JPWO2015064749A1 - 光検出装置 - Google Patents

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Abstract

分光センサ1Aは、光透過領域11を有するファブリペロー干渉フィルタ10と、光透過領域11を透過した光を検出する光検出器3と、光透過領域11の周囲領域においてファブリペロー干渉フィルタ10を支持するスペーサ4A,4Bと、ファブリペロー干渉フィルタ10とスペーサ4A,4Bとを接着するダイボンド樹脂5と、を備えている。ダイボンド樹脂5は、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、周囲領域の内側と周囲領域の外側とを連通する一つの開口部A2を有する。

Description

本発明は、ファブリペロー干渉フィルタを備える光検出装置に関する。
例えば特許文献1には、従来の光検出装置が記載されている。この光検出装置では、貫通孔を有する支持基板の一方の面上に接着部を介してファブリペロー干渉フィルタが固定されている。また光検出装置では、支持基板の他方の面上において貫通孔に対応する位置に受光素子が配置されている。このような光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタは特定の波長の光のみを透過させる。干渉フィルタを透過した光は、支持基板の貫通孔を通過して受光素子に入射する。ファブリペロー干渉フィルタは、空隙を挟んで対向する一対のミラーを有している。ファブリペロー干渉フィルタが透過させる光の波長は、この一対のミラーの間の距離に応じて変化する。
特開2012−173347号公報
上述したような光検出装置において、接着部がファブリペロー干渉フィルタの光透過領域を囲むように設けられているとする。この構成において、光検出装置の周囲の温度が変化した場合には、例えば支持基板等で熱歪みが発生し、その熱歪みがファブリペロー干渉フィルタに伝わる。したがって、ファブリペロー干渉フィルタの一対のミラーの間の距離が変化するおそれがある。この場合、ファブリペロー干渉フィルタの透過波長に変化が生じる。したがって、ファブリペロー干渉フィルタの透過波長の温度特性が劣化してしまう。
そこで、本発明は、ファブリペロー干渉フィルタの透過波長の温度特性の劣化を抑制することができる光検出装置を提供することを目的とする。
本発明の一形態に係る光検出装置は、光透過領域を有するファブリペロー干渉フィルタと、光透過領域を透過した光を検出する光検出器と、光透過領域の周囲領域においてファブリペロー干渉フィルタを支持する支持部材と、ファブリペロー干渉フィルタと支持部材とを接着する接着部と、を備え、接着部は、光透過領域における光の透過方向から見た場合に、周囲領域の内側と周囲領域の外側とを連通する開口部を有する。
この光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタと支持部材とを接着する接着部が、光透過領域における光の透過方向から見た場合に、光透過領域の周囲領域の内側と、この周囲領域の外側と、を連通する開口部を有する。このため、開口部においては、ファブリペロー干渉フィルタの周辺の部材からの熱歪みが接着部を介してファブリペロー干渉フィルタに伝わることを抑制することができる。したがって、ファブリペロー干渉フィルタの透過波長の温度特性の劣化を抑制することができる。
ここで、本発明の一形態に係る光検出装置は、光検出器又はファブリペロー干渉フィルタに対して電気的に接続されるワイヤの一端が接続され、光検出器又はファブリペロー干渉フィルタに対して電気信号を入力又は出力させるワイヤ接続部を更に備え、ワイヤ接続部の上面は、ファブリペロー干渉フィルタの上面よりも低い位置に配置されていてもよい。この構成によれば、ファブリペロー干渉フィルタ、あるいは光検出器からリードピンへのワイヤの接続が行いやすくなる。
また、ワイヤ接続部の上面は、支持部材の上面よりも低い位置に配置されていてもよい。この構成によれば、ファブリペロー干渉フィルタ、あるいは光検出器からリードピンへのワイヤの接続が行いやすくなる。
また、ワイヤ接続部は、光検出器に電気的に接続される第1のワイヤ接続部と、ファブリペロー干渉フィルタに電気的に接続される第2のワイヤ接続部と、を含み、第1のワイヤ接続部とファブリペロー干渉フィルタとの距離が最短となる第1の方向は、第2のワイヤ接続部とファブリペロー干渉フィルタとの距離が最短となる第2の方向に対して交差していてもよい。この構成によれば、ワイヤの配置が複雑化することを防ぎ、ワイヤボンディングの作業性が向上する。
また、接着部は、透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタの一方側と、それに隣接する一方側に設けられていてもよい。この構成によれば、ファブリペロー干渉フィルタを安定して設置できる。
ここで、本発明の一形態に係る光検出装置は、配線基板をさらに備え、光検出器及び支持部材は、配線基板上に固定されていてもよい。この構成によれば、ファブリペロー干渉フィルタの周辺の部材からの熱歪みが配線基板から支持部材及び接着部を介してファブリペロー干渉フィルタに伝わることを抑制することができる。
また、本発明の一形態に係る光検出装置では、支持部材は、光検出器上に固定されていてもよい。この構成によれば、ファブリペロー干渉フィルタの周辺の部材からの熱歪みが配線基板から光検出器及び接着部を介してファブリペロー干渉フィルタに伝わることを抑制することができる。
また、本発明の一形態に係る光検出装置では、接着部は、透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタの一方側にのみ設けられていてもよい。この構成によれば、ファブリペロー干渉フィルタの周辺に配置された部材からの熱歪みが接着部を介してファブリペロー干渉フィルタに伝わることをファブリペロー干渉フィルタの一方側以外においては抑制することができる。
また、本発明の一形態に係る光検出装置では、支持部材は、透過方向から見た場合に、周囲領域の内側と周囲領域の外側とを連通する開口部を有していてもよい。この構成によれば、支持部材が有する開口部を、光検出器等の素子の電気的接続のためのボンディングワイヤを通すために利用できる。このため、光透過領域における光の透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタと重なる位置に光検出器等の素子の電気的接続のためのボンディングパッドを配置することができる。したがって、光検出装置全体を小型化することができる。
また、本発明の一形態に係る光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタは、ボンディングパッドを有し、支持部材は、透過方向から見た場合に、ボンディングパッドに対応する位置に配置されていてもよい。この構成によれば、光検出装置の製造時におけるワイヤボンディング工程において、ファブリペロー干渉フィルタのボンディングパッドが、当該ボンディングパッドに対応する位置に設けられた支持部材により支持される。したがって、ワイヤボンディング性を向上させることができる。
また、本発明の一形態に係る光検出装置では、支持部材は、透過方向から見た場合に、光透過領域から離間していてもよい。この構成によれば、支持部材と光透過領域とが離間している。したがって、光検出装置の製造時において、接着部に用いられる樹脂等の材料が接着部からはみ出した場合でも、この樹脂等の材料が光透過領域に浸入することを抑制することができる。
本発明によれば、ファブリペロー干渉フィルタの透過波長の温度特性の劣化を抑制することができる光検出装置を提供することが可能となる。
第1実施形態に係る光検出装置の分解斜視図である。 ファブリペロー干渉フィルタの断面図である。 第1実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 図3に続く第1実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 図4に続く第1実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 図5(B)に対応する側面図である。 図5(B)におけるVII−VII線断面図及びその一部を拡大して示す図である。 図5に続く第1実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 第1実施形態に係る光検出装置の変形例を示す平面図である。 第1実施形態に係る光検出装置の変形例を示す平面図である。 第1実施形態に係る光検出装置の変形例を示す平面図である。 第1実施形態に係る光検出装置の変形例を示す平面図である。 第2実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 図13に続く第2実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 図13に続く第2実施形態に係る光検出装置の製造工程を示す平面図である。 図13に続く第2実施形態に係る光検出装置の製造工程及び第2実施形態に係る光検出装置の変形例を示す図である。 第1実施形態に係る光検出装置の変形例を示す平面図である。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する部分を省略する。
[第1実施形態]
[分光センサ]
図1に示されるように、分光センサ(光検出装置)1Aは、配線基板2と、光検出器3と、複数のスペーサ(支持部材)4と、ダイボンド樹脂5と、ファブリペロー干渉フィルタ10と、を備えている。配線基板2には、実装部2a、複数の電極パッド2b、及び実装部2cが設けられている。実装部2aには、光検出器3が実装されている。実装部2cには、例えばサーミスタ等の温度補償用素子が実装されている。電極パッド2b_1は、配線2dにより実装部2aと電気的に接続されている。電極パッド2b_2(実装部2aと電気的に接続されていない電極パッド2b_2)は、配線2dにより配線基板2上に配置されるサーミスタ等と電気的に接続されている。また、電極パッド2b_2(実装部2aと電気的に接続されていない電極パッド2b_2)は、これらのサーミスタ等を、分光センサ1Aの外部と電気的に接続している。光検出器3は、例えば、赤外線検出器である。この赤外線検出器には、InGaAs等が用いられた量子型センサ、又は、サーモパイル若しくはボロメータ等が用いられた熱型センサが挙げられる。なお、紫外(UV)、可視、近赤外の各領域を検出する場合には、光検出器3としてシリコンフォトダイオード等を用いることができる。スペーサ4及びファブリペロー干渉フィルタ10は、ダイボンド樹脂5を介して互いに接着されている。また、スペーサ4及びファブリペロー干渉フィルタ10が接着剤として働くダイボンド樹脂5を介して互いに接着された部分は、接着部を形成している。
複数のスペーサ4は、配線基板2上に固定されている。ファブリペロー干渉フィルタ10は、複数のスペーサ4上に固定されている。このようにして、複数のスペーサ4は、ファブリペロー干渉フィルタ10を支持する。このとき、ファブリペロー干渉フィルタ10への熱歪みの影響を抑制するために、複数のスペーサ4及びファブリペロー干渉フィルタ10は、ダイボンド樹脂5によって固定されることが好ましい。ダイボンド樹脂5は、可撓性を有する樹脂材料からなる。ダイボンド樹脂5を構成する樹脂材料としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、エポキシ系、アクリル系、ハイブリッド等の各種の樹脂材料が用いられ得る。ダイボンド樹脂5には、好ましくは、樹脂材料としては、弾性率(又はヤング率)が0.1GPa以下の材料が用いられる。さらに、当該樹脂材料は、室温硬化又は低温硬化のものから選択されることが望ましい。
ここで、スペーサ4とファブリペロー干渉フィルタ10とを接着する接着剤としてのダイボンド樹脂5は、硬化後の硬さが、スペーサ4と配線基板2とを接着する接着剤よりも柔らかい。例えば、スペーサ4とファブリペロー干渉フィルタ10との固定は、硬化後の弾性率が10MPa未満であるシリコーン系の樹脂材料から成る接着剤で行うことが好適である。また、スペーサ4と配線基板2との固定は、硬化後の弾性率が100MPa以上であるエポキシ系の樹脂材料から成る接着剤で行うことが好適である。これにより、スペーサ4と配線基板2との固定が強固に行われる一方で、ファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材からの熱歪みが接着剤を介してファブリペロー干渉フィルタ10に伝わることを抑制することができる。
また、複数のスペーサ4の材料としては、例えばシリコン、セラミック、石英、ガラス、プラスチック等が用いられ得る。特に、ファブリペロー干渉フィルタ10において特に複数のスペーサ4と接する部分との熱膨張係数差を緩和するために、複数のスペーサ4の材料は、ファブリペロー干渉フィルタ10の材料と比較して、その熱膨張係数が同等又は小さい材料であることが好ましい。一例として、ファブリペロー干渉フィルタ10をシリコン基板上に形成する場合には、複数のスペーサ4は、石英又はシリコンといった熱膨張係数の小さい材料で形成されることが望ましい。なお、上述のように配線基板2とスペーサ4とを別体として形成する構成に代えて、配線基板2の表面上にスペーサ4となる部分を一体形成した構成としてもよい。
光検出器3は、配線基板2とファブリペロー干渉フィルタ10との間においてファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11と対向している。また、光検出器3は、ファブリペロー干渉フィルタ10を透過した光を検出する。なお、サーミスタ等の温度センサを配線基板2上に設置してもよい。
後述するように、配線基板2、光検出器3、複数のスペーサ4及びファブリペロー干渉フィルタ10は、CANパッケージ内に収容されている。この収容状態では、配線基板2がステム上に固定され且つファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11がキャップの光透過窓に対向している。配線基板2の電極パッド2bは、ステムを貫通するリードピンのそれぞれとワイヤボンディングによって電気的に接続されている。また、ファブリペロー干渉フィルタ10の端子12,13は、ステムを貫通するリードピンのそれぞれとワイヤボンディングによって電気的に接続されている。光検出器3に対する電気信号の入出力等は、リードピン、電極パッド2b及び実装部2aを介して行われる。ファブリペロー干渉フィルタ10への電圧の印加は、リードピン及び端子12,13を介して行われる。
以下、スペーサ4及びダイボンド樹脂5の配置について説明する。スペーサ4は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、光透過領域11の周囲領域(光透過領域11を含まない領域であって、光透過領域11を囲む領域)の内側と、この周囲領域の外側と、を連通する開口部A1を有するように配置されている。ここで、本明細書において、ある要素(例えばスペーサ4又はダイボンド樹脂5)が開口部を有するとは、当該要素が少なくとも一箇所において切れ目を有していることを意味する。言い換えれば、当該要素は、ある領域(例えば光透過領域11)を隙間なく囲む環状のものではない。当該要素と開口部との長さの関係は、特に限定されるものではない。例えば、光透過領域11を囲む円、多角形等の図形の周上のうち一部にスペーサ4が設けられており、かつ全部にスペーサ4が設けられていなければ、スペーサ4は開口部A1を有しているものとする。なお、ファブリペロー干渉フィルタ10を安定的に設置するために、スペーサ4は、光の透過方向から見た場合に少なくとも光透過領域11の両側に配置されていることが好ましい。開口部を有するスペーサ4の具体例としては、直線状に延びる2本のスペーサ4を互いに平行に配置した場合(図4(A)参照)がある。別の具体例としては、スペーサ4をU字状に配置した場合(図11(B)参照)がある。さらに別の具体例としては、四角形の4つの頂点のそれぞれに柱状のスペーサ4を配置した場合(図12(A)参照)等がある。
本実施形態の分光センサ1Aにおいては、スペーサ4として、互いに平行に配置された2本の直線状のスペーサ4A,4Bが用いられている。これらのスペーサ4A,4Bは、スペーサ4A,4Bのそれぞれにおける同じ側の端部同士の間に、二点鎖線で示される開口部A1を有している。言い換えれば、スペーサ4A,4Bと2つの開口部A1,A1とにより、光透過領域11を囲む四角形が形成されている。この四角形における2辺には、スペーサ4A,4Bが設けられている。また、他の2辺には、スペーサ4A,4Bが設けられていない。他の2辺には、開口部A1,A1が形成されている。
また、ダイボンド樹脂5は、スペーサ4A,4Bのうち、スペーサ4Aの上面にのみ設けられている。言い換えれば、ダイボンド樹脂5は、スペーサ4Bの上面には設けられていない。したがって、ファブリペロー干渉フィルタ10の下面は、スペーサ4Aの上面に対してダイボンド樹脂5により接着されている。しかし、ファブリペロー干渉フィルタ10の下面は、スペーサ4Bの上面に対して接着されていない。
ダイボンド樹脂5は、上述したスペーサ4A,4Bと同様に、周囲領域の内側と周囲領域の外側とを連通する開口部を有している。すなわち、ダイボンド樹脂5は、スペーサ4Aの上面において、スペーサ4Aの略全長にわたって直線状に配置されている。このダイボンド樹脂5と、図1にU字状の二点鎖線で示される開口部A2とにより、光透過領域11を囲む四角形が形成されている。この四角形における1辺には、ダイボンド樹脂5が設けられている。また、他の3辺には、ダイボンド樹脂5が設けられていない。他の3辺には、開口部A2が形成されている。
以上のように構成された分光センサ1Aでは、測定光が入射すると、ファブリペロー干渉フィルタ10に印加している電圧に応じて、所定の波長を有する光がファブリペロー干渉フィルタ10を透過する。そして、ファブリペロー干渉フィルタ10を透過した光は、光検出器3で検出される。分光センサ1Aでは、ファブリペロー干渉フィルタ10に印加する電圧を変化させながら、ファブリペロー干渉フィルタ10を透過した光を光検出器3で検出することで、分光スペクトルを得ることができる。
[ファブリペロー干渉フィルタ]
図2に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ10は、基板14を備えている。基板14の光入射側の表面14aには、反射防止層15、第1積層体30、犠牲層16及び第2積層体40がこの順序で積層されている。第1積層体30と第2積層体40との間には、枠状の犠牲層16によって空隙(エアギャップ)Sが形成されている。ファブリペロー干渉フィルタ10においては、第2積層体40に対して基板14の反対側から測定光が入射する。そして、所定の波長を有する光は、ファブリペロー干渉フィルタ10の中央部に画定された光透過領域11を透過する。なお、基板14は、例えばシリコン、石英、ガラス等からなる。基板14がシリコンからなる場合には、反射防止層15及び犠牲層16は、例えば、酸化シリコンからなる。犠牲層16の厚みは、200nm〜10μmである。犠牲層16の厚みは、中心透過波長(すなわち、ファブリペロー干渉フィルタ10が透過させる波長の可変範囲の中央である波長)の1/2の整数倍であることが好ましい。
第1積層体30のうち光透過領域11に対応する部分は、第1ミラー31として機能する。第1積層体30は、複数のポリシリコン層と複数の窒化シリコン層とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。第1ミラー31を構成するポリシリコン層及び窒化シリコン層それぞれの光学厚みは、中心透過波長(可変波長範囲の中心波長)の1/4の整数倍であることが好ましい。
第2積層体40のうち光透過領域11に対応する部分は、空隙Sを介して第1ミラー31と対向する第2ミラー41として機能する。第2積層体40は、第1積層体30と同様に、複数のポリシリコン層と複数の窒化シリコン層とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。第2ミラー41を構成するポリシリコン層及び窒化シリコン層それぞれの光学厚みは、中心透過波長(可変波長範囲の中心波長)の1/4の整数倍であることが好ましい。
なお、第2積層体40において空隙Sに対応する部分には、複数の貫通孔40bが均一に分布されている。当該貫通孔40bは、第2積層体40の表面40aから空隙Sに至る。貫通孔40bは、第2ミラー41の機能に実質的に影響を与えない程度に形成されている。貫通孔40bの直径は、100nm〜5μmである。また、貫通孔40bの開口面積は、第2ミラー41の面積の0.01%〜10%を占める。
ファブリペロー干渉フィルタ10においては、第1ミラー31及び第2ミラー41は、基板14に支持されている。そして、第1ミラー31は、基板14の光入射側に配置されている。第2ミラー41は、空隙Sを介して第1ミラー31の光入射側に配置されている。
第1ミラー31には、光透過領域11を囲むように第1電極17が形成されている。第1電極17は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。
第1ミラー31には、光透過領域11を含むように第2電極18が形成されている。第2電極18は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。ポリシリコン層において、第2電極18の大きさは、光透過領域11の全体を含む大きさであることが好ましい。また、第2電極18の大きさは、光透過領域11の大きさと略同一であってもよい。
第2ミラー41には、第3電極19が形成されている。第3電極19は、第1電極17及び第2電極18と対向している。第3電極19は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。
ファブリペロー干渉フィルタ10においては、第2電極18は、第1ミラー31と第2ミラー41とが対向する対向方向Dにおいて、第1電極17に対して第3電極19の反対側に位置している。すなわち、第1電極17と第2電極18とは、第1ミラー31において同一平面上に配置されていない。第2電極18は、第1電極17よりも第3電極19から離れている。
図1及び図2に示されるように、端子12は、ファブリペロー干渉フィルタ10に電圧を印加するためのものである。当該端子12は、光透過領域11を挟んで対向するように一対設けられている。各端子12は、第2積層体40の表面40aから第1積層体30に至る貫通孔内に配置されている。各端子12は、配線21を介して、第1電極17と電気的に接続されている。
図1及び図2に示されるように、端子13は、ファブリペロー干渉フィルタ10に電圧を印加するためのものである。当該端子13は、光透過領域11を挟んで対向するように一対設けられている。なお、一対の端子12が対向する方向と、一対の端子13が対向する方向とは、直交している。各端子13は、配線22を介して、第3電極19と電気的に接続されている。また、第3電極19は、配線23を介して、第2電極18とも電気的に接続されている。
図2に示されるように、第1積層体30の表面30aにはトレンチ26、及びトレンチ27が設けられている。トレンチ26は、端子13から対向方向Dに沿って延びる配線23を囲むように環状に延在している。トレンチ26は、第1電極17と配線23とを電気的に絶縁している。トレンチ27は、第1電極17の内縁に沿って環状に延在している。トレンチ27は、第1電極17と第1電極17の内側の領域とを電気的に絶縁している。各トレンチ26,27内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。
第2積層体40の表面40aには、トレンチ28が設けられている。トレンチ28は、端子12を囲むように環状に延在している。トレンチ28の底面は、犠牲層16に達している。トレンチ28は、端子12と第3電極19とを電気的に絶縁している。トレンチ28内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。
基板14の光出射側の表面14bには、反射防止層51、第3積層体52、中間層53及び第4積層体54がこの順序で積層されている。反射防止層51及び中間層53は、それぞれ、反射防止層15及び犠牲層16と同様の構成を有している。第3積層体52及び第4積層体54は、それぞれ、基板14を基準として第1積層体30及び第2積層体40と対称の積層構造を有している。これらの反射防止層51、第3積層体52、中間層53及び第4積層体54によって、応力調整層50が構成されている。応力調整層50は、基板14の光出射側に配置されており、基板14の反りを抑制する機能を有している。応力調整層50には、光透過領域11を含むように開口50aが設けられている。応力調整層50の光出射側の表面50bには、遮光層29が形成されている。遮光層29は、アルミニウム等からなり、測定光を遮光する機能を有している。
以上のように構成されたファブリペロー干渉フィルタ10においては、端子12,13を介して第1電極17と第3電極19との間に電圧が印加されると、当該電圧に応じた静電気力が第1電極17と第3電極19との間に発生する。当該静電気力によって、第2ミラー41は、基板14に固定された第1ミラー31側に引き付けられるように駆動される。この駆動によって、第1ミラー31と第2ミラー41との距離が調整される。ファブリペロー干渉フィルタ10を透過する光の波長は、光透過領域11における第1ミラー31と第2ミラー41との距離に依存する。したがって、第1電極17と第3電極19との間に印加する電圧を調整することで、透過する光の波長を適宜選択することができる。このとき、第2電極18は、電気的に接続された第3電極19と同電位となる。したがって、第2電極18は、光透過領域11において第1ミラー31及び第2ミラー41を平坦に保つための補償電極として機能する。
[分光センサの製造工程]
次に、図3〜8を参照して、本実施形態に係る分光センサの製造工程について説明する。図3〜5及び図8は、製造工程を示すための平面図である。図6は、図5(B)に対応する側面図である。図7は、図5(B)のVII−VII線断面図及びその一部拡大図である。図3(A)に示されるように、まず、ステム6を用意する。ステム6は、例えばTO−CANステムである。ステム6は、円盤状のベース6aに、導電性を有するリードピン6bが貫通した構成を有する。
次に、図3(B)に示されるように、ステム6のベース6aの上に配線基板2を配置する。そして、ベース6aに配線基板2を樹脂により接着する。配線基板2の上には、実装部2aと、複数の電極パッド2bと、実装部2cと、が配置されている。実装部2aには、光検出器3を固定する。実装部2cには、サーミスタ7を配置する。実装部2a,2cは、それぞれ別個の電極パッド2bと、配線2dにより電気的に接続されている。なお、図3(B)において配線基板2は正方形の平面形状を有するものとして記載されているが、これに限定されず、例えば、図17に示されるように、配線基板2Aは、光検出器3と接続されるリードピン6bとファブリペロー干渉フィルタ10との距離が最短となる方向に長い長方形の平面形状を有していてもよい。この構成によれば、リードピン6bと配線基板2の上面に配置される光検出器3などの素子との電気的接続が容易となる。
次に、図4(A)に示されるように、配線基板2の実装部2a上に、光検出器3を配置する。また、配線基板2の実装部2c上に、サーミスタ7を配置する。また、配線基板2上に2本の棒状部材であるスペーサ4A,4Bを、互いに平行に延びるように配置する。前述したように、スペーサ4は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11における光の透過方向(紙面に垂直な方向)から見た場合に、二つの開口部A1,A1を有するように設けられる。
2本のスペーサ4A,4Bは、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、光透過領域11の周囲領域に配置される。すなわち、スペーサ4A,4Bは、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、光透過領域11から離間して配置される。なお、サーミスタ7については省略してもよい。
次に、図4(B)に示されるように、光検出器3、サーミスタ7、電極パッド2b_1,2b_2と、ステム6のリードピン6b_1(第1のワイヤ接続部)とを、ワイヤ8を用いてワイヤボンディングにより電気的に接続する。ワイヤ8の材質は、例えば金(Au)である。
次に、図5(A)に示されるように、スペーサ4のうち一方にダイボンド樹脂5を塗布する。前述したように、ダイボンド樹脂5は、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、開口部A2を有するように設けられる。ダイボンド樹脂5は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10の一方側のみに配置されるように塗布される。ファブリペロー干渉フィルタ10の一方側とは、光の透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10をその中心部から放射状に区分した場合に、中心部の全周の4分の1程度を占める領域の側である。ファブリペロー干渉フィルタ10の一方側とは、例えばファブリペロー干渉フィルタ10が矩形状である場合には、ファブリペロー干渉フィルタ10の一辺側である。図5(A)に示される例の場合には、ダイボンド樹脂5は、スペーサ4Aの上面の略全長にわたって塗布される。言い換えると、ダイボンド樹脂5は、スペーサ4Bの上面には塗布されない。
次に、図5(B)に示されるように、スペーサ4の上にファブリペロー干渉フィルタ10を配置する。これにより、ファブリペロー干渉フィルタ10は、ダイボンド樹脂5を介してスペーサ4の上に固定される(光検出器3の上に離間してファブリペロー干渉フィルタ10が配置される)。このとき、端子12,13に対応する位置には、スペーサ4が配置されている。当該端子12,13はファブリペロー干渉フィルタ10のボンディングパッドとして機能する。さらに、ファブリペロー干渉フィルタ10の端子12,13を、ステム6のリードピン6b_2(第2のワイヤ接続部)にワイヤ8により電気的に接続する。ワイヤ8の材質は、例えば金(Au)である。
ここで、ファブリペロー干渉フィルタ10とリードピン6b_2との接続方向(ファブリペロー干渉フィルタ10に接続されるリードピン6b_2とファブリペロー干渉フィルタ10との距離が最短となる第2の方向)と、光検出器3とリードピン6b_1との接続方向(光検出器3に接続されるリードピン6b_1とファブリペロー干渉フィルタ10との距離が最短となる第1の方向)とは、交差している。この構成によれば、ワイヤ8の配置が複雑化することを防ぎ、ワイヤボンディングの作業性が向上する。
図5(B)に対応する側面図を図6に示す。ファブリペロー干渉フィルタ10は、一方のスペーサ4Aに対してダイボンド樹脂5により接着されている。一方、他方のスペーサ4Bには、ダイボンド樹脂5が塗布されていない。従って、ファブリペロー干渉フィルタ10は、他方のスペーサ4Bに対して接着されていない。
さらに、図5におけるVII−VII線断面図を図7(A)に示す。図7(A)における楕円EBに囲まれた部分に相当する拡大図を図7(B)に示す。
スペーサ4A及び4Bは、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11から離間している。また、ファブリペロー干渉フィルタ10の端子12,13に対応する位置には、スペーサ4A,4Bが位置している。具体的に、端子12,13の真下には、スペーサ4A,4Bが位置している。スペーサ4A,4Bの上面と、ファブリペロー干渉フィルタ10の遮光層29とが接するように、ファブリペロー干渉フィルタ10は、スペーサ4A,4Bの上面に接着されている。さらに、図7(B)に示されるように、スペーサ4Aの外側面4Aaは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外側面10aと比較して、僅かに外側に位置している。1つの実施形態において、図7(A)に示されるように、光の透過方向に沿う配線基板2の厚みは0.3mmであり、スペーサ4Bの高さは0.4mmであり、ファブリペロー干渉フィルタ10の厚みは0.6mmである。また、リードピン6bがベース6aの上面から突出する部分の高さは0.5mmである。すなわち、リードピン6bの上面6cは、ファブリペロー干渉フィルタ10の上面10bよりも低い位置にある。また、リードピン6bの上面6cは、スペーサ4A,4Bの上面4Ab,4Bbよりも低い位置にある。これにより、ファブリペロー干渉フィルタ10、あるいは光検出器3からリードピン6bへのワイヤの接続が行いやすくなる。
図5(B)に続く工程を図8に示す。図8に示されるように、ステム6のベース6aの上に、金属からなるキャップ9を取り付ける。このキャップ9の取り付けによって、ファブリペロー干渉フィルタ10及び光検出器3等を封止する。キャップ9は、略円柱状であり、その上面に円形の透過窓9aを備えている。透過窓9aは、分光センサ1Aの適用波長範囲に対応した材料を用いた透過窓であってもよい。当該材料として、ガラスやシリコン、ゲルマニウム等が挙げられる。また、透過窓9aは、反射防止膜付き窓、又は適用波長範囲を制限するバンドパスフィルタであってもよい。図3〜8を参照して上述した製造工程により、分光センサ1Aが得られる。
本実施形態の分光センサ1Aによれば、ファブリペロー干渉フィルタ10とスペーサ4Aとを接着するダイボンド樹脂5が、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、光透過領域11の周囲領域の内側と、この周囲領域の外側と、を連通する開口部A2を有する。このため、開口部A2においては、例えば配線基板2等の、ファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材からの熱歪みがダイボンド樹脂5を介してファブリペロー干渉フィルタ10に伝わることを抑制することができる。したがって、ファブリペロー干渉フィルタ10の透過波長の温度特性の劣化を抑制することができる。また、ファブリペロー干渉フィルタ10をスペーサ4Aの上面に接着する際の、ダイボンド樹脂5の硬化時の収縮によるファブリペロー干渉フィルタ10の歪みを低減できる。また、ダイボンド樹脂5が熱硬化性樹脂である場合におけるファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材の熱歪みの影響を低減できる。したがって、ファブリペロー干渉フィルタ10に歪みが生じて透過波長がシフトすることを抑制することができる。
また、分光センサ1Aでは、ダイボンド樹脂5が、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、開口部A2を有する。このため、密閉された空間がファブリペロー干渉フィルタ10、スペーサ4A,4B及びダイボンド樹脂5によって形成されることがない。したがって、分光センサ1Aの製造時におけるダイボンド樹脂5の熱硬化時に、ファブリペロー干渉フィルタ10、スペーサ4A,4B及びダイボンド樹脂5によって囲まれた空気が熱膨張してダイボンド樹脂5を破裂させることがなくなる。これによりファブリペロー干渉フィルタ10のアライメントずれが生じて光学的特性が低下することを抑制することができる。さらに、光検出器3として例えばサーモパイル等のメンブレン構造を有する素子を用いた場合に、空気の熱膨張により光検出器3のメンブレン構造が破損することを防止することができる。
また、分光センサ1Aは、配線基板2をさらに備え、光検出器3及びスペーサ4A,4Bは、配線基板2上に固定されている。このため、ファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材からの熱歪みが配線基板2からスペーサ4A,4B及びダイボンド樹脂5を介してファブリペロー干渉フィルタ10に伝わることを抑制することができる。
また、分光センサ1Aでは、接着部は、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10の一方側にのみ設けられている。このため、ファブリペロー干渉フィルタ10の周辺に配置された部材、例えば配線基板2等から接着部を介してファブリペロー干渉フィルタ10に熱歪みが伝わることをファブリペロー干渉フィルタ10の一方側以外においては抑制することができる。また、接着部がファブリペロー干渉フィルタ10の一方側にのみ設けられている。このため、ダイボンド樹脂5の硬化時の収縮によるファブリペロー干渉フィルタ10の歪みを一層低減できる。また、ダイボンド樹脂5が熱硬化性樹脂である場合におけるファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材の熱歪みの影響を一層低減できる。このため、ファブリペロー干渉フィルタ10に歪みが生じて透過波長がシフトすることを一層抑制することができる。
また、分光センサ1Aでは、スペーサ4A,4Bは、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、光透過領域11の周囲領域の内側と、この周囲領域の外側と、を連通する開口部A1を有している。このため、スペーサ4A,4Bが有する開口部A1を、光検出器3等の素子の電気的接続のためのワイヤ8を通すために利用できる。このため、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10と重なる位置に光検出器3等の素子の電気的接続のための電極パッド2bを配置することができる。したがって、分光センサ1A全体を小型化することができる。
また、ファブリペロー干渉フィルタ10は端子12,13を有している。スペーサ4A,4Bは、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、端子12,13に対応する位置に配置されている。このため、分光センサ1Aの製造時におけるワイヤボンディング工程において、ファブリペロー干渉フィルタ10の端子12,13が、端子12,13に対応する位置に設けられたスペーサ4A,4Bにより支持される。このため、安定したワイヤボンディングが可能となる。したがって、ワイヤボンディング性を向上させることができる。
また、スペーサ4A,4Bは、光透過領域11における光の透過方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域11から離間している。これにより、スペーサ4Aと光透過領域11とは離間している。したがって、分光センサ1Aの製造時において、ダイボンド樹脂5がスペーサ4Aとファブリペロー干渉フィルタ10の間からはみ出した場合でも、ダイボンド樹脂5が光透過領域11に浸入することを抑制することができる。仮にダイボンド樹脂5が余分に塗布された場合であっても、余分なダイボンド樹脂5はスペーサ4Aの下側へ伝う。したがって、これにより光透過領域11にダイボンド樹脂5が伝うことを防止することもできる。
また、図7(B)に示したように、スペーサ4Aの外側面がファブリペロー干渉フィルタ10の外側面と比較して僅かに外側に位置している。これにより、ダイボンド樹脂5の樹脂のフィレットが形成される。したがって、確実に接着がなされる。
[変形例]
なお、図5(A)を参照して説明したスペーサ4及びダイボンド樹脂5の配置については、種々の変形をすることができる。例えば、図9(A)に示されるように、ドット状にダイボンド樹脂5を塗布してもよい。当該ダイボンド樹脂5は、スペーサ4Aの上面のうち、スペーサ4Aの両端に塗布されている。また、図9(B)に示されるように、ダイボンド樹脂5をドット状に塗布してもよい。当該ダイボンド樹脂5は、スペーサ4A,4Bの同じ側に位置する端部に塗布されている。これらの場合、ドット状のダイボンド樹脂5の間の部分が、光透過領域の周囲領域の内側と外側とを連通する開口部として機能する。
また、図10(A)に示されるように、ダイボンド樹脂5を塗布してもよい。当該ダイボンド樹脂5は、スペーサ4A,4Bの両方の上面において、スペーサ4A,4Bの略全長にわたって塗布されている。図10(B)に示されるように、ダイボンド樹脂5を塗布してもよい。当該ダイボンド樹脂5は、スペーサ4A,4Bそれぞれの両端にドット状に塗布されている。また、図11(A)に示されるように、ダイボンド樹脂5を塗布してもよい。当該ダイボンド樹脂5は、スペーサ4A,4Bの端部のうち、異なる側に位置する2個の端部に塗布されている。
さらに、スペーサ4の形状及び配置も変更してもよい。例えば、図11(B)に示されるように、配線基板2上にU字状のスペーサ4Cを固定する。そして、このU字状のスペーサ4Cの上面の略全長にわたってダイボンド樹脂5を塗布してもよい。隣接する2辺(ファブリペロー干渉フィルタ10の一方側と、それに隣接する一方側)において接着部が形成されることで、ファブリペロー干渉フィルタ10の安定した設置が可能となる。また、図12(A)に示されるように、矩形状の配線基板2の4つの頂点それぞれに柱状のスペーサ4Dを固定する。そして、4本のスペーサ4Dそれぞれの上面にダイボンド樹脂5をドット状に塗布してもよい。
また、スペーサ4は開口部A1を有しないものであってもよい。すなわち、スペーサ4は、環状のものであってもよい。例えば図12(B)に示されるように、スペーサ4Eは、配線基板2上に配置してもよい。当該スペーサ4Eは、矩形状であり開口部を有していない。この場合でも、スペーサ4Eの上面に塗布されるダイボンド樹脂5が開口部を有していればよい。すなわち、接着部が開口部を有していればよい。当該接着部は、スペーサ4とファブリペロー干渉フィルタ10とがダイボンド樹脂5によって接着されることにより形成されている。例えば図12(B)に示される例では、ダイボンド樹脂5は、U字状に塗布されている。図12(B)に示した場合では、光検出器3は、スペーサ4で囲まれた領域に配置された電極パッド2eとワイヤ8によって接続されている。当該電極パッド2eは、電極パッド2bと配線2dにより接続されている。したがって光検出器3は、電極パッド2bに電気的に接続される。ここで、電極パッド2eと電極パッド2bとの間の配線2dは、配線基板2の上面とスペーサ4との間に配置されている。ここで、配線基板2の上面には絶縁層が形成されている。この絶縁層は、配線2dがスペーサ4と直接接触しないように保護している。なお、図11(B)及び図12(B)では、サーミスタ7と、サーミスタ7に接続されるワイヤ8と、配線2dと、を省略している。
なお、ファブリペロー干渉フィルタ10の下面に塗布されたダイボンド樹脂5の一部がスペーサ4とファブリペロー干渉フィルタ10との接着に寄与しなくてもよい。例えば、図12(B)に示した場合とは逆に、スペーサ4が開口部を有し、且つダイボンド樹脂5が開口部を有しない構成であってもよい。一例として、ダイボンド樹脂5がファブリペロー干渉フィルタ10の下面において光透過領域11の周辺に環状に塗布されていても、スペーサ4が開口部を有していればよい。すなわち、光透過領域を囲む円、多角形等の図形の周上のうち一部に、スペーサ4とファブリペロー干渉フィルタ10とがダイボンド樹脂5を介して接着されていない部分があればよい。
[第2実施形態]
次に、第2実施形態に係る光検出装置について説明する。第2実施形態に係る分光センサ1Bは、第1実施形態に係る分光センサ1Aとは、パッケージの形状が異なる。すなわち、分光センサ1Bは、そのパッケージが表面実装用のSMD(Surface Mount Device)パッケージである点で、ステム6を用いた分光センサ1Aと異なっている。
以下、分光センサ1Bの製造工程について説明する。まず、図13に示されるSMDパッケージ61を用意する。図13(A)はSMDパッケージ61の平面図であり、図13(B)はSMDパッケージ61の底面図である。SMDパッケージ61は、中空の略直方体状の形状を有する。SMDパッケージ61は、例えば、それぞれ矩形の第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66をこの順に積層して形成される。第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66の材質は、例えばセラミックや樹脂とすることができる。なお、第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66は、それぞれが別体として形成された後に積層されたものであってもよいし、一体として成形されたものであってもよい。
第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66の外周面(側面)は、積層された状態において略面一である。第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66のそれぞれの中央部には、矩形の開口が設けられている。第2層基板63の開口に比して第3層基板64の開口は大きい。第3層基板64の開口に比して第4層基板65の開口は大きい。第4層基板65の開口に比して第5層基板66の開口は大きい。この構成により、第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66が積層された状態において、第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64及び第4層基板65の上面の一部は、第5層基板66の開口から露出する。
露出した第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64及び第4層基板65の上面には、ボンディングパッド及び配線が配置されている。図13(A)に示される例では、第1層基板62の上面には、実装部62aと、実装部62cと、が配置されている。実装部62aは、光検出器3を固定するためのものである。実装部62cは、サーミスタ7を配置するためのものである。実装部62a,62cは、それぞれ別個の電極パッド67と、配線62dにより電気的に接続されている。配線62dは、第1層基板62と第2層基板63との間を通るように配置される。
第2層基板63の上面には、2個のボンディングパッド63aと、ボンディングパッド63aのそれぞれに接続された配線63bと、が配置されている。ボンディングパッド63aは、それぞれ別個の電極パッド67と、配線63bにより電気的に接続されている。配線63bは、第2層基板63と第3層基板64との間を通るように配置される。
第4層基板65の上面には、4個のボンディングパッド65aと、ボンディングパッド65aのそれぞれに接続された配線65bと、が配置されている。ボンディングパッド65aは、それぞれ別個の電極パッド67と、配線65bにより電気的に接続されている。配線65bは、第4層基板65と第5層基板66との間を通るように配置される。
第1層基板62には、貫通孔62eが設けられている。貫通孔62eは、分光センサ1Bの製造時において、熱膨張した空気を逃がすための通気口として機能する。
図13(B)に示されるように、SMDパッケージ61の底面の各辺には、例えば2個ずつの電極パッド67が設けられている。なお、電極パッド67の配置は、図13(B)に示されるものに限定されず、分光センサ1Bに要求される機能に応じて適宜変更してよい。
上述したSMDパッケージ61を用意した後、図14(A)に示されるように、実装部62aの上に光検出器3を実装する。また、実装部62cの上にサーミスタ7を実装する。そして、光検出器3とボンディングパッド63a(ワイヤ接続部)との間を、ワイヤ8を用いてワイヤボンディングにより接続する。また、サーミスタ7とボンディングパッド63aとの間を、ワイヤ8を用いてワイヤボンディングにより接続する。さらに、第3層基板64の上面における第3層基板64の開口の1辺に沿った部分に、ダイボンド樹脂5を直線状に塗布する。したがって、第2実施形態の分光センサ1Bにおいても、ダイボンド樹脂5は開口部を有するように配置されていることとなる。
次に、図14(B)に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ10を第3層基板64の上面に固定する。これにより第3層基板64は、光透過領域11の周囲領域においてファブリペロー干渉フィルタ10を支持する支持部材として機能する。このとき、ダイボンド樹脂5は、第3層基板64とファブリペロー干渉フィルタ10とを接着する接着部を形成する。ファブリペロー干渉フィルタ10は、その端子12,13が第3層基板64の開口の縁部の上に位置するように配置される。なお、ファブリペロー干渉フィルタ10を第3層基板64の上面に固定するために用いる接着剤としてのダイボンド樹脂5は、光検出器3を第1層基板62の上面に固定するために用いる接着剤よりも柔らかい。また、それぞれ別体として形成された第1層基板62、第2層基板63、第3層基板64、第4層基板65及び第5層基板66を積層してSMDパッケージ61を形成する場合において、それぞれ隣接する基板同士を接着する接着剤よりも柔らかい。これにより、光検出器3と第1層基板62との固定や、SMDパッケージ61の形成が強固に行われる一方で、ファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材からの熱歪みが接着剤を介してファブリペロー干渉フィルタ10に伝わることを抑制することができる。
そして、ファブリペロー干渉フィルタ10の端子12,13を、ボンディングパッド65aにワイヤ8を用いてワイヤボンディングにより接続する。
最後に、図15(A)及び図15(B)に示されるように、透過窓68を第5層基板66の上に固定する。図15(A)は、上述した製造工程により得られた分光センサ1Bの平面図であり、図15(B)は、図15(A)のB−B線断面図である。透過窓68は、分光センサ1Bの適用波長範囲に対応した材料を用いた透過窓であってもよい。当該材料には、ガラスやシリコン、ゲルマニウム等が挙げられる。また、透過窓68は、反射防止膜付き窓、又は適用波長範囲を制限するバンドパスフィルタであってもよい。
なお、塗布されるダイボンド樹脂5の配置については、図14(A)に示したものに限られず、種々変形してもよい。例えば、図16(A)に示すように、ダイボンド樹脂5を塗布してもよい。当該ダイボンド樹脂5は、第3層基板64の開口の周辺部のうち3辺に沿うU字状に塗布されている。この場合、第3層基板64の開口の周辺部のうち残り1辺に沿った部分が開口部として機能する。
また、透過窓68については、図16(B)に示すように、膜68Cを設けた透過窓68Aを用いてもよい。膜68Cは、光が透過する領域68B以外の部分に設けられ、光を透過しない。この場合には、迷光を低減することが可能となる。膜68Cとしては、遮光機能を有するもの、又は光吸収機能を有するものを使用することができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明した。しかし、本発明は、上記実施形態に限定されない。例えば、第1実施形態の分光センサ1Aにおいて、スペーサ4が配線基板2の上ではなく、光検出器3の上に固定されていてもよい。この場合には、ファブリペロー干渉フィルタ10の周辺の部材からの熱歪みが配線基板2から光検出器3及びダイボンド樹脂5を介してファブリペロー干渉フィルタに伝わることを抑制することができる。
また、上記実施形態では、図2に示されるように、光透過領域11が開口50aより狭い領域であるとして説明を行った。しかし、本発明は、このような形態に限定されない。予め幅が絞られた光を入射光として導入する場合には、図2に示されるように、光透過領域11は開口50aより狭くなる。しかしながら、例えば、開口50aより幅の広い光を入射光として導入する場合には、開口50aが光透過領域11を画定する。本発明は、このような形態にも適用可能である。
本発明の一形態に係る光検出装置によれば、ファブリペロー干渉フィルタの透過波長の温度特性の劣化を抑制することができる。
1A,1B…分光センサ(光検出装置)、2…配線基板、3…光検出器、4,4A〜4E…スペーサ(支持部材)、5…ダイボンド樹脂、10…ファブリペロー干渉フィルタ、11…光透過領域、12,13…端子(ボンディングパッド)、62…第1層基板(配線基板)、64…第3層基板(支持部材)、A1…スペーサ4の開口部、A2…ダイボンド樹脂5の開口部。

Claims (11)

  1. 光透過領域を有するファブリペロー干渉フィルタと、
    前記光透過領域を透過した光を検出する光検出器と、
    前記光透過領域の周囲領域において前記ファブリペロー干渉フィルタを支持する支持部材と、
    前記ファブリペロー干渉フィルタと前記支持部材とを接着する接着部と、を備え、
    前記接着部は、前記光透過領域における光の透過方向から見た場合に、前記周囲領域の内側と前記周囲領域の外側とを連通する開口部を有する、光検出装置。
  2. 前記光検出器又は前記ファブリペロー干渉フィルタに対して電気的に接続されるワイヤの一端が接続され、前記光検出器又は前記ファブリペロー干渉フィルタに対して電気信号を入力又は出力させるワイヤ接続部を更に備え、
    前記ワイヤ接続部の上面は、前記ファブリペロー干渉フィルタの上面よりも低い位置に配置されている、請求項1に記載の光検出装置。
  3. 前記ワイヤ接続部の上面は、前記支持部材の上面よりも低い位置に配置されている、請求項2に記載の光検出装置。
  4. 前記ワイヤ接続部は、前記光検出器に電気的に接続される第1のワイヤ接続部と、前記ファブリペロー干渉フィルタに電気的に接続される第2のワイヤ接続部と、を含み、
    前記第1のワイヤ接続部と前記ファブリペロー干渉フィルタとの距離が最短となる第1の方向は、前記第2のワイヤ接続部と前記ファブリペロー干渉フィルタとの距離が最短となる第2の方向に対して交差している、請求項2又は3に記載の光検出装置。
  5. 前記接着部は、前記透過方向から見た場合に、前記ファブリペロー干渉フィルタの一方側と、それに隣接する一方側に設けられている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光検出装置。
  6. 配線基板をさらに備え、
    前記光検出器及び前記支持部材は、前記配線基板上に固定されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光検出装置。
  7. 前記支持部材は、前記光検出器上に固定されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光検出装置。
  8. 前記接着部は、前記透過方向から見た場合に、前記ファブリペロー干渉フィルタの一方側にのみ設けられている、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光検出装置。
  9. 前記支持部材は、前記透過方向から見た場合に、前記周囲領域の内側と前記周囲領域の外側とを連通する開口部を有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光検出装置。
  10. 前記ファブリペロー干渉フィルタは、ボンディングパッドを有し、
    前記支持部材は、前記透過方向から見た場合に、前記ボンディングパッドに対応する位置に配置されている、請求項1〜9のいずれか一項に記載の光検出装置。
  11. 前記支持部材は、前記透過方向から見た場合に、前記光透過領域から離間している、請求項1〜10のいずれか一項に記載の光検出装置。
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