JPWO2014162396A1 - 粒子線照射室及び粒子線治療装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の粒子線照射室及び粒子線照射室を備えた粒子線治療装置を説明する。図1は本発明の実施の形態1による粒子線照射室を示す図であり、図2は本発明の実施の形態1による患者搬送の際の患者姿勢を説明する図である。図3は本発明の粒子線照射室を備えた粒子線治療装置の概略構成図であり、図4は図3の粒子線照射装置の構成を示す図である。図5は本発明の患者位置設定装置を示す図である。図6は図5の患者台を示す図であり、図7は図5の搬送装置を示す図である。本発明の実施の形態1による粒子線照射室20(適宜、照射室と称する)は、遮蔽壁21に囲まれた照射実行室22及び直線通行可能な通路23と、照射室入口30に設置された遮蔽扉24とを備える。照射室20には、患者台2と、患者台2に載置された患者45に荷電粒子ビーム31を照射する粒子線照射装置58の下流側である照射ノズル1が配置される。患者45は前室扉26を有する前室25に設置された患者台2で位置決めされ、天板5に固定された患者45は位置決め状態を保ったまま廊下27、照射室入口30、照射室20の通路23、照射実行室入口29を経由して、搬送経路28に沿って、照射室20の照射実行室22における患者台2の位置まで搬送される。
図9は本発明の実施の形態2による粒子線照射室を示す図である。実施の形態2の粒子線照射室20は、実施の形態1の粒子線照射室20とは、照射実行室入口29にも遮蔽扉24を設けた点で異なる。図9では、天板5に載置された患者45を搬送する際の遮蔽扉には符号24bを付し、粒子線を照射する際の遮蔽扉には符号24cを付した。実施の形態2では、遮蔽扉24を複数設置したので、1つだけで粒子線治療の際に発生する漏えい放射線を遮蔽するよりも、複数の遮蔽扉のそれぞれの遮蔽効果を少ないものにできる。したがって、実施の形態1の遮蔽扉24よりも設計する制約を少なくでき、実施の形態1の遮蔽扉24よりも容易に遮蔽扉24を準備することができる。
9、9a、9b…駆動装置、10…搬送装置、18…中心線、
20、20a、20b…粒子線照射室、21…遮蔽壁、
22…照射実行室、23…通路、
24、24b、24c…遮蔽扉、25…前室、
29…照射実行室入口、30…照射室入口、
31…荷電粒子ビーム、45、45a、45b、45c…患者、
51…粒子線治療装置、52…ビーム発生装置、
54…荷電粒子加速器、58、58a、58b…粒子線照射装置、
59…ビーム輸送系。
照射室の入口から照射室に設置された患者台へ移動するには、図11に示すような粒子線及び漏えい放射線の遮蔽を考慮した迷路状の通路103を通過する。図11は従来の照射室及び患者搬送を説明する図である。図11には、遮蔽扉104を有し遮蔽壁101に囲まれた照射室100に特許文献1の患者ベッド110が設置されている。患者ベッド110は1つであるが、前室105における位置決めの際の患者ベッドの符号は110aとし、通路103を搬送中の患者ベッドの符号は110bとした。患者は前室扉106を有する前室105の患者ベッド110aで位置決めされ、患者ベッド110に固定された患者は位置決め状態を保ったまま廊下107、照射室100の通路103を経由して、搬送経路108に沿って、照射室100の照射実行室102における患者ベッド110の位置まで搬送される。従来の遮蔽扉104は、迷路状の通路103を設けているため、厚さが薄い、すなわち粒子線及び漏えい放射線を遮蔽する遮蔽効果があまり高くない遮蔽扉が使用されている。
Claims (3)
- 粒子線を照射する際に患者を載置する患者台が設置された粒子線照射室であって、
前記患者台は、着脱自在な天板と前記天板を駆動する駆動装置とを有し、
前記患者台が設置され、遮蔽壁で囲まれた照射実行室と、
前記遮蔽壁における前記患者を前記天板に対して位置決めする他の患者台を構成する他の駆動装置が設置された前室の位置する側に、前記天板に対して位置決めされた前記患者が搬送装置により前記照射実行室へ直線通行可能に設けられた通路と、
前記通路における前記前室側に位置する照射室入口に、前記粒子線を照射する際の漏えい放射線を管理値以下に遮蔽する遮蔽扉と、を備えたことを特徴とする粒子線照射室。 - 前記通路における前記照射実行室側の照射実行室入口に、他の遮蔽扉を備えたことを特徴とする請求項1記載の粒子線照射室。
- 荷電粒子ビームを発生させ、加速器により所定のエネルギーまで加速するビーム発生装置と、前記ビーム発生装置により加速された荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、前記ビーム輸送系で輸送された荷電粒子ビームを患者に照射する粒子線照射装置と、前記粒子線照射装置の下流側である照射ノズルを配置する粒子線照射室と、を備え、前記粒子線照射室は、請求項1または2に記載の粒子線照射室であることを特徴とする粒子線治療装置。
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