JPWO2015079966A1 - 接着用基板、インクジェットヘッド及び基板支持方法 - Google Patents
接着用基板、インクジェットヘッド及び基板支持方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015079966A1 JPWO2015079966A1 JP2015550659A JP2015550659A JPWO2015079966A1 JP WO2015079966 A1 JPWO2015079966 A1 JP WO2015079966A1 JP 2015550659 A JP2015550659 A JP 2015550659A JP 2015550659 A JP2015550659 A JP 2015550659A JP WO2015079966 A1 JPWO2015079966 A1 JP WO2015079966A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- recesses
- bonding
- adhesive
- bonding substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 288
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- -1 inkjet head Substances 0.000 title 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims description 9
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 9
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
- B41J2002/14241—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm having a cover around the piezoelectric thin film element
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14491—Electrical connection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/18—Electrical connection established using vias
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
Description
なお、接着用基板の表裏両面に対して部分的に接着剤を塗布する手法も考えられるが、接着剤の塗布量が厚くなったり、低コストで高い精度を確保することが困難となってしまう。
表裏両面のうち、少なくとも一の面の略全域に接着剤が塗布されて他の基板と接着される接着用基板であって、
当該基板本体の表裏の各面には複数の凹部が設けられ、
前記基板本体の表裏の各面の凹部は、前記基板本体の表裏両面のうち、何れか一方の面側から視て、前記一方の面と反対側の他方の面の凹部と重ならず、且つ、前記基板本体の所定位置を通る基準線を軸として仮想的に当該基板本体の表裏を反転させた場合に前記他方の面の凹部と重なるように配置されてなることを特徴としている。
前記基板本体は、ノズルを有するノズル基板と、圧力室を有する圧力室基板とに接着剤を介して接着されることを特徴としている。
前記基板本体は、圧力室を有する圧力室基板と、液滴をノズルから吐出させるアクチュエータと電気的に接続される配線を有する配線基板とに接着剤を介して接着されることを特徴としている。
前記基板本体は、液滴をノズルから吐出させるアクチュエータの収容部を有することを特徴としている。
前記基板本体は、液体流路を有することを特徴としている。
前記複数の凹部及び前記収容部は、サンドブラスト加工及びウェットエッチング加工のうちの何れか一方を用いて形成されてなることを特徴としている。
前記複数の凹部及び前記液体流路は、サンドブラスト加工及びウェットエッチング加工のうちの何れか一方を用いて形成されてなることを特徴としている。
請求項1〜7の何れか一項に記載の接着用基板を備えることを特徴としている。
請求項1〜7の何れか一項に記載の接着用基板の基板支持方法であって、
前記接着用基板の基板本体の接着剤の塗布面である一面と反対側の他面の複数の凹部に複数の支持部材を係合させて当該接着用基板を支持する第一支持工程と、
前記一面の略全域に接着剤が塗布された前記接着用基板の表裏を反転させた後、前記一面の複数の凹部に複数の支持部材を係合させて当該接着用基板を支持する第二支持工程と、
を含むことを特徴としている。
図1は、本発明を適用した一実施形態のインクジェットヘッド100の概略構成を示す部分断面図である。
なお、インクジェットヘッド100は、複数のノズル1aを備えるものが一般的であるが、図1には、一つのノズル1aに係る構成要素のみを模式的に表している。
ノズル1aは、例えば、略マトリクス状となるようにノズル面に配列されている。
すなわち、第一接着用基板2は、ノズル基板1の上面に積層され、接合されている。また、第一接着用基板2は、例えば、ガラス製の基板である。この第一接着用基板2には、ノズル基板1のノズル1aと連通し、インク流路を構成する貫通孔2aが形成されている。
また、第一接着用基板2の上面には、圧力室基板3が積層され、接合されている。
なお、第一接着用基板2の具体的な構成については、後述する。
圧力室層3aは、第一接着用基板2の上面に積層され、接合されている。また、圧力室層3aは、シリコン製の基板から構成されている。この圧力室層3aには、ノズル1aから吐出されるインクに吐出圧力を付与する圧力室3cが、当該圧力室層3aを貫通するように形成されている。
圧力室3cは、貫通孔2a及びノズル1aの上方に設けられ、これら貫通孔2a及びノズル1aと連通している。
振動板3bは、圧力室3cの開口を覆うように圧力室層3aの上面に積層され、接合されている。すなわち、振動板3bは、圧力室3cの上壁部を構成している。また、振動板3bの表面には、例えば、酸化膜が形成されている。
また、振動板3bの上面には、第二接着用基板4が積層され、接合されている。
すなわち、第二接着用基板4は、振動板3bの上面に積層されている。また、第二接着用基板4は、例えば、金属板から構成されている。この第二接着用基板4の内部には、圧電素子5を収容する空間部4aが形成されている。この空間部4aは、第二接着用基板4を貫通するように圧力室3cの上方に形成されている。
また、第二接着用基板4の上面には、配線基板6が積層され、接合されている。
なお、第二接着用基板4の具体的な構成については、後述する。
また、インターポーザ6aには、スルーホール6eが積層方向に形成されており、このスルーホール6eには、貫通電極6fが挿通されている。貫通電極6fの下端には、水平方向に延在する下側配線6gの一端が接続されている。この下側配線6gの他端には、空間部4a内に露出したスタッドバンプ6hが設けられ、圧電素子5の上面の電極(図示略)に設けられた半田5aと接続されている。また、下側配線6gは、インターポーザ6aの下方の2つの絶縁層6b、6cによって挟まれて保護されている。
また、インターポーザ6aには、第二接着用基板4の貫通孔4bと連通するインレット6iが、当該インターポーザ6aを上下方向に貫通するように形成されている。
また、配線基板6の上面の上側配線6j及びインターポーザ6aの絶縁層6dの上面を覆うように接着層6kが形成されている。接着層6kは、例えば、当該インクジェットヘッド100を保持板(図示略)と接着するための感光性樹脂等から構成されている。また、接着層6kは、上側配線6jを保護する保護層を構成している。また、接着層6kには、インレット6iと連通する貫通孔6lが形成されている。
図2Aは、第一接着用基板2を示す平面図であり、図2Bは、第一接着用基板2を基準線Lを軸として180度回転させた状態を示す底面図である。なお、第一接着用基板2における、図2Aに表されている一面を表面201とし、図2Bに表されている他面を裏面202とする。
具体的には、例えば、基板本体200は、略矩形状に形成されてなり、表裏の各面の四隅近傍に所定の深さ座刳られた凹部201a、202aがそれぞれ形成されている。
具体的には、基板本体200の表面201には、当該基板本体200の中心Cを通り、対向する2辺(図2Aにおける左右両側の辺)と略平行な基準線Lを挟むように両側に2つずつ凹部201aが形成されている。図2Aにおける左側の二つの凹部201a、201aは基準線Lからの距離D1が略等しく、同様に、右側の二つの凹部201a、201aは基準線Lからの距離D2が略等しくなっている。また、基準線Lから左側の各凹部201aまでの距離D1と基準線Lから右側の各凹部201aまでの距離D2は異なっている。すなわち、基板本体200の表面201の4つの凹部201a、…は、基準線Lに対して線対称となるように配置されていない。
また、基板本体200の裏面202には、当該基板本体200の中心Cを通り、対向する2辺(図2Bにおける左右両側の辺)と略平行な基準線Lを挟むように両側に2つずつ凹部202aが形成されている。図2Bにおける左側の二つの凹部202a、202aは基準線Lからの距離D1が略等しく、同様に、右側の二つの凹部202a、202aは基準線Lからの距離D2が略等しくなっている。また、基準線Lから左側の各凹部202aまでの距離D1と基準線Lから右側の各凹部202aまでの距離D2は異なっている。すなわち、基板本体200の裏面202の4つの凹部202a、…は、基準線Lに対して線対称となるように配置されていない。
具体的には、基板本体200の表面201における基準線Lから左側の各凹部201aまでの距離D1と、基板本体200の裏面202における基準線Lから左側の各凹部202aまでの距離D1は、略等しくなっているとともに、基板本体200の表面201における基準線Lから右側の各凹部201aまでの距離D2と、基板本体200の裏面202における基準線Lから右側の各凹部202aまでの距離D2は、略等しくなっている。
また、図2Aにおける基板本体200の表面201の上側の辺から上側の2つの凹部201aまでの距離と、図2Bにおける基板本体200の裏面202の上側の辺から上側の2つの凹部202aまでの距離は、略等しくなっているとともに、図2Aにおける基板本体200の表面201の下側の辺から下側の2つの凹部201aまでの距離と、図2Bにおける基板本体200の裏面202の下側の辺から下側の2つの凹部202aまでの距離は、略等しくなっている。
具体的には、第一接着用基板2には、インク流路を構成する貫通孔2aが設けられているが(図2A参照)、当該貫通孔2aをサンドブラスト加工やウェットエッチング加工を用いて形成する際に、凹部201a、202aも形成されるようになっている。すなわち、貫通孔2aを形成する場合、先ず、基板本体200の表裏の何れかの一面(例えば、表面201)に当該基板本体200の厚さの半分以上の深さの窪みを形成する。このとき、基板本体200の表面201から所定の深さ座刳られた4つの凹部201a、…も併せて形成する。その後、基板本体200の一面と異なる他面(例えば、裏面)における窪みに対応する位置に当該基板本体200の厚さの半分以上の深さの窪みを形成することで表裏を貫通させて、貫通孔2aを形成する。また、基板本体200の裏面202から所定の深さ座刳られた4つの凹部202a、…も併せて形成する。
なお、サンドブラスト加工及びウェットエッチング加工は、公知の技術であるので、詳細な説明は省略するが、例えば、コストや精度等を考慮して適宜任意に変更することができる。
また、第一接着用基板2の表裏両面の凹部201a、202aの配置は、インクジェットヘッド100の製造に用いられる支持装置300(図3参照)の4つの支持部材301、…の配置と略等しくなっている。すなわち、第一接着用基板2の何れかの一面の複数の凹部201a、…(或いは、凹部202a、…)に支持部材301を係合させて当該第一接着用基板2を支持する場合に、第一接着用基板2の表裏両面で支持部材301に対する凹部201a、202aの相対的な配置が略等しくなっている。
また、第二接着用基板4に凹部を形成する手法は、上記した第一接着用基板2のものと略同様であり、その詳細な説明は省略するが、当該第二接着用基板4の圧電素子5を収容する空間部4aや貫通孔4bを形成する際に、併せて凹部も形成するようになっている。
図3は、第一接着用基板2を支持する支持装置300を模式的に示す図である。図4A〜図4D並びに図5A〜図5Dは、インクジェットヘッド100の製造方法を説明するための図である。
ここで、第一接着用基板2の基板本体200の一面の4つの凹部201a、…及び貫通孔2a以外の略全域に接着剤Gを塗布した後、他面の4つの凹部202a、…に支持装置300の4つの支持部材301、…をそれぞれ係合させて当該第一接着用基板2を支持しても良い。
その後、第一接着用基板2の一面(図4Cにおける下面)の4つの凹部201a、…に支持装置300の4つの支持部材301、…をそれぞれ係合させて当該第一接着用基板2を支持する(第二支持工程)。
なお、支持装置300は、4つの支持部材301、…の配置が第一接着用基板2の各面の凹部201a、202aの配置と略等しくなっていれば、第一接着用基板2の一面側から支持するものと他面側から支持するものとで、別のものであっても良いし、同一のものであっても良い。
その後、図5Aに示すように、例えば、転写ローラを用いて、第一接着用基板2の他面の4つの凹部202a、…及び貫通孔2a以外の略全域に接着剤Gを塗布した後、180度回転させる。そして、第一接着用基板2の接着剤Gが塗布されている他面とノズル基板1の一面(図5Aにおける上面)とを接着剤Gを介して接合させる。続けて、図5Bに示すように、圧力室基板3の振動板3bの上面に圧電素子5を接合する。
その後、図5Dに示すように、第二接着用基板4の他面の4つの凹部並びに空間部4a及び貫通孔4b以外の略全域に接着剤Gを塗布した後、180度回転させる。そして、第二接着用基板4の接着剤Gが塗布されている他面と配線基板6の一面(図5Dにおける上面)とを接着剤Gを介して接合させる。
なお、第二接着用基板4の取り扱い手法は、上記した第一接着用基板2と略同様であり、その詳細な説明は省略する。また、図5A〜図5Dにあっては、接合された基板どうしの間の接着剤の図示は省略している。
さらに、凹部201a、202aは、基準線Lを軸として仮想的に当該基板本体200の表裏を反転させた場合に他方の面の凹部と重なることから、当該凹部201a、202aを利用して基板本体200を表裏の各面側から支持する際に、支持手段の構成を共通化することができる。具体的には、第一接着用基板2の基板本体200の接着剤Gの塗布面である一面と反対側の他面の複数の凹部202a、…に複数の支持部材301、…をそれぞれ係合させて当該第一接着用基板2を支持する工程と、一面の略全域に接着剤Gが塗布された第一接着用基板2の表裏を反転させた後、一面の複数の凹部201aに複数の支持部材301、…をそれぞれ係合させて当該第一接着用基板2を支持する工程とにおいて、支持に用いられる複数の支持部材301、…の配置を共通化することができる。
したがって、第一接着用基板2の表裏の各面に接着剤Gを付着させないための凹部201a、202aを形成しても強度低下を抑制することができるとともに、取り扱い易さを向上させることができる。
さらに、第二接着用基板4に圧電素子5を収容する空間部4aや貫通孔4bをサンドブラスト加工やウェットエッチング加工を用いて形成する際に、当該第二接着用基板4の凹部も併せて効率良く形成することができる。
例えば、接着用基板として、第一接着用基板2及び第二接着用基板4を例示したが、一例であってこれに限られるものではなく、少なくとも一の面の略全域に接着剤Gが塗布されて他の基板と接着される構成であれば適宜任意に変更可能である。
すなわち、例えば、図6A及び図6Bに示すように、基板本体200の表面201に、基準線Lの両側に1つずつ凹部201aが形成され、同様に、基板本体200の裏面202に、基準線Lの両側に1つずつ凹部202aが形成された構成であっても良い。具体的には、図6A及び図6Bに示す基板本体200の凹部201a、202aの配置は、図2Aに示す基板本体200の表面201の4つの凹部201a、…のうち、右上及び左下の各凹部201aを省き、且つ、図2Bに示す基板本体200の裏面202の4つの凹部202a、…のうち、右上及び左下の各凹部202aを省いたものである。
なお、基板本体200の表裏の各面側からの支持をより容易にするために、各面における凹部201a、202aの数や配置は適宜任意に変更可能である。
1 ノズル基板
1a ノズル
2 第一接着用基板
200 基板本体
201a、202a 凹部
3 圧力室基板
3c 圧力室
4 第二接着用基板
5 圧電素子
6 配線基板
6g 下側配線
L 基準線
Claims (9)
- 表裏両面のうち、少なくとも一の面の略全域に接着剤が塗布されて他の基板と接着される接着用基板であって、
当該基板本体の表裏の各面には複数の凹部が設けられ、
前記基板本体の表裏の各面の凹部は、前記基板本体の表裏両面のうち、何れか一方の面側から視て、前記一方の面と反対側の他方の面の凹部と重ならず、且つ、前記基板本体の所定位置を通る基準線を軸として仮想的に当該基板本体の表裏を反転させた場合に前記他方の面の凹部と重なるように配置されてなることを特徴とする接着用基板。 - 前記基板本体は、ノズルを有するノズル基板と、圧力室を有する圧力室基板とに接着剤を介して接着されることを特徴とする請求項1に記載の接着用基板。
- 前記基板本体は、圧力室を有する圧力室基板と、液滴をノズルから吐出させるアクチュエータと電気的に接続される配線を有する配線基板とに接着剤を介して接着されることを特徴とする請求項1に記載の接着用基板。
- 前記基板本体は、液滴をノズルから吐出させるアクチュエータの収容部を有することを特徴とする請求項3に記載の接着用基板。
- 前記基板本体は、液体流路を有することを特徴とする請求項2〜4の何れか一項に記載の接着用基板。
- 前記複数の凹部及び前記収容部は、サンドブラスト加工及びウェットエッチング加工のうちの何れか一方を用いて形成されてなることを特徴とする請求項4に記載の接着用基板。
- 前記複数の凹部及び前記液体流路は、サンドブラスト加工及びウェットエッチング加工のうちの何れか一方を用いて形成されてなることを特徴とする請求項5に記載の接着用基板。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載の接着用基板を備えることを特徴とするインクジェットヘッド。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載の接着用基板の基板支持方法であって、
前記接着用基板の前記基板本体の接着剤の塗布面である一面と反対側の他面の複数の凹部に複数の支持部材を係合させて当該接着用基板を支持する第一支持工程と、
前記一面の略全域に接着剤が塗布された前記接着用基板の表裏を反転させた後、前記一面の複数の凹部に複数の支持部材を係合させて当該接着用基板を支持する第二支持工程と、
を含むことを特徴とする基板支持方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013245656 | 2013-11-28 | ||
JP2013245656 | 2013-11-28 | ||
PCT/JP2014/080435 WO2015079966A1 (ja) | 2013-11-28 | 2014-11-18 | 接着用基板、インクジェットヘッド及び基板支持方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015079966A1 true JPWO2015079966A1 (ja) | 2017-03-16 |
JP6418165B2 JP6418165B2 (ja) | 2018-11-07 |
Family
ID=53198911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015550659A Expired - Fee Related JP6418165B2 (ja) | 2013-11-28 | 2014-11-18 | 接着用基板、インクジェットヘッド及び基板支持方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6418165B2 (ja) |
WO (1) | WO2015079966A1 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006192584A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Kyocera Corp | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2009148921A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2010064316A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Ricoh Co Ltd | 流路プレート、液滴吐出ヘッド、液体カートリッジ、画像記録装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
-
2014
- 2014-11-18 JP JP2015550659A patent/JP6418165B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-11-18 WO PCT/JP2014/080435 patent/WO2015079966A1/ja active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006192584A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Kyocera Corp | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2009148921A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2010064316A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Ricoh Co Ltd | 流路プレート、液滴吐出ヘッド、液体カートリッジ、画像記録装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6418165B2 (ja) | 2018-11-07 |
WO2015079966A1 (ja) | 2015-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5262237B2 (ja) | 圧電アクチュエータの製造方法、液体移送装置の製造方法、圧電アクチュエータ、及び、液体移送装置 | |
JP2006347122A (ja) | インクジェットヘッド | |
JP6372618B2 (ja) | 圧電デバイス、液体噴射ヘッド、圧電デバイスの製造方法、及び、液体噴射ヘッドの製造方法 | |
US9457573B2 (en) | Method for manufacturing liquid ejection head | |
JP5440411B2 (ja) | ラインヘッドモジュールおよびインクジェット記録装置 | |
JP6879306B2 (ja) | インクジェットヘッド | |
JP6418165B2 (ja) | 接着用基板、インクジェットヘッド及び基板支持方法 | |
JP5584165B2 (ja) | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 | |
JP6330819B2 (ja) | 配線基板及びインクジェットヘッド | |
JP2016043616A (ja) | 圧電アクチュエータ基板、それを用いた液体吐出ヘッドおよび記録装置 | |
JP6950709B2 (ja) | インクジェットヘッド及び画像形成装置 | |
KR20120012160A (ko) | 잉크젯 헤드 어셈블리 및 그 제조방법 | |
JP4627655B2 (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
JP2011240549A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2017033973A (ja) | 電子デバイス、液体噴射ヘッド、および、電子デバイスの製造方法 | |
JP2017030184A (ja) | 電子デバイス、液体噴射ヘッド、および、電子デバイスの製造方法 | |
JPWO2014083971A1 (ja) | インクジェットヘッド | |
JP6201655B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP6123073B2 (ja) | 圧電素子及びそれを用いたインクジェット装置とその方法 | |
JP2012051110A (ja) | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置およびインクジェットヘッドの製造方法 | |
JP2016060177A (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP2016107551A (ja) | 圧電デバイス、液体噴射ヘッド、圧電デバイスの製造方法、及び、液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP6421820B2 (ja) | インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法 | |
JP2020179563A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、及び液体吐出ヘッド | |
JP5900516B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170620 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180402 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180911 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6418165 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |