JP2014010869A - Method for manufacturing glass substrate for hdd - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a glass substrate for HDD which can improve the reliability of an HDD by stabilizing a glass substrate surface layer.SOLUTION: The method for manufacturing a glass substrate for HDD whose recording density is 600 Gbit/inchor more includes a second polish step (S18) for polishing a glass substrate and an aging step (S19) for performing heating treatment of the glass substrate in a gas phase after the second polish step (S18). A product between treatment temperature (unit: °C) and a treatment time (unit: minute) in the aging step (S19) is 1500 or more, and the treatment temperature is less than 40°C super glass transition point temperature.

Description

本発明は、HDD(Hard Disk Drive)用のガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for an HDD (Hard Disk Drive).

コンピュータなどに用いられる情報記録媒体(磁気ディスク記録媒体)には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。   Conventionally, an aluminum substrate or a glass substrate is used as an information recording medium (magnetic disk recording medium) used in a computer or the like. A magnetic thin film layer is formed on these substrates, and information is recorded on the magnetic thin film layer by magnetizing the magnetic thin film layer with a magnetic head.

HDDの記憶容量は年々飛躍的に増大しており、記録密度も年々向上している。これに伴い、記録領域はより微小化され、1ビットに費やす媒体の記録面積を小さくすることが必要不可欠となっている。媒体の記録面積の減少に比例して記録用の磁性粒子サイズも微細化しなければならず、微小領域での磁気信号のリード/ライト機能を向上するために、磁気ヘッドと情報記録媒体との間の距離(フライングハイト)がさらに小さくなっている。   The storage capacity of HDDs has increased dramatically year by year, and the recording density has also improved year by year. Accordingly, the recording area is further miniaturized, and it is indispensable to reduce the recording area of the medium spent for one bit. In order to improve the read / write function of the magnetic signal in a minute area, the size of the magnetic particle for recording must be reduced in proportion to the reduction in the recording area of the medium, and between the magnetic head and the information recording medium. The distance (flying height) is even smaller.

フライングハイトが小さくなるにつれて、情報記録媒体をハードディスクドライブ装置に用いた場合の、媒体に記録されたデータにアクセスする際のリード/ライトエラー、磁気ヘッドが媒体表面に衝突するヘッドクラッシュなどの問題が発生しやすくなっている。これらの問題を抑制するために、情報記録媒体として許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなる。そのため、情報記録媒体用ガラス基板としても、より表面平滑性の高いガラス基板が追及されており、ガラス基板表面に付着する異物や、ガラス基板表面のうねりを抑制する為、製造方法に様々な工夫がなされてきた。   As the flying height becomes smaller, there are problems such as read / write errors when accessing data recorded on the medium and head crashes when the magnetic head collides with the medium surface when the information recording medium is used in a hard disk drive. It is likely to occur. In order to suppress these problems, the size of defects on the substrate surface allowed as an information recording medium is also reduced. Therefore, as a glass substrate for information recording media, a glass substrate with higher surface smoothness has been pursued, and in order to suppress foreign matter adhering to the glass substrate surface and undulation of the glass substrate surface, various ingenuity has been applied to the manufacturing method. Has been made.

一方、近年では、HDDの記憶容量は更に向上され、現在では2.5インチの記録媒体1枚で、記録容量が500GB(片面250GB)、面記録密度が600Gbit/平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されている。このような高い記録密度の記録媒体において、平滑性が非常に高いガラス基板を用いた場合においても、データアクセス時のリード/ライトエラーが発生する場合があることがわかり、原因を分析したところ、従来のヘッドクラッシュによるエラーではないことが判明した。   On the other hand, in recent years, the storage capacity of HDDs has been further improved. At present, one 2.5-inch recording medium has a recording capacity of 500 GB (single-sided 250 GB) and a surface recording density of 600 Gbit / square inch or more. Things are being developed. In such a high recording density recording medium, even when a very smooth glass substrate was used, it was found that read / write errors during data access may occur, and the cause was analyzed. It turned out not to be an error due to a conventional head crash.

上述の問題に対し、製造後のガラス基板に関し、表面状態を含めて精査したが、リード/ライトエラーの発生要因となるような欠陥は見られず、具体的な解決策は見出されていなかった。しかし、さらに精査した結果、製造後のガラス基板に対して磁性層を設けた後に、磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきが発生し、リード/ライトエラーの発生要因となっている可能性が見出された。   Regarding the above-mentioned problems, we examined the glass substrate after manufacturing, including the surface condition, but found no defects that could cause read / write errors, and no specific solution was found. It was. However, as a result of further scrutinization, it was found that the signal-to-noise ratio of the magnetic signal varies after the magnetic layer is provided on the manufactured glass substrate, which may cause read / write errors. It was done.

このような磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきの要因について、更に検討を進めた結果、このような磁性層における磁気信号のバラつきは、やはりガラス基板の表面状態に起因して発生していることが判明した。一般的に、記録媒体用のガラス基板は、製造後一旦密封梱包されて搬送された後に、取りだされて磁性層を塗設する工程に供される。その際、梱包時、搬送時、取り出し時の条件の違いにより、ガラス基板の表面状態が不均一化したり、わずかなパーティクルが付着する場合がある。そのため、表面状態を均一化する為に、アルカリ性の洗剤等の、比較的洗浄性が高く、場合によっては表面を若干溶解させるような特性を持つ洗剤を用いて洗浄される。上述の磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきは、このような磁性層の塗設直前に行われる洗浄において、ガラス表面の安定状態が損なわれて発生しており、ガラス基板自体を製造後に検査しても要因が判明し得なかったことが明らかになった。   As a result of further investigation on the cause of the variation in the signal-to-noise ratio of the magnetic signal, the variation in the magnetic signal in the magnetic layer is still caused by the surface state of the glass substrate. found. Generally, a glass substrate for a recording medium is once sealed and packaged after being manufactured and then transported, and then taken out and subjected to a step of coating a magnetic layer. In that case, the surface state of a glass substrate may become non-uniform | heterogenous or few particles may adhere by the difference in the conditions at the time of packing, conveyance, and taking out. Therefore, in order to make the surface state uniform, cleaning is performed using a detergent such as an alkaline detergent that has a relatively high detergency and in some cases has a characteristic of slightly dissolving the surface. The above-mentioned variation in the signal-to-noise ratio of the magnetic signal is caused by the glass surface itself being inspected after manufacturing because the glass surface itself is damaged in the cleaning performed immediately before the coating of the magnetic layer. It became clear that the factor could not be found.

このような磁性層を塗布する直前におけるガラス基板の安定性を高める取り組みは従前には検討されていなかったが、ガラス基板表面における成分の溶出を抑制して安定性を高める技術としては、ガラス基材の表面部分に存在するアルカリ金属イオンをリチウムイオンに置換し、続いてリチウムイオンを水素イオンに置換する二段階のイオン交換処理を施すことで、ガラス基板から骨格成分となるSi成分の溶出を抑制し、高温高湿下での長時間の使用、保存においても強度劣化を起こさないガラス基板を提供する技術が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。   Efforts to improve the stability of the glass substrate immediately before coating such a magnetic layer have not been studied before, but as a technology to improve the stability by suppressing the elution of components on the surface of the glass substrate, The alkali metal ions present on the surface of the material are replaced with lithium ions, followed by a two-step ion exchange treatment in which the lithium ions are replaced with hydrogen ions. There has been proposed a technique for providing a glass substrate that is suppressed and does not deteriorate in strength even when used and stored for a long time under high temperature and high humidity (for example, see Patent Document 1).

特開2005−187239号公報JP 2005-187239 A

上述のように、HDDの記録密度を600Gbit/平方インチ以上にまで増大させる場合には、従来のようにガラス基板の表面平滑性のみを高めるだけでは十分ではなく、磁性層を塗布する直前のガラス基板の表面状態に起因した磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきによるリード/ライトエラーを抑制する必要がある。   As described above, when the HDD recording density is increased to 600 Gbit / in 2 or more, it is not sufficient to increase only the surface smoothness of the glass substrate as in the prior art, and the glass just before the magnetic layer is applied. It is necessary to suppress read / write errors due to variations in the signal-to-noise ratio of the magnetic signal due to the surface state of the substrate.

特許文献1によれば、特殊な処理により、ガラス基板の表面における骨格成分の溶出をある程度抑制することは可能であるものの、上記の処理後には、通常研磨工程が行われ、表面状態は随時変化する為、ガラス基板製造後における表面状態は必ずしも制御できない。その為、ガラス基板表面の安定性は十分ではなく、磁性層を塗布する直前に施されるアルカリ性の洗剤等を用いた洗浄によりわずかな成分の溶出が発生し、それにより発生する磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきによるリード/ライトエラーを抑制することは困難であった。   According to Patent Document 1, although it is possible to suppress the elution of the skeleton component on the surface of the glass substrate to some extent by a special treatment, a normal polishing step is performed after the above treatment, and the surface state changes as needed. For this reason, the surface state after manufacturing the glass substrate cannot always be controlled. For this reason, the stability of the glass substrate surface is not sufficient, and the elution of slight components occurs by washing with an alkaline detergent or the like applied immediately before applying the magnetic layer, and the signal of the magnetic signal generated thereby. It has been difficult to suppress read / write errors due to variations in the noise ratio.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、ガラス基板表層を安定化させ、HDDの記録密度を600Gbit/平方インチ以上にまで増大させた場合においても、磁気信号のシグナルノイズ比のバラつきによるリード/ライトエラーを抑制し、それによりHDDの信頼性を向上できる、HDD用ガラス基板の製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and its main purpose is to stabilize the surface layer of the glass substrate and to increase the recording density of the HDD to 600 Gbit / in 2 or more even when the magnetic signal is recorded. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a glass substrate for HDD, which can suppress read / write errors due to variations in signal-to-noise ratio and thereby improve the reliability of the HDD.

本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討し、ガラス基板の製造工程においてガラス基板表層を十分に安定化させることでHDDの磁気特性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventor has intensively studied in view of the above problems, and found that the magnetic characteristics of the HDD can be improved by sufficiently stabilizing the glass substrate surface layer in the glass substrate production process, and has completed the present invention.

すなわち、本発明に係るHDD用ガラス基板の製造方法は、記録密度が600Gbit/inch以上であるHDD用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板を研磨する工程と、研磨する工程後、ガラス基板を気相中で加熱処理する工程とを備える。加熱処理する工程における処理温度(単位:℃)と処理時間(単位:分)との積が1500以上であり、処理温度は40℃超ガラス転移点温度未満である。 That is, the method for manufacturing a glass substrate for HDD according to the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for HDD having a recording density of 600 Gbit / inch 2 or more, and includes a step of polishing the glass substrate, a step of polishing, Heat-treating the substrate in the gas phase. The product of the treatment temperature (unit: ° C) and the treatment time (unit: minutes) in the heat treatment step is 1500 or more, and the treatment temperature is higher than 40 ° C and less than the glass transition temperature.

上記製造方法において好ましくは、加熱処理する工程における気相中の相対湿度は50%以下である。好ましくは、加熱処理する工程における処理温度(単位:℃)と処理時間(単位:分)との積が2000以上100000以下である。   Preferably in the said manufacturing method, the relative humidity in the gaseous phase in the process of heat-processing is 50% or less. Preferably, the product of the treatment temperature (unit: ° C.) and the treatment time (unit: minutes) in the heat treatment step is 2,000 or more and 100,000 or less.

本発明によると、研磨工程後に上記の条件で加熱処理を行うことで、ガラス基板表層を安定化させることができ、記録密度が600Gbit/inch以上であるHDDにおいても良好な磁気特性を示す信頼性の高いHDDを得ることができる。 According to the present invention, the glass substrate surface layer can be stabilized by performing the heat treatment under the above conditions after the polishing step, and a reliable magnetic property is exhibited even in an HDD having a recording density of 600 Gbit / inch 2 or more. A highly reliable HDD can be obtained.

実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の斜視図である。It is a perspective view of the glass substrate for information recording media in an embodiment. 実施の形態における情報記録媒体の斜視図である。It is a perspective view of the information recording medium in an embodiment. 実施の形態における情報記録媒体の製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the information recording medium in embodiment.

以下に、本発明の実施の形態および実施例について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。   Embodiments and examples of the present invention will be described below. Note that the same or corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may not be repeated.

なお、以下に説明する実施の形態および実施例において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。   Note that in the embodiments and examples described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the following embodiments, each component is not necessarily essential for the present invention unless otherwise specified.

(情報記録媒体1の構成)
図1および図2を参照して、情報記録媒体用ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の構成について説明する。図1は、情報記録媒体用ガラス基板1Gの斜視図である。図2は、情報記録媒体の斜視図である。
(Configuration of information recording medium 1)
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the structure of the glass substrate 1G for information recording media and the information recording medium 1 is demonstrated. FIG. 1 is a perspective view of a glass substrate 1G for an information recording medium. FIG. 2 is a perspective view of the information recording medium.

図1に示すように、情報記録媒体1に用いられる情報記録媒体用ガラス基板1G(以下、「ガラス基板1G」と称する。)は、中心に孔11が形成された環状の円板形状を呈している。ガラス基板1Gは、外周端面12、内周端面13、表主表面14、および裏主表面15を有している。ガラス基板1Gとしては、アモルファスガラス等を用い、たとえば、外径約65mm、内径約20mm、厚さ約0.8mm、表面粗さは、約2.0Å以下である。   As shown in FIG. 1, an information recording medium glass substrate 1G used for the information recording medium 1 (hereinafter referred to as “glass substrate 1G”) has an annular disk shape with a hole 11 formed in the center. ing. The glass substrate 1G has an outer peripheral end face 12, an inner peripheral end face 13, a front main surface 14, and a back main surface 15. As the glass substrate 1G, amorphous glass or the like is used. For example, the outer diameter is about 65 mm, the inner diameter is about 20 mm, the thickness is about 0.8 mm, and the surface roughness is about 2.0 mm or less.

ガラス基板1Gのインチサイズに特に限定はなく、0.8インチ、1.0インチ、1.8インチ、2.5インチ、3.5インチ各種ガラス基板1Gを、情報記録媒体用のディスクとして製造してもよい。   The inch size of the glass substrate 1G is not particularly limited, and various glass substrates 1G of 0.8 inch, 1.0 inch, 1.8 inch, 2.5 inch, and 3.5 inch are manufactured as disks for information recording media. May be.

落下衝撃によるガラス基板1Gの割れに対して有効であることから、ガラス基板1Gの厚みは0.30mm〜2.2mmが好ましい。ここでいうガラス基板1Gの厚みとは基板上の点対象となる任意の何点かで測定した値の平均値を意味する。   The thickness of the glass substrate 1G is preferably 0.30 mm to 2.2 mm because it is effective against cracking of the glass substrate 1G due to drop impact. The thickness of the glass substrate 1 </ b> G here means an average value of values measured at some arbitrary points to be pointed on the substrate.

図2に示す本実施の形態の情報記録媒体1はHDDである。図2に示すように、情報記録媒体1では、上記したガラス基板1Gの表主表面14上に磁気薄膜層23が形成されている。HDDの記録密度は600Gbit/inch以上である。図示では、表主表面14上にのみ磁気薄膜層23が形成されているが、裏主表面15上に磁気薄膜層23を設けることも可能である。 The information recording medium 1 of this embodiment shown in FIG. 2 is an HDD. As shown in FIG. 2, in the information recording medium 1, a magnetic thin film layer 23 is formed on the front main surface 14 of the glass substrate 1G. The recording density of the HDD is 600 Gbit / inch 2 or more. In the figure, the magnetic thin film layer 23 is formed only on the front main surface 14, but it is also possible to provide the magnetic thin film layer 23 on the back main surface 15.

磁気薄膜層23の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法、スパッタリングにより形成する方法、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。   As a method for forming the magnetic thin film layer 23, a conventionally known method can be used. For example, a method of spin-coating a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed, a method of forming by sputtering, a method of electroless The method of forming by plating is mentioned.

スピンコート法での膜厚は約0.3〜1.2μm程度、スパッタリング法での膜厚は0.04〜0.08μm程度、無電解めっき法での膜厚は0.05〜0.1μm程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成がよい。   The film thickness by spin coating is about 0.3 to 1.2 μm, the film thickness by sputtering is about 0.04 to 0.08 μm, and the film thickness by electroless plating is 0.05 to 0.1 μm. From the viewpoint of thinning and high density, film formation by sputtering and electroless plating is preferable.

磁気薄膜層23に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いCoを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でNi、Crを加えたCo系合金などが好適である。近年では、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、FePt系の材料が用いられるようになってきている。   The magnetic material used for the magnetic thin film layer 23 is not particularly limited, and a conventionally known material can be used. However, in order to obtain a high coercive force, Co having a high crystal anisotropy is basically used to adjust the residual magnetic flux density. Co-based alloys to which Ni and Cr are added are suitable. In recent years, FePt-based materials have been used as magnetic layer materials suitable for heat-assisted recording.

磁気ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層23の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。   In order to improve the sliding of the magnetic head, the surface of the magnetic thin film layer 23 may be thinly coated with a lubricant. Examples of the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a freon-based solvent.

必要により下地層、保護層を設けてもよい。情報記録媒体1における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Niなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。   If necessary, an underlayer and a protective layer may be provided. The underlayer in the information recording medium 1 is selected according to the magnetic film. Examples of the material for the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni.

下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等の多層下地層としてもよい。   The underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV may be used.

磁気薄膜層23の摩耗、腐食を防止する保護層としては、例えば、Cr層、Cr合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。   Examples of the protective layer for preventing wear and corrosion of the magnetic thin film layer 23 include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer. The protective layer can be formed continuously with an in-line sputtering apparatus, such as an underlayer and a magnetic film. The protective layer may be a single layer, or may have a multilayer structure composed of the same or different layers.

上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Cr層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素(SiO)層を形成してもよい。 Another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, in place of the protective layer, tetraalkoxysilane is diluted with an alcohol-based solvent on a Cr layer, and then colloidal silica fine particles are dispersed and applied, followed by baking to form a silicon oxide (SiO 2 ) layer. It may be formed.

(ガラス基板1Gの製造工程)
次に、図3を参照して、本実施の形態に係るガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を説明する。図3は、ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を示すフロー図である。
(Manufacturing process of glass substrate 1G)
Next, a method for manufacturing the glass substrate 1G and the information recording medium 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the glass substrate 1G and the information recording medium 1.

まず、ステップ10(以下、「S10」と略す。ステップ11以降も同様。)の「ガラス溶融工程」において、ガラス基板を構成するガラス素材を溶融する。   First, in the “glass melting step” of step 10 (hereinafter abbreviated as “S10”, the same applies to step 11 and subsequent steps), the glass material constituting the glass substrate is melted.

S11の「プレス成形工程」において、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレスによりガラス基板を作製した。使用したガラス組成は、一般的なアルミノシリケートガラスを用いた。ガラス基板の作製方法としては成形に限らず、公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わず、ガラス組成もこれに限らない。   In the “press molding step” of S11, a glass substrate was produced by pressing the molten glass material using an upper mold and a lower mold. The glass composition used was a general aluminosilicate glass. The method for producing the glass substrate is not limited to molding, and may be cut out from plate glass, which is a known technique, and the glass composition is not limited thereto.

S12の「第1ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面をラッピング加工した。この第1ラップ工程は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置を用いて行なった。具体的には、ガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行なった。このラッピング加工により、おおよそ平坦な主表面を有するガラス基板を得た。   In the “first lapping step” of S12, both main surfaces of the glass substrate were lapped. This first lapping step was performed using a double-sided lapping device using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen was pressed on both surfaces of the glass substrate from above and below, the grinding liquid was supplied onto the main surface of the glass substrate, and these were moved relatively to perform lapping. By this lapping process, a glass substrate having a substantially flat main surface was obtained.

S13の「コアリング工程」において、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラス基板の中心部に穴を形成し、円環状のガラス基板を作製した。ガラス基板の内周端面、および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を実施した。   In the “coring step” of S13, a cylindrical diamond drill was used to form a hole in the center of the glass substrate to produce an annular glass substrate. The inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface of the glass substrate were ground with a diamond grindstone, and a predetermined chamfering process was performed.

S14の「第2ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面について、上記第1ラップ工程(S12)と同様に、ラッピング加工を行なった。この第2ラップ工程を行なうことにより、前工程のコアリングや端面加工において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができる。その結果、後工程での主表面の研磨時間を短縮することができる。   In the “second lapping step” of S14, lapping was performed on both main surfaces of the glass substrate in the same manner as in the first lapping step (S12). By performing the second lapping step, the fine uneven shape formed on the main surface in the coring and end face processing in the previous step can be removed in advance. As a result, the polishing time of the main surface in the subsequent process can be shortened.

S15の「外周研磨工程」において、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨による鏡面研磨を行なった。このとき研磨砥粒としては、一般的な酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いた。   In the “peripheral polishing step” of S15, the outer peripheral end face of the glass substrate was subjected to mirror polishing by brush polishing. At this time, as the abrasive grains, a slurry containing general cerium oxide abrasive grains was used.

S16の「第1ポリッシュ工程」において、主表面研磨を行なった。この第1ポリッシュ工程は、上述の第1および第2ラップ工程(S12,S14)において主表面に残留したキズや反りを矯正することを主目的とするものである。この第1ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により主表面の研磨を行なった。研磨剤としては、一般的な酸化セリウム砥粒を用いた。   In the “first polishing step” of S16, main surface polishing was performed. The first polishing step is mainly intended to correct scratches and warpage remaining on the main surface in the first and second lapping steps (S12, S14) described above. In the first polishing step, the main surface was polished by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, general cerium oxide abrasive grains were used.

S17の「化学強化工程」において、ガラス基板1Gの主表面に対して表面強化層を形成した。具体的には、300℃に加熱された硝酸カリウム(70%)と硝酸ナトリウム(30%)の混合溶液中に、ガラス基板1Gを約30分間浸漬することによって化学強化を行なった。その結果、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、圧縮応力層が形成されることでガラス基板の主表面及び端面が強化された。   In the “chemical strengthening step” of S17, a surface reinforcing layer was formed on the main surface of the glass substrate 1G. Specifically, chemical strengthening was performed by immersing the glass substrate 1G in a mixed solution of potassium nitrate (70%) and sodium nitrate (30%) heated to 300 ° C. for about 30 minutes. As a result, the lithium ion and sodium ion on the inner peripheral end surface and outer peripheral end surface of the glass substrate are respectively replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, and a compressive stress layer is formed, thereby forming the main surface of the glass substrate and The end face was strengthened.

S18の「第2ポリッシュ工程」において、主表面研磨工程を施した。この第2ポリッシュ工程は上述までの工程で発生、残存している主表面上の微小欠陥等を解消して鏡面状に仕上げること、反りを解消し所望の平坦度に仕上げることを目的とする。この第2ポリッシュ工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により研磨を行なった。研磨剤としては、平滑面を得る為に平均粒径が約20nmのコロイダルシリカを用いた。   In the “second polishing step” of S18, a main surface polishing step was performed. This second polishing step aims to eliminate the fine defects on the main surface that have been generated and remain in the above-described steps and finish it in a mirror shape, to eliminate warpage and finish it to a desired flatness. In the second polishing step, polishing was performed by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, colloidal silica having an average particle diameter of about 20 nm was used to obtain a smooth surface.

S19の「エージング工程」において、研磨工程後のガラス基板に、気相中で加熱処理を施す。加熱処理は、恒温恒湿の雰囲気中にガラス基板を所定時間置くことにより、行なわれる。加熱処理が行なわれる雰囲気には特に限定はない。たとえば大気中、O雰囲気中、N雰囲気中、またはH雰囲気中などの、任意の雰囲気中でガラス基板に加熱処理を施すことが可能である。 In the “aging process” of S19, the glass substrate after the polishing process is subjected to heat treatment in a gas phase. The heat treatment is performed by placing the glass substrate in a constant temperature and humidity atmosphere for a predetermined time. There is no particular limitation on the atmosphere in which the heat treatment is performed. For example, the glass substrate can be heat-treated in an arbitrary atmosphere such as the air, an O 2 atmosphere, an N 2 atmosphere, or an H 2 atmosphere.

研磨工程後のガラス基板に加熱処理を施すことで、ガラス表層の結合状態が安定する。これは、研磨直後のガラス表層はSiのダングリングボンドが増加し非常に不安定な状態となっているが、恒温恒湿雰囲気中での加熱処理を施すことでガラス表層のダングリングボンドが減少し、表面結合状態が安定化するからであると考えられる。ガラス表層の結合状態が安定化することにより、後の工程を経て形成されたHDDでは、シグナルノイズ比特性が向上している。液相中で加熱処理を行った場合は、条件によっては表面の安定性が損なわれる場合もある為、本発明においては気相中で加熱処理を施す。   By applying heat treatment to the glass substrate after the polishing step, the bonding state of the glass surface layer is stabilized. This is because the glass surface layer immediately after polishing is in an unstable state due to increased dangling bonds of Si, but dangling bonds on the glass surface layer are reduced by heat treatment in a constant temperature and humidity atmosphere. This is considered to be because the surface-bound state is stabilized. By stabilizing the bonding state of the glass surface layer, the signal-to-noise ratio characteristics are improved in the HDD formed through the subsequent steps. When heat treatment is performed in the liquid phase, the stability of the surface may be impaired depending on conditions. Therefore, in the present invention, heat treatment is performed in the gas phase.

加熱処理は、研磨工程後のガラス基板に施される。研磨工程においてガラス基板の表面が活性化されるので、先に加熱処理でガラス基板の表層を安定させてもその効果が失われてしまうためである。同様に加熱処理は、化学強化(イオン交換)処理以降のガラス基板に施される。化学強化後のガラス表層は活性化されているため、先に加熱処理で表層を安定化させてもその効果が打ち消されてしまうためである。   The heat treatment is performed on the glass substrate after the polishing process. This is because the surface of the glass substrate is activated in the polishing step, and the effect is lost even if the surface layer of the glass substrate is stabilized by heat treatment first. Similarly, the heat treatment is performed on the glass substrate after the chemical strengthening (ion exchange) treatment. This is because the glass surface layer after chemical strengthening is activated, and the effect is canceled even if the surface layer is first stabilized by heat treatment.

加熱処理は、処理温度(単位:℃)と処理時間(単位:分)との積が1500以上になるように行なう。処理温度と処理時間との積が1500未満であると、ガラス基板の表層を安定化させる効果が十分に得られない。さらに好ましい範囲は、処理温度(単位:℃)と処理時間(単位:分)との積が2000以上100000以下の範囲である。   The heat treatment is performed so that the product of the treatment temperature (unit: ° C.) and the treatment time (unit: minutes) is 1500 or more. If the product of the processing temperature and the processing time is less than 1500, the effect of stabilizing the surface layer of the glass substrate cannot be sufficiently obtained. A more preferable range is a range in which the product of the processing temperature (unit: ° C.) and the processing time (unit: minutes) is 2000 or more and 100,000 or less.

加熱処理は、ガラス転移点温度Tg未満の温度で行なう。処理温度をTg以上にすると、ガラス中の原子構造が全体的に動き出すため、ガラス基板の変形を引き起こす恐れがある。また加熱処理は、40℃よりも高い温度で行なう。処理温度が40℃以下であると、温度が低いため、ガラス基板表層を安定化させる効果が十分に得られない。   The heat treatment is performed at a temperature lower than the glass transition temperature Tg. When the processing temperature is set to Tg or higher, the atomic structure in the glass starts to move as a whole, which may cause deformation of the glass substrate. The heat treatment is performed at a temperature higher than 40 ° C. When the processing temperature is 40 ° C. or lower, the temperature is low, and thus the effect of stabilizing the glass substrate surface layer cannot be sufficiently obtained.

加熱処理は、好ましくは、相対湿度が50%以下の雰囲気中で行なう。相対湿度を50%以下にすることにより、ガラス基板表層を安定化させる効果をより顕著に得ることができる。   The heat treatment is preferably performed in an atmosphere having a relative humidity of 50% or less. By making the relative humidity 50% or less, the effect of stabilizing the surface layer of the glass substrate can be obtained more remarkably.

次に、S20の「最終洗浄工程(Final Cleaning)」において、ガラス基板の主表面、端面の最終洗浄を実施する。これによりガラス基板上に残存する付着物を除去する。   Next, in the “final cleaning step” of S20, final cleaning of the main surface and the end surface of the glass substrate is performed. Thereby, the deposits remaining on the glass substrate are removed.

S21の「磁気薄膜層成膜工程」において、上述の工程を経て得られたガラス基板の洗浄後に、ガラス基板の両主表面に、Cr合金からなる密着層、CoFeZr合金からなる軟磁性層、Ruからなる配向制御下地層、CoCrPt合金からなる垂直磁気記録層、C系の保護層、F系からなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録方式の情報記録媒体を製造した。この構成は垂直磁気記録方式の構成の一例であり、面内情報記録媒体として磁性層等を構成してもよい。その後、S22の「後熱処理工程」を実施することで、情報記録媒体が完成する。   In the “magnetic thin film layer forming step” of S21, after cleaning the glass substrate obtained through the above-described steps, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoFeZr alloy, Ru on both main surfaces of the glass substrate, An information recording medium of a perpendicular magnetic recording system was manufactured by sequentially forming an orientation control underlayer made of, a perpendicular magnetic recording layer made of a CoCrPt alloy, a C-based protective layer, and an F-based lubricating layer. This configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic recording system, and a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane information recording medium. Thereafter, the “post heat treatment step” of S22 is performed to complete the information recording medium.

以上説明したように、本実施の形態では、エージング工程(ステップ19)において、研磨処理後のガラス基板を恒温恒湿雰囲気中に所定時間置き、ガラス基板に加熱処理(エージング処理)を施す。これにより、ガラス基板の表層を安定化させることができる。加熱処理が施されたガラス基板に磁性膜を成膜して情報記録媒体としてのHDDを作製すれば、長期間使用しても良好なシグナルノイズ比特性を示す信頼性の高いHDDを得ることができる。   As described above, in the present embodiment, in the aging step (step 19), the glass substrate after the polishing treatment is placed in a constant temperature and humidity atmosphere for a predetermined time, and the glass substrate is subjected to heat treatment (aging treatment). Thereby, the surface layer of a glass substrate can be stabilized. If a magnetic film is formed on a heat-treated glass substrate to produce an HDD as an information recording medium, a highly reliable HDD showing good signal-to-noise ratio characteristics can be obtained even when used for a long period of time. it can.

以下、HDD用ガラス基板の製造方法の各実施例および比較例について説明する。図3に示すフローチャートに従って、実施例および比較例の情報記録媒体を製造した。実施例および比較例においては、65mol%のSiOと、5mol%のAlと、5mol%のNaOと、3mol%のKOと、6mol%のMgOと、14mol%のCaOと、2mol%のZrOと、を含有するガラス組成を用いて検証を行った。上記ガラス組成のガラス転移点温度Tgは601℃である。なお、本発明のガラス組成は上記組成に限定されるものではなく、HDD用ガラス基板に用いられ得る全ての組成で適用可能である。 Hereinafter, each Example and comparative example of the manufacturing method of the glass substrate for HDD are demonstrated. According to the flowchart shown in FIG. 3, information recording media of Examples and Comparative Examples were manufactured. In the examples and comparative examples, the SiO 2 of 65 mol%, and 5 mol% of Al 2 O 3, and 5 mol% of Na 2 O, and 3 mol% of K 2 O, and 6 mol% of MgO,: 14 mol% of CaO And verification using a glass composition containing 2 mol% of ZrO 2 . The glass transition temperature Tg of the glass composition is 601 ° C. In addition, the glass composition of this invention is not limited to the said composition, It can apply with all the compositions which can be used for the glass substrate for HDD.

研磨工程後のガラス基板を環境試験機(エスペック株式会社製SH−221)に入れ、恒温恒湿状態にガラス基板を曝し、ガラス基板に加熱処理を施した。加熱処理後のガラス基板を、テフロン(登録商標)容器内のNaOH溶液50ml中に30分浸漬した。NaOHのpHは11とした。   The glass substrate after the polishing step was placed in an environmental tester (SH-221 manufactured by Espec Corp.), the glass substrate was exposed to a constant temperature and humidity state, and the glass substrate was subjected to heat treatment. The glass substrate after the heat treatment was immersed in 50 ml of NaOH solution in a Teflon (registered trademark) container for 30 minutes. The pH of NaOH was 11.

その後ガラス基板に磁性膜を形成し、15000rpmで動作させた際の読み取りエラー回数を評価した。評価は各実施例および比較例についてそれぞれ100枚のガラス基板で行ない、エラー回数が2回以下であれば「優」と評価し、エラー回数が3回以上4回以下であれば「良」と評価し、エラー回数が5回以上7回以下であれば「可」と評価し、エラー回数が8回以上であれば「不可」と評価した。各実施例および比較例のガラス基板の処理条件およびHDD動作評価テストの評価結果を、それぞれ表1に示す。   Thereafter, a magnetic film was formed on the glass substrate, and the number of reading errors when operating at 15000 rpm was evaluated. Evaluation is carried out with 100 glass substrates for each of the examples and comparative examples. When the number of errors is 2 or less, it is evaluated as “excellent”, and when the number of errors is 3 or more and 4 or less, “good”. Evaluation was made as “Yes” if the number of errors was 5 or more and 7 or less, and “No” was evaluated if the number of errors was 8 or more. Table 1 shows the processing conditions of the glass substrates and the evaluation results of the HDD operation evaluation test of each example and comparative example.

Figure 2014010869
Figure 2014010869

実施例1〜7および比較例1〜2では、大気中で、それぞれ表1中に示す条件下で、研磨後のガラス基板に加熱処理を施した。比較例3では、研磨後のガラス基板を130℃のLiNO溶液中に1時間浸漬し、その後130℃のアジピン酸水溶液中で1時間浸漬処理した。 In Examples 1-7 and Comparative Examples 1-2, the glass substrate after polishing was subjected to heat treatment in the air under the conditions shown in Table 1, respectively. In Comparative Example 3, the polished glass substrate was immersed in a LiNO 3 solution at 130 ° C. for 1 hour, and then immersed in an adipic acid aqueous solution at 130 ° C. for 1 hour.

HDD動作評価テスト後に、エラー発生箇所について解析を行なった結果、ヘッドクラッシュと考えられる凸系欠陥はなく、全て磁性体起因のエラーであった。   As a result of analyzing the location where the error occurred after the HDD operation evaluation test, there was no convex defect considered to be a head crash, and all errors were caused by a magnetic material.

表1に示すように、実施例1〜7のガラス基板を使用して作製されたHDDは、動作評価テストの結果「優」「良」または「可」と評価され、合格であった。   As shown in Table 1, the HDDs produced using the glass substrates of Examples 1 to 7 were evaluated as “excellent”, “good” or “possible” as a result of the operation evaluation test, and passed.

実施例4と実施例5とを比較して、相対湿度が45%である実施例5の評価結果は、相対湿度が55%である実施例4の評価結果よりも良好であった。この結果から、相対湿度を50%以下としてガラス基板に加熱処理を施すことにより、HDDの磁気特性をより優れたものにできることが示された。   Comparing Example 4 and Example 5, the evaluation result of Example 5 having a relative humidity of 45% was better than the evaluation result of Example 4 having a relative humidity of 55%. From this result, it was shown that the magnetic properties of the HDD can be improved by performing a heat treatment on the glass substrate with a relative humidity of 50% or less.

実施例1と実施例2〜4とを比較して、処理温度と処理時間との積が2000以上である実施例1の評価結果は、処理温度と処理時間との積が2000を下回る実施例2〜4の評価結果よりも良好であった。一方、実施例6と実施例7とを比較して、処理温度と処理時間との積が100000以下である実施例6の評価結果は、処理温度と処理時間との積が100000を超える実施例7の評価結果よりも良好であった。これらの結果から、加熱処理における処理温度と処理時間との積を2000以上100000以下にすることにより、HDDの磁気特性をより優れたものにできることが示された。   In comparison with Example 1 and Examples 2 to 4, the evaluation result of Example 1 in which the product of the processing temperature and the processing time is 2000 or more is an example in which the product of the processing temperature and the processing time is less than 2000. It was better than the evaluation results of 2-4. On the other hand, comparing the example 6 and the example 7, the evaluation result of the example 6 in which the product of the processing temperature and the processing time is 100,000 or less is an example in which the product of the processing temperature and the processing time exceeds 100,000. It was better than the evaluation result of 7. From these results, it was shown that the magnetic characteristics of the HDD can be further improved by setting the product of the treatment temperature and the treatment time in the heat treatment to 2000 or more and 100,000 or less.

比較例1では、ガラス基板のTgである601℃を超えた温度領域で加熱処理したため、ガラス基板に変形が発生した。そのためHDD動作評価テストは不可能であった。   In the comparative example 1, since it heat-processed in the temperature range exceeding 601 degreeC which is Tg of a glass substrate, a deformation | transformation generate | occur | produced in the glass substrate. Therefore, the HDD operation evaluation test was impossible.

比較例2では、HDD動作評価テストにおいて「不可」と評価される結果となり、不合格であった。処理温度が低かった為、ガラス基板表層を安定化させる効果が十分に得られなかったことが原因と考えられる。   In Comparative Example 2, the HDD operation evaluation test was evaluated as “impossible” and failed. This is probably because the effect of stabilizing the surface layer of the glass substrate was not sufficiently obtained because the processing temperature was low.

比較例3では、HDD動作評価テストにおいて「不可」と評価される結果となり、不合格であった。比較例3のHDDでは、磁性体起因のエラーが検出されたが、検出された部分について成分分析を実施したところ、すべてLiが含有されていることが確認された。つまり、比較例3では、ガラス基板表層のLiイオン濃度が増加しているため、ガラス基板に含有されたLiが溶出し、磁性膜の磁気特性に影響が現れ、エラーが発生したと考えられる。   In Comparative Example 3, the result was evaluated as “impossible” in the HDD operation evaluation test, which was unacceptable. In the HDD of Comparative Example 3, an error due to the magnetic material was detected. However, when component analysis was performed on the detected portion, it was confirmed that all Li was contained. That is, in Comparative Example 3, since the Li ion concentration on the surface layer of the glass substrate is increased, Li contained in the glass substrate is eluted, which affects the magnetic characteristics of the magnetic film, and it is considered that an error has occurred.

以上のように本発明の実施の形態について説明を行なったが、今回開示された実施の形態及び実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments and examples disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

1 情報記録媒体、1G ガラス基板、14 表主表面、15 裏主表面、23 磁気薄膜層。   1 Information recording medium, 1G glass substrate, 14 front main surface, 15 back main surface, 23 magnetic thin film layer.

Claims (3)

記録密度が600Gbit/inch以上であるHDD用ガラス基板の製造方法において、
前記ガラス基板を研磨する工程と、
前記研磨する工程後、前記ガラス基板を気相中で加熱処理する工程とを備え、
前記加熱処理する工程における処理温度(単位:℃)と処理時間(単位:分)との積が1500以上であり、前記処理温度は40℃超ガラス転移点温度未満である、HDD用ガラス基板の製造方法。
In the manufacturing method of the glass substrate for HDD whose recording density is 600 Gbit / inch 2 or more,
Polishing the glass substrate;
A step of heat-treating the glass substrate in a gas phase after the polishing step;
A product of a processing temperature (unit: ° C.) and a processing time (unit: min) in the heat treatment step is 1500 or more, and the processing temperature is higher than 40 ° C. and lower than a glass transition temperature. Production method.
前記加熱処理する工程における前記気相中の相対湿度は50%以下である、請求項1に記載のHDD用ガラス基板の製造方法。   The manufacturing method of the glass substrate for HDD of Claim 1 whose relative humidity in the said gaseous phase in the process to heat-process is 50% or less. 前記加熱処理する工程における処理温度(単位:℃)と処理時間(単位:分)との積が2000以上100000以下である、請求項1または請求項2に記載のHDD用ガラス基板の製造方法。   The manufacturing method of the glass substrate for HDD of Claim 1 or Claim 2 whose product of the processing temperature (unit: degreeC) and the processing time (unit: minute) in the process of said heat processing is 2000-100000.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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