JPWO2014002998A1 - 酵素電極 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施形態に係る酵素電極の側面又は断面を模式的に示した図である。図1において、酵素電極10は、電極(電極層)1と、電極1の表面(図1では上面)に形成された検知層2とを備える。
電極1は、金(Au),白金(Pt),銀(Ag),パラジウムのような金属材料、或いはカーボンのような炭素材料を用いて形成される。電極1は、例えば、図1に示すような絶縁性基板3上に形成される。基板3は、ポリエーテルイミド(PEI),ポリエチレンテレフタレート(PET),ポリエチレン(PE)のような熱可塑性樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂のような各種の樹脂(プラスチック),ガラス,セラミック,紙のような絶縁性材料で形成される。電極1をなす電極材料,及び絶縁性基板3の材料は、公知のあらゆる材料を適用することができる。電極1及び絶縁性基板3の大きさ、厚さは適宜設定可能である。以下、絶縁性基板3と電極1との組合せを「基材」と呼ぶこともある。
図2は、図1に示した検知層2内の状態を模式的に示す。図2に示すように、検知層2は、酵素5と導電性粒子6とがオキサゾリン基を含むポリマーによって固定化される。具体的には、検知層2内は、酵素5と、導電性粒子6と、オキサゾリン基7と、アクリル/スチレン鎖8とが分布し、オキサゾリン基7の開環と酵素5又は導電性粒子6のカルボキシル基との反応により、アミドエステル結合を形成する。
酵素5は、例えば、酸化還元酵素である。例えば、グルコースデヒドロゲナーゼ(GDH)である。GDHとしては、電子メディエータを必要としないフラビンアデニンジヌクレオチド依存性グルコースデヒドロゲナーゼ(FADGDH)を適用するのが好ましい。また、酵素5として、シトクロムを含む酸化還元酵素を適用できる。例えば、シトクロムを含むグルコースデヒドロゲナーゼ(Cy−GDH)、D-フルクトースデヒドロゲナーゼ、セロビオースデヒドロゲナーゼなどが挙げられる。
導電性粒子6は、金、白金、銀、パラジウムのような金属製粒子、或いは、炭素を材料とした高次構造体を適用することができる。高次構造体は、例えば、導電性カーボンブラック,ケッチェンブラック(登録商標),カーボンナノチューブ(CNT),フラーレンから選択される微粒子(炭素微粒子)の1種以上を含有することができる。導電性粒子6は、上記のような金属及び炭素の一方を選択することができる。また、導電性粒子6は、架橋のための官能基として、カルボキシル基,アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシル基、フェニル基のうちの少なくとも1つを含むことができる。
検知層2を構成する酵素、導電性粒子、バインダの重量比率は、例えば、酵素:導電性粒子:バインダ=(0.023〜2.0):(0.1〜1.0):(2.5〜10.0)であるのが好ましい。また、導電性粒子の平均粒子径は、例えば100[nm]以下であり、比表面積は、例えば、200[m2/g]以上であるのが好ましい。
以下、上記した酵素電極10は、例えば、以下のようにして作製される。すなわち、絶縁性基板3の片面に、電極1として機能する金属層を形成する。例えば、所定の厚さ(例えば100μm程度)のフィルム状の絶縁性基板3の片面に、金属材料を物理蒸着(PVD,例えばスパッタリング)、或いは化学蒸着(CVD)によって成膜することによって、所望の厚さ(例えば30nm程度)を有する金属層が形成される。金属層の代わりに、炭素材料で形成された電極層を形成することもできる。
以下、酵素電極の実施例について説明する。
最初に、導電性粒子,酵素,及びバインダを夫々含む、実施例1、実施例2及び比較例に係る電極溶液(試薬溶液)を調製した。実施例1,実施例2及び比較例においては、それぞれ、導電性粒子としてケッチェンブラック(登録商標、以下“KJB”と表記)を用いるとともに、酵素として、Cy−GDHを用いた。
・KJB:0.4wt%
・酵素(Cy−GDH):3.5mg/mL
・リン酸Na緩衝液:10mM pH7
・EPC(EPOCROS WS-700、分子量4万 DOW CHEMICAL COMPANY(日本触媒)製)
実施例1として、EPCの濃度が、それぞれ0.25[wt%],0.5[wt%] ,1.0[wt%] ,3.0[wt%] である4種類の電極溶液(試料)を調製した。
・KJB:0.4wt%
・酵素(Cy−GDH):3.5mg/mL
・リン酸Na緩衝液:10mM pH7
・PEO(分子量5万 オキサゾリン含有ポリマー、Sigma-Aldrich製)
実施例2として、PEOの濃度が、それぞれ0.25[wt%],0.5[wt%] ,1.0[wt%] ,3.0[wt%] である4種類の電極溶液(試料)を調製した。
・KJB:0.4wt%
・酵素(Cy−GDH):3.5mg/mL
・リン酸Na緩衝液:10mM pH7
・バイロナール(登録商標)MD-1200 (東洋紡 水分散型高分子量共重合ポリエステル樹脂 以下“MD-1200”と表記)
比較例として、MD-1200の濃度が0.25[wt%],0.5[wt%] ,1.0[wt%] ,3.0[wt%] である4種類の電極溶液(試料)を用意した。
<<酵素電極の作製>>
絶縁性基板としてのポリエーテルイミド(PEI)表面にスパッタによって金(Au)の金属層(電極)が形成された基材を用意し、電極表面上に、電極の単位面積(cm2)当たり、10.0μL/cm2の条件で電極溶液(試料、試薬溶液)を滴下した。その後、23℃、40%RHの雰囲気で自然乾燥させた。このようにして、電極表面に酵素及び導電性粒子が上記各バインダで固定化された検知層が形成された酵素電極を得た。検知層は、窒素(N)又は酸素(O)を含む共有結合鎖を持った非導電性高分子を含んでいる。
次に、酵素電極を用いたグルコース濃度の測定方法の例について説明する。測定方法として、400mVの電位差を電極系に印加するクロノアンペロメトリー法により、グルコースに対する応答感度を測定した。
実施例1、実施例2及び比較例に係るグルコース濃度の測定結果は、以下の表1、表2、表3に示す通りである。各表中の値は、応答感度(nA)を示す。
次に、実施例1,実施例2,比較例に係る各電極溶液を用いて作製した酵素電極について、電極に対する検知層の密着力(検知層の強度)に対する試験を行った。
応答感度試験で用いた基材(絶縁性基板上に電極が形成された基材)と同様のものを用意し、実施例1,実施例2,比較例に係る各電極溶液を、電極表面上に、電極の単位面積(cm2)当たり、10.0μL/cm2の条件で滴下(適用)した。その後、23℃、40%RHの雰囲気で自然乾燥させた。このようにして、密着力(または強度)試験に用いる、電極上に形成された検知層(酵素電極)を作製した。
JISK5600-5-6 付着性(クロスカット法)に従って、電極に対する検知層の密着力の試験を実施した。
クロスカット法による試験結果を、以下の表4に示す。試験結果は、0〜5に分類され、0が最も良好な密着力を示し、5が最も悪い密着力を示す。
図3は、A.応答感度試験で得た結果と、B.密着力(または強度)試験で得た結果との関係を示すグラフである。図3において、白丸のプロットは、実施例1(EPC)を示し、プロット近傍のローマ文字A〜Dは、EPCの濃度(添加量)を示す。すなわち、A=0.25%,B=0.50%,C=1%,D=3%である。
上述した酵素電極10によれば、適正な酵素5及び導電性粒子6の固定化により良好な応答感度を得ることができる一方で、基材に対して適正な密着性を有することができる。特に、既存のバインダに比べて、適正な固定化に要求される濃度又は量を減らすことができるので、酵素電極10の小型化に寄与することが考えられる。
2・・・検知層
3・・・絶縁性基板
5・・・酵素
6・・・導電性粒子
7・・・オキサゾリン基
8・・・アクリル/スチレン鎖
9・・・アミドエステル
Claims (18)
- 電極と検知層とを含む酵素電極であって、
前記検知層は、酵素,導電性粒子,及び非導電性高分子を有し、
前記非導電性高分子は、窒素又は酸素を含む結合鎖により、前記酵素の少なくとも一部と、前記導電性粒子の少なくとも一部との、少なくとも一方と結合しており、
前記非導電性高分子は、その添加濃度と、前記酵素電極の応答感度との間に、正の相関を含む領域を有する
酵素電極。 - 前記結合鎖は、共有結合である
請求項1に記載の酵素電極。 - 前記共有結合は、アミドエステル結合である
請求項2に記載の酵素電極。 - 前記アミドエステル結合が、オキサゾリン基由来である
請求項3に記載の酵素電極。 - 前記オキサゾリン基は、前記高分子に対して、4.5mmol/g含有されている、
請求項4に記載の酵素電極。 - 前記導電性粒子は、炭素、金属の少なくとも1つから選択される
請求項1から5のいずれか1項に記載の酵素電極。 - 前記導電性粒子の平均粒子径は、100nm以下である
請求項1から6の何れか1項に記載の酵素電極。 - 前記導電性粒子の比表面積は、200m2/g以上である
請求項1から7のいずれか1項に記載の酵素電極。 - 前記導電性粒子は、カルボキシル基、アミノ基、アルデヒド基、ヒドロキシル基、及びフェニル基のうちの少なくとも1つを含む
請求項1から8の何れか1項に記載の酵素電極。 - 前記導電性粒子は、カーボンナノチューブ及びフラーレンから選択される微粒子の1種以上を含有する
請求項1から9のいずれか1項に記載の酵素電極。 - 前記酵素、前記導電性粒子、前記非導電性高分子の重量比率が、0.023〜2.0:0.1〜1.0:2.5〜10.0である
請求項1から10の何れか1項に記載の酵素電極。 - 電極と検知層とを含む酵素電極を備えるバイオセンサであって、
前記検知層は、酵素,導電性粒子,及び非導電性高分子を有し、
前記非導電性高分子は、窒素又は酸素を含む結合鎖により、前記酵素の少なくとも一部と、前記導電性粒子の少なくとも一部との、少なくとも一方と結合しており、前記非導電性高分子は、その添加濃度と、前記酵素電極の応答感度との間に、正の相関を含む領域を有する、
バイオセンサ。 - 請求項12に記載のバイオセンサを含んだ電子機器。
- 電極と検知層とを含み、前記検知層は、酵素,導電性粒子,及び非導電性高分子を有し、前記非導電性高分子は、窒素又は酸素を含む結合鎖により、前記酵素の少なくとも一部と、前記導電性粒子の少なくとも一部との、少なくとも一方と結合しており、前記非導電性高分子は、その添加濃度と、前記酵素電極の応答感度との間に、正の相関を含む領域を有する酵素電極と、
前記酵素電極に対する通電による酵素反応によって生じた電流を負荷に供給する供給部と
を含む装置。 - 請求項14に記載の装置を含んだ電子機器。
- 酵素,導電性粒子,及び非導電性高分子を含んだ試薬溶液を調製するステップと、
前記試薬溶液を電極上に適用するステップと、
適用した試薬溶液を乾燥させることによって、前記酵素,前記導電性粒子,及び前記非導電性高分子を有し、前記非導電性高分子が、窒素又は酸素を含む結合鎖により、前記酵素の少なくとも一部と、前記導電性粒子の少なくとも一部との、少なくとも一方と結合している検知層を前記電極上に形成するステップと、
を含み、
前記非導電性高分子は、その添加濃度と、前記酵素電極の応答感度との間に、正の相関を含む領域を有する
酵素電極の製造方法。 - 前記試薬溶液の調製時に添加される前記非導電性高分子の濃度が0.25%〜10%である
請求項16に記載の酵素電極の製造方法。 - 電極と検知層とを含み、
前記検知層は、酵素,導電性粒子,及び上記酵素の少なくとも一部と上記導電性粒子の少なくとも一部との少なくとも一方とアミドエステル結合を形成する高分子を有する、
酵素電極。
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