JPWO2014175144A1 - 化学強化用ガラス板およびその製造方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 263
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 title claims description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 32
- 238000005056 compaction Methods 0.000 claims abstract description 58
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 claims description 40
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 claims description 16
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 claims description 12
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 20
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 64
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 40
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 34
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 27
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 27
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 19
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 17
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 15
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 8
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 5
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005358 alkali aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本発明は、高いガラス転移温度を有し、低温（１５０〜３００℃）での熱処理においてコンパクション（Ｃ）が小さいガラス板を提供する。本発明は、仮想粘度を１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下とし、酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ２を６０〜７９％、Ａｌ２Ｏ３を２．５〜１８％、Ｂ２Ｏ３を０〜３％、ＭｇＯを１〜１５％、ＣａＯを０〜１％、ＳｒＯを０〜１％、ＢａＯを０〜１％、ＺｒＯ２を０〜１％、Ｎａ２Ｏを７〜１５．５％、Ｋ２Ｏを０〜０．５％、Ｌｉ２Ｏを０〜２％含有し、Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが７〜１５．５％、Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が０．９〜１、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１８％、ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜８であり、ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜２０であり、ガラス転移温度が５８０〜７２０℃、コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である化学強化用ガラス板に関する。
Description
本発明は、各種タッチパネルや各種ディスプレイパネル等に利用される、化学強化用ガラス板であって、該ガラス板上に導電膜等がパターニングされるものに関する。
化学強化用ガラス板は、ソーダライムシリケートガラスやアルカリアルミノシリケートガラスが用いられ、フロート法、ロールアウト法、フュージョン法等の各種の成形方法で製造できる。
ガラス板を水平方向に引き出す成形方法である前記フロート法は徐冷炉の長さを十分に確保できるのに対し、フュージョン法などの垂直方向に成形する方法では徐冷炉の長さに制約があるため、徐冷時間が不足する。
徐冷時間が不足すると、ガラス板の成形後の冷却速度が速くなり、その結果、ガラス板上に透明導電膜等をパターニングする際の熱工程で、ガラスの安定化現象によるガラス板寸法の縮み（以下、「コンパクション」という。）が大きくなる。そのため、成膜パターニング時の精度が低下するという問題があった。
本発明は、ＴＦＴパネル、タッチセンサ付きＴＦＴパネル、またはタッチセンサ（以下、これらを総称して「ディスプレイ部材」という。）を製造する際の低温（１５０〜３００℃）での熱処理において、ガラス成形時の冷却速度が速いフュージョン法等で製造したガラス板においても、コンパクション（Ｃ）が小さく、ガラス板上の成膜パターニング精度が高い（位置ずれが生じ難い）、ディスプレイ部材に適した化学強化用ガラス板を提供することを目的とする。
本発明は、仮想粘度、組成、ガラス転移温度およびコンパクション（Ｃ）を特定の範囲にすることにより前記の目的を達成することを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
１．仮想粘度が１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下であって、
下記酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２を６０〜７９％、
Ａｌ２Ｏ３を２．５〜１８％、
Ｂ２Ｏ３を０〜３％、
ＭｇＯを１〜１５％、
ＣａＯを０〜１％、
ＳｒＯを０〜１％、
ＢａＯを０〜１％、
ＺｒＯ２を０〜１％、
Ｎａ２Ｏを７〜１５．５％、
Ｋ２Ｏを０〜０．５％、
Ｌｉ２Ｏを０〜２％含有し、
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが７〜１５．５％、
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が０．９〜１、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１８％、
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜８であり、
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜２０であり、
ガラス転移温度が５８０〜７２０℃であり、
コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である化学強化用ガラス板。
２．光弾性定数が２７〜３３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍである前項１に記載の化学強化用ガラス板。
３．粘度が１０４ｄＰａ・Ｓとなる温度（Ｔ４）とガラス表面失透温度（Ｔｃ）との関係が、Ｔ４−Ｔｃ≧−２０℃である前項１または２に記載の化学強化用ガラス板。
４．粘度が１０４ｄＰａ・Ｓとなる温度（Ｔ４）とガラス内部失透温度（Ｔｄ）との関係が、Ｔ４−Ｔｄ≧５０℃である前項１または２に記載の化学強化用ガラス板。
５．フロート法を用いて成形されたものである、前項３に記載の化学強化用ガラス板。
６．フュージョン法を用いて成形されたものである、前項４に記載の化学強化用ガラス板。
１．仮想粘度が１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下であって、
下記酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２を６０〜７９％、
Ａｌ２Ｏ３を２．５〜１８％、
Ｂ２Ｏ３を０〜３％、
ＭｇＯを１〜１５％、
ＣａＯを０〜１％、
ＳｒＯを０〜１％、
ＢａＯを０〜１％、
ＺｒＯ２を０〜１％、
Ｎａ２Ｏを７〜１５．５％、
Ｋ２Ｏを０〜０．５％、
Ｌｉ２Ｏを０〜２％含有し、
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが７〜１５．５％、
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が０．９〜１、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１８％、
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜８であり、
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜２０であり、
ガラス転移温度が５８０〜７２０℃であり、
コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である化学強化用ガラス板。
２．光弾性定数が２７〜３３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍである前項１に記載の化学強化用ガラス板。
３．粘度が１０４ｄＰａ・Ｓとなる温度（Ｔ４）とガラス表面失透温度（Ｔｃ）との関係が、Ｔ４−Ｔｃ≧−２０℃である前項１または２に記載の化学強化用ガラス板。
４．粘度が１０４ｄＰａ・Ｓとなる温度（Ｔ４）とガラス内部失透温度（Ｔｄ）との関係が、Ｔ４−Ｔｄ≧５０℃である前項１または２に記載の化学強化用ガラス板。
５．フロート法を用いて成形されたものである、前項３に記載の化学強化用ガラス板。
６．フュージョン法を用いて成形されたものである、前項４に記載の化学強化用ガラス板。
本発明の化学強化用ガラス板は、ディスプレイ部材の製造工程における低温（１５０〜３００℃）での熱処理においてコンパクション（Ｃ）が小さく（２０ｐｐｍ以下）、ガラス板上の成膜パターニング時の位置ずれが生じ難い。
したがって、本発明の化学強化用ガラス板は、パネルの大型化、高精細化、表示フレームの高速化、高耐候性化、高機能化、高信頼性化、ドライバ等のＩＣ回路の内臓化に対応した、特にタッチパネルセンサ用一体型カバーガラス化学強化用ガラス板として好適に用いることができる。
また、本発明の化学強化用ガラス板は、フュージョン法等での冷却速度の速い成形方法で製造したガラス板であるため、仮想粘度が１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下である。また、本発明の化学強化用ガラス板は、化学強化に適したガラスであるため、化学強化後の表面圧縮応力が高く、表面応力層が深く入りやすく、ディスプレイ部材として、高い強度を備える。
＜本発明の化学強化用ガラス板＞
本発明の化学強化用ガラス板（以下、本発明のガラス板ともいう）は、仮想粘度が１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下であって、
下記酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２を６０〜７９％、
Ａｌ２Ｏ３を２．５〜１８％、
Ｂ２Ｏ３を０〜３％、
ＭｇＯを１〜１５％、
ＣａＯを０〜１％、
ＳｒＯを０〜１％、
ＢａＯを０〜１％、
ＺｒＯ２を０〜１％、
Ｎａ２Ｏを７〜１５．５％、
Ｋ２Ｏを０〜０．５％、
Ｌｉ２Ｏを０〜２％含有し、
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが７〜１５．５％、
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が０．９〜１、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１８％、
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜８であり、
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜２０であり、
ガラス転移温度が５８０〜７２０℃、
コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である。
本発明の化学強化用ガラス板（以下、本発明のガラス板ともいう）は、仮想粘度が１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下であって、
下記酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２を６０〜７９％、
Ａｌ２Ｏ３を２．５〜１８％、
Ｂ２Ｏ３を０〜３％、
ＭｇＯを１〜１５％、
ＣａＯを０〜１％、
ＳｒＯを０〜１％、
ＢａＯを０〜１％、
ＺｒＯ２を０〜１％、
Ｎａ２Ｏを７〜１５．５％、
Ｋ２Ｏを０〜０．５％、
Ｌｉ２Ｏを０〜２％含有し、
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが７〜１５．５％、
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が０．９〜１、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１８％、
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜８であり、
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜２０であり、
ガラス転移温度が５８０〜７２０℃、
コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である。
（コンパクション）
本発明のガラス板はコンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である。コンパクション（Ｃ）は１８ｐｐｍ以下がより好ましく、１６ｐｐｍ以下がさらに好ましい。２０ｐｐｍ以下であると、ディスプレイ部材の製造工程における低温（１５０〜３００℃）での熱処理において、ガラス板上の成膜パターニング時の位置ずれが生じ難い。
本発明のガラス板はコンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である。コンパクション（Ｃ）は１８ｐｐｍ以下がより好ましく、１６ｐｐｍ以下がさらに好ましい。２０ｐｐｍ以下であると、ディスプレイ部材の製造工程における低温（１５０〜３００℃）での熱処理において、ガラス板上の成膜パターニング時の位置ずれが生じ難い。
（コンパクションの測定方法）
本発明においてコンパクション（Ｃ）とは、次に説明する方法で測定した値を意味するものとする。
本発明においてコンパクション（Ｃ）とは、次に説明する方法で測定した値を意味するものとする。
初めに、対象となるガラスを１６００℃で溶解した後、溶融ガラスを流し出し、板状に成形後冷却する。得られたガラス板を研磨加工して厚み２ｍｍ、大きさ１００ｍｍ×２０ｍｍにて２面を鏡面研磨した試料を得る。
次に、得られたガラス板をガラス転移温度Ｔｇ＋１５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、所定の降温速度で室温まで冷却する。その後、ガラス板の表面に圧痕を長辺方向に２箇所、間隔Ａ（Ａ＝９０ｍｍ）で打つ。
その後、アニール処理を行ってもよい。アニール処理とは、原料を溶融後、歪点以下の温度まで冷却後、再び歪点以上の温度まで加熱される工程（化学強化処理工程を除く）をいう。アニールに要する時間は全工程一日以内が好ましい。その後、化学強化処理を実施する。
次にガラス板を３００℃まで昇温速度１００℃／時（＝１．６℃／分）で加熱し、３００℃で１時間保持した後、降温速度１００℃／時で室温まで冷却する。そして、再度、圧痕間距離を測定し、その距離をＢとする。このようにして得たＡ、Ｂから下記式を用いてコンパクション（Ｃ）を算出する。なお、Ａ、Ｂは光学顕微鏡を用いて測定する。
Ｃ［ｐｐｍ］＝（Ａ−Ｂ）／Ａ×１０６
（仮想粘度）
本発明のガラス板の仮想粘度は１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下である。ガラス板の仮想粘度を１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下とするためには、ガラス板の成形後の冷却速度を、２０℃／分相当以上とすることが好ましい。
本発明のガラス板の仮想粘度は１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下である。ガラス板の仮想粘度を１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下とするためには、ガラス板の成形後の冷却速度を、２０℃／分相当以上とすることが好ましい。
ガラス板の仮想粘度は１０１２．６ｄ・Ｐａ・ｓ以下（冷却速度３０℃／分相当以上）が好ましく、１０１２．４ｄ・Ｐａ・ｓ以下（冷却速度５０℃／分相当以上）が好ましく、１０１２．２ｄ・Ｐａ・ｓ以下（冷却速度７０℃／分相当以上）が好ましく、１０１２．１ｄ・Ｐａ・ｓ以下（冷却速度１００℃／分相当以上）が好ましく、１０１２．０ｄ・Ｐａ・ｓ以下（冷却速度１２０℃／分相当以上）がさらに好ましい。
本発明のガラス板は２０℃／分相当以上の速度で冷却しても、前記低コンパクション性が達成可能なうえに、ガラス板生産時の生産性が高く、特に好ましい。
（仮想粘度の算出方法）
ガラスの仮想粘度（η）は下記（式４）（Ｇ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ，Ｒｅｌａｘａｔｉｏｎ ｉｎ Ｇｌａｓｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９８６），ｐ．１５９）にて算出することができる。
ガラスの仮想粘度（η）は下記（式４）（Ｇ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ，Ｒｅｌａｘａｔｉｏｎ ｉｎ Ｇｌａｓｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９８６），ｐ．１５９）にて算出することができる。
ηの単位はｄ・Ｐａ・ｓ。
ｑは冷却速度で単位は℃／ｓ。
ｑは冷却速度で単位は℃／ｓ。
厚み１ｍｍ以下の一枚のガラス板から切り出した複数のガラス板小片、たとえば１センチメートル角の小片を別々に様々な冷却速度ｑにて熱処理、冷却し、それぞれのガラス小片の物性値を測定する。冷却開始温度は冷却速度の影響を受けない十分高い温度であることが好ましい。典型的にはＴｇ＋５０℃〜＋１５０℃程度であることが好ましい。
測定を実施する物性値は、特に制限はないが、密度が好ましく、屈折率など、密度と密接な関係にある物性値であることが好ましい。ｘ軸に冷却速度（ｌｏｇ１０）をとって、ｙ軸にそれぞれの熱処理を施したガラス小片の物性値をとり検量線を作成する。熱処理を実施していないガラス小片の物性値（ｙ軸）に対するｘ軸の値（ｑ）がそのガラスの冷却速度を示す。
本発明者は、実験および試行錯誤の結果から、化学強化処理またはアニール処理を実施したとしても、５０℃／分の冷却速度のコンパクション（Ｃ）を小さく（２０ｐｐｍ以下に）抑えることが、ガラスの成形時の冷却速度の増大に対して低コンパクション性を保持し得ることを見出し、本発明に至った。
（Ｔｇ）
本発明のガラス板のガラス転移温度（Ｔｇ）は５８０℃以上７２０℃以下である。本発明のガラス板のガラス転移温度（Ｔｇ）は前記範囲であることでコンパクション（Ｃ）を小さくするのに好ましいとともに、ディスプレイ部材の製造工程における低温熱処理（１５０℃〜３００℃）において、ガラス中のアルカリイオンの易動度が小さくなりセンサやドライバ等のＩＣ回路のトランジスタ素子（センサ等）への移動度が低くなり、センサ等の性能劣化を抑えられる。Ｔｇは６００℃以上であるのが好ましく、６４０℃以上であるのがより好ましく、６８０℃以上であるのがさらに好ましい。
本発明のガラス板のガラス転移温度（Ｔｇ）は５８０℃以上７２０℃以下である。本発明のガラス板のガラス転移温度（Ｔｇ）は前記範囲であることでコンパクション（Ｃ）を小さくするのに好ましいとともに、ディスプレイ部材の製造工程における低温熱処理（１５０℃〜３００℃）において、ガラス中のアルカリイオンの易動度が小さくなりセンサやドライバ等のＩＣ回路のトランジスタ素子（センサ等）への移動度が低くなり、センサ等の性能劣化を抑えられる。Ｔｇは６００℃以上であるのが好ましく、６４０℃以上であるのがより好ましく、６８０℃以上であるのがさらに好ましい。
本発明のガラス板において上記組成に限定する理由は以下のとおりである。
（ＳｉＯ２）
ＳｉＯ２は、ガラスの骨格を形成する成分で、ガラスの耐熱性および化学的耐久性を保持し、密度、５０〜３５０℃における平均熱膨張係数およびコンパクション（Ｃ）を小さくするため、含有量は６０モル％（以下、単に「％」と記載する）以上とする。好ましくは６２％以上、より好ましくは６３％以上である。
ＳｉＯ２は、ガラスの骨格を形成する成分で、ガラスの耐熱性および化学的耐久性を保持し、密度、５０〜３５０℃における平均熱膨張係数およびコンパクション（Ｃ）を小さくするため、含有量は６０モル％（以下、単に「％」と記載する）以上とする。好ましくは６２％以上、より好ましくは６３％以上である。
また、光弾性定数を小さくし、ガラス溶解時の粘度を低くし、溶解性を良好に保つために、ＳｉＯ２の含有量は７９％以下とする。好ましくは７７％以下であり、より好ましくは７５％以下であり、さらに好ましくは７４％以下である。
（Ａｌ２Ｏ３）
Ａｌ２Ｏ３は、ガラス転移温度を上げ、耐候性（ソラリゼーション）、耐熱性および化学的耐久性を向上し、ヤング率を高め、５０〜３５０℃における平均熱膨張係数を下げ、コンパクション（Ｃ）を低く抑え、光弾性定数を小さくさせ、化学強化特性を向上させ、ガラス中のアルカリイオンの易動度が小さくなりセンサまたはドライバ等のＩＣ回路のトランジスタ素子（センサ等）への移動度が低くなりセンサ等の性能劣化を抑えられるため、含有量は２．５％以上とする。好ましくは４％以上であり、より好ましくは６％以上であり、さらに好ましくは７％以上である。
Ａｌ２Ｏ３は、ガラス転移温度を上げ、耐候性（ソラリゼーション）、耐熱性および化学的耐久性を向上し、ヤング率を高め、５０〜３５０℃における平均熱膨張係数を下げ、コンパクション（Ｃ）を低く抑え、光弾性定数を小さくさせ、化学強化特性を向上させ、ガラス中のアルカリイオンの易動度が小さくなりセンサまたはドライバ等のＩＣ回路のトランジスタ素子（センサ等）への移動度が低くなりセンサ等の性能劣化を抑えられるため、含有量は２．５％以上とする。好ましくは４％以上であり、より好ましくは６％以上であり、さらに好ましくは７％以上である。
また、ガラス溶解時の粘度を低くし、溶解性の悪化を抑え、失透温度［ガラス表面における表面失透温度（Ｔｃ）およびガラス内部における内部失透温度（Ｔｄ）］を低く抑え、成形性を良好に保つために、Ａｌ２Ｏ３の含有量は１８％以下とする。好ましくは１６％以下であり、より好ましくは１５％以下である。
（Ｂ２Ｏ３）
Ｂ２Ｏ３は、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、強度特性を向上させるため３％まで含有してもよい。ガラス転移温度の過度の低下、光弾性定数の過度の上昇を抑えるため、含有量は３％以下とする。好ましくは１．５％以下である。０．５％以下であるとより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
Ｂ２Ｏ３は、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、強度特性を向上させるため３％まで含有してもよい。ガラス転移温度の過度の低下、光弾性定数の過度の上昇を抑えるため、含有量は３％以下とする。好ましくは１．５％以下である。０．５％以下であるとより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
なお、「実質的に含有しない」とは、原料等から混入する不可避的不純物以外には含有しないこと、すなわち、意図的に含有させないことを意味する。
ＴＦＴパネル用ガラス、またはインセル型タッチパネル用ガラス板として用いる場合、Ｂ２Ｏ３含有率が低いと、ガラス板製造時にガラスを溶解する際の、溶解工程、清澄工程および成形工程での、Ｂ２Ｏ３の揮散量が少なく、製造されるガラス板が均質性および平坦性に優れる。その結果、高度の平坦性が要求されるＴＦＴパネル用ガラス板として使用する場合に、従来のＴＦＴパネル用ガラス板に比べて、表示品質に優れる。
また、ガラス溶解時のＢ２Ｏ３の揮散による環境負荷を考慮しても、Ｂ２Ｏ３の含有率はより低いことが好ましい。
ただし、廃液晶ディスプレイのガラス板のリサイクル目的でカレットを使用する場合は、Ｂ２Ｏ３を含有するカレットを使用することができる。
（ＭｇＯ）
ＭｇＯはガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、ガラス板の耐候性を向上する効果があるため、含有量は１％以上とする。好ましくは３％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは７％以上である。
ＭｇＯはガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、ガラス板の耐候性を向上する効果があるため、含有量は１％以上とする。好ましくは３％以上であり、より好ましくは５％以上であり、さらに好ましくは７％以上である。
５０〜３５０℃における平均熱膨張係数、コンパクション（Ｃ）を小さく、失透温度（Ｔｃ）、光弾性定数を低く抑えるために１５％以下とする。好ましくは１３％以下であり、より好ましくは１１％以下であり、さらに好ましくは１０％以下である。
（ＣａＯ）
ＣａＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは実質的に含有しない。
ＣａＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは実質的に含有しない。
（ＳｒＯ）
ＳｒＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下し、光弾性定数を低下させる効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、ＳｒＯの含有量は１％以下とする。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは実質的に含有しない。
ＳｒＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下し、光弾性定数を低下させる効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、ＳｒＯの含有量は１％以下とする。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは実質的に含有しない。
（ＢａＯ）
ＢａＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下し、光弾性定数を低下させる効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは実質的に含有しない。
ＢａＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下し、光弾性定数を低下させる効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは実質的に含有しない。
（ＺｒＯ２）
ＺｒＯ２は、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。
ＺｒＯ２は、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。
（ＲＯ）
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、ガラス板の耐候性を向上させるため、また、光弾性定数を小さくするため、合量で１％以上とする。３％以上が好ましく、５％以上がより好ましく、７％以上がさらに好ましい。ガラスの５０〜３５０℃における平均熱膨張係数およびコンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、合量で１８％以下とする。１６％以下が好ましく、１２．５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、ガラス板の耐候性を向上させるため、また、光弾性定数を小さくするため、合量で１％以上とする。３％以上が好ましく、５％以上がより好ましく、７％以上がさらに好ましい。ガラスの５０〜３５０℃における平均熱膨張係数およびコンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、合量で１８％以下とする。１６％以下が好ましく、１２．５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
（Ｎａ２Ｏ）
Ｎａ２Ｏは化学強化を容易にし、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので、含有量は７％以上とする。９％以上であると好ましく、１１％以上であるとより好ましい。１２％以上であるとさらに好ましい。
Ｎａ２Ｏは化学強化を容易にし、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので、含有量は７％以上とする。９％以上であると好ましく、１１％以上であるとより好ましい。１２％以上であるとさらに好ましい。
コンパクション（Ｃ）を小さく抑えることを第一の目的としてＮａ２Ｏの含有量を１５．５％以下とする。コンパクション（Ｃ）、５０〜３５０℃における平均熱膨張係数の増大、化学的耐久性、耐候性の劣化を抑制するために、１４．５％以下であると好ましく、１３．５％以下であるとより好ましい。１３％以下であるとさらに好ましい。
（Ｋ２Ｏ）
Ｋ２Ｏは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、Ｋ２Ｏの含有量は０．５％以下とする。０．２％以下であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
Ｋ２Ｏは、ガラス溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、Ｋ２Ｏの含有量は０．５％以下とする。０．２％以下であることがより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
（Ｌｉ２Ｏ）
Ｌｉ２Ｏはガラスの溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。０．５％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
Ｌｉ２Ｏはガラスの溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があるので含有させることができる。コンパクション（Ｃ）の増大を抑制するために、含有量は１％以下とする。０．５％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
（Ｒ２Ｏ）
Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏは化学強化を容易にし、ガラスの溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、また光弾性定数を小さくするために、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの合量の含有量は、７％以上とする。好ましくは９％以上であり、より好ましくは１１％以上であり、さらに好ましくは１２％以上である。
Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏは化学強化を容易にし、ガラスの溶解時の粘度を下げ、溶解を促進し、失透温度を降下する効果があり、また光弾性定数を小さくするために、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの合量の含有量は、７％以上とする。好ましくは９％以上であり、より好ましくは１１％以上であり、さらに好ましくは１２％以上である。
コンパクション（Ｃ）を小さく抑えることを第一の目的として、耐候性の向上を第二の目的として１５．５％以下とする。好ましくは１５％以下であり、より好ましくは１４％以下、より好ましくは１３％以下である。
（式１）
また、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏは、コンパクション（Ｃ）を小さくするために、下記（式１）が０．９〜１を満たすように含有する。
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ） （式１）
また、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏは、コンパクション（Ｃ）を小さくするために、下記（式１）が０．９〜１を満たすように含有する。
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ） （式１）
前記（式１）は、低温（１５０〜３００℃）での熱処理におけるコンパクション（Ｃ）を小さくする指標となる。本発明者は、実験および試行錯誤の結果から、上記各成分が本発明の範囲を満たし、且つ、前記（式１）で得られる値が０．９〜１となる場合に、Ｔｇが５８０〜７２０℃であり、および５０〜３５０℃における平均熱膨張係数が６５×１０−７〜８５×１０−７を満足させつつ、コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下を満たすことを見出した。好ましくは、０．９５以上であり、さらに好ましくは１である。
（式２）
ＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３：ＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３は、下記（式２）が１〜８を満たすように含有する。なお、下記（式２）の「ＭｇＯ」、「Ａｌ２Ｏ３」には、ガラス板の組成に含まれるＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３のそれぞれの「モル％」を代入する。
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３ （式２）
ＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３：ＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３は、下記（式２）が１〜８を満たすように含有する。なお、下記（式２）の「ＭｇＯ」、「Ａｌ２Ｏ３」には、ガラス板の組成に含まれるＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３のそれぞれの「モル％」を代入する。
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３ （式２）
前記（式２）は、光弾性定数を低くし、且つ低温（１５０〜３００℃）での熱処理におけるコンパクション（Ｃ）を小さくする指標となる。本発明者は、実験および試行錯誤の結果から、上記の各成分が本発明の範囲を満たし、且つ、前記（式２）で得られる値が１〜８の中間になるほど、つまり４に近づくほど、コンパクション（Ｃ）を小さくできることを見出した。好ましくは２以上であり、より好ましくは３以上である。好ましくは７．５以下であり、さらに好ましくは７以下であり、特に好ましくは６以下である。また、低い光弾性定数を得るために、２以上であると好ましい。
（式２の図示）
なお、ＭｇＯを縦軸、Ａｌ２Ｏ３を横軸とした場合、前記式（２）が１〜８且つＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３が上記組成範囲のときに、本発明の範囲は、図１において実線ラインで囲まれた部分となる。
なお、ＭｇＯを縦軸、Ａｌ２Ｏ３を横軸とした場合、前記式（２）が１〜８且つＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３が上記組成範囲のときに、本発明の範囲は、図１において実線ラインで囲まれた部分となる。
コンパクション（Ｃ）を小さくできる範囲は、図１において本発明の範囲内においてＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３＝１とＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３＝８の二本の直線の中央の、Ｙ切片が５となる直線に近い部分、即ち、図１において本発明の範囲内で且つＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３＝４の直線に近い部分である。
（式３）
また、ＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３は、下記（式３）が１〜２０を満たすように含有する。なお、下記（式３）の「ＭｇＯ」、「Ａｌ２Ｏ３」には、ガラス板の組成に含まれるＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３のそれぞれの「モル％」を代入する。
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３ （式３）
また、ＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３は、下記（式３）が１〜２０を満たすように含有する。なお、下記（式３）の「ＭｇＯ」、「Ａｌ２Ｏ３」には、ガラス板の組成に含まれるＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３のそれぞれの「モル％」を代入する。
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３ （式３）
前記（式３）は、ガラス製造工程における失透特性、具体的には、後述するＴ４−Ｔｃが−５０〜３５０℃、またはＴ４−Ｔｄが−５０〜３５０℃を満たすための指標となる。本発明者は、実験および試行錯誤の結果から、上記の各成分が本発明の範囲を満たし、且つ、前記（式３）で得られる値が１〜２０となる場合に、Ｔｇが５８０〜７２０℃および５０〜３５０℃における平均熱膨張係数６５×１０−７〜８５×１０−７／℃を満足させつつ、Ｔ４−ＴｃまたはＴ４−Ｔｄが上記範囲を満たすことを見出した。
（式３と成形法）
本発明のガラス板の成形方法として、フロート法およびフュージョン法（ダウンドロー法）が適用できるが、フュージョン法のときは、前記（式３）は、好ましくは１４以下であり、より好ましくは１３以下であり、さらに好ましくは１２以下である。
本発明のガラス板の成形方法として、フロート法およびフュージョン法（ダウンドロー法）が適用できるが、フュージョン法のときは、前記（式３）は、好ましくは１４以下であり、より好ましくは１３以下であり、さらに好ましくは１２以下である。
またフロート法のときは、前記（式３）は、好ましくは１８以下であり、より好ましくは１６以下であり、さらに好ましくは１４以下である。また、低い光弾性定数を得るために、好ましくは３以上であり、より好ましくは５以上であり、さらに好ましくは７以上である。
（式３の図示）
なお、ＭｇＯを縦軸、Ａｌ２Ｏ３を横軸とした場合、前記（式３）が１〜２０且つＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３が上記組成範囲のときに、本発明の範囲は、図１において実線で囲まれた部分となる。
なお、ＭｇＯを縦軸、Ａｌ２Ｏ３を横軸とした場合、前記（式３）が１〜２０且つＭｇＯおよびＡｌ２Ｏ３が上記組成範囲のときに、本発明の範囲は、図１において実線で囲まれた部分となる。
（平均線膨張係数）
本発明のガラス板の５０〜３５０℃における平均線膨張係数は８５×１０−７／℃以下であることが好ましい。上記範囲であることで、ディスプレイ部材の製造工程での寸法変化が少なく、液晶ディスプレイなどのディスプレイパネルとの接着時の応力による品質（残留応力や光弾性効果）への影響が少ないことから、特に表示品質面で好ましい。
本発明のガラス板の５０〜３５０℃における平均線膨張係数は８５×１０−７／℃以下であることが好ましい。上記範囲であることで、ディスプレイ部材の製造工程での寸法変化が少なく、液晶ディスプレイなどのディスプレイパネルとの接着時の応力による品質（残留応力や光弾性効果）への影響が少ないことから、特に表示品質面で好ましい。
なお、好ましくは８０×１０−７／℃以下、より好ましくは７８×１０−７／℃以下、さらに好ましくは７６×１０−７／℃以下である。またディスプレイパネル用ガラス板にソーダライムガラスを用いる場合は、両者の熱膨張差の点から、６５×１０−７／℃以上が好ましい。
（Ｔｃ）
本発明のガラス板は、ガラス表面失透温度（Ｔｃ）が１３００℃以下であることが好ましい。好ましくは１２７５℃以下であり、より好ましくは１２５０℃以下であり、特に好ましくは１２２５℃以下である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、ガラス表面失透温度（Ｔｃ）は９００℃以上である。
本発明のガラス板は、ガラス表面失透温度（Ｔｃ）が１３００℃以下であることが好ましい。好ましくは１２７５℃以下であり、より好ましくは１２５０℃以下であり、特に好ましくは１２２５℃以下である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、ガラス表面失透温度（Ｔｃ）は９００℃以上である。
ガラス表面失透温度（Ｔｃ）とは、白金製の皿に粉砕されたガラス粒子を入れ、一定温度に制御された電気炉中で１７時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの表面に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値である。
（Ｔｄ）
本発明のガラス板は、ガラス内部失透温度（Ｔｄ）が１３００℃以下であることが好ましい。好ましくは１２７５℃以下であり、より好ましくは１２５０℃以下であり、さらに好ましくは１２２５℃以下であり、さらに好ましくは１２００℃以下である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、ガラス内部失透温度（Ｔｄ）は９００℃以上である。
本発明のガラス板は、ガラス内部失透温度（Ｔｄ）が１３００℃以下であることが好ましい。好ましくは１２７５℃以下であり、より好ましくは１２５０℃以下であり、さらに好ましくは１２２５℃以下であり、さらに好ましくは１２００℃以下である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、ガラス内部失透温度（Ｔｄ）は９００℃以上である。
ガラス内部失透温度（Ｔｄ）とは、白金製の皿に粉砕されたガラス粒子を入れ、一定温度に制御された電気炉中で１７時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの内部に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値である。
（Ｔ４）
本発明のガラス板は、粘度が１０４ｄ・Ｐａ・ｓとなる温度（Ｔ４）が、１３５０℃以下であることが好ましい。１３００℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２７５℃以下であり、さらに好ましくは１２５０℃以下である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、粘度が１０４ｄ・Ｐａ・ｓとなる温度（Ｔ４）は１１００℃以上である。
本発明のガラス板は、粘度が１０４ｄ・Ｐａ・ｓとなる温度（Ｔ４）が、１３５０℃以下であることが好ましい。１３００℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２７５℃以下であり、さらに好ましくは１２５０℃以下である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、粘度が１０４ｄ・Ｐａ・ｓとなる温度（Ｔ４）は１１００℃以上である。
（成形方法と失透温度における粘度）
本発明のガラス板の成形方法として、フロート法およびフュージョン法（ダウンドロー法）が適用できるが、フュージョン法のときはＴｄにおけるガラス粘度は、１０４．７ｄ・Ｐａ・ｓ以上であることが好ましく、より好ましくは１０５．０ｄ・Ｐａ・ｓ以上、さらに好ましくは１０５．３ｄ・Ｐａ・ｓ以上、特に好ましくは１０５．５ｄ・Ｐａ・ｓ以上である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、フュージョン法のときは、Ｔｄにおけるガラス粘度は１０７．０ｄ・Ｐａ・ｓ以下であることが好ましい。
本発明のガラス板の成形方法として、フロート法およびフュージョン法（ダウンドロー法）が適用できるが、フュージョン法のときはＴｄにおけるガラス粘度は、１０４．７ｄ・Ｐａ・ｓ以上であることが好ましく、より好ましくは１０５．０ｄ・Ｐａ・ｓ以上、さらに好ましくは１０５．３ｄ・Ｐａ・ｓ以上、特に好ましくは１０５．５ｄ・Ｐａ・ｓ以上である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、フュージョン法のときは、Ｔｄにおけるガラス粘度は１０７．０ｄ・Ｐａ・ｓ以下であることが好ましい。
成形方法がフロート法のときは、Ｔｃにおけるガラス粘度は、１０３．８ｄ・Ｐａ・ｓ以上であることが好ましく、より好ましくは１０３．９ｄ・Ｐａ・ｓ以上、さらに好ましくは１０４．０ｄ・Ｐａ・ｓ以上である。なお、他の物性確保の容易性を考慮すると、フロート法のときは、Ｔｃにおけるガラス粘度は１０７．０ｄ・Ｐａ・ｓ以下であることが好ましい。
（成形方法と失透温度）
成形可能性の判断は前段落に示した通り、失透温度における粘度を指標として用いるのが一般的である。しかし、前段落による方法においては、粘度を１０５．５ｄ・Ｐａ・ｓから１０３．８ｄ・Ｐａ・ｓまで連続的に測定する必要があるため、評価が煩雑である。そこで、簡便な評価の方法として、Ｔ４との差温度をとって評価してもよい。
成形可能性の判断は前段落に示した通り、失透温度における粘度を指標として用いるのが一般的である。しかし、前段落による方法においては、粘度を１０５．５ｄ・Ｐａ・ｓから１０３．８ｄ・Ｐａ・ｓまで連続的に測定する必要があるため、評価が煩雑である。そこで、簡便な評価の方法として、Ｔ４との差温度をとって評価してもよい。
本発明のガラス板の成形方法として、フロート法およびフュージョン法（ダウンドロー法）が適用できるが、板ガラス成形時の失透防止を考慮すると、ガラス板の物性としてフュージョン法のときは、Ｔ４−Ｔｄが好ましくは１００〜３５０℃であり、Ｔ４−Ｔｄ≧５０℃を満たすことが好ましく、Ｔ４−Ｔｄ≧１５０℃を満たすことがより好ましく、Ｔ４−Ｔｄ≧２００℃を満たすことがさらに好ましい。
また、フロート法のときは、Ｔ４−Ｔｃが好ましくは−５０〜３５０℃であり、Ｔ４−Ｔｃ≧−２０℃を満たすことが好ましく、Ｔ４−Ｔｃ≧−１０℃を満たすことがより好ましく、Ｔ４−Ｔｃ≧０℃を満たすことがさらに好ましい。
（Ｔ２）
本発明のガラス板は、粘度が１０２ｄ・Ｐａ・ｓとなる温度（Ｔ２）が、１８５０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１８００℃以下であり、より好ましくは１７５０℃以下であり、より好ましくは１７００℃以下であり、さらに好ましくは１６５０℃以下である。
本発明のガラス板は、粘度が１０２ｄ・Ｐａ・ｓとなる温度（Ｔ２）が、１８５０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１８００℃以下であり、より好ましくは１７５０℃以下であり、より好ましくは１７００℃以下であり、さらに好ましくは１６５０℃以下である。
（密度）
本発明のガラス板は、密度が２．５０ｇ／ｃｍ３以下であることがディスプレイ部材の軽量化のために好ましく、より好ましくは２．４５ｇ／ｃｍ３以下であり、さらに好ましくは２．４３ｇ／ｃｍ３以下であり、特に好ましくは２．４１ｇ／ｃｍ３以下である。なお、本発明のガラス板は、他の物性確保の容易性を考慮すると、密度は２．３５ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましい。
本発明のガラス板は、密度が２．５０ｇ／ｃｍ３以下であることがディスプレイ部材の軽量化のために好ましく、より好ましくは２．４５ｇ／ｃｍ３以下であり、さらに好ましくは２．４３ｇ／ｃｍ３以下であり、特に好ましくは２．４１ｇ／ｃｍ３以下である。なお、本発明のガラス板は、他の物性確保の容易性を考慮すると、密度は２．３５ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましい。
（光弾性定数）
本発明のガラス板は、光弾性定数が３３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３１ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であり、さらに好ましくは３０ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であり、特に好ましくは２９ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下である。
本発明のガラス板は、光弾性定数が３３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３１ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であり、さらに好ましくは３０ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であり、特に好ましくは２９ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下である。
ディスプレイ部材の製造工程やディスプレイ部材の使用時に発生した応力によってガラス板が複屈折性を有することにより、黒の表示がグレーとなりＬＣＤのコントラストが低下する現象が認められることがある。光弾性定数を３３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下とすることにより、この現象を小さく抑えることができる。
本発明のガラス板は、他の物性確保の容易性を考慮すると、光弾性定数が２７ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以上であることが好ましい。なお、光弾性定数は、円盤圧縮法により測定できる。
（ヤング率）
本発明のガラス板は、ヤング率が６６ＧＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは７０ＧＰａ以上であり、さらに好ましくは７４ＧＰａ以上である。本発明のガラス板は、ヤング率が８０ＧＰａ以下であることが好ましい。この範囲とすることにより、ディスプレイ部材を指などで押下した際のガラス板のたわみ量が小さくなり、周辺部材等との接触による破損の抑止が期待できる。
本発明のガラス板は、ヤング率が６６ＧＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは７０ＧＰａ以上であり、さらに好ましくは７４ＧＰａ以上である。本発明のガラス板は、ヤング率が８０ＧＰａ以下であることが好ましい。この範囲とすることにより、ディスプレイ部材を指などで押下した際のガラス板のたわみ量が小さくなり、周辺部材等との接触による破損の抑止が期待できる。
また、ディスプレイ部材製造工程において、ガラス板を搬送する際、二端を保持した時の中央部のたわみ量が小さく、ガラス板間で接触するなどのトラブルを抑止したり、ガラス板間のスペースを小さくしたりすることができるため一度での処理枚数が増え生産性が増加するなどのメリットがある。
また、一般的に、ヤング率が高いとガラス板の機械特性の向上、割れに対する耐久性の向上に寄与する。
（添加物）
本発明のガラス板は、好ましくは本質的に上記母組成からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有しても良い。その他の成分は、合計で２％以下含有してもよく、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下で含有することができる。
本発明のガラス板は、好ましくは本質的に上記母組成からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有しても良い。その他の成分は、合計で２％以下含有してもよく、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下で含有することができる。
たとえば、耐候性、溶解性、失透性、紫外線遮蔽、赤外線遮蔽、紫外線透過、赤外線透過等の改善を目的に、あるいは、使用後廃棄ディスプレイパネルのリサイクルによるカレット使用による不純物混入として、ＺｎＯ、Ｌｉ２Ｏ、ＷＯ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｖ２Ｏ５、Ｂｉ２Ｏ３、ＭｏＯ３、Ｐ２Ｏ５、Ｇａ２Ｏ３、Ｉ２Ｏ５、Ｉｎ２Ｏ５、Ｇｅ２Ｏ５等を含有してもよい。
（清澄剤）
本発明のガラス板は、ガラスの溶解性、清澄性を改善するため、ガラス中にＳＯ３、Ｆ、Ｃｌ、ＳｎＯ２を合量で２％以下含有するように、これらの原料を母組成原料に添加してもよい。
本発明のガラス板は、ガラスの溶解性、清澄性を改善するため、ガラス中にＳＯ３、Ｆ、Ｃｌ、ＳｎＯ２を合量で２％以下含有するように、これらの原料を母組成原料に添加してもよい。
また、ガラスの化学的耐久性向上のため、ガラス中にＺｒＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２を合量で２％以下含有させてもよく、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下で含有させる。これらのうちＹ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３およびＴｉＯ２は、ガラスのヤング率向上にも寄与する。
（着色剤）
本発明のガラス板は、ガラスの色調を調整するため、ガラス中にＦｅ２Ｏ３、ＣｅＯ２等の着色剤を含有してもよい。このような着色剤の含有量は、合量で１％以下が好ましい。
本発明のガラス板は、ガラスの色調を調整するため、ガラス中にＦｅ２Ｏ３、ＣｅＯ２等の着色剤を含有してもよい。このような着色剤の含有量は、合量で１％以下が好ましい。
本発明のガラス板は、環境負荷を考慮すると、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３を実質的に含有しないことが好ましい。また、安定してフロート成形することを考慮すると、ＺｎＯを実質的に含有しないことが好ましい。しかし、本発明のガラス板は、ガラスの引き出し速度が速い薄いガラスへの適用や、フュージョン法による成形による製造はより効果的である。
＜本発明のガラス板の製造方法および用途＞
本発明のガラス板は、ディスプレイ部材に適した化学強化用ガラス板として好適に用いることができる。以下、詳しく説明する。
本発明のガラス板は、ディスプレイ部材に適した化学強化用ガラス板として好適に用いることができる。以下、詳しく説明する。
（ガラス板の製造方法）
本発明におけるガラス板を製造する場合、従来のＴＦＴパネル用ガラス板、カバーガラス用ガラス板を製造する際と同様に、溶解、清澄、成形および徐冷工程を経る。
本発明におけるガラス板を製造する場合、従来のＴＦＴパネル用ガラス板、カバーガラス用ガラス板を製造する際と同様に、溶解、清澄、成形および徐冷工程を経る。
溶解工程は、得られるガラス板の組成となるように原料を調製し、前記原料を溶解炉に連続的に投入し、好ましくは１４５０〜１６５０℃程度に加熱して溶融ガラスを得る。
原料には酸化物、炭酸塩、水酸化物、場合により塩化物などのハロゲン化物なども使用できる。原料粒度も溶け残りが生じない程度の数百ミクロンの大きな粒径の原料から、原料搬送時の飛散が生じない、二次粒子として凝集しない程度の数ミクロン程度の小さな粒径の原料まで適宜使用できる。造粒体の使用も可能である。含水量、β−ＯＨ、Ｆｅの酸化還元度またはレドックス［Ｆｅ２＋／（Ｆｅ２＋＋Ｆｅ３＋）］などの溶解条件も適宜調整、使用できる。
清澄工程として、本発明におけるガラス板は、アルカリ金属酸化物（Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ）を含有するアルカリガラス板であるため、清澄剤としてＳＯ３を効果的に用いることができる。また、減圧による脱泡法を適用してもよい。減圧による脱泡法における清澄剤としてはＣｌやＦなどのハロゲンを使用するのが好ましい。
成形工程としてフロート法およびフュージョン法（ダウンドロー法）を適用してガラスリボンを得る。
徐冷工程として、ガラスリボンを好ましくは２０℃／分以上の冷却速度によって室温状態まで冷却し、切断後、ガラス板を得る。
（ガラス板の厚み）
本発明におけるガラス板の厚みは２ミリ以下が好ましい。ガラス板の厚みが２ミリ以下だと、ディスプレイあるいはセンサ一体型カバーガラス装着製品の薄型化と軽量化に貢献できる。好ましくは１．５ミリ以下、さらに好ましくは１．０ミリ以下、さらに好ましくは０．５ミリ以下、さらに好ましくは０．３ミリ以下である。
本発明におけるガラス板の厚みは２ミリ以下が好ましい。ガラス板の厚みが２ミリ以下だと、ディスプレイあるいはセンサ一体型カバーガラス装着製品の薄型化と軽量化に貢献できる。好ましくは１．５ミリ以下、さらに好ましくは１．０ミリ以下、さらに好ましくは０．５ミリ以下、さらに好ましくは０．３ミリ以下である。
（化学強化処理方法）
本発明におけるガラス板に化学強化処理を行う方法としては、ガラス表層のＮａイオンと溶融塩中のＫイオンとをイオン交換できるものであれば特に限定されないが、たとえば加熱された硝酸カリウム（ＫＮＯ３）溶融塩にガラスを浸漬する方法があげられる。
本発明におけるガラス板に化学強化処理を行う方法としては、ガラス表層のＮａイオンと溶融塩中のＫイオンとをイオン交換できるものであれば特に限定されないが、たとえば加熱された硝酸カリウム（ＫＮＯ３）溶融塩にガラスを浸漬する方法があげられる。
ガラスに所望の表面圧縮応力を有する化学強化層（圧縮応力層）を形成するための化学強化処理条件はガラス板であればその厚みなどによっても異なるが、３５０〜５５０℃のＫＮＯ３溶融塩に２〜２０時間、ガラス板を浸漬させることが典型的である。経済的な観点からは３５０〜５００℃、２〜１６時間の条件で浸漬させることが好ましく、より好ましい浸漬時間は２〜１０時間である。
化学強化の前もしくは後に、エッチング、研磨またはアニールを実施してもよい。各工程の順序、処理回数は特に問わない。
また、ガラスの切断は以後に示すタッチパネル作製の前、あるいは、後のどの段階で、一回もしくは複数回実施してもよい。ガラスの切断の方法は特に指定はなく公知の方法で実施できる。
（表面圧縮応力（ＣＳ））
本発明のガラス板に化学強化処理を行った後、または、エッチング、研磨、アニールを化学強化処理の前若しくは後に実施した後のガラス板の表面圧縮応力（ＣＳ）は、通常、５５０ＭＰａ以上であり、典型的には６５０ＭＰａ以上である。また、ガラスの厚みが２ｍｍを下回るような場合などには表面圧縮応力は１４００ＭＰａ以下であることが好ましい。１４００ＭＰａ超では内部引張応力（ＣＴ）が大きくなりすぎるおそれがある。より好ましくは１３００ＭＰａ以下、典型的には１２００ＭＰａ以下である。
本発明のガラス板に化学強化処理を行った後、または、エッチング、研磨、アニールを化学強化処理の前若しくは後に実施した後のガラス板の表面圧縮応力（ＣＳ）は、通常、５５０ＭＰａ以上であり、典型的には６５０ＭＰａ以上である。また、ガラスの厚みが２ｍｍを下回るような場合などには表面圧縮応力は１４００ＭＰａ以下であることが好ましい。１４００ＭＰａ超では内部引張応力（ＣＴ）が大きくなりすぎるおそれがある。より好ましくは１３００ＭＰａ以下、典型的には１２００ＭＰａ以下である。
（表面圧縮応力層の厚み（ＤＯＬ））
本発明のガラス板に化学強化処理を行った後、または、エッチング、研磨、アニールを化学強化処理の前若しくは後に実施した後のガラス板の表面圧縮応力層の厚み（ＤＯＬ）は、通常、１０μｍ超であることが好ましく、より好ましくは１５μｍ超、典型的には２０μｍ超である。
本発明のガラス板に化学強化処理を行った後、または、エッチング、研磨、アニールを化学強化処理の前若しくは後に実施した後のガラス板の表面圧縮応力層の厚み（ＤＯＬ）は、通常、１０μｍ超であることが好ましく、より好ましくは１５μｍ超、典型的には２０μｍ超である。
また、ガラスの厚みが２ｍｍを下回るような場合などには表面圧縮応力層の厚みは９０μｍ以下であることが好ましい。９０μｍ超では内部引張応力（ＣＴ）が大きくなりすぎるおそれがある。より好ましくは８０μｍ以下、典型的には７０μｍ以下である。
（内部引張応力（ＣＴ））
本発明のガラス板に化学強化処理を行った後、または、エッチング、研磨、アニールを化学強化処理の前若しくは後に実施した後のガラス板の内部引張応力（ＣＴ）は５０ＭＰａ以下であることが好ましい。好ましくは４５ＭＰａ以下、さらに好ましくは４０ＭＰａ以下、最も好ましくは３０ＭＰａ以下である。内部引張応力（ＣＴ）は、表面圧縮応力（ＣＳ）と表面圧縮応力層の厚み（ＤＯＬ）とガラスの厚み（ｔ）より次式で計算される。
ＣＴ＝ＣＳ×ＤＯＬ／（ｔ−２×ＤＯＬ）
本発明のガラス板に化学強化処理を行った後、または、エッチング、研磨、アニールを化学強化処理の前若しくは後に実施した後のガラス板の内部引張応力（ＣＴ）は５０ＭＰａ以下であることが好ましい。好ましくは４５ＭＰａ以下、さらに好ましくは４０ＭＰａ以下、最も好ましくは３０ＭＰａ以下である。内部引張応力（ＣＴ）は、表面圧縮応力（ＣＳ）と表面圧縮応力層の厚み（ＤＯＬ）とガラスの厚み（ｔ）より次式で計算される。
ＣＴ＝ＣＳ×ＤＯＬ／（ｔ−２×ＤＯＬ）
内部引張応力（ＣＴ）が大きいとガラスが破壊する際に細片となって粉々に飛散する傾向が強くなる。
（ＴＦＴとインセル型）
（構成と効果）
本発明のガラス板は、ＴＦＴパネルまたはインセル型タッチパネル（以下、「態様１」という。）に好適に用いることができる。態様１の断面図を図６に示す。上部がタッチ面、ディスプレイの視認側になる。上部より押下された力によりカラーフィルタ基板１１０とアレイ基板１３０の裏面、それぞれ１１０ｂと１３０ｂには引張応力が発生する。
（構成と効果）
本発明のガラス板は、ＴＦＴパネルまたはインセル型タッチパネル（以下、「態様１」という。）に好適に用いることができる。態様１の断面図を図６に示す。上部がタッチ面、ディスプレイの視認側になる。上部より押下された力によりカラーフィルタ基板１１０とアレイ基板１３０の裏面、それぞれ１１０ｂと１３０ｂには引張応力が発生する。
そのためこの面に化学強化による圧縮応力がかかっていると、パネルの強度向上に大きな効果がある。また、それぞれの表面（裏面の反対面）についても、化学強化による圧縮応力がかかっていると、パーティクルあるいはスペーサによる押し込み応力による基板の破壊に対する強度向上に大きな効果がある。
すなわち、カラーフィルタ基板１１０の表面１１０ａに対しては、偏光板１００とカラーフィルタ基板１１０に挟まれたパーティクル粒子による、押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。アレイ基板の表面１３０ａに対してはスペーサ１４０の押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。
（ＴＦＴとインセル型）
（アレイ基板等の製造方法）
アレイ基板またはタッチセンサを内臓したアレイ基板（以下、「アレイ基板等」という。）として、本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板を使用する際に、本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板の表面にゲート絶縁膜を成膜する成膜工程を具備する態様１の製造方法について説明する。
（アレイ基板等の製造方法）
アレイ基板またはタッチセンサを内臓したアレイ基板（以下、「アレイ基板等」という。）として、本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板を使用する際に、本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板の表面にゲート絶縁膜を成膜する成膜工程を具備する態様１の製造方法について説明する。
本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板を用いた態様１の製造方法は、本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板の表面の成膜領域を１５０〜３００℃の範囲内の温度（以下、成膜温度という）まで昇温した後、前記成膜温度で５〜６０分間保持して、前記成膜領域に前記アレイ基板ゲート絶縁膜を成膜する成膜工程を具備するものであれば特に限定されない。
ここで成膜温度は１５０〜２５０℃であることが好ましく、１５０〜２３０℃であることがより好ましく、１５０〜２００℃であることがさらに好ましい。また、この成膜温度に保持する時間は５〜３０分間であることが好ましく、５〜２０分間であることがより好ましく、５〜１５分間であることがさらに好ましい。
ゲート絶縁膜の成膜は前記のような成膜温度および保持時間の範囲内で行われるので、この間にガラス板が熱収縮する。本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板はコンパクション（Ｃ）が小さいので、成膜パターンのずれが生じ難い。
成膜工程における成膜は、例えば従来公知のＣＶＤ法によって達成することができる。
（ＴＦＴとインセル型）
（パネルへの組み立て方法）
本発明に係る態様１の製造方法では、前記アレイ基板等と公知のカラーフィルタ基板を用いて製造することができる。
（パネルへの組み立て方法）
本発明に係る態様１の製造方法では、前記アレイ基板等と公知のカラーフィルタ基板を用いて製造することができる。
すなわち、前記アレイ基板等、カラーフィルタ基板各々に配向膜を形成し、ラビングを行う配向処理工程、ＴＦＴアレイ基板等とカラーフィルタ基板を通常の球状のスペーサーを使用し、所定の基板間ギャップを保持して高精度で貼り合せる貼り合せ工程、基板よりセルを所定サイズに分断する分断工程、分断されたセルに液晶を注入する注入工程、セルに偏光板を貼り付ける偏光板貼り付け工程からなる一連の工程によりＴＦＴパネル等を製造することができる。
カラーフィルタ基板にタッチセンサアレイを作製してもよい。カラーフィルタ基板には本発明のガラス板を使用してもよいし、使用しなくてもよい。高い強度を付与するには本発明の板を使用することが好ましい。
（オンセル型）
（構成と効果）
本発明のガラス板は、オンセル型タッチパネル（以下、「態様２」という。）に好適に用いることができる。態様２の断面図を図７に示す。
（構成と効果）
本発明のガラス板は、オンセル型タッチパネル（以下、「態様２」という。）に好適に用いることができる。態様２の断面図を図７に示す。
態様１では２枚のガラス板が使用されるが、態様２ではもう一枚、「タッチセンサ板」が使用される。態様２では、３枚のガラス板のうち少なくとも１枚に、本発明のガラス板を使用する。
図７において、上部がタッチ面、ディスプレイの視認側になる。態様２ではタッチセンサ板１６０が偏光板１００の内側に挿入されている。上部より押印された力により、タッチセンサ板１６０、カラーフィルタ基板１１０、アレイ基板１３０のそれぞれの裏面、それぞれ１６０ｂ、１１０ｂと１３０ｂには引張応力が発生する。そのためこの面に化学強化による圧縮応力がかかっていると、パネルの強度向上に大きな効果がある。
また、それぞれの表面（裏面の反対面）についても、化学強化による圧縮応力がかかっていると、パーティクルあるいはスペーサによる押し込み応力による基板の破壊に対する強度向上に大きな効果がある。
すなわち、タッチセンサ板１６０の表面１６０ａでは、偏光板１００とタッチセンサ板１６０の間に挟まれたパーティクル粒子による押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。カラーフィルタ基板１１０の表面１１０ａでは、タッチセンサ板１６０との間に挟まれたパーティクル粒子による押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。アレイ基板の表面１３０ａに対してはスペーサ１４０の押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。
（アウトセル型）
（構成と効果）
本発明のガラス板は、アウトセル型タッチパネル（以下、「態様３」という。）に好適に用いることができる。態様３の断面図を図８に示す。
（構成と効果）
本発明のガラス板は、アウトセル型タッチパネル（以下、「態様３」という。）に好適に用いることができる。態様３の断面図を図８に示す。
態様１では２枚のガラス板が使用されるが、態様３ではもう一枚、「タッチセンサ板」が使用される。態様３では、３枚のガラス板のうち少なくとも１枚に、本発明のガラス板を使用する。
図８において、上部がタッチ面、ディスプレイの視認側になる。態様３では、タッチセンサ板１６０が偏光板１００の外側に挿入されている。上部より押印された力により、タッチセンサ板１６０、カラーフィルタ基板１１０、アレイ基板１３０のそれぞれの裏面、それぞれ１６０ｂ、１１０ｂ、１３０ｂには引張応力が発生する。そのためこの面に化学強化による圧縮応力がかかっていると、パネルの強度向上に大きな効果がある。
また、それぞれの表面（裏面の反対面）についても、化学強化による圧縮応力がかかっていると、パーティクルあるいはスペーサによる押し込み応力による基板の破壊に対する強度向上に大きな効果がある。すなわち、タッチセンサ板１６０の表面１６０ａ、に対しては、タッチセンサ表面の日常生活空間に存在するパーティクル粒子、砂、繊維等による、押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。
カラーフィルタ基板１１０の表面１１０ａでは、偏光板１００との間に挟まれたパーティクル粒子による押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。アレイ基板の表面１３０ａに対してはスペーサ１４０の押し込み応力に対する破壊抑止効果がある。
（タッチセンサ板の構成１）
図３のタッチセンサ板１０において、第１透明導電膜１４は、図中ｘ方向に延在して、このｘ方向と直交するｙ方向に、複数が配列される。他方、第２透明導電膜１６は、図中ｙ方向に延在して、ｘ方向に、複数が配列される。大面積部１４ａおよび大面積部１６ａは、互いに離間して、ｘ方向およびｙ方向に交互になるように配列され、入力位置検出を向上させるためにもうけられる。従って、第１透明導電膜１４と第２透明導電膜１６とは、接続部１４ｂと接続部１６ｂとで交差するように形成される。
図３のタッチセンサ板１０において、第１透明導電膜１４は、図中ｘ方向に延在して、このｘ方向と直交するｙ方向に、複数が配列される。他方、第２透明導電膜１６は、図中ｙ方向に延在して、ｘ方向に、複数が配列される。大面積部１４ａおよび大面積部１６ａは、互いに離間して、ｘ方向およびｙ方向に交互になるように配列され、入力位置検出を向上させるためにもうけられる。従って、第１透明導電膜１４と第２透明導電膜１６とは、接続部１４ｂと接続部１６ｂとで交差するように形成される。
接続部１４ｂおよび接続部１６ｂの典型的な線幅は１０〜５０μｍ程度である。そのため、使用ガラス板の一辺が１ｍ程度以上となると１０〜５０μｍ／１ｍ＝１０〜５０ｐｐｍの寸法精度が要求されてくる。今後センサの高精細化に伴っては線幅の狭幅化が予想される。
（タッチセンサ板の構成２）
図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、第１透明導電膜１４と第２透明導電膜１６との交差部すなわち接続部１４ｂと接続部１６ｂとの交差部では、第２透明導電膜１６をｘ方向に跨ぐように交差部絶縁膜２８が形成されている。
図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、第１透明導電膜１４と第２透明導電膜１６との交差部すなわち接続部１４ｂと接続部１６ｂとの交差部では、第２透明導電膜１６をｘ方向に跨ぐように交差部絶縁膜２８が形成されている。
また、この交差部においては、第１透明導電膜１４は、この交差部絶縁膜２８の上に、交差部絶縁膜２８および第２透明導電膜１６をｘ方向に跨ぐように形成されている。これにより、第１透明導電膜１４と第２透明導電膜１６とを絶縁状態で交差させるジャンパ部（クロスオーバ部）が形成され、互いに交差して形成される第１透明導電膜１４と第２透明導電膜１６との絶縁状態が保たれる。
（タッチセンサ板の構成３）
図３のタッチセンサ板１０において、透明導電膜１４および１６の形成材料は、静電容量型のタッチセンサにおいてセンサ部を形成するために用いられる、公知の透明（光透過性を有する）な導電性材料が、各種、利用可能である。
図３のタッチセンサ板１０において、透明導電膜１４および１６の形成材料は、静電容量型のタッチセンサにおいてセンサ部を形成するために用いられる、公知の透明（光透過性を有する）な導電性材料が、各種、利用可能である。
具体的には、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）およびＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等が挙げられる。中でも、ＩＴＯは、好適に利用される。交差部絶縁膜２８の形成材料は、公知の透明な絶縁性材料が、各種、利用可能である。具体的には、アクリル系、ポリイミド系等の各種フォトレジスト等が例示される。
（タッチセンサ板の構成４）
図４は、タッチセンサ板１０を概念的に示す平面図である。図４において、遮光膜１８は、ガラス板１２のセンサ面外周部に形成され、遮光性を有する絶縁性の膜である。遮光膜１８は、タッチセンサ板１０と組み合わされるディスプレイからの漏れ光の遮光、タッチセンサを駆動するため金属配線２０やＩＣの隠蔽等のために設けられる。
図４は、タッチセンサ板１０を概念的に示す平面図である。図４において、遮光膜１８は、ガラス板１２のセンサ面外周部に形成され、遮光性を有する絶縁性の膜である。遮光膜１８は、タッチセンサ板１０と組み合わされるディスプレイからの漏れ光の遮光、タッチセンサを駆動するため金属配線２０やＩＣの隠蔽等のために設けられる。
図４および図３（Ｄ）に示すように、遮光膜１８の上（センサ面１２ｂ）には、金属配線２０が形成される。金属配線２０は、第１透明導電膜１４および第２透明導電膜１６の数に応じて、複数が形成されており、個々の金属配線２０は、一端が、第１透明導電膜１４もしくは第２透明導電膜１６に接続される。
また、個々の金属配線２０の他端側は、タッチセンサ駆動用ＩＣを同基板に作製する場合は同ＩＣに、駆動用ＩＣを同基板に作製しない場合は、例えば、タッチセンサ板１０に組み合わされるディスプレイに接続されるフレキシブル配線基板３０に接続される。この金属配線２０を有することにより、ＩＴＯ等からなる透明導電膜の導電性の低さを補って、センサからの信号を容易に取り出すことが可能になる。
図３のタッチセンサ板１０において、金属配線２０は、各種の金属材料が利用可能である。具体的には、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層の金属材料（ＭＡＭ）、Ｍｏ−Ｎｂ合金／Ａｌ／Ｍｏ−Ｎｂ合金の３層の金属材料、Ｍｏ−Ｎｂ合金／Ａｌ−Ｎｂ合金／Ｍｏ−Ｎｂ合金の３層の金属材料等が例示される。
（タッチセンサ板の構成５）
タッチパネルの大型化、高精細化にともない、金属配線数が増加することが容易に想像される。金属配線数の増加は遮光膜１８の幅の増加をもたらし、センサに関与しない、いわば無駄な面積の増大をもたらす。もしくは金属線の線幅を細く必要があり、寸法精度が厳しくなる。
タッチパネルの大型化、高精細化にともない、金属配線数が増加することが容易に想像される。金属配線数の増加は遮光膜１８の幅の増加をもたらし、センサに関与しない、いわば無駄な面積の増大をもたらす。もしくは金属線の線幅を細く必要があり、寸法精度が厳しくなる。
（タッチセンサ板の作製方法１）
以下、図５のフローチャートを参照して、タッチセンサ板１０の製造方法の一例を説明する。なお、本発明のタッチセンサ板１０は、この手順で製造するのに限定はされない。各膜の形成方法も、以下に示す例に限定はされず、膜の形成材料等に応じて、公知のタッチセンサ板で用いられている各種の方法が利用可能である。
以下、図５のフローチャートを参照して、タッチセンサ板１０の製造方法の一例を説明する。なお、本発明のタッチセンサ板１０は、この手順で製造するのに限定はされない。各膜の形成方法も、以下に示す例に限定はされず、膜の形成材料等に応じて、公知のタッチセンサ板で用いられている各種の方法が利用可能である。
（タッチセンサ板の作製方法２遮光膜）
本発明のガラス板は、オンセル型あるいはアウトセル型タッチパネル用のセンサ板用の化学強化用ガラス板に好適に用いることができる。
本発明のガラス板は、オンセル型あるいはアウトセル型タッチパネル用のセンサ板用の化学強化用ガラス板に好適に用いることができる。
本発明のガラス板に化学強化を施したガラス板の表面に、まず、アクティブエリアＡとなる領域を囲むように（図４参照）、ガラス板１２に遮光膜１８を印刷する。印刷方法によっては、熱処理（熱工程１）が実施される。遮光膜１８の印刷は、タッチパネルの製造で利用されている公知の方法によればよい。
（タッチセンサ板の作製方法３交差部透明導電膜）
次いで、後に第２透明導電膜１６の一部となる交差部透明導電膜１６ｂとなるＩＴＯ等を全面に成膜する。ＩＴＯ等の成膜は、スパッタリング等の公知の方法で行えばよい。この時、ガラス板は１５０〜３００℃、５〜６０分間の熱処理（熱工程２）が実施される。続いてパターニングを行う。パターニングもフォトリソグラフィを利用する方法等の公知の方法で行えばよい。
次いで、後に第２透明導電膜１６の一部となる交差部透明導電膜１６ｂとなるＩＴＯ等を全面に成膜する。ＩＴＯ等の成膜は、スパッタリング等の公知の方法で行えばよい。この時、ガラス板は１５０〜３００℃、５〜６０分間の熱処理（熱工程２）が実施される。続いてパターニングを行う。パターニングもフォトリソグラフィを利用する方法等の公知の方法で行えばよい。
（タッチセンサ板の作製方法４交差部絶縁膜）
次いで、絶縁膜を交差部透明導電膜１６ｂ上に全面に成膜する。この時、熱処理（熱工程３）が実施される。次いで、交差部透明導電膜１６ｂの一部を露出させるようにパターニングを行い、交差部絶縁膜２８を形成する。この時、熱工程１〜３にてガラスが大きく収縮すると交差部透明導電膜１６ｂの一部が露出せず、断線する不具合等が発生する可能性がある。あるいは、ガラスの収縮量を補正したパターニングのための露光マスクを用意する必要があり、コストがかかる。成膜方法およびパターニングは、交差部絶縁膜２８の形成材料に応じた公知の方法で行えばよい。
次いで、絶縁膜を交差部透明導電膜１６ｂ上に全面に成膜する。この時、熱処理（熱工程３）が実施される。次いで、交差部透明導電膜１６ｂの一部を露出させるようにパターニングを行い、交差部絶縁膜２８を形成する。この時、熱工程１〜３にてガラスが大きく収縮すると交差部透明導電膜１６ｂの一部が露出せず、断線する不具合等が発生する可能性がある。あるいは、ガラスの収縮量を補正したパターニングのための露光マスクを用意する必要があり、コストがかかる。成膜方法およびパターニングは、交差部絶縁膜２８の形成材料に応じた公知の方法で行えばよい。
（タッチセンサ板の作製方法５透明導電膜）
次いで、第１透明導電膜１４、および交差部透明導電膜１６ｂを除く第２透明導電膜１６となるＩＴＯ等を全面に成膜する。この時、ガラス板は１５０〜３００℃、５〜６０分間の熱処理（熱工程４）が実施される。続いて、パターニングを行うことで、透明センサ配線部分を完成する。
次いで、第１透明導電膜１４、および交差部透明導電膜１６ｂを除く第２透明導電膜１６となるＩＴＯ等を全面に成膜する。この時、ガラス板は１５０〜３００℃、５〜６０分間の熱処理（熱工程４）が実施される。続いて、パターニングを行うことで、透明センサ配線部分を完成する。
この時、熱工程１〜４にてガラスが大きく収縮すると、交差部透明導電膜１６ｂと交差部透明導電膜１６ｂを除いた透明導電膜１６が断線する可能性や、第１透明導電膜１４が交差部絶縁膜２８を超えて第２透明導電膜１６と短絡する可能性が考えられる。
あるいは、ガラスの収縮量を補正したパターニングのための露光マスクを用意する必要があり、コストがかかる。先と同様、ＩＴＯ等の成膜は、スパッタリング等の公知の方法で行えばよく、パターニングも、公知の方法で行えばよい。さらに、遮光膜１８の上に金属配線２０を形成し、パターニングする。
（タッチセンサ板の作製方法６保護絶縁膜）
次いで、ガラス板１２のセンサ面１２ｂａを全面的に覆うように、保護絶縁膜２４を成膜し、タッチパネルセンサを駆動するため金属配線２０やＩＣ部分などの必要な部分を露出するように、パターニングを行う。成膜方法およびパターニングは、保護絶縁膜２４の形成材料に応じた公知の方法で行えばよい。
次いで、ガラス板１２のセンサ面１２ｂａを全面的に覆うように、保護絶縁膜２４を成膜し、タッチパネルセンサを駆動するため金属配線２０やＩＣ部分などの必要な部分を露出するように、パターニングを行う。成膜方法およびパターニングは、保護絶縁膜２４の形成材料に応じた公知の方法で行えばよい。
以下、実施例および製造例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例および製造例に限定されない。
本発明のガラス板の実施例（例１〜１３、１８〜２２）および比較例（例１４〜１７、２３〜２５）を示す。なお表中のかっこは、計算値である。
表１〜４で表示した組成になるように、ガラス板用の各成分の原料を調合し、該ガラス板用成分の原料１００質量部に対し、硫酸塩をＳＯ３換算で０．１質量部原料に添加し、白金坩堝を用いて１６００℃の温度で３時間加熱し溶解した。溶解にあたっては、白金スターラーを挿入し１時間攪拌しガラスの均質化を行った。次いで溶融ガラスを流し出し、冷却後、板状に研削、研磨加工した。
こうして得られたガラスの５０〜３５０℃における平均熱膨張係数（単位：×１０−７／℃）、ガラス転移温度（Ｔｇ）（単位：℃）、密度、Ｔ４、コンパクション（Ｃ）、光弾性定数、ヤング率、失透温度（ガラス表面失透温度（Ｔｃ）、ガラス内部失透温度（Ｔｄ））、Ｔ４、Ｔｄにおけるガラス粘度（単位：ｄＰａ・ｓ）を測定し、また、Ｔ４−ＴｃとＴ４−Ｔｄを算出し、表１〜３に示した。以下に各物性の測定方法を示す。
（１）Ｔｇ：ＴｇはＴＭＡを用いて測定した値であり、ＪＩＳ Ｒ３１０３−３（２００１年度）により求めた。
（２）密度：泡を含まない約２０ｇのガラス板をアルキメデス法によって測定した。
（２）密度：泡を含まない約２０ｇのガラス板をアルキメデス法によって測定した。
（３）Ｔ４：回転粘度計を用いて粘度を測定し、１０４ｄＰａ・ｓとなるときの温度Ｔ４（℃）を測定した。
また、溶融ガラスの高温（１０００〜１６００℃）におけるガラス粘度の測定結果から、フルチャーの式の係数を求め、該係数を用いたフルチャーの式により、ガラス内部失透温度（Ｔｄ）におけるガラス粘度を求めた。
（４）コンパクション（Ｃ）：前述のコンパクション（Ｃ）の測定方法により測定した。
また、溶融ガラスの高温（１０００〜１６００℃）におけるガラス粘度の測定結果から、フルチャーの式の係数を求め、該係数を用いたフルチャーの式により、ガラス内部失透温度（Ｔｄ）におけるガラス粘度を求めた。
（４）コンパクション（Ｃ）：前述のコンパクション（Ｃ）の測定方法により測定した。
（５）５０〜３５０℃の平均熱膨張係数：示差熱膨張計（ＴＭＡ）を用いて測定し、ＪＩＳ Ｒ３１０２（１９９５年度）より求めた。
（６）失透温度［ガラス表面失透温度（Ｔｃ）およびガラス内部失透温度（Ｔｄ）］：白金製皿に粉砕されたガラス粒子を入れ、一定温度に制御された電気炉中で１７時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの表面に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値をガラス表面失透温度Ｔｃ（℃）、またガラスの内部に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値をガラス内部失透温度Ｔｄ（℃）とする。
（７）光弾性定数：光源として５４６ｎｍの光を使用して、円盤圧縮法により測定した。
（８）ヤング率：厚み７〜１０ｍｍのガラスについて、超音波パルス法により測定した。
ガラス中のＳＯ３残存量は１００〜５００ｐｐｍであった。
表１〜表４より明らかなように、実施例（例１〜１３、１８〜２２）のガラスは、ガラス転移温度Ｔｇが高い。また、実施例のガラスは５０〜３５０℃における平均熱膨張係数が６５×１０−７〜８５×１０−７／℃であるので、ディスプレイ部材製造工程での寸法変化が少なく、カラーフィルタとアレイ板の合せ時のパターン合せが容易となる。さらに、パネル使用時の熱応力による品質への影響が少ないことから、特に表示品質面で好ましい。
また、コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下であるため、ガラス板上の成膜パターニング時の位置ずれが生じにくい。したがって、近年の熱処理の低温化に対応した、特に大型のディスプレイ部材製造用のガラス板、例えば、マザーガラスとして一辺が２ｍ以上のガラス板として好適に用いることができる。
また、例１〜１３は、Ｔ４−Ｔｃが−５０〜３５０℃、またはＴ４−Ｔｄが−５０〜３５０℃を満たしており、板ガラス成形時の失透が抑えられる。
また、例６，７，１１，１２，１３は、Ｔ４−Ｔｄが１００〜３５０℃、Ｔｄにおけるガラス粘度が１０４．７ｄ・Ｐａ・ｓ以上であり、フュージョン法による成形に適している。
なお、例１８についても、各物性値（Ｔｃ、Ｔｄ、Ｔ４、Ｔ４−Ｔｃ、Ｔ４−Ｔｄ、光弾性定数、ヤング率）は本発明の範囲を満たすものである。
例１４は、コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍより大きく、ディスプレイ部材製造工程での寸法変化が大きく、カラーフィルタとアレイ板の合せ時のパターン合せが困難となり、ガラス板上の成膜パターニング時の位置ずれが生じ易い。
例１６、１７は、ガラス転移温度が５８０℃未満であり、アルカリの移動度の増大や耐熱性に問題が生じる可能性がある。
表１〜３に示したガラスのコンパクション（Ｃ）はいずれも５０℃／分にて冷却を行ったガラス板のコンパクション値を示した。表４には５０℃／分、７０℃／分、１５０℃／分、３００℃／分の各冷却速度にて冷却を行ったガラス板のコンパクション値を示した。また、その後、アニール処理（６３０〜６５０℃１ｈ保持、その後３０℃／ｈ冷却）、あるいは化学強化処理（４３５℃４ｈ）の実施の有無別のコンパクション値を示した。
例１９には、例１９に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分、７０℃／分、１５０℃／分、３００℃／分、の各冷却速度にて室温まで冷却した後、化学強化処理したガラス板のそれぞれのコンパクション（Ｃ）を示した。
例２０には、例２０に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分の冷却速度にて室温まで冷却した後のコンパクション（Ｃ）を示した。
例２１には、例２１に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分の冷却速度にて室温まで冷却した後、アニール処理を実施し、その後、化学強化処理したガラス板のそれぞれのコンパクション（Ｃ）を示した。
例２２には、例２２に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分、７０℃／分、１５０℃／分、３００℃／分、の各冷却速度にて室温まで冷却した後、化学強化処理したガラス板のそれぞれのコンパクション（Ｃ）を示した。
例２３には、例２３に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分の冷却速度にて室温まで冷却した後のコンパクション（Ｃ）を示した。
例２４には、例２４に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分の冷却速度にて室温まで冷却した後、アニール処理を実施し、その後、化学強化処理したガラス板のそれぞれのコンパクション（Ｃ）を示した。
例２５には、例２５に示した組成のガラス板を転移温度Ｔｇ＋５０℃まで加熱し、この温度で１分間保持した後、５０℃／分、７０℃／分、１５０℃／分、３００℃／分、の各冷却速度にて室温まで冷却した後、化学強化処理したガラス板のそれぞれのコンパクション（Ｃ）を示した。
例２１〜２３、および、例２４〜２５には、２つのガラス組成の、アニール処理および化学強化処理のコンパクション（Ｃ）への影響を示す。コンパクション（Ｃ）に対して、アニール処理および化学強化処理は、改善効果はなく、むしろ、増大傾向を示した。
例１９、２２、２５、および図２には、３つのガラス組成の、化学強化処理の、仮想粘度に対するコンパクション（Ｃ）への影響を示す。
仮想粘度が１０１２．４ｄ・Ｐａ・ｓ（冷却速度５０℃／分）におけるコンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下であるガラス（例１９、２２）では仮想粘度が低くなっても（冷却速度が速くなっても）低コンパクションを維持できているのに対し、仮想粘度が１０１２．４ｄ・Ｐａ・ｓ（冷却速度５０℃／分）におけるコンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ超であるガラス（例２５）では仮想粘度が低くなった場合の（冷却速度が速くなった場合の）コンパクションの増大が顕著であることが分かる。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更および変形が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお本出願は、２０１３年４月２５日付で出願された日本特許出願（特願２０１３−０９２０４５）に基づいており、その全体が引用により援用される。
本発明のガラス板は、タッチパネルセンサを有する液晶ディスプレイ部材用ガラス板として好適であるが、タッチパネルセンサを有する他のディスプレイ用板、例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、無機エレクトロ・ルミネッセンス・ディスプレイ等に使用することができる。
１０ タッチセンサ板
１２ ガラス板
１４ 第１透明導電膜
１６ 第２透明導電膜
１８ 遮光膜
２０ 金属配線
２４ 保護絶縁膜
２８ 交差部絶縁膜
３０ フレキシブル配線基板
１００ 偏光板
１１０ カラーフィルタ基板
１２０ 液晶
１３０ アレイ基板
１４０ スペーサ
１５０ 封止剤
１６０ タッチセンサ板
１１０ａ カラーフィルタ基板の表面
１１０ｂ カラーフィルタ基板の裏面
１３０ａ アレイ基板の表面
１３０ｂ アレイ基板の裏面
１６０ａ タッチセンサ板の表面
１６０ｂ タッチセンサ板の裏面
１２ ガラス板
１４ 第１透明導電膜
１６ 第２透明導電膜
１８ 遮光膜
２０ 金属配線
２４ 保護絶縁膜
２８ 交差部絶縁膜
３０ フレキシブル配線基板
１００ 偏光板
１１０ カラーフィルタ基板
１２０ 液晶
１３０ アレイ基板
１４０ スペーサ
１５０ 封止剤
１６０ タッチセンサ板
１１０ａ カラーフィルタ基板の表面
１１０ｂ カラーフィルタ基板の裏面
１３０ａ アレイ基板の表面
１３０ｂ アレイ基板の裏面
１６０ａ タッチセンサ板の表面
１６０ｂ タッチセンサ板の裏面
Claims (6)
- 仮想粘度が１０１２．８ｄ・Ｐａ・ｓ以下であって、
下記酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２を６０〜７９％、
Ａｌ２Ｏ３を２．５〜１８％、
Ｂ２Ｏ３を０〜３％、
ＭｇＯを１〜１５％、
ＣａＯを０〜１％、
ＳｒＯを０〜１％、
ＢａＯを０〜１％、
ＺｒＯ２を０〜１％、
Ｎａ２Ｏを７〜１５．５％、
Ｋ２Ｏを０〜０．５％、
Ｌｉ２Ｏを０〜２％含有し、
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが７〜１５．５％、
Ｎａ２Ｏ／（Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）が０．９〜１、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１〜１８％、
ＭｇＯ−０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜８であり、
ＭｇＯ＋０．５Ａｌ２Ｏ３が１〜２０であり、
ガラス転移温度が５８０〜７２０℃であり、
コンパクション（Ｃ）が２０ｐｐｍ以下である化学強化用ガラス板。 - 光弾性定数が２７〜３３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍである請求項１に記載の化学強化用ガラス板。
- 粘度が１０４ｄＰａ・Ｓとなる温度（Ｔ４）とガラス表面失透温度（Ｔｃ）との関係が、Ｔ４−Ｔｃ≧−２０℃である請求項１または２に記載の化学強化用ガラス板。
- 粘度が１０４ｄＰａ・Ｓとなる温度（Ｔ４）とガラス内部失透温度（Ｔｄ）との関係が、Ｔ４−Ｔｄ≧５０℃である請求項１または２に記載の化学強化用ガラス板。
- フロート法を用いて成形されたものである、請求項３に記載の化学強化用ガラス板。
- フュージョン法を用いて成形されたものである、請求項４に記載の化学強化用ガラス板。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013092045 | 2013-04-25 | ||
| JP2013092045 | 2013-04-25 | ||
| PCT/JP2014/060869 WO2014175144A1 (ja) | 2013-04-25 | 2014-04-16 | 化学強化用ガラス板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2014175144A1 true JPWO2014175144A1 (ja) | 2017-02-23 |
Family
ID=51791723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015513709A Withdrawn JPWO2014175144A1 (ja) | 2013-04-25 | 2014-04-16 | 化学強化用ガラス板およびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2014175144A1 (ja) |
| CN (1) | CN105189385A (ja) |
| TW (1) | TW201500314A (ja) |
| WO (1) | WO2014175144A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9359251B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles |
| US11079309B2 (en) | 2013-07-26 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Strengthened glass articles having improved survivability |
| US9517968B2 (en) | 2014-02-24 | 2016-12-13 | Corning Incorporated | Strengthened glass with deep depth of compression |
| TWI729925B (zh) | 2014-06-19 | 2021-06-01 | 美商康寧公司 | 無易碎應力分布曲線的玻璃 |
| CN206580739U (zh) | 2014-10-08 | 2017-10-24 | 康宁股份有限公司 | 玻璃基制品 |
| US10150698B2 (en) | 2014-10-31 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Strengthened glass with ultra deep depth of compression |
| TWI726720B (zh) | 2014-11-04 | 2021-05-01 | 美商康寧公司 | 深不易碎的應力分佈及其製造方法 |
| US11613103B2 (en) | 2015-07-21 | 2023-03-28 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
| US10579106B2 (en) | 2015-07-21 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
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| CN114349368B (zh) * | 2016-01-21 | 2022-11-25 | Ａｇｃ株式会社 | 化学强化玻璃以及化学强化用玻璃 |
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- 2014-04-16 CN CN201480023702.XA patent/CN105189385A/zh active Pending
- 2014-04-16 WO PCT/JP2014/060869 patent/WO2014175144A1/ja active Application Filing
- 2014-04-16 JP JP2015513709A patent/JPWO2014175144A1/ja not_active Withdrawn
- 2014-04-25 TW TW103115081A patent/TW201500314A/zh unknown
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| TW201500314A (zh) | 2015-01-01 |
| CN105189385A (zh) | 2015-12-23 |
| WO2014175144A1 (ja) | 2014-10-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180206 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20180214 |