することなく非特異的に固定化膜13aの表面に付きやすい。この場合においても、上述のように、固定化膜13aの表面の表面粗さを小さくすることあるいは固定化膜13aの表層部の酸素量を小さくすることによって、固定化膜13aの表面を有機部材13b2が均一且つ確実に覆うことができるため、アプタマーが固定化膜13aの表面に非特異的に結合することを効果的に抑制することができる。
固定化膜13aの表面に反応部13bを固定化するに当たっては、固定化膜13aの表面に次のような前処理を施すことができる。ここでは、固定化膜13aとしてAuを用い、絶縁性部材28としてSiO2を用いた構成を例にとって説明を行なう。
第1に、検出素子3(固定化膜13a)の表面のうち少なくとも反応部13bが固定化される部分を覆うように、ピラニア(piranha)溶液を、ピペットを用いて滴下する。ここで、ピラニア溶液としては、例えば、30%過酸化水素水:硫酸=1:3(体積比)のものを用いればよい。そして、室温で5分間放置した後、ピラニア溶液を取り除く。これによって、固定化膜13aであるAuおよび絶縁性部材28であるSiO2の表面に存在する汚染物(主に有機物)を除去することができるとともに、固定化膜13aであるAuの表面粗さを小さくすることができる。また、絶縁性部材28であるSiO2の表面を親液化、すなわちSiO2の表面の検体液に対する接触角を小さくすることができる。その後、超純水で検出素子3を洗浄した上で、窒素を用いて検出素子3を乾燥させる。なお、上述のピラニア溶液による処理に代えて、例えば、UVオゾン処理、オゾン水処理、酸素プラズマ処理などを用いてもよい。
第2に、上述のピラニア溶液による処理を行なった固定化膜13aの表面にエタノールを滴下するか、あるいはピラニア溶液による処理を行なった固定化膜13aをエタノールに浸漬する作業を行なう。これによって、上述のピラニア溶液による処理を行なうことによって固定化膜13aであるAuの表面に形成された酸化層を、エタノールによる還元反応によって除去することができる。酸化層が除去されることによって、固定化膜13aであるAuの表面を疎液化、すなわちAuの表面の検体液に対する接触角を大きくすることができるとともに、Auの表層部の酸素量を低下させることができる。その後、超純水で検出素子3を洗浄した上で、窒素を用いて検出素子3を乾燥させる。
第3に、上述の各工程を必要に応じて必要な回数だけ繰り返す。
第4に、固定化膜13aであるAuの表面が撥水性を有することを確認する。その後、超純水で検出素子3を洗浄した上で、窒素を用いて検出素子3を乾燥させる。
これらの工程を行なった上で、固定化膜13aであるAuの表面に反応部13bを固定化する。
以上のように、検出素子3の上面には、幅方向に沿って第1IDT電極11、検出部13および第2IDT電極12が配置されている。このような第1IDT電極11、検出部13および第2IDT電極12を1つのセットとすると、本実施形態に係るセンサ装置100は、図3に示すように、2つのセットを有する。これにより、一方のセットにおける検出部13で検出する検出対象と他方のセットにおける検出部13で検出する検出対象とを異なるように設定することによって、1つのセンサ装置で2種類の検出対象の検出を行なうことが可能となる。
(検出素子3を用いた検出対象の検出)
SAWを利用した検出素子3を用いて検体液の検出を行なうには、まず、第1IDT電極11に、配線7および第1引出し電極19などを介して、外部の測定器から所定の電圧を印加する。
これにより、第1IDT電極11が形成されている領域において、素子基板10の表面が励振され、所定の周波数を有するSAWが発生する。発生したSAWは、その一部が検出部13に向かって伝搬し、検出部13を通過した後、第2IDT電極12に到達する。
検出部13では、検出部13のアプタマー(生体材料13b3)が検体液中の特定の検出対象と結合し、結合した分だけ検出部13の重さが変化するため、検出部13の下を通過するSAWの位相などの特性が変化する。このように特性が変化したSAWが第2IDT電極12に到達すると、それに応じた電圧が第2IDT電極12に生じる。この電圧が第2引出し電極20、配線7などを介して外部に出力され、それを外部の測定器で読み取ることによって、検体液の性質や成分を調べることができる。
ここで、検体液を検出部13に誘導するために、センサ装置100では毛細管現象を利用する。
具体的には、上述のように、流路15は、第2カバー部材2が中間カバー部材1Aに接合されることによって、第2カバー部材2の下面に細長い管状となる。そのため、検体液の種類、中間カバー部材1Aおよび第2カバー部材2の材質などを考慮して、流路15の幅あるいは径などを所定の値に設定することによって、細長い管状の流路15に毛細管現象を生じさせることができる。流路15の幅は、例えば、0.5mm〜3mmであり、深さは、例えば、0.1mm〜0.5mmである。なお、流路15は、流入部14側に位置している部分である上流部15a、および検出部13を超えて延びた部分である下流部(延長部)15bを有し、第2カバー部材2には延長部15bにつながった排気孔18が形成されている(図2(a)参照)。そして、検体液が流路15内に入ってくると、流路15内に存在していた空気は排気孔18から外部へ放出される。
このような毛細管現象を生じる管を、中間カバー部材1Aおよび第2カバー部材2を含むカバー部材によって形成すれば、流入部14に検体液を接触させることによって、検体液が流路15を流れてカバー部材の内部に吸い込まれていく。このように、センサ装置100は、それ自体が検体液の吸引機構を備えているため、ピペットなどの器具を使用することなく検体液の吸引を行なうことができる。
(流路15の親液性)
本実施形態に係るセンサ装置100においては、流路15の内面全体、あるいは内面の一部、例えば、流路15の底面および壁面などが親液性を有している。流路15の内面が親液性を有することによって毛細管現象が起こりやすくなり、検体液が流入部14から吸引されやすくなる。
流路15の内面のうち親液性を有する部分は、例えば、水との接触角が60°以下になるようにすればよい。接触角が60°以下であれば、より毛細管現象が起こりやすくなり、検体液を流入部14に接触させたときの検体液の流路15内への吸引がより確実なものとなる。以下、図2(a)を用いて詳細に説明する。図2(a)は図1(b)のセンサ装置100の一部を拡大して示す断面図である。
本実施形態において、第2カバー部材2の第2上流部2baの下面の検体液に対する接触角θ2a、あるいは、中間カバー部材1Aの第1上流部1Aaの上面の検体液に対する接触角θ1aは、検出素子3(検出部13)の上面の検体液に対する接触角θ3よりも小さく設定されている。これによれば、検体液の流路15において、検出素子3よりも上流側に位置している部材表面の検体液に対する接触角θ1a、θ2aは、検出素子3の表面の検体液に対する接触角θ3よりも小さいことから、流入部14から毛細管現象で流入した検体液は上流側に位置する部材表面をスムーズに流れることによって検出素子3(検出部13)に効果的に到達させることが可能となる。
また、第2カバー部材2の第2上流部2baの下面の検体液に対する接触角θ2aは、中間カバー部材1Aの第1上流部1Aaの上面の検体液に対する接触角θ1aと同一かあるいは小さく設定すればよい。これによれば、流路15を構成する第2カバー部材2の第2上流部2baの下面と中間カバー部材1Aの第1上流部1Aaの上面とによって、検体液を効率的に検出素子13側に誘導することができる。接触角θ2aを接触角θ1aよりも小さく設定すれば、中間カバー部材1Aの第1上流部1Aaの上面と検出素子13との間に間隙が存在する場合であっても、検出部13まで延びている第2カバー部材2の第2上流部2baの下面の表面を伝っていくことによって、検体液をより効率的に検出素子13側に誘導することができる。
また、中間カバー部材1Aにおいて、第1下流部1Abの上面の検体液に対する接触角θ1bは、接触角θ1aよりも大きく設定すればよい。これによれば、流路15において、検出素子3(検出部13)が存在する上流側において下流側よりも検体液をスムーズに流すことができる。また、検出素子3(検出部13)に到達した検体液の流れを相対的に低下させることで、有限量の検体を比較的長い時間一定の速度で通過させることができ、ゆるやかに反応を進行させてばらつきの小さな測定が可能となる。
また、第2カバー部材2において、第2下流部2bbの下面の検体液に対する接触角θ2bは、接触角θ2aよりも大きく設定すればよい。これによれば、流路15において、検出素子3が存在する上流側において下流側よりも検体液をスムーズに流すことができる。また、検出素子3(検出部13)に到達した検体液の流れを相対的に低下させることで、有限量の検体を比較的長い時間一定の速度で通過させることができ、ゆるやかに反応を進行させてばらつきの小さな測定が可能となる。
また、検出素子3において、上流領域3aの検体液に対する接触角θ3aは、検出領域3b(検出部13)の検体液に対する接触角θ3bよりも小さく設定すればよい。これによれば、流路15において、検出素子3(検出部13)の上流側において検体液をスムーズに流すことができ、検出素子3(検出部13)へ効果的に誘導することができる。また、中間カバー部材1Aの第1上流部1Aaの上面と検出素子13との間に間隙が存在する場合であっても、検出部13まで延びている第2カバー部材2の第2上流部2baの下面によって、検体液をより効率的に検出素子13側に誘導することができる。また、下流領域3cの検体液に対する接触角θ3cは、検出領域3b(検出部13)の検体液に対する接触角θ3bよりも小さく設定すればよい。これによれば、検体液を検出領域3b(検出部13)よりも下流領域3c側へ誘導する力が相対的に強く働くため、検出素子3(検出部13)において検出工程を終えた検体液が、検出素子3上に滞留することを抑制することができる。また、検出素子3(検出部13)を通過した検体液の流れを相対的に低下あるいは停止させることができ、排液がセンサ装置100の外に漏れ出ることを抑制することができる。そして、接触角θ3aは、接触角θ3cよりも小さく設定することが好ましい。これによれば、流路15において、検出素子3(検出部13)の上流側において検体液をスムーズに流すことができ、検出素子3(検出部13)へ効果的に誘導することができる。また、検出素子3(検出部13)を通過した検体液の流れを低下あるいは停止させることができ、排液がセンサ装置100の外に漏れ出ることを抑制することができる。
ここで、上述のような各構成の表面における検体液に対する接触角θは、次のような方法によって測定するものとする。
まず、接触角θを測定する対象表面の上に、水滴を形成する。ここで、検体液の代用として水を用い、水滴の容量は1μl〜4μlとする。室温は25〜30℃、湿度は40〜60%RHの間で測定する。
水滴を形成した後、1分以内に、物質表面と水平方向から画像として水滴の形状を撮影する。
その後、滴の形状をもとに接線法を用いて接触角を算出する。ここで、液滴の端点(物質と液滴と空気の境界点)近辺を球の一部とみなし、円弧上の複数の点から球の中心を求め、液滴端点における円の接線を求めることができる。そして、この接線と物質表面とのなす角を接触角とする。
なお、水滴の形成位置は、測定対象の表面が単一材料からなる場合は、一様な質量分布、厚み分布があると仮定した際に重心を含む領域とする。また、測定対象となる物質表面が複数材料からなる場合には、各材料において一様な質量分布、厚み分布があると仮定した際に重心を含む領域に水滴を形成する。この場合の物質表面の接触角は、各材料の面積比率を重みとして加重平均を計算した値とする。
また、他の測定方法として、物質表面に、複数の領域を設定して接触角を測定してもよい。この場合は、物質表面の接触角は、各領域の面積比率を重みとして加重平均を計算した値とする。
流路15の内面が親液性を有するようにするには、例えば、流路15の内面に親水化処理を施す方法、流路15の内面に親液性のフィルムを貼り付ける方法、および流路15を構成するカバー部材2を親液性の材料で形成する方法などを採用することができる。中でも、流路15の内面に親水化処理を施す方法および流路15の内面に親液性のフィルムを貼り付ける方法を用いれば、検体液が親液性の部分に沿って流路15内を流れていくため、検体液が意図しない場所へ流れることを抑制して、精度の高い測定をすることができる。また、これらの方法によれば、疎水性の材料からなるカバー部材を用いる場合においても、毛細管現象を起こすことができるため、カバー部材として使用することができる材料の選択肢が増えるという利点もある。
流路15の内面に親水化処理を施す方法としては、例えば、流路15の内面を酸素プラズマによってアッシングにより表面の官能基を変化させた後、シランカップリング剤を塗布し、最後にポリエチレングリコールを塗布すればよい。その他にも、流路15の内面を、ホスホリルコリンを有する処理剤を用いて表面処理するという方法もある。
また、親液性のフィルムを貼り付ける方法において、親液性のフィルムとしては、親水化処理が施された市販のポリエステル系のフィルムあるいはポリエチレン系のフィルムなどを使用することができる。親液性のフィルムは、流路15の上面、側面、あるいは下面にのみ貼り付けるようにしてもよく、これらを組み合わせてもよい。
(流路15と検出素子3との位置関係)
本実施形態において、検体液の流路15は深さが0.3mm程度であるのに対し、検出素子3は厚さが0.3mm程度であり、図1(b)に示すように、流路15の深さと検出素子3の厚さとがほぼ等しい。そのため、流路15上に検出素子3をそのまま置くと流路15が塞がれてしまう。そこで、センサ装置100においては、図1(b)および図2に示すように、検出素子3が実装される第1カバー部材1と第1カバー部材1上に接合される中間カバー部材1Aとによって素子収容凹部5を設けている。この素子収容凹部5の中に検出素子3を収容することによって、検体液の流路15が塞がれないようにしている。すなわち、素子収容凹部5の深さを検出素子3の厚さと同程度にし、その素子収容凹部5の中に検出素子3を実装することによって、流路15を確保することができる。
検体液の流路15を十分に確保する観点から、図1(b)および図2に示すように、素子収容凹部5の底面から素子基板10の上面までの高さを、素子収容凹部5の深さと同じかまたはそれよりも小さく(低く)しておくとよい。例えば、素子基板10の上面の素子収容凹部5の底面からの高さを素子収容凹部5の深さと同じにしておけば、流入部14から流路15の内部を見たときに、流路15の底面と検出部13とをほぼ同一高さとすることができる。
なお、素子収容凹部5の平面形状は、例えば、素子基板10の平面形状と相似の形状としてもよく、素子収容凹部5は素子基板10よりも若干大きく設定すればよい。より具体的には、素子収容凹部5は素子基板10を素子収容凹部5に実装したときに、素子基板10の側面と素子収容凹部5の内壁との間に200μm程度の隙間が形成されるような大きさである。
検出素子3は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂またはシリコーン樹脂などを主成分とするダイボンド材によって、素子収容凹部5の底面に固定されている。
検出素子3の第1引出し電極19の端部19eと第1カバー部材1の上面に設けられた配線7とは、例えば、Auなどからなる金属細線27によって電気的に接続されている。同様に、第2引出し電極20の端部20eと配線7とが金属細線27によって電気的に接続されている。なお、これらの接続は金属細線27を用いる場合に限られず、例えば、Agペーストなどの導電性接着材を用いてもよい。なお、引出し電極19、20と配線7との接続部分には空隙が設けられているため、第2カバー部材2を第1カバー部材1に貼り合わせた際に、金属細線27の破損が抑制される。
また、上述のように、第1引出し電極19、第2引出し電極20、金属細線27および配線7は、絶縁性部材28によって覆われていてもよい。これによって、これらの電極などが腐食することを抑制することができる。
以上のように、本実施形態に係るセンサ装置100によれば、検出素子3を第1カバー部材1および中間カバー部材1Aによって形成される素子収容凹部5に収容したことによって、流入部14から検出部13に至る検体液の流路15を確保することができ、毛細管現象などによって流入部14から吸引された検体液を検出部13まで流すことができる。すなわち、厚みのある検出素子3を用いつつ、それ自体に吸引機構を備えたセンサ装置100を提供することができる。
上述したセンサ装置100は、例えば、以下のようにして製造することができる。
まず、図7(a)に示すように、端子6および配線7が形成された第1カバー部材1を用意する。
次に、図7(b)に示すように、第1カバー部材1の上に、中間カバー部材1Aを積層する。ここで、中間カバー部材1Aは、第1上流部1Aaと第1下流部1Abとからなる。
次に、図7(c)に示すように、中間カバー部材1Aの第1上流部1Aaと第1下流部1Abとの間に、検出素子3を金属細線27を用いて実装する。ここで、第1カバー部材1の上に、中間カバー部材1Aおよび検出素子3を載置する工程は、いずれを先に実行してもよい。
次に、図7(d)に示すように、中間カバー部材1Aの上に、第2カバー部材2の第3基板2aを積層する。
そして、図7(e)に示すように、第3基板2aの上に第4基板2bを積層することによって、本実施形態に係るセンサ装置100が製造される。
また、本実施形態に係るセンサ装置100の製造において、検出素子3の製造は、以下の(i)〜(iii)の工程を備える。
(i)レジストパターニングした後にリフトオフすることによって、第1IDT電極11、第2IDT電極12、第1引出し電極19および第2引出し電極20を形成する工程。
(ii)成膜した後にパターニングすることによって、絶縁性部材28を形成する工程。
(iii)固定化膜13a、第1引出し電極19の端部19eおよび第2引出し電極20の端部20eを形成する工程。
次に、第1実施形態に係るセンサ装置100の変形例について説明を行なう。
<変形例>
図8は、図1のセンサ装置100の変形例に係るセンサ装置100a、100b、100cを示す平面図であり、(a)および(b)は図7(d)に対応する図であり、(c)は図1(a)に対応する図である。
本変形例に係るセンサ装置100a、100bは、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100とは異なり、中間カバー部材1Aおよび第2カバー部材2の幅が検出素子3の幅よりも大きい。センサ装置100aは、図8(a)に示すように、検出素子3の下流において、第1カバー部材1の上に中間カバー部材1A(第1下流部1Ab)が設けられていない。それに対して、センサ装置100bは、図8(b)に示すように、検出素子3の下流において、第1カバー部材1の上に中間カバー部材1A(第1下流部1Ab)が設けられている。
次に、本変形例に係るセンサ装置100cは、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100と比較して、検出素子3に対する端子6の配置が異なる。
具体的には、センサ装置100では、図1に示すように、端子6は、検出素子3のうち流入部14側の端部よりも排気孔18側に配置されている。これに対して、本変形例のセンサ装置100cでは、図8(c)に示すように、端子6のうち少なくとも一部は、検出素子3のうち流入部14側の端部よりも流入部14側に配置されている。
また、流路15の長手方向を基準にして検出素子3の一方側に配列している4つの端子6において、外側の2つの端子6に接続される配線7の長さが互いに略同一であり、また、内側の2つの端子6に接続される配線7の長さが互いに略同一である。これによれば、検出素子3で得られる信号が、配線7の長さによってばらつくことを抑制することが可能となる。さらに、例えば、一方の略同一の長さの配線7が、検出素子3の検出部13において検出対象を検出する部位に接続され、他方の略同一の長さの配線7が、検出素子3の検出部13において検出対象に対する参照電極に接続される構成とすれば、上述の信号のばらつきを抑制することが可能となり検出の信頼性を向上させることが可能となる。
図9は、図1のセンサ装置100の変形例に係るセンサ装置101を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図、(c)は幅方向の断面図である。
本変形例に係るセンサ装置101は、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100とは異なり、検出素子3と中間カバー部材1Aとの間隙に、充填部材9が設けられている。
充填部材9は、中間カバー部材1Aおよび素子基板10とは異なる材料を含むようにすることができ、例えば、PDMS(ポリジメチルシロキサン)などの樹脂材料を用いることができる。なお、充填部材9は、検出素子3と中間カバー部材1Aとの間隙の全ての領域に設けられる必要はなく、例えば、流路15に対応する部位のみに設けるようにしてもよい。本変形例に係るセンサ装置101によれば、検出素子3と中間カバー部材1Aとの間隙に充填部材9が位置していることから、間隙による毛細管現象の阻害を抑制することができ、検体液をよりスムーズに検出素子3に向けて吸引することが可能となる。
図10は、図9のセンサ装置101の製造工程を示す平面図である。
まず、図10(a)〜図10(c)に示すように、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100と同様にして、端子6および配線7が形成された第1カバー部材1の上に中間カバー部材1Aを積層し、検出素子3を金属細線27を用いて実装する。
次に、図10(d)に示すように、検出素子3と中間カバー部材1Aとの間の間隙に、充填部材9を配置する。
そして、図10(e)および図10(f)に示すように、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100と同様にして、中間カバー部材1Aの上に、第2カバー部材2の第3基板2aを積層し、第3基板2aの上に第4基板2bを積層することによって、本実施形態に係るセンサ装置101が製造される。
図11は、図1のセンサ装置100の変形例に係るセンサ装置101aを示す図であり、特に製造工程を示す図である。
本変形例に係るセンサ装置101aは、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100とは異なり、センサ装置101aを第2カバー部材2の上面側から透視する上面透視(上面視)において、検出素子3が、平板枠状の中間カバー部材1Aで全周を囲まれている。そして、充填部材9は、図11(d)および図11(e)に示すように、検出素子3の外周を囲うように、検出素子3と中間カバー部材1Aとの間隙に位置している。これによれば、流路15において検出素子3とその周囲との段差あるいは隙間を低減することができることから、検体液をスムーズに検出素子3上に流すことが可能となる。また、充填部材9は、検出素子3と端子6との間の領域において、配線7の一部および検出素子3と配線7とを接続する金属細線27を覆うことができることから、これらと検体液との接触による検出感度の低下を抑制することが可能となる。
なお、本変形例では、図11(b)に示すように中間カバー部材1Aと検出素子3とを形成した上で、図11(c)に示すように検出素子3と配線7とを金属細線27によって接続している。これに代えて、検出素子3を形成し、検出素子3と配線7とを金属細線27によって接続した後で、中間カバー部材1Aを形成するようにしてもよい。
図12は、図1のセンサ装置100の変形例に係るセンサ装置101b、101cを示す平面図であり、図7(d)に対応する図である。
本変形例に係るセンサ装置101b、101cは、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100とは異なり、充填部材9は、図12(a)および図12(b)に示すように、検出素子3と中間カバー部材1Aとの間隙のうち、流路15の長手方向に沿うように位置している。これによれば、検出素子3とその両側との段差を低くあるいは隙間を狭くできることから、検出素子3に対して側方からも検体液をスムーズに流すことが可能となる。また、充填部材9は、検出素子3と端子6との間の領域において、配線7の一部および検出素子3と配線7とを接続する金属細線27を覆うことができることから、これらと検体液との接触による検出感度の低下を抑制することが可能となる。
また、図12(b)に示すように、充填部材9を検出素子3と中間カバー部材1Aとの間隙のみならず、検出素子3と配線7とを接続するための金属細線27のうち検出素子3(素子基板10)の上面に位置している部分をも覆うことができる。これによれば、金属細線27と検体液との接触による検出感度の低下をさらに抑制することが可能となる。
以上、第1実施形態に係るセンサ装置100およびその変形例に係るセンサ装置において、後述する各実施形態に係るセンサ装置における構成を、そのまま適用する、あるいは上述した構成に適した形で適用することができる。
<第2実施形態>
図13は、本発明の第2実施形態に係るセンサ装置200を示す図であり、図2(a)に対応する図である。
本実施形態のセンサ装置200では、中間カバー部材1Aの第1下流部1Abの上面であって流路15の終端部に、検体液を所定の速度で吸収する吸液材30が設けられている。これによれば、余分な検体液を吸収することによって、検出部13上を流れる検体液の量を一定化して、安定性の高い測定を行なうことができる。吸液材30としては、スポンジなど液体を吸収することができる多孔質状の材料を用いることができ、例えば、ニトロセルロースなどを用いることが好ましい。
本実施形態のセンサ装置200においても、上述した第1実施形態に係るセンサ装置100と同様に、第1カバー部材1の上面に検出素子3と流路15の少なくとも一部を構成する中間カバー部材1Aとを併設したことから、厚みのある検出素子3を用いた場合でも流入部14から検出部13に至る検体液の流路15を確保することができ、毛細管現象などによって流入部14から吸引された検体液を検出部13まで流すことができる。すなわち、厚みを有する検出素子3を用いつつ、それ自体に検体液の吸引機構を備えた測定作業が簡便なセンサ装置200を提供することができる。また、検体液の流路15において、検出素子3よりも上流側に位置している部材表面の検体液に対する接触角θ1a、θ2aは、検出素子3(検出部13)の表面の検体液に対する接触角θ3よりも小さいことから、流入部14から流入した検体液を上流側に位置する部材表面を通じて検出素子3(検出部13)に向かってスムーズに流すことが可能となる。
また、本実施形態において、中間カバー部材1Aの第1下流部1Abの上面の検体液に対する接触角θ1bは、接触角θ3よりも大きく設定してもよい。これによれば、検出素子3(検出部13)を通過した検体液が、吸液材30によって吸収されるスピードを調整でき、その結果として検出素子3(検出部13)における検体液を所定量に制御することによって、検出の安定性を向上させることが可能となる。
図14は、図13のセンサ装置200の変形例に係るセンサ装置201を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図である。
本変形例に係るセンサ装置201は、上述の第1実施形態に係るセンサ装置100における中間カバー部材1Aの第1下流部1Abに代えて、第1カバー部材1の上面であって検出素子3に対して中間カバー部材1Aとは反対側に位置している吸液材30を有している。本変形例においても、余分な検体液を吸収することによって、検出部13上を流れる検体液の量を一定化して、安定性の高い測定を行なうことができる。
なお、本変形例において、吸液材30は、流路15の終端部との間に少し隙間を設けて位置している。これによれば、この隙間が排気孔18として機能することによって、毛細管現象を効果的に発揮させることができる。
図15は、図13のセンサ装置200の変形例に係るセンサ装置202を示す図であり、(a)は平面図、(b)は長さ方向の断面図である。
本変形例に係るセンサ装置202は、図14に示すセンサ装置201とは異なり、吸液材30は、図15に示すように、第1カバー部材1の上面であって検出素子3に対して中間カバー部材1Aとは反対側に、検出素子3と間隙を介して配置している。これによれば、流路15を流れる検体液は、検出素子3の上面を通過した後、吸液材30によって吸収されることから、検出素子3の上面において検出への寄与を終えた検体液を吸収することが可能となる。
図16は、図13のセンサ装置200の変形例に係るセンサ装置203、204の長さ方向の断面図である。
本変形例に係るセンサ装置203は、図14に示すセンサ装置201とは異なり、吸液材30は、図16(a)に示すように、第1カバー部材1の上面および第2カバー部材2の下面の両方、すなわち流路15の上下面と接触している。これによれば、上述のように、余分な検体液を吸収することによって、検出部13上を流れる検体液の量を一定化して、安定性の高い測定を行なうことができる。
また、本変形例においては、吸液材30の気孔率を調整することによって、多孔質の吸液材30を排気孔18として機能させることができる。その場合において、吸液材30は、上述のように流路15の上下面と接触するだけでなく、流路15の側壁とも接触することによって、流路15を塞ぐように設けることができる。
次に、他の変形例に係るセンサ装置204は、図14に示すセンサ装置201とは異なり、図16(b)に示すように、吸液材30は、第2カバー部材2の下面にのみ接触している。これによれば、吸液材30は、流路15を流れる検体液との接触などに起因して検体液を吸い寄せる作用を発揮することによって、検体液を進行方向の前方に位置している検出素子3の上面に効果的に誘導することが可能となる。
センサ装置204では、第1実施形態に係るセンサ装置100と異なり、第4基板2bには、第4基板2bを厚み方向に貫く排気孔18が形成されている。排気孔18は、流路15の端部と繋がる位置に形成されている。
本発明は、以上の実施形態に限定されず、種々の態様で実施されてよい。
例えば、上述した実施形態においては、検出素子3が弾性表面波素子からなるものについて説明したが、検出素子3はこれに限らず、例えば、表面プラズモン共鳴が起こるように光導波路などを形成した検出素子3を用いてもよい。この場合は、例えば、検出部における光の屈折率の変化などを計測する。その他、水晶などの圧電基板に振動子を形成した検出素子3を用いることもできる。この場合は、例えば、振動子の発振周波数の変化を計測する。
また、検出素子3として、1つの基板上に複数種類のデバイスを混在させても構わない。例えば、SAW素子の隣に酵素電極法の酵素電極を設けてもよい。この場合は、抗体やアプタマーを用いた免疫法に加えて酵素法での測定も可能となり、一度に検査できる項目を増やすことができる。
また、上述した実施形態においては、検出素子3が1個設けられている例について説明したが、検出素子3を複数個設けてもよい。この場合には、検出素子3ごとに素子収容凹部5を設けてもよいし、全ての検出素子3を収容できるような長さあるいは幅を有する素子収容凹部5を形成するようにしてもよい。
また、上述した実施形態においては、第1カバー部材1、中間カバー部材1Aおよび第2カバー部材2がそれぞれ別部材である例を示したが、これに限らず、いずれか2つの部材同士、あるいは全ての部材が一体化されたものを用いてもよい。
また、例えば、第1実施形態におけるセンサ装置100の変形例の構成を、第2実施形態におけるセンサ装置200の構成に適用してもよい。すなわち、上述の各実施形態のセンサ装置に関する変形例および各構成部材の態様は、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で他の実施形態のセンサ装置に適用することができる。例えば、センサ装置の構成を、固定化膜13aの表面粗さが素子電極29の表面粗さよりも小さく、固定化膜13aの表層部の酸素量が素子電極29の表層部の酸素量よりも小さく、且つ、絶縁性部材28を備えない構成にすることができる。これによれば、上述した実施形態で説明した理由から、検出対象を感度良く且つ精度良く検出できるとともに、絶縁性部材28を形成する工程を省略できることから、センサ装置の製造コストを低減することが可能となる。
また、例えば、上述した実施形態においては、検体が液体状(検体液)である場合を例に説明したが、これに限定されるものではない。すなわち、検体は、上述の各実施形態のセンサ装置で測定可能な限り、液体状に限定されるものではなく、例えば、ゲル状、気体状などであってもよい。また、検体は、例えば、流路15(検出部13上)において液体状から固体状に近づいていくなど、その状態が変化するものであってもよい。
1・・・第1カバー部材
1A・・・中間カバー部材
1Aa・・・第1上流部
θ1a・・・接触角
1Ab・・・第1下流部
θ1b・・・接触角
2・・・第2カバー部材
2a・・・第3基板
2b・・・第4基板
2ba・・・第2上流部
θ2a・・・接触角
2bb・・・第2下流部
θ2b・・・接触角
3・・・検出素子
3a・・・上流領域
θ3a・・・接触角
3b・・・検出領域(検出部)
θ3b・・・接触角
3c・・・下流領域
θ3c・・・接触角
4・・・凹部形成部位
5・・・素子収容凹部
6・・・端子
7・・・配線
9・・・充填部材
10・・・素子基板
11・・・第1IDT電極
12・・・第2IDT電極
13(3b)・・・検出部
13a・・・固定化膜
13b・・・反応部
13b1・・・官能基
13b2・・・有機部材
13b3・・・生体材料
14・・・流入部
15・・・流路
15a・・・上流部
15b・・・下流部(延長部)
18・・・排気孔
19・・・第1引出し電極
19e・・・端部(パッド部)
20・・・第2引出し電極
20e・・・端部(パッド部)
27・・・導線(金属細線)
28・・・絶縁性部材
28a・・・被覆部位
28b・・・外周部位
29・・・素子電極
30・・・吸液材
100・・・センサ装置

Claims (19)

  1. 素子基板と、
    前記素子基板の上面に位置している素子電極と、
    前記素子電極の少なくとも一部を覆っている絶縁性部材と、
    前記素子基板の上面または前記絶縁性部材の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、
    前記固定化膜の表面粗さは、前記素子電極の表面粗さよりも小さい、センサ装置。
  2. 前記素子電極は、
    弾性波を発生させる第1IDT(Interdigital Transducer)電極と、
    前記第1IDT電極から伝搬する前記弾性波を受信する第2IDT電極と、を有し、
    前記固定化膜の表面粗さは、前記第1IDT電極および前記第2IDT電極のいずれの表面粗さよりも小さい、請求項1に記載のセンサ装置。
  3. 上面透視において、前記固定化膜は、前記第1IDT電極と前記第2IDT電極との間に位置している、請求項2に記載のセンサ装置。
  4. 前記固定化膜の表層部の酸素量は、前記素子電極の表層部の酸素量よりも小さい、請求項1〜3のいずれかに記載のセンサ装置。
  5. 素子基板と、
    前記素子基板の上面に位置している素子電極と、
    前記素子電極の少なくとも一部を覆っている絶縁性部材と、
    前記素子基板の上面または前記絶縁性部材の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、
    前記固定化膜の表層部の酸素量は、前記素子電極の表層部の酸素量よりも小さい、センサ装置。
  6. 前記素子電極は、
    弾性波を発生させる第1IDT(Interdigital Transducer)電極と、
    前記第1IDT電極から伝搬する前記弾性波を受信する第2IDT電極と、を有し、
    前記固定化膜の表層部の酸素量は、前記第1IDT電極および前記第2IDT電極のいずれの表層部の酸素量よりも小さい、請求項5に記載のセンサ装置。
  7. 上面透視において、前記固定化膜は、前記第1IDT電極と前記第2IDT電極との間に位置している、請求項6に記載のセンサ装置。
  8. 前記固定化膜の表面粗さは、前記素子電極の表面粗さよりも小さい、請求項5〜7のいずれかに記載のセンサ装置。
  9. 素子基板と、
    前記素子基板の上面に位置している素子電極と、
    前記素子基板の上面に位置している固定化膜を有しており且つ検体に含まれる検出対象の検出を行なう検出部と、を備え、
    前記固定化膜の表面粗さは、前記素子電極の表面粗さよりも小さく、
    前記固定化膜の表層部の酸素量は、前記素子電極の表層部の酸素量よりも小さい、センサ装置。
  10. 前記検出部は、前記固定化膜の上面に位置しており、前記検体に含まれる検出対象と化学反応を生じる反応部、をさらに有する、請求項1〜9のいずれかに記載のセンサ装置。
  11. 前記反応部は、前記固定化膜の前記上面と結合しているチオール基を有する、請求項10に記載のセンサ装置。
  12. 前記反応部は、前記チオール基と結合している有機部材をさらに有する、請求項11に記載のセンサ装置。
  13. 前記反応部は、前記固定化膜の上方に固定化されている、ペプチド、タンパク質および核酸から選ばれる少なくとも1種を含む生体材料をさらに有する、請求項10〜12のいずれかに記載のセンサ装置。
  14. 前記固定化膜は、前記素子電極と同一の材料を有する、請求項1〜13のいずれかに記載のセンサ装置。
  15. 前記素子電極は複数の層からなり、前記複数の層のうち最上層は前記固定化膜と異なる材料で構成されている、請求項1〜14のいずれかに記載のセンサ装置。
  16. 前記素子電極および前記固定化膜は、Auを有する、請求項1〜15のいずれかに記載のセンサ装置。
  17. 前記固定化膜の厚さは、前記素子電極の厚さよりも小さい、請求項1〜16のいずれかに記載のセンサ装置。
  18. 断面視において、前記絶縁性部材の前記上面は、前記固定化膜に覆われている被覆部位よりも前記被覆部位に連続する外周部位の方が低い、請求項1〜17のいずれかに記載のセンサ装置。
  19. 前記絶縁性部材は、SiO2を有する、請求項1〜18のいずれかに記載のセンサ装置。
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