JPWO2015033663A1 - ハイブリッドイオン源及び質量分析装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1及び図2は、本発明の第1実施例による質量分析装置及びイオン源の構成例を示す断面摸式図である。図には、試料を噴霧するイオン化プローブ1、試料を加熱する加熱室11、及び質量分析計24を示した。本実施例では、ESIモード(図1)とAPCIモード(図2)の2つモードが存在し、モード毎にイオン源の構成が異なるため、イオン化法を切り替えるためにモード切り替えが行われる。モード切り替えは、イオン化プローブ1と加熱室11の2つのパーツの相対移動により実施され、コンピューター制御による自動切り替えが可能である。
第2実施例は、加熱室の移動方向が異なる実施例である。本実施例では、加熱室の移動方向を同一直線状の移動ではなく、固定点を中心とした回転移動とした。イオン化プローブの移動方法は、第1実施例と同様である。
第3実施例について説明する。本実施例では、加熱室の全長(図の上下方向の長さ)を短くしてモード切り替えの際にイオン化プローブ1を移動する必要を無くし、加熱室11のみの移動でイオン化法の切り替えを可能とした。
第4実施例について説明する。本実施例では、加熱室の移動方法が異なる。APCIモードからESIモードへ切り替わる際、これまでと加熱室の移動方法が異なり、本実施例では加熱室が2分割して、2つのパーツがそれぞれ反対方向へ移動する。
イオン化法は、APCIの代わりにAPPI(atmospheric pressure photoionization)を用いてもよい。APPIは、放電電極の代わりに真空紫外ランプを配置することにより実現可能である。その他、気体をイオンにするイオン化法であれば、APCIの代わりに用いることが可能である。
2:試料噴霧管
3:ネブライザーガス管
4:ヒーティングガス管
5:試料
6:ネブライザーガス
7:ヒーティングガス
8:イオン化プローブの出口端
9:高電圧電源
10:高電圧電源
11:加熱室
12:放電電極
13:支持部
14:漏斗部
15:加熱室の入口端
16:ヒーティングガス
17:試料流路
18:ガス流路制御部
19:ガス配管
20:ガス流路
21:ESIイオン化領域
22:APCIイオン化領域
23:加熱領域
24:質量分析計
25:導入口
26:流路
27:加熱領域
31:駆動部
32:支持部
33:駆動部
34:支持部
35:加熱室の出口端
36:内径
37:ガス流路
41:固定点
42:支持部
43:紫外ランプ
44:ランプ用電源
45:制御部
46:駆動部
47:支持部
48:駆動部
49:支持部
特許文献2 : 特許第4553011号公報
特許文献3 : 米国特許第7488953号明細書
特許文献4 : 特開平8−236064号公報
Claims (14)
- 試料を噴霧するためのイオン化プローブと、
内部に試料流路を備え、前記試料流路を通過する試料を加熱気化するための加熱室と、
前記イオン化プローブの出口端と前記加熱室の入口端との間の距離を変化させるための駆動部とを有し、
前記駆動部により前記イオン化プローブと前記加熱室との間の距離を変化させて複数のイオン化法を個別に実施することを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
複数のイオン化法はESIとAPCI又はESIとAPPIであることを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室の前記試料流路の内径が前記イオン化プローブのヒーティングガス管の外径よりも小さいことを特徴とするイオン源。 - 請求項2に記載のイオン源において、
前記ESIモードにおいて、前記加熱室の熱により前記イオン化プローブの出口端付近に形成されるESIイオン化領域を加熱することを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室の入口端の形状が漏斗形状であることを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室の前記試料流路は1つの円筒又は複数個の円筒であることを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室の試料流路は内径が異なる複数の流路を接続して構成されていることを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記イオン化プローブと前記加熱室の少なくとも一方は駆動部により直線的に駆動されることを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室は固定点を中心に回転移動することを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室から前記イオン化プローブの出口端付近に形成されるイオン化領域へ加熱ガスを送り出すことを特徴とするイオン源。 - 請求項1に記載のイオン源において、
前記加熱室は全長が短く前記試料流路が蛇行しており、
前記イオン化プローブが固定で前記加熱室が可動であることを特徴とするイオン源。 - 試料をイオン化するイオン源と、
前記イオン源によりイオン化された試料イオンを導入するイオン導入口を有し、前記イオン導入口から導入されたイオンを質量分析する質量分析計と、
制御部とを有し、
前記イオン源は、試料を噴霧するためのイオン化プローブと、内部に試料流路を備え前記試料流路を通過する試料を加熱気化するための加熱室と、前記イオン化プローブの出口端と前記加熱室の入口端との間の距離を変化させるための駆動部とを備え、
前記制御部により前記駆動部を制御して、前記質量分析計の前記イオン導入口に対する前記イオン化プローブ及び/又は前記加熱室の位置関係を変化させることにより複数のイオン化法を個別に実施することを特徴とする質量分析装置。 - 請求項12に記載の質量分析装置において、
前記制御部は、前記イオン化プローブを用いたイオン化法の試料イオン化領域あるいは前記イオン化プローブと前記加熱室を用いたイオン化法の試料イオン化領域が前記質量分析計の前記イオン導入口の近くに位置するように、前記駆動部を制御することを特徴とする質量分析装置。 - 請求項12に記載の質量分析装置において、
前記複数のイオン化法はESIとAPCI又はESIとAPPIであり、
前記制御部は、ESIモードでは、前記イオン化プローブの出口端と前記質量分析計の前記イオン導入口の間に前記加熱室が存在しない配置となるように前記駆動部を制御し、APCIモード又はAPPIモードでは、前記イオン化プローブの出口端と前記質量分析計の前記イオン導入口の間に前記加熱室が存在する配置となるように前記駆動部を制御することを特徴とする質量分析装置。
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