JPWO2014002693A1 - GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM - Google Patents

GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM Download PDF

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Abstract

この情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の主表面上に磁気薄膜層が形成され、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上である情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板であって、当該情報記録媒体用ガラス基板は、当該情報記録媒体用ガラス基板を40℃、pH11の水酸化ナトリウム溶液で30分浸漬させるアルカリ処理を行った場合に、ガラス基板の主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.50以下となる。This method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium is for an information recording medium used for an information recording medium in which a magnetic thin film layer is formed on the main surface of the glass substrate and the recording density on the magnetic recording surface is 600 Gbit / in 2 or more. The glass substrate for an information recording medium is a main surface of the glass substrate when an alkali treatment is performed in which the glass substrate for information recording medium is immersed in a sodium hydroxide solution at 40 ° C. and pH 11 for 30 minutes. The average value of SiOH / Si is 0.20 or more and 0.50 or less.

Description

本発明は、情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a glass substrate for information recording media and a method for producing a glass substrate for information recording media.

コンピュータなどに用いられる情報記録媒体(磁気ディスク記録媒体)には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。   Conventionally, an aluminum substrate or a glass substrate is used as an information recording medium (magnetic disk recording medium) used in a computer or the like. A magnetic thin film layer is formed on these substrates, and information is recorded on the magnetic thin film layer by magnetizing the magnetic thin film layer with a magnetic head.

近年、ハードディスクドライブ(HDD)装置においては、記録密度が増々高密度化されてきている。記録密度の高密度化により、情報記録媒体(メディア)と情報記録媒体上を浮上しながら記録の読み書きを行なうヘッドとのギャップ(フライングハイト)は数nm程度にまで狭小化している。   In recent years, in a hard disk drive (HDD) device, the recording density has been increased. As the recording density is increased, the gap (flying height) between the information recording medium (medium) and the head that reads and writes the recording while floating on the information recording medium is reduced to about several nanometers.

フライングハイトが小さくなるにつれて、情報記録媒体をハードディスクドライブ装置に用いた場合の、媒体に記録されたデータにアクセスする際のリードエラーおよび/またはライトエラー、磁気ヘッドが媒体表面に衝突するヘッドクラッシュなどの問題が発生しやすくなっている。これらの問題を抑制するために、情報記録媒体として許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなる為、情報記録媒体用ガラス基板としても、より表面平滑性の高さが追及されており、ガラス基板表面に付着する異物、ガラス基板表面のうねりを抑制する為、製造方法に様々な工夫がなされてきた。   As the flying height becomes smaller, when an information recording medium is used in a hard disk drive device, a read error and / or a write error when accessing data recorded on the medium, a head crash where the magnetic head collides with the medium surface, etc. The problem is more likely to occur. In order to suppress these problems, since the size of defects on the substrate surface allowed as an information recording medium is also smaller, even as a glass substrate for information recording media, higher surface smoothness has been pursued, In order to suppress foreign matter adhering to the glass substrate surface and undulation of the glass substrate surface, various devices have been devised in the manufacturing method.

一方、近年では、HDDの記憶容量は更に向上され、現在では2.5インチの記録媒体1枚で、記録容量が500GB(片面250GB)、面記録密度が600Gbit/平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されている。このような高い記録密度の記録媒体において、平滑性が非常に高いガラス基板を用いた場合においても、データアクセス時のリードエラーおよび/またはライトエラーが発生する場合があることがわかり、原因を分析したところ、従来のヘッドクラッシュによるエラーではないことが判明した。   On the other hand, in recent years, the storage capacity of HDDs has been further improved. At present, one 2.5-inch recording medium has a recording capacity of 500 GB (single-sided 250 GB) and a surface recording density of 600 Gbit / square inch or more. Things are being developed. In such a high recording density recording medium, even when a very smooth glass substrate is used, it can be seen that read errors and / or write errors may occur during data access, and the cause is analyzed. As a result, it turned out that the error was not caused by a conventional head crash.

上述の問題に対し、製造後のガラス基板に関し、表面状態を含めて精査したがリードエラーおよび/またはライトエラーの発生要因となるような欠陥は見られず具体的な解決策は見出されていなかったが、精査した結果、製造後のガラス基板に対して磁性層を設けた後に、磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきが発生し、リードエラーおよび/またはライトエラーの発生要因となっている可能性が見出された。本発明においては、このような磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきを電磁変換特性(SNR)の低下ともいう。   Regarding the above-mentioned problems, the glass substrate after manufacturing was examined in detail including the surface state, but no defects that would cause read errors and / or write errors were found, and specific solutions were found. However, as a result of careful examination, after the magnetic layer was provided on the manufactured glass substrate, the signal-to-noise ratio of the magnetic signal varied, which could cause read errors and / or write errors. Sex was found. In the present invention, such a variation in the signal-to-noise ratio of the magnetic signal is also referred to as a decrease in electromagnetic conversion characteristics (SNR).

このような磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきの要因について、更に検討を進めた結果、下記のことが判明した。一般的に、記録媒体用のガラス基板は、製造後一旦密封梱包されて搬送された後に、取りだされて磁性層を塗設する工程に供される。その際、梱包時、搬送時、取り出し時の条件の違いによりガラス基板の表面状態が不均一化したり、わずかなパーティクルが付着する場合がある為、表面状態を均一化する為にアルカリ溶液のような比較的洗浄性が高く、場合によっては表面を若干溶解させるような特性を持つ洗剤を用いて洗浄される(特開2006−127624号公報(特許文献1)参照)。上述の磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきは、このような磁性層の塗設直前に行われる洗浄において、ガラス表面の安定状態が損なわれて発生しており、ガラス基板自体を製造後に検査しても要因が判明し得なかったことが明らかになった。   As a result of further investigation on the cause of the variation in the signal-to-noise ratio of the magnetic signal, the following has been found. Generally, a glass substrate for a recording medium is once sealed and packaged after being manufactured and then transported, and then taken out and subjected to a step of coating a magnetic layer. At that time, the surface condition of the glass substrate may become non-uniform or a small amount of particles may adhere due to differences in conditions during packaging, transportation, and removal. The cleaning is relatively high, and in some cases, the surface is cleaned using a detergent having a characteristic of slightly dissolving the surface (see JP-A-2006-127624 (Patent Document 1)). The above-mentioned variation in the signal-to-noise ratio of the magnetic signal is caused by the glass surface itself being inspected after manufacturing because the glass surface itself is damaged in the cleaning performed immediately before the coating of the magnetic layer. It became clear that the factor could not be found.

特開2006−127624号公報JP 2006-127624 A

上述のように記録密度が600Gbit/inch2以上のハードディスクドライブ装置に用いられるガラス基板においては、ガラス基板そのものの平滑性、清浄性には問題がないにもかかわらず、情報記録媒体としては、電磁変換特性(SNR)が低下してしまうという課題が発生した。   As described above, a glass substrate used in a hard disk drive device having a recording density of 600 Gbit / inch 2 or more has no problem in smoothness and cleanliness of the glass substrate itself, but as an information recording medium, electromagnetic conversion is possible. There arises a problem that the characteristic (SNR) is lowered.

発明者らにより検証を重ねた結果、上述のアルカリ処理工程を施したガラス基板に対して、飛行時間型二次イオン質量分析装置(ToF−SIMS:Time-of-flight secondary ion mass spectrometer)を用いて、SiOH/Siの値を測定した場合、SiOH/Siの値が非常に低下しているガラス基板において、電磁変換特性(SNR)の低下が顕著に発生していることを知見した。   As a result of repeated verification by the inventors, a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (ToF-SIMS) was used for the glass substrate subjected to the above-described alkali treatment step. In addition, when the value of SiOH / Si was measured, it was found that a decrease in electromagnetic conversion characteristics (SNR) occurred remarkably in a glass substrate having a very low value of SiOH / Si.

磁気薄膜層の形成前にガラス基板の表面において、SiOH/Siの値が低下した場合には、ガラス基板の表面での極性基が減少するため、磁気薄膜層(磁性層)の吸着が悪化する。   When the value of SiOH / Si decreases on the surface of the glass substrate before the formation of the magnetic thin film layer, the polar groups on the surface of the glass substrate decrease, so that the adsorption of the magnetic thin film layer (magnetic layer) deteriorates. .

その結果、SiOH/Siの値が低下したガラス基板に磁気薄膜層を形成した情報記録媒体においては、信号対雑音比(S/N比:SNR)の低下を引き起こすことが分かった。   As a result, it was found that the signal-to-noise ratio (S / N ratio: SNR) is lowered in an information recording medium in which a magnetic thin film layer is formed on a glass substrate having a reduced SiOH / Si value.

本発明は、上記の実情に鑑みてなされたものであって、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上であるような記録密度が非常に高い情報記録媒体に用いた場合においても、信号対雑音比(S/N比)の低下を引き起こすことのない情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and even when used for an information recording medium having a very high recording density such that the recording density on the magnetic recording surface is 600 Gbit / in 2 or more, An object of the present invention is to provide a glass substrate for an information recording medium and a method for producing the glass substrate for an information recording medium that do not cause a decrease in the noise-to-noise ratio (S / N ratio).

本発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス基板の主表面上に磁気薄膜層が形成され、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上である情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板であって、当該情報記録媒体用ガラス基板は、当該情報記録媒体用ガラス基板を40℃、pH11の水酸化ナトリウム溶液で30分浸漬させるアルカリ処理を行った場合に、上記ガラス基板の上記主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.50以下となる。   The glass substrate for an information recording medium based on the present invention is an information recording medium used for an information recording medium in which a magnetic thin film layer is formed on the main surface of the glass substrate and the recording density on the magnetic recording surface is 600 Gbit / square inch or more. When the glass substrate for information recording medium is subjected to an alkali treatment in which the glass substrate for information recording medium is immersed in a sodium hydroxide solution at 40 ° C. and pH 11 for 30 minutes, The average value of SiOH / Si on the main surface is 0.20 or more and 0.50 or less.

他の形態においては、上記アルカリ処理を行った場合における上記ガラス基板の上記主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.45以下である。   In another form, the average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate when the alkali treatment is performed is 0.20 or more and 0.45 or less.

他の形態においては、上記アルカリ処理前の上記ガラス基板の上記主表面のSiOH/Siの平均値に対し、上記アルカリ処理後の上記ガラス基板の上記主表面のSiOH/Siの平均値の変化率は20%以下である。   In another form, with respect to the average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate before the alkali treatment, the rate of change of the average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate after the alkali treatment Is 20% or less.

本発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、上述の何れかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、上記研磨工程の後に、研磨後の上記円盤状ガラス部材を0.1ppm〜1.4ppmの水素水で1〜10分間接触し、その後、上記円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触させた後、上記円盤状ガラス部材を0.05〜0.5%の有機酸に5〜20分接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される。   A method for manufacturing a glass substrate for information recording medium according to the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for information recording medium according to any one of the above, wherein the polishing step is performed on the main surface of the disk-shaped glass member. After the polishing step, the disk-shaped glass member after polishing is contacted with 0.1 ppm to 1.4 ppm of hydrogen water for 1 to 10 minutes, and then the disk-shaped glass member is pH 10.0 to 11.0. After the contact with the alkaline solution of 5 to 20 minutes, the disc-shaped glass member is subjected to a treatment for contacting with 0.05 to 0.5% organic acid for 5 to 20 minutes, and then the final cleaning step is performed. The

本発明に基づいた他の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、上述の何れかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、上記研磨工程の後に、研磨後の上記円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触させた後、上記円盤状ガラス部材を0.05〜0.5%の有機酸に5〜20分接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される。   Another method for producing a glass substrate for an information recording medium according to the present invention is a method for producing a glass substrate for an information recording medium according to any one of the above, and a polishing step for the main surface of a disk-shaped glass member After the polishing step, the disk-shaped glass member after polishing is brought into contact with an alkaline solution having a pH of 10.0 to 11.0 for 5 to 20 minutes, and then the disk-shaped glass member is 0.05 to 0. A treatment of contacting 5% organic acid for 5-20 minutes is applied, followed by a final washing step.

本発明に基づいた他の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、上述の何れかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、上記研磨工程の後に、研磨後の円盤状ガラス部材を1.5ppmの水素水で3分間接触し、その後、当該研磨後の円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触する処理が施され、その後、上記最終洗浄工程が施される。   Another method for producing a glass substrate for an information recording medium according to the present invention is a method for producing a glass substrate for an information recording medium according to any one of the above, and a polishing step for the main surface of a disk-shaped glass member After the polishing step, the polished disc-shaped glass member is contacted with 1.5 ppm hydrogen water for 3 minutes, and then the polished disc-shaped glass member is alkalinized with a pH of 10.0 to 11.0. The process which contacts a solution for 5 to 20 minutes is given, and the said last washing | cleaning process is given after that.

本発明によれば、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上であるような記録密度が非常に高い情報記録媒体に用いた場合においても、信号対雑音比(S/N比)の低下を引き起こすことのない情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを可能とする。   According to the present invention, the signal-to-noise ratio (S / N ratio) is lowered even when the recording density on the magnetic recording surface is 600 Gbit / square inch or more and the recording density is very high. It is possible to provide a glass substrate for an information recording medium and a method for producing the glass substrate for an information recording medium that do not cause the problem.

実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の斜視図である。It is a perspective view of the glass substrate for information recording media in an embodiment. 実施の形態における情報記録媒体の斜視図である。It is a perspective view of the information recording medium in an embodiment. 実施の形態における情報記録媒体の製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the information recording medium in embodiment. 実施例1〜3および比較例1〜2に係る情報記録媒体用ガラス基板の評価結果を示す図である。It is a figure which shows the evaluation result of the glass substrate for information recording media which concerns on Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2.

以下に、本発明の実施の形態および実施例について説明する。同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。以下に説明する実施の形態および実施例において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。   Embodiments and examples of the present invention will be described below. The same or corresponding parts are denoted by the same reference symbols, and the description thereof may not be repeated. In the embodiments and examples described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the following embodiments, each component is not necessarily essential to the present invention unless otherwise specified.

(情報記録媒体1の構成)
図1および図2を参照して、情報記録媒体用ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の構成について説明する。図1は、情報記録媒体用ガラス基板1Gの斜視図、図2は、情報記録媒体の斜視図である。
(Configuration of information recording medium 1)
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the structure of the glass substrate 1G for information recording media and the information recording medium 1 is demonstrated. FIG. 1 is a perspective view of a glass substrate 1G for an information recording medium, and FIG. 2 is a perspective view of the information recording medium.

図1に示すように、情報記録媒体1に用いられる情報記録媒体用ガラス基板1G(以下、「ガラス基板1G」と称する。)は、中心に孔11が形成された環状の円板形状を呈している。ガラス基板1Gは、外周端面12、内周端面13、表主表面14、および裏主表面15を有している。ガラス基板1Gとしては、アモルファスガラス等を用い、たとえば、外径約65mm、内径約20mm、厚さ約0.8mm、表面粗さは、約2.0Å以下である。   As shown in FIG. 1, an information recording medium glass substrate 1G used for the information recording medium 1 (hereinafter referred to as “glass substrate 1G”) has an annular disk shape with a hole 11 formed in the center. ing. The glass substrate 1G has an outer peripheral end face 12, an inner peripheral end face 13, a front main surface 14, and a back main surface 15. As the glass substrate 1G, amorphous glass or the like is used. For example, the outer diameter is about 65 mm, the inner diameter is about 20 mm, the thickness is about 0.8 mm, and the surface roughness is about 2.0 mm or less.

ガラス基板1Gのインチサイズに特に限定はなく、0.8インチ、1.0インチ、1.8インチ、2.5インチ、3.5インチ各種ガラス基板1Gを、情報記録媒体用のディスクとして製造してもよい。   The inch size of the glass substrate 1G is not particularly limited, and various glass substrates 1G of 0.8 inch, 1.0 inch, 1.8 inch, 2.5 inch, and 3.5 inch are manufactured as disks for information recording media. May be.

落下衝撃によるガラス基板1Gの割れに対して有効であることから、ガラス基板1Gの厚みは0.30mm〜2.2mmが好ましい。ここでいうガラス基板1Gの厚みとは基板上の点対象となる任意の何点かで測定した値の平均値を意味する。   The thickness of the glass substrate 1G is preferably 0.30 mm to 2.2 mm because it is effective against cracking of the glass substrate 1G due to drop impact. The thickness of the glass substrate 1 </ b> G here means an average value of values measured at some arbitrary points to be pointed on the substrate.

図2に示すように、情報記録媒体1は、上記したガラス基板1Gの表主表面14上に磁気薄膜層23が形成されている。図示では、表主表面14上にのみ磁気薄膜層23が形成されているが、裏主表面15上に磁気薄膜層23を設けることも可能である。   As shown in FIG. 2, in the information recording medium 1, a magnetic thin film layer 23 is formed on the front main surface 14 of the glass substrate 1G. In the figure, the magnetic thin film layer 23 is formed only on the front main surface 14, but it is also possible to provide the magnetic thin film layer 23 on the back main surface 15.

磁気薄膜層23の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、たとえば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板1G上にスピンコートして形成する方法、スパッタリングにより形成する方法、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。   As a method of forming the magnetic thin film layer 23, a conventionally known method can be used. For example, a method of spin-coating a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed on the glass substrate 1G, a method of forming by sputtering. The method of forming by electroless plating is mentioned.

スピンコート法での膜厚は約0.3〜1.2μm程度、スパッタリング法での膜厚は0.04〜0.08μm程度、無電解めっき法での膜厚は0.05〜0.1μm程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成がよい。   The film thickness by spin coating is about 0.3 to 1.2 μm, the film thickness by sputtering is about 0.04 to 0.08 μm, and the film thickness by electroless plating is 0.05 to 0.1 μm. From the viewpoint of thinning and high density, film formation by sputtering and electroless plating is preferable.

磁気薄膜層23に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いCoを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でNi、Crを加えたCo系合金などが好適である。近年では、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、FePt系の材料が用いられるようになってきている。   The magnetic material used for the magnetic thin film layer 23 is not particularly limited, and a conventionally known material can be used. However, in order to obtain a high coercive force, Co having a high crystal anisotropy is basically used to adjust the residual magnetic flux density. Co-based alloys to which Ni and Cr are added are suitable. In recent years, FePt-based materials have been used as magnetic layer materials suitable for heat-assisted recording.

磁気ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層23の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。   In order to improve the sliding of the magnetic head, the surface of the magnetic thin film layer 23 may be thinly coated with a lubricant. Examples of the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a freon-based solvent.

必要により下地層、保護層を設けてもよい。情報記録媒体1における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Niなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。   If necessary, an underlayer and a protective layer may be provided. The underlayer in the information recording medium 1 is selected according to the magnetic film. Examples of the material for the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni.

下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等の多層下地層としてもよい。   The underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV may be used.

磁気薄膜層23の摩耗、腐食を防止する保護層としては、例えば、Cr層、Cr合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。   Examples of the protective layer for preventing wear and corrosion of the magnetic thin film layer 23 include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer. The protective layer can be formed continuously with an in-line sputtering apparatus, such as an underlayer and a magnetic film. The protective layer may be a single layer, or may have a multilayer structure composed of the same or different layers.

上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Cr層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素(SiO2)層を形成してもよい。   Another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, in place of the protective layer, colloidal silica fine particles are dispersed and coated on a Cr layer diluted with an alcohol-based solvent, and then fired to form a silicon oxide (SiO2) layer. May be.

上述のように、情報記録媒体用のガラス基板1Gは、製造後に梱包材料に密閉梱包されて流通された後、梱包材料から取り出されて磁気薄膜層23等が設けられるが、磁気薄膜層23等を設ける直前に、梱包時および/または運搬時に付着した微小パーティクルを除去したり、条件の違いによる表面状態の不均一性を解消する為に、アルカリ溶液等により洗浄処理が施される。   As described above, the glass substrate 1G for information recording medium is sealed and packaged in a packaging material after manufacture and then taken out from the packaging material and provided with the magnetic thin film layer 23 and the like. Immediately before the provision of, a cleaning process is performed with an alkaline solution or the like in order to remove minute particles adhering during packaging and / or transportation, or to eliminate unevenness of the surface state due to different conditions.

このようなアルカリ処理が施された場合であっても、当該情報記録媒体用ガラス基板を40℃、pH11の水酸化ナトリウム溶液で30分浸漬させるアルカリ処理を行った場合に、前記ガラス基板の主表面14,15のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.50以下となるような情報記録媒体用ガラス基板であれば、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上であるような記録密度が非常に高い情報記録媒体に用いられた場合であっても信号対雑音比(S/N比)の低下を十分に抑制可能である。   Even when such an alkali treatment is performed, when the alkali treatment in which the glass substrate for information recording medium is immersed in a sodium hydroxide solution at 40 ° C. and pH 11 for 30 minutes is performed, the main substrate of the glass substrate is used. In the case of a glass substrate for information recording media in which the average value of SiOH / Si on the surfaces 14 and 15 is 0.20 or more and 0.50 or less, the recording density on the magnetic recording surface seems to be 600 Gbit / square inch or more. Even when used in an information recording medium having a very high recording density, it is possible to sufficiently suppress a decrease in the signal-to-noise ratio (S / N ratio).

(ガラス基板1Gの製造工程)
次に、図3を参照して、本実施の形態に係るガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を説明する。図3は、ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を示すフロー図である。
(Manufacturing process of glass substrate 1G)
Next, a method for manufacturing the glass substrate 1G and the information recording medium 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the glass substrate 1G and the information recording medium 1.

まず、ステップ10(以下、「S10」と略す。ステップ11以降も同様。)の「ガラス溶融工程」において、ガラス基板を構成するガラス素材を溶融する。   First, in the “glass melting step” of step 10 (hereinafter abbreviated as “S10”, the same applies to step 11 and subsequent steps), the glass material constituting the glass substrate is melted.

S11の「プレス成形工程」において、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレスによりガラス基板を作製した。使用したガラス組成は、一般的なアルミノシリケートガラスを用いた。ガラス基板の作製方法としては成形に限らず、公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わず、ガラス組成もこれに限らない。   In the “press molding step” of S11, a glass substrate was produced by pressing the molten glass material using an upper mold and a lower mold. The glass composition used was a general aluminosilicate glass. The method for producing the glass substrate is not limited to molding, and may be cut out from plate glass, which is a known technique, and the glass composition is not limited thereto.

S12の「第1ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面をラッピング加工した。この第1ラップ工程は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置を用いて行なった。具体的には、ガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行なった。このラッピング加工により、おおよそ平坦な主表面を有するガラス基板を得た。   In the “first lapping step” of S12, both main surfaces of the glass substrate were lapped. This first lapping step was performed using a double-sided lapping device using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen was pressed on both surfaces of the glass substrate from above and below, the grinding liquid was supplied onto the main surface of the glass substrate, and these were moved relatively to perform lapping. By this lapping process, a glass substrate having a substantially flat main surface was obtained.

S13の「コアリング工程」において、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラス基板の中心部に穴を形成し、円環状のガラス基板を作製した。ガラス基板の内周端面、および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を実施した。   In the “coring step” of S13, a cylindrical diamond drill was used to form a hole in the center of the glass substrate to produce an annular glass substrate. The inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface of the glass substrate were ground with a diamond grindstone, and a predetermined chamfering process was performed.

S14の「第2ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面について、上記第1ラップ工程(S12)と同様に、ラッピング加工を行なった。この第2ラップ工程を行なうことにより、前工程のコアリングおよび端面加工において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができる。その結果、後工程での主表面の研磨時間を短縮することができる。   In the “second lapping step” of S14, lapping was performed on both main surfaces of the glass substrate in the same manner as in the first lapping step (S12). By performing the second lapping step, the fine uneven shape formed on the main surface in the coring and end face processing in the previous step can be removed in advance. As a result, the polishing time of the main surface in the subsequent process can be shortened.

S15の「外周研磨工程」において、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨による鏡面研磨を行なった。このとき研磨砥粒としては、一般的な酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いた。   In the “peripheral polishing step” of S15, the outer peripheral end face of the glass substrate was subjected to mirror polishing by brush polishing. At this time, as the abrasive grains, a slurry containing general cerium oxide abrasive grains was used.

S16の「第1ポリッシュ工程」において、主表面研磨を行なった。この第1ポリッシュ工程は、上述の第1および第2ラップ工程(S12,S14)において主表面に残留したキズや反りを矯正することを主目的とするものである。この第1ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により主表面の研磨を行なった。研磨剤としては、一般的な酸化セリウム砥粒を用いた。   In the “first polishing step” of S16, main surface polishing was performed. The first polishing step is mainly intended to correct scratches and warpage remaining on the main surface in the first and second lapping steps (S12, S14) described above. In the first polishing step, the main surface was polished by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, general cerium oxide abrasive grains were used.

S17の「化学強化工程」において、ガラス基板1Gの主表面に対して表面強化層を形成した。具体的には、300℃に加熱された硝酸カリウム(70%)と硝酸ナトリウム(30%)の混合溶液中に、ガラス基板1Gを約30分間接触させることによって化学強化を行なった。その結果、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、圧縮応力層が形成されることでガラス基板の主表面及び端面が強化された。   In the “chemical strengthening step” of S17, a surface reinforcing layer was formed on the main surface of the glass substrate 1G. Specifically, chemical strengthening was performed by bringing the glass substrate 1G into contact with a mixed solution of potassium nitrate (70%) and sodium nitrate (30%) heated to 300 ° C. for about 30 minutes. As a result, the lithium ion and sodium ion on the inner peripheral end surface and outer peripheral end surface of the glass substrate are respectively replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, and a compressive stress layer is formed, thereby forming the main surface of the glass substrate and The end face was strengthened.

S18の「第2ポリッシュ工程」において、主表面研磨工程を施した。この第2ポリッシュ工程は上述までの工程で発生、残存している主表面上の微小欠陥等を解消して鏡面状に仕上げること、反りを解消し所望の平坦度に仕上げることを目的とする。この第2ポリッシュ工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により研磨を行なった。研磨剤としては、平滑面を得る為に平均粒径が約20nmのコロイダルシリカを用いた。   In the “second polishing step” of S18, a main surface polishing step was performed. This second polishing step aims to eliminate the fine defects on the main surface that have been generated and remain in the above-described steps and finish it in a mirror shape, to eliminate warpage and finish it to a desired flatness. In the second polishing step, polishing was performed by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, colloidal silica having an average particle diameter of about 20 nm was used to obtain a smooth surface.

上記「第2ポリッシュ工程」を行なった後には、情報記録媒体用ガラス基板に磁気薄膜層を設ける直前に施されるアルカリ処理に対して、ガラス基板の安定性を高め、磁気薄膜層を塗布された情報記録媒体における電磁変換特性(SNR)の低下を抑制するため、アルカリ処理に対するガラス基板の表面の活性を抑制するS19の前処理工程が施される。具体的には、当該情報記録媒体用ガラス基板を40℃、pH11の水酸化ナトリウム溶液で30分浸漬させるアルカリ処理を行った場合に、前記ガラス基板の主表面14,15のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.50以下となるように前処理工程を施す。   After performing the “second polishing step”, the stability of the glass substrate is increased and the magnetic thin film layer is applied to the alkali treatment performed immediately before the magnetic thin film layer is provided on the information recording medium glass substrate. In order to suppress a decrease in electromagnetic conversion characteristics (SNR) in the information recording medium, a pretreatment step of S19 is performed to suppress the activity of the surface of the glass substrate against the alkali treatment. Specifically, when an alkali treatment in which the glass substrate for information recording medium is immersed in a sodium hydroxide solution at 40 ° C. and pH 11 for 30 minutes is performed, the average SiOH / Si of the main surfaces 14 and 15 of the glass substrate The pretreatment step is performed so that the value is 0.20 or more and 0.50 or less.

アルカリ溶液と接触させる工程は、ガラス基板表面に存在するアルカリ溶液により溶出する成分をあらかじめ除去することで、アルカリ処理後のSiOH/Siの平均値を低下することができ、結果として、磁性薄膜層を設ける直前においてアルカリ処理が行われた場合においても、信号対雑音比(S/N比)の低下を抑制する効果が得られる。   In the step of contacting with the alkali solution, the average value of SiOH / Si after the alkali treatment can be lowered by removing in advance the components eluted by the alkali solution present on the glass substrate surface. As a result, the magnetic thin film layer Even when the alkali treatment is performed immediately before the provision of the signal, an effect of suppressing a decrease in the signal-to-noise ratio (S / N ratio) can be obtained.

しかし、ここでアルカリ溶液のpHを高くしたり、接触時間を長くすると、ガラス基板表面からの溶出が過剰となり、ガラス基板のRaが大きくなってしまい、情報記録媒体用ガラス基板として必要な平滑性の維持が困難となる為、アルカリ溶液と接触させる工程単独で、アルカリ処理後のSiOH/Siの平均値を十分に低下することは困難である為、別の工程を組み合わせて行われる必要がある。アルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム溶液等が好ましく用いられる。   However, if the pH of the alkaline solution is increased or the contact time is increased, elution from the glass substrate surface becomes excessive and Ra of the glass substrate increases, and the smoothness necessary as a glass substrate for information recording media. Since it is difficult to sufficiently reduce the average value of SiOH / Si after alkali treatment by a single step of contacting with an alkali solution, it is necessary to carry out a combination of other steps. . As the alkaline solution, a sodium hydroxide solution or the like is preferably used.

ここで水素水に接触する工程は、ガラス基板の表面電荷を低下させる働きを有する。従って、アルカリ処理におけるガラス基板のRaの劣化を抑制するとともに、後のアルカリ処理に対するガラス基板表面の安定性を高めることができる。   Here, the step of contacting the hydrogen water has a function of reducing the surface charge of the glass substrate. Therefore, deterioration of Ra of the glass substrate in the alkali treatment can be suppressed, and stability of the glass substrate surface with respect to the subsequent alkali treatment can be enhanced.

有機酸に接触させる工程は、アルカリ処理に対する安定を損ねずに、アルカリ溶液に接触させることで悪化したガラス基板のRaを平滑化する効果が得られる。一方、有機酸の濃度を過度に高めたり、長時間接触させると、Raの悪化を招く。有機酸としては、例えばアスコルビン酸、スルファミン酸等が好ましく用いられる。中でもアスコルビン酸が好ましい。   In the step of contacting with an organic acid, the effect of smoothing the Ra of the glass substrate deteriorated by contacting with the alkali solution can be obtained without impairing the stability to the alkali treatment. On the other hand, if the concentration of the organic acid is excessively increased or contacted for a long time, Ra is deteriorated. As the organic acid, for example, ascorbic acid, sulfamic acid and the like are preferably used. Of these, ascorbic acid is preferred.

なお、本発明における溶液への「接触」とは、ガラス基板表面に溶液をシャワーリングしてもよいし、溶液中にガラス基板を浸漬してもよく、液体に接触している状態が規定の時間継続されれば、特に限定されない。   In the present invention, “contact” with the solution means that the solution may be showered on the surface of the glass substrate, the glass substrate may be immersed in the solution, and the state in contact with the liquid is defined. If it continues for time, it will not specifically limit.

次いで、S20の「最終洗浄工程(Final Cleaning)」において、ガラス基板の主表面、端面の最終洗浄を実施する。これによりガラス基板上に残存する付着物を除去する。最終洗浄工程は、ガラス基板の製造工程の最後に行われる工程であり、適宜乾燥工程も含むものである。   Next, in the “Final Cleaning” of S20, final cleaning of the main surface and the end surface of the glass substrate is performed. Thereby, the deposits remaining on the glass substrate are removed. The final cleaning process is a process performed at the end of the glass substrate manufacturing process, and includes a drying process as appropriate.

本実施の形態においては、情報記録媒体用ガラス基板に対して磁気薄膜層が設けられて磁気記録媒体とされる直前に施されるアルカリ処理により、磁気薄膜層を設けた後の磁気記録媒体の信号対雑音比(S/N比)の低下を十分に抑制することができる指標として、ガラス基板に特定のアルカリ処理を施した場合におけるSiOH/Siの平均値を用いる。   In this embodiment, the magnetic recording medium after the magnetic thin film layer is provided by the alkali treatment performed immediately before the magnetic thin film layer is provided on the glass substrate for the information recording medium. As an index that can sufficiently suppress the decrease in the signal-to-noise ratio (S / N ratio), the average value of SiOH / Si when a specific alkali treatment is applied to the glass substrate is used.

具体的には、本発明におけるアルカリ処理後のSiOH/Siの平均値の範囲を満たすように、前述の前処理工程を調整して、ガラス基板の製造条件を定める。これにより、磁気薄膜層の塗布前に行われるアルカリ処理工程によりガラス基板の表面の活性が上昇した結果発生する、磁気薄膜層(磁性層)の配向性のバラツキを低減することができ、アルカリ処理を施した後に、磁気薄膜層を設けて情報記録媒体を製造した場合であっても、信号対雑音比(S/N比)の低下を十分に抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供できる。   Specifically, the pretreatment step described above is adjusted so as to satisfy the range of the average SiOH / Si value after alkali treatment in the present invention, thereby determining the glass substrate production conditions. Thereby, variation in the orientation of the magnetic thin film layer (magnetic layer), which occurs as a result of an increase in the activity of the surface of the glass substrate by the alkali treatment step performed before the application of the magnetic thin film layer, can be reduced. Even when the information recording medium is manufactured by providing a magnetic thin film layer after applying the above, a glass substrate for an information recording medium capable of sufficiently suppressing a decrease in signal-to-noise ratio (S / N ratio) is provided. Can be provided.

本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、以上のように構成される。このガラス基板の製造方法を用いることで、図1に示すガラス基板1Gが得られる。その後、このようにして得られたガラス基板1Gを用いて、図2に示す情報記録媒体1が得る。   The manufacturing method of the glass substrate in this Embodiment is comprised as mentioned above. The glass substrate 1G shown in FIG. 1 is obtained by using this glass substrate manufacturing method. Thereafter, the information recording medium 1 shown in FIG. 2 is obtained using the glass substrate 1G thus obtained.

情報記録媒体の製造における磁気薄膜層成膜工程としては、上述の工程を経て得られたガラス基板1Gの洗浄後に、ガラス基板1Gの両主表面に、Cr合金からなる密着層、CoFeZr合金からなる軟磁性層、Ruからなる配向制御下地層、CoCrPt合金からなる垂直磁気記録層、C系の保護層、F系からなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録方式の情報記録媒体を製造する。この構成は垂直磁気記録方式の構成の一例であり、面内情報記録媒体として磁性層等を構成してもよい。その後、熱処理工程等を実施することで、情報記録媒体1が完成する。   As a magnetic thin film layer film forming step in the manufacture of an information recording medium, after cleaning the glass substrate 1G obtained through the above-described steps, both main surfaces of the glass substrate 1G are formed of an adhesion layer made of a Cr alloy and a CoFeZr alloy. An information recording medium of a perpendicular magnetic recording system is formed by sequentially forming a soft magnetic layer, an orientation control underlayer made of Ru, a perpendicular magnetic recording layer made of a CoCrPt alloy, a C-based protective layer, and an F-based lubricating layer. To manufacture. This configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic recording system, and a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane information recording medium. Thereafter, the information recording medium 1 is completed by performing a heat treatment step and the like.

(実施例)
上記実施の形態において示したガラス基板の製造方法において、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、ガラス基板1の表面の活性を抑制する前処理工程(S19)として、実施例1から実施例3に示す処理を行なってガラス基板1Gを製造した。製造されたガラス基板1Gに、アルカリ処理を施した後に磁気薄膜層成膜工程を施して情報記録媒体を製造した。同様に、比較例1から比較例2に示す処理も行なった。
(Example)
In the method for manufacturing a glass substrate shown in the above embodiment, after performing the “second polishing step”, as a pretreatment step (S19) for suppressing the activity of the surface of the glass substrate 1, Examples 1 to 3 are performed. The glass substrate 1G was manufactured by performing the process shown in FIG. The manufactured glass substrate 1G was subjected to an alkali treatment and then subjected to a magnetic thin film layer forming step to manufacture an information recording medium. Similarly, the processing shown in Comparative Example 1 to Comparative Example 2 was also performed.

(実施例1)
実施例1においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、1.5ppmの水素水で3分間、ガラス基板に対してシャワーリングによるリンスを実施した。その後、ガラス基板をpH10.5の水酸化ナトリウム溶液と5分間接触させた後、ガラス基板を0.1%のアスコルビン酸に15分間接触させた。その後、純水により、ガラス基板の最終洗浄を行なった。
Example 1
In Example 1, after performing the “second polishing step”, the glass substrate was rinsed by showering with 1.5 ppm of hydrogen water for 3 minutes. Thereafter, the glass substrate was brought into contact with a sodium hydroxide solution having a pH of 10.5 for 5 minutes, and then the glass substrate was brought into contact with 0.1% ascorbic acid for 15 minutes. Thereafter, the glass substrate was finally cleaned with pure water.

(実施例2)
実施例2においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、ガラス基板1Gに対して純水を用いたシャワーリングによるリンスを実施した。その後、ガラス基板1GをpH10.5の水酸化ナトリウム溶液と5分間接触させた後、ガラス基板を0.1%のアスコルビン酸に15分間接触させた。その後、純水によりガラス基板の洗浄を行なった。
(Example 2)
In Example 2, after performing the “second polishing step”, the glass substrate 1G was rinsed by showering using pure water. Thereafter, the glass substrate 1G was brought into contact with a sodium hydroxide solution having a pH of 10.5 for 5 minutes, and then the glass substrate was brought into contact with 0.1% ascorbic acid for 15 minutes. Thereafter, the glass substrate was washed with pure water.

(実施例3)
実施例3においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、1.5ppmの水素水で3分間、ガラス基板に対してシャワーリングによるリンスを実施した。その後、ガラス基板をpH10.5の水酸化ナトリウム溶液と5分間接触させた。その後、純水によりガラス基板の洗浄を行なった。
(Example 3)
In Example 3, after performing the “second polishing step”, the glass substrate was rinsed by showering with 1.5 ppm of hydrogen water for 3 minutes. Thereafter, the glass substrate was brought into contact with a sodium hydroxide solution having a pH of 10.5 for 5 minutes. Thereafter, the glass substrate was washed with pure water.

(比較例1)
比較例1においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、ガラス基板を0.1%のアスコルビン酸に15分間接触させた。その後、純水によるガラス基板の洗浄を行なった。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, after performing the “second polishing step”, the glass substrate was brought into contact with 0.1% ascorbic acid for 15 minutes. Thereafter, the glass substrate was washed with pure water.

(比較例2)
比較例2においては、「第2ポリッシュ工程」を行なった後に、純水によるガラス基板1Gの洗浄を行なった。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, after the “second polishing step”, the glass substrate 1G was cleaned with pure water.

<アルカリ処理後のSiOH/Siの値の測定>
上記実施例1〜実施例3、および比較例1〜比較例2を実施して得られた100枚のガラス基板1Gから、10枚のガラス基板1Gを抜き取り、飛行時間型二次イオン質量分析装置(ToF−SIMS)を用いて、アルカリ処理前の各ガラス基板1Gの主表面を3ヶ所ずつ、SiOH/Siの値を測定した。
<Measurement of SiOH / Si value after alkali treatment>
Ten glass substrates 1G are extracted from 100 glass substrates 1G obtained by carrying out the above-mentioned Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2, and a time-of-flight secondary ion mass spectrometer is obtained. Using (ToF-SIMS), the SiOH / Si values were measured at three locations on the main surface of each glass substrate 1G before the alkali treatment.

その後、pH11の水酸化ナトリウム溶液(40℃)で30分処理し、再度、飛行時間型二次イオン質量分析装置(ToF−SIMS)を用いて、アルカリ処理後の各ガラス基板1Gの主表面をアルカリ処理前のSiOH/Siの値の測定と同じ位置の3ヶ所ずつ、SiOH/Siの値を測定した。   Then, it processes for 30 minutes with pH 11 sodium hydroxide solution (40 degreeC), and again uses the time-of-flight type secondary ion mass spectrometer (ToF-SIMS), and the main surface of each glass substrate 1G after an alkali treatment is used. The SiOH / Si value was measured at three locations at the same position as the measurement of the SiOH / Si value before the alkali treatment.

各、評価点におけるアルカリ処理後のSiOH/Siの値の平均値を求め、10枚のサンプルの平均値を各実施例におけるSiOH/Siの値とした。   The average value of the SiOH / Si value after the alkali treatment at each evaluation point was determined, and the average value of 10 samples was taken as the SiOH / Si value in each example.

また、SiOH/Siの値の変化率は、各測定点におけるアルカリ処理前のSiOH/Siの値に対するアルカリ処理後のSiOH/Siの値における変化率を求めた後、各測定点におけるSiOH/Siの値の変化率の平均値を求め、10枚のサンプルの平均値を各実施例におけるSiOH/Siの値の変化率とした。   Further, the rate of change of the value of SiOH / Si is obtained by calculating the rate of change in the value of SiOH / Si after alkali treatment with respect to the value of SiOH / Si before alkali treatment at each measurement point, and then the SiOH / Si at each measurement point. The average value of the rate of change of the values was obtained, and the average value of 10 samples was taken as the rate of change of the SiOH / Si value in each example.

ガラス基板1Gは、1バッチ当たり100枚で製造され、同一バッチ内での評価のバラツキは小さいので、上記評価を採用した。   Since the glass substrate 1G is manufactured with 100 sheets per batch and the variation in evaluation within the same batch is small, the above evaluation was adopted.

<情報記録媒体における電磁変換特性評価>
電磁変換特性評価では、実施例1〜比較例2で、アルカリ処理試験で用いなかった90枚のサンプルの中から任意の20枚のガラス基板1Gを取り出して行った。この際、通常の流通状態に合わせる為、製造後のガラス基板を一旦梱包材料で密封し、1日保存した後に取り出して用いた。
<Electromagnetic conversion characteristics evaluation in information recording media>
In the electromagnetic conversion characteristic evaluation, arbitrary 20 glass substrates 1G were taken out from 90 samples that were not used in the alkali treatment test in Example 1 and Comparative Example 2. At this time, in order to adjust to a normal distribution state, the glass substrate after production was once sealed with a packing material, stored for one day, and then taken out and used.

磁気薄膜層成膜工程を行なう前に、アルカリ処理として、30℃のpH11.5の水酸化ナトリウム溶液により60分間に流水洗浄槽への浸漬処理を行った。   Before performing the magnetic thin film layer forming step, as an alkali treatment, an immersion treatment in a running water washing tank was performed for 60 minutes with a sodium hydroxide solution having a pH of 11.5 at 30 ° C.

電磁変換特性評価では、20枚のガラス基板1Gに、上述の磁気薄膜層成膜工程により磁気薄膜層を形成して情報記録媒体を得た後、電磁変換特性を評価した。具体的には、基準となる情報記録媒体に対するSNRの差を求めた。   In the electromagnetic conversion characteristic evaluation, the magnetic thin film layer was formed on the 20 glass substrates 1G by the above-described magnetic thin film layer film forming process to obtain an information recording medium, and then the electromagnetic conversion characteristic was evaluated. Specifically, the difference in SNR with respect to the reference information recording medium was obtained.

情報記録媒体に対する電磁変換特性評価は、磁気ヘッドによる記録再生特性を調べることにより行なった。具体的には、記録周波数を変えて記録密度を変化させて信号を記録し、この信号の再生出力を読み取ることにより調べた。情報記録媒体の記録密度は、650Gbit/inch2とした。   Evaluation of electromagnetic conversion characteristics for an information recording medium was performed by examining recording / reproducing characteristics of a magnetic head. Specifically, the recording was performed by changing the recording frequency to change the recording density, recording the signal, and reading the reproduction output of this signal. The recording density of the information recording medium was 650 Gbit / inch2.

磁気ヘッドとしては、垂直記録用単磁極ヘッド(記録用)とGMRヘッド(再生用)が一体となった垂直記録用マージ型ヘッドを用いた。SNR値が〜−0.1dbなら評価「A」、−0.11db〜−0.20dbなら評価「B」、−0.21〜−0.30dbなら評価「C」、−0.31db〜なら評価「D」とした。ここでいうSNR値は、あらかじめ定めた基準値に対する差を表す。   As the magnetic head, a perpendicular recording merge type head in which a single pole head for recording (for recording) and a GMR head (for reproduction) were integrated was used. If the SNR value is ˜−0.1 db, the evaluation is “A”, if it is −0.11 db to −0.20 db, the evaluation is “B”, if it is −0.21 to −0.30 db, the evaluation is “C”, and if it is −0.31 db The evaluation was “D”. The SNR value here represents a difference with respect to a predetermined reference value.

電磁変換特性によるエラーであることを確かめるために、上述のアルカリ処理前のガラス基板1Gの清浄性を、所定の検出感度に設定したOSA(Optical Surface Analyzer)に代表される光学系表面分析装置による欠陥検査によって確認した。光学系表面分析装置による欠陥のカウント値は、情報記録媒体1枚当たりの付着物および/またはへこみなどの欠陥の数で大きいほど表面の清浄性がよくないことを示す。   In order to confirm that the error is due to electromagnetic conversion characteristics, an optical system surface analyzer represented by OSA (Optical Surface Analyzer) in which the cleanliness of the glass substrate 1G before the alkali treatment is set to a predetermined detection sensitivity is used. Confirmed by defect inspection. The larger the number of defects such as deposits and / or dents per information recording medium, the better the surface cleanliness, as the defect count value by the optical system surface analyzer is larger.

図4に、実施例1〜実施例3、および比較例1〜比較例2における評価結果を示す。具体的には、図4には、実施例1〜実施例3、および比較例1〜比較例2における、(i)アルカリ処理後のガラス基板のSiOH/Siの値、(ii)基準となる情報記録媒体に対する差として表される、実施例1〜3および比較例1〜2において制作した情報記録媒体のSNR値(db)、(iii)実施例1〜3、および比較例1〜2における、アルカリ処理前後のガラス基板のSiOH/Siの変化率、(iv)実施例1〜3、および比較例1〜2におけるOSAカウント値、(v)実施例1〜3、および比較例1〜2の評価を示す。   FIG. 4 shows the evaluation results in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2. Specifically, FIG. 4 shows (i) the value of SiOH / Si of the glass substrate after alkali treatment, and (ii) the reference in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2. The SNR value (db) of the information recording medium produced in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2, expressed as a difference with respect to the information recording medium, (iii) in Examples 1-3, and Comparative Examples 1-2 , Change rate of SiOH / Si of glass substrate before and after alkali treatment, (iv) OSA count value in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2, (v) Examples 1-3, and Comparative Examples 1-2 The evaluation of is shown.

実施例1においては、(i)アルカリ処理後のガラス基板のSiOH/Siの値は、「0.20」であり、(ii)実施例1の条件で製造されたガラス基板を用いて製造されたガラス基板における、基準となる情報記録媒体に対する差として表される情報記録媒体のSNR値(db)は、「0.12(db)」、(iii)アルカリ処理前後のガラス基板のSiOH/Siの変化率は、「13%」(iv)OSAカウント値は、「6」であった。その結果、評価は「A」が得られた。   In Example 1, (i) the SiOH / Si value of the glass substrate after the alkali treatment is “0.20”, and (ii) manufactured using the glass substrate manufactured under the conditions of Example 1. The SNR value (db) of the information recording medium expressed as a difference from the reference information recording medium in the glass substrate is “0.12 (db)”, (iii) SiOH / Si of the glass substrate before and after the alkali treatment. The rate of change was “13%” (iv) and the OSA count value was “6”. As a result, the evaluation was “A”.

実施例2においては、(i)アルカリ処理後のガラス基板のSiOH/Siの値は、「0.46」、(ii)実施例2の条件で製造されたガラス基板を用いて製造されたガラス基板における、基準となる情報記録媒体に対する差として表される情報記録媒体のSNR値(db)は、「−0.11(db)」、(iii)アルカリ処理前後のガラス基板のSiOH/Siの変化率は、「17%」(iv)OSAカウント値は、「12」であった。その結果、実施例1には劣るが、評価は「B」が得られた。   In Example 2, (i) the SiOH / Si value of the glass substrate after the alkali treatment was “0.46”, and (ii) glass manufactured using the glass substrate manufactured under the conditions of Example 2. The SNR value (db) of the information recording medium expressed as the difference from the reference information recording medium in the substrate is “−0.11 (db)”, (iii) SiOH / Si of the glass substrate before and after the alkali treatment. The rate of change was “17%” (iv) and the OSA count value was “12”. As a result, although it was inferior to Example 1, evaluation "B" was obtained.

実施例3においては、(i)アルカリ処理後のガラス基板のSiOH/Siの値は、「0.50」、(ii)実施例3の条件で製造されたガラス基板を用いて製造されたガラス基板における、基準となる情報記録媒体に対する差として表される情報記録媒体のSNR値(db)は、「−0.21(db)」、(iii)アルカリ処理前後のガラス基板のSiOH/Siの変化率は、「21%」(iv)OSAカウント値は、「9」であった。その結果、実施例2に劣るが評価は「C」が得られた。   In Example 3, (i) the value of SiOH / Si of the glass substrate after the alkali treatment is “0.50”, and (ii) glass manufactured using the glass substrate manufactured under the conditions of Example 3. The SNR value (db) of the information recording medium expressed as a difference with respect to the reference information recording medium in the substrate is “−0.21 (db)”, (iii) SiOH / Si of the glass substrate before and after the alkali treatment. The rate of change was “21%” (iv) and the OSA count value was “9”. As a result, the evaluation was “C” although it was inferior to Example 2.

比較例1においては、(i)アルカリ処理後のガラス基板のSiOH/Siの値は、「0.55」、(ii)比較例1の条件で製造されたガラス基板を用いて製造されたガラス基板における、基準となる情報記録媒体に対する差として表される情報記録媒体のSNR値変化(db)は、「−0.35(db)」、(iii)アルカリ処理前後のガラス基板のSiOH/Siの変化率は、「21%」(iv)OSAカウント値は、「10」であった。その結果、評価は「D」であった。   In Comparative Example 1, (i) the SiOH / Si value of the glass substrate after the alkali treatment is “0.55”, and (ii) glass manufactured using the glass substrate manufactured under the conditions of Comparative Example 1. The SNR value change (db) of the information recording medium expressed as a difference from the reference information recording medium in the substrate is “−0.35 (db)”, (iii) SiOH / Si of the glass substrate before and after the alkali treatment. The rate of change was “21%” (iv) and the OSA count value was “10”. As a result, the evaluation was “D”.

比較例2においては、(i)アルカリ処理後のガラス基板のSiOH/Siの値は、「0.14」であり、(ii)比較例2の条件で製造されたガラス基板を用いて製造されたガラス基板における、基準となる情報記録媒体に対する差として表される情報記録媒体のSNR値変化(db)は、「−0.48(db)」、(iii)アルカリ処理前後のガラス基板のSiOH/Siの変化率は、「28%」(iv)OSAカウント値は、「8」であった。その結果、評価は「D」であった。   In Comparative Example 2, (i) the SiOH / Si value of the glass substrate after the alkali treatment is “0.14”, and (ii) manufactured using the glass substrate manufactured under the conditions of Comparative Example 2. The SNR value change (db) of the information recording medium expressed as a difference from the reference information recording medium in the glass substrate is “−0.48 (db)”, (iii) SiOH of the glass substrate before and after the alkali treatment. The change rate of / Si was “28%” (iv) The OSA count value was “8”. As a result, the evaluation was “D”.

評価として「A」から「C」であれば、情報記録媒体としての信用を確保することが可能であるため、実施例1〜実施例3、および比較例1〜比較例2の結果に基づけば、ガラス基板は、アルカリ処理後の飛行時間型二次イオン質量分析装置を用いて測定した主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.46以下である条件で製造されたガラス基板が用いられることが好ましく、評価「A」および評価「B」の観点に立てば、0.20以上0.30以下である条件で製造されたガラス基板が用いられることがより好ましい。実施例および比較例において、ガラス基板表面の清浄性を表す、OSAの測定値は大きく変わらず、Ra変化値がSNR特性に影響を与えることが確認できた。   If the evaluation is “A” to “C”, it is possible to ensure the credibility of the information recording medium. Therefore, based on the results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2. The glass substrate was manufactured under the condition that the average value of SiOH / Si on the main surface measured using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer after alkali treatment was 0.20 or more and 0.46 or less. A substrate is preferably used, and from the viewpoint of evaluation “A” and evaluation “B”, it is more preferable to use a glass substrate manufactured under conditions of 0.20 or more and 0.30 or less. In the examples and comparative examples, it was confirmed that the measured value of OSA representing the cleanliness of the glass substrate surface did not change greatly, and the Ra change value affected the SNR characteristics.

上記範囲内のガラス基板1Gを用いた情報記録媒体によれば、記録密度が600Gbit/inch2以上のハードディスクドライブ装置に用いられた場合においても、信号対雑音比(S/N比)の低下を引き起こすことのない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能となる。   According to the information recording medium using the glass substrate 1G within the above range, the signal-to-noise ratio (S / N ratio) is lowered even when used in a hard disk drive device with a recording density of 600 Gbit / inch 2 or more. It is possible to provide a glass substrate for an information recording medium without any problems.

以上、本発明の実施の形態および実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments and examples of the present invention have been described above, the embodiments and examples disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

1 情報記録媒体、1G 情報記録媒体用ガラス基板、11 孔、12 外周端面、13 内周端面、14 表主表面、15 裏主表面、23 磁気薄膜層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Information recording medium, 1G Glass substrate for information recording media, 11 hole, 12 outer peripheral end surface, 13 inner peripheral end surface, 14 front main surface, 15 back main surface, 23 magnetic thin film layer.

Claims (6)

ガラス基板の主表面上に磁気薄膜層が形成され、磁気記録面における記録密度が600Gbit/平方インチ以上である情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板であって、
当該情報記録媒体用ガラス基板は、
当該情報記録媒体用ガラス基板を40℃、pH11の水酸化ナトリウム溶液で30分浸漬させるアルカリ処理を行った場合に、前記ガラス基板の主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.50以下となる、情報記録媒体用ガラス基板。
A glass substrate for an information recording medium used for an information recording medium, wherein a magnetic thin film layer is formed on a main surface of a glass substrate, and a recording density on a magnetic recording surface is 600 Gbit / in 2 or more,
The information recording medium glass substrate is:
When an alkali treatment in which the glass substrate for information recording medium is immersed in a sodium hydroxide solution at 40 ° C. and pH 11 for 30 minutes, the average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate is 0.20 or more and 0 A glass substrate for an information recording medium, which is 50 or less.
前記アルカリ処理を行った場合における前記ガラス基板の前記主表面のSiOH/Siの平均値が、0.20以上0.45以下である、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板。   The glass substrate for an information recording medium according to claim 1, wherein an average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate when the alkali treatment is performed is 0.20 or more and 0.45 or less. 前記アルカリ処理前の前記ガラス基板の前記主表面のSiOH/Siの平均値に対し、前記アルカリ処理後の前記ガラス基板の前記主表面のSiOH/Siの平均値の変化率は20%以下である、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板。   The change rate of the average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate after the alkali treatment is 20% or less with respect to the average value of SiOH / Si on the main surface of the glass substrate before the alkali treatment. The glass substrate for information recording media according to claim 1. 請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、
前記研磨工程の後に、研磨後の前記円盤状ガラス部材を0.1ppm〜1.4ppmの水素水で1〜10分間接触し、その後、前記円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触させた後、前記円盤状ガラス部材を0.05〜0.5%の有機酸に5〜20分接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for information recording media given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
A polishing step is performed on the main surface of the disk-shaped glass member,
After the polishing step, the disk-shaped glass member after polishing is contacted with 0.1 ppm to 1.4 ppm of hydrogen water for 1 to 10 minutes, and then the disk-shaped glass member is alkali having a pH of 10.0 to 11.0. After contact with the solution for 5 to 20 minutes, the disc-shaped glass member is subjected to a treatment for contacting the organic acid of 0.05 to 0.5% for 5 to 20 minutes, and then a final cleaning step is performed. A method for producing a glass substrate for an information recording medium.
請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、
前記研磨工程の後に、研磨後の前記円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触させた後、前記円盤状ガラス部材を0.05〜0.5%の有機酸に5〜20分接触する処理が施され、その後、最終洗浄工程が施される、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for information recording media given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
A polishing step is performed on the main surface of the disk-shaped glass member,
After the polishing step, the disk-shaped glass member after polishing is brought into contact with an alkaline solution having a pH of 10.0 to 11.0 for 5 to 20 minutes, and then the disk-shaped glass member is 0.05 to 0.5%. The manufacturing method of the glass substrate for information recording media with which the process which contacts an organic acid for 5 to 20 minutes is given, and the last washing | cleaning process is given after that.
請求項1〜3の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
円盤状ガラス部材の主表面に対して研磨工程が行なわれ、
前記研磨工程の後に、研磨後の円盤状ガラス部材を1.5ppmの水素水で3分間接触し、その後、当該研磨後の円盤状ガラス部材をpH10.0〜11.0のアルカリ溶液と5〜20分間接触する処理が施され、その後、前記最終洗浄工程が施される、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for information recording media given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
A polishing step is performed on the main surface of the disk-shaped glass member,
After the polishing step, the polished disc-shaped glass member is contacted with 1.5 ppm of hydrogen water for 3 minutes, and then the polished disc-shaped glass member is mixed with an alkaline solution having a pH of 10.0 to 11.0 and 5 to 5. The manufacturing method of the glass substrate for information recording media with which the process which contacts for 20 minutes is given, and the said last washing | cleaning process is given after that.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006063438A (en) * 2004-07-27 2006-03-09 Fuji Electric Device Technology Co Ltd Plating method on glass base plate, method of manufacturing disk substrate for magnetic recording medium using the method and method for manufacturing vertical magnetic recording medium
JP2006219349A (en) * 2005-02-10 2006-08-24 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd Silica glass plate and its manufacturing method
WO2009157202A1 (en) * 2008-06-27 2009-12-30 パナソニック株式会社 Method and apparatus for manufacturing multilayer information recording medium
JP2010248071A (en) * 2010-07-30 2010-11-04 Toyo Sasaki Glass Co Ltd Highly washable glass molded article
JP2011232357A (en) * 2006-09-06 2011-11-17 Horiba Ltd Glass electrode and its response glass

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030188553A1 (en) * 2002-04-08 2003-10-09 Mann Larry G. Direct bonding methods using lithium
CN1740388A (en) * 2004-07-27 2006-03-01 富士电机电子设备技术株式会社 Method of manufacturing a disk substrate for a magnetic recording medium

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006063438A (en) * 2004-07-27 2006-03-09 Fuji Electric Device Technology Co Ltd Plating method on glass base plate, method of manufacturing disk substrate for magnetic recording medium using the method and method for manufacturing vertical magnetic recording medium
JP2006219349A (en) * 2005-02-10 2006-08-24 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd Silica glass plate and its manufacturing method
JP2011232357A (en) * 2006-09-06 2011-11-17 Horiba Ltd Glass electrode and its response glass
WO2009157202A1 (en) * 2008-06-27 2009-12-30 パナソニック株式会社 Method and apparatus for manufacturing multilayer information recording medium
JP2010248071A (en) * 2010-07-30 2010-11-04 Toyo Sasaki Glass Co Ltd Highly washable glass molded article

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