JP4860580B2 - Magnetic disk substrate and magnetic disk - Google Patents

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    • G11B5/73921Glass or ceramic substrates

Description

本発明は、ハードディスクドライブ装置に搭載される磁気ディスク用の基板に関する。   The present invention relates to a substrate for a magnetic disk mounted on a hard disk drive device.

ハードディスクドライブ装置(HDD装置)に搭載される磁気記録媒体として磁気ディスクがある。磁気ディスクは、アルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属基板上にNiP膜を被着したり、ガラス基板やセラミックス基板上に磁性層や保護層を積層したりして作製される。従来では、磁気ディスク用の基板としてアルミニウム合金基板が広く用いられていたが、近年の磁気ディスクの小型化、薄板化、高密度記録化に伴って、アルミニウム合金基板に比べて表面の平坦度や薄板での強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。   There is a magnetic disk as a magnetic recording medium mounted on a hard disk drive device (HDD device). The magnetic disk is manufactured by depositing a NiP film on a metal substrate made of an aluminum-magnesium alloy or the like, or laminating a magnetic layer or a protective layer on a glass substrate or a ceramic substrate. Conventionally, an aluminum alloy substrate has been widely used as a substrate for a magnetic disk. However, with recent downsizing, thinning, and high-density recording of magnetic disks, surface flatness and A glass substrate having excellent strength with a thin plate has been used.

磁気ディスク用の基板、特にガラス基板においては、基板の破損を防止するために、主表面と端面との間に面取り面が設けられている。この面取り面に対しては、例えば、コロージョンを防止するために面取り面の粗さを細かくしたり、パーティクルの発生を防止するために主表面と面取面との間に曲率を有する面(R面)を形成することなどが提案されている(特許文献1)。
特開2006−92722号公報
In a magnetic disk substrate, particularly a glass substrate, a chamfered surface is provided between a main surface and an end surface in order to prevent the substrate from being damaged. For this chamfered surface, for example, a surface having a curvature between the main surface and the chamfered surface (R) to reduce the roughness of the chamfered surface to prevent corrosion or to prevent generation of particles (R And the like have been proposed (Patent Document 1).
JP 2006-92722 A

近年、HDD装置においては、ディスク停止時に基板表面に磁気ヘッドを接触させるCSS(Contact Start Stop)方式に加えて、ディスク停止時に磁気ヘッドを基板の外側に退避させるロード/アンロード方式が採用されてきている。また、HDD装置においては、7200rpm以上の回転数で磁気ディスクを回転させるようになってきており、将来には、10000rpm以上の回転数になることが予想されている。   In recent years, in HDD devices, in addition to the CSS (Contact Start Stop) method in which the magnetic head is brought into contact with the substrate surface when the disk is stopped, a load / unload method in which the magnetic head is retracted to the outside of the substrate when the disk is stopped has been adopted. ing. In the HDD device, the magnetic disk has been rotated at a rotational speed of 7200 rpm or higher, and it is expected that the rotational speed will be 10,000 rpm or higher in the future.

このように、HDD装置の方式や回転数を考慮する場合において、ヘッドクラッシュを防止する観点や、情報記録及び情報再生を正確に行う観点から、上記主表面、面取り面及び端面のサイズや粗さなどのパラメータが決められている。また、主表面と面取り面との間の境界点の位置のパラメータについても要求精度が決められている。しかしながら、要求されている様々なパラメータを満たしている基板を用いても、ある程度の割合でヘッドクラッシュが発生するのが現状であり、完全にヘッドクラッシュを防止することができていない。   As described above, when considering the method and the rotational speed of the HDD device, the size and roughness of the main surface, chamfered surface, and end surface from the viewpoint of preventing head crashes and accurately recording and reproducing information. The parameters are determined. The required accuracy is also determined for the parameter of the position of the boundary point between the main surface and the chamfered surface. However, even if a substrate that satisfies various required parameters is used, head crashes occur at a certain rate, and head crashes cannot be completely prevented.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、HDD装置におけるヘッドクラッシュの発生を非常に高い確率で防止することができる磁気ディスク用基板及び磁気ディスクを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to provide a magnetic disk substrate and a magnetic disk that can prevent the occurrence of a head crash in an HDD device with a very high probability.

本発明の磁気ディスク用基板は、磁気ディスクの外縁を経由して磁気ヘッドが前記磁気ディスクの主表面に対してロード/アンロードする方式の磁気ディスク装置用の磁気ディスク用基板であって、前記磁気ディスク用基板は、平坦な主表面と、端面と、前記主表面と前記端面との間の面取り面と、を備え、円形状を有し、前記磁気ディスク用基板の中心から前記端面までの第1距離における前記中心から50%の前記主表面上の位置と前記中心から80%の前記主表面上の位置とを結ぶ第1仮想線と、前記第1距離における前記端面から0.15%の前記面取り面上の位置と前記端面から0.30%の前記面取り面上の位置とを結ぶ第2仮想線と、の交点をクロスポイントとしたときに、前記主表面を平面視した際に前記クロスポイントで形成される円の真円度が0.5mm以下であり、前記クロスポイントから、前記主表面を平面視した際の前記クロスポイントの前記面取り面における投影位置までの第2距離の、前記磁気ディスク用基板の全周にわたる変動が5μm以下であることを特徴とする。 A magnetic disk substrate of the present invention is a magnetic disk substrate for a magnetic disk device of a type in which a magnetic head loads / unloads with respect to a main surface of the magnetic disk via an outer edge of the magnetic disk, substrate for a magnetic disk, a flat main surface, with an end face, and a chamfer surface between the main surface and the end face, have a circular shape, from the center of the substrate for the magnetic disk to the end face A first imaginary line connecting a position on the main surface that is 50% from the center at the first distance and a position on the main surface that is 80% from the center, and 0.15% from the end face at the first distance When the intersection of the second imaginary line connecting the position on the chamfered surface and the position on the chamfered surface of 0.30% from the end surface is a cross point, the main surface is viewed in plan At the cross point The circularity of a formed circle is 0.5 mm or less, and the magnetic disk has a second distance from the cross point to a projection position on the chamfered surface of the cross point when the main surface is viewed in plan The variation over the entire circumference of the substrate is 5 μm or less .

この構成によれば、主表面におけるクロスポイントの位置を上述したような範囲になるように面取り面を形成することにより、主表面と面取り面との間の境界点の位置のばらつきを一定以下に抑えることができ、その結果、ヘッドクラッシュを非常に高い割合で防止できるガラス基板を実現することができる。   According to this configuration, by forming the chamfered surface so that the position of the cross point on the main surface is in the above-described range, the variation in the position of the boundary point between the main surface and the chamfered surface is kept below a certain level. As a result, a glass substrate that can prevent head crashes at a very high rate can be realized.

この構成によれば、主表面におけるクロスポイントの位置を上述したような範囲になるように面取り面を形成することにより、主表面と面取り面との間の境界点の位置のばらつきを一定以下に抑えることができ、その結果、ヘッドクラッシュを非常に高い割合で防止できるガラス基板を実現することができる。   According to this configuration, by forming the chamfered surface so that the position of the cross point on the main surface is in the above-described range, the variation in the position of the boundary point between the main surface and the chamfered surface is kept below a certain level. As a result, a glass substrate that can prevent head crashes at a very high rate can be realized.

本発明の磁気ディスク用基板においては、前記クロスポイントから、前記主表面を平面視した際の前記クロスポイントの前記面取り面における投影位置までの第2距離が、15μm以下であることが好ましい。また、前記クロスポイントで形成される円の真円度が0.340mm以下であることが好ましい。 In the magnetic disk substrate of the present invention, it is preferable that a second distance from the cross point to a projection position on the chamfered surface of the cross point when the main surface is viewed in plan is 15 μm or less. Moreover, it is preferable that the roundness of the circle formed by the cross point is 0.340 mm or less.

本発明の磁気ディスク用基板においては、前記磁気ディスク用基板の全周にわたる前記第2距離の変動がμm以下であることが好ましい。
In the magnetic disk substrate of the present invention, it is preferable that the variation of the second distance over the entire circumference of the magnetic disk substrate is 4 μm or less.

本発明の磁気ディスク用基板においては、前記主表面を平面視した際に前記クロスポイントで形成される円の中心と、前記磁気ディスク用基板の中心との間の距離が1200μm以下であることが好ましい。   In the magnetic disk substrate of the present invention, the distance between the center of the circle formed at the cross point when the main surface is viewed in plan and the center of the magnetic disk substrate is 1200 μm or less. preferable.

本発明の磁気ディスク用基板においては、前記磁気ディスク用基板がガラスで構成されていることが好ましい。   In the magnetic disk substrate of the present invention, the magnetic disk substrate is preferably made of glass.

本発明の磁気ディスクは、上記磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に形成された磁性層と、を具備することを特徴とする。   The magnetic disk of the present invention comprises the above-described magnetic disk substrate and a magnetic layer formed on the magnetic disk substrate.

本発明の磁気ディスクにおいては、前記磁気ディスクの外縁を経由して磁気ヘッドが前記磁気ディスクの主表面に対してロード/アンロードする方式の磁気ディスク装置に搭載されることが好ましい。なお、本発明の磁気ディスクは、CSS方式(Contact Start and Stop)方式の磁気ディスク装置に搭載されても良い。   In the magnetic disk of the present invention, it is preferable that the magnetic head is mounted on a magnetic disk apparatus of a type that loads / unloads to / from the main surface of the magnetic disk via an outer edge of the magnetic disk. The magnetic disk of the present invention may be mounted on a CSS type (Contact Start and Stop) type magnetic disk device.

本発明の磁気ディスクにおいては、少なくとも7200rpmの回転数で磁気ディスクを回転させる磁気ディスク装置に搭載されることが好ましい。   The magnetic disk of the present invention is preferably mounted on a magnetic disk device that rotates the magnetic disk at a rotational speed of at least 7200 rpm.

本発明の磁気ディスクにおいては、タッチダウンハイトが4nm以下であることが好ましい。   In the magnetic disk of the present invention, the touchdown height is preferably 4 nm or less.

本発明の磁気ディスクにおいては、記録密度が200Gbit/inch2以上であることが好ましい。 In the magnetic disk of the present invention, the recording density is preferably 200 Gbit / inch 2 or more.

本発明のハードディスクドライブ装置は、上記磁気ディスクと、前記磁気ディスクに対して情報の記録及び/又は再生を行う磁気ヘッドと、を具備することを特徴とする。   The hard disk drive device of the present invention comprises the above magnetic disk and a magnetic head for recording and / or reproducing information on the magnetic disk.

本発明の磁気ディスク用基板によれば、略平坦な主表面と、端面と、前記主表面と前記端面との間の面取り面と、を備え、略円形状を有し、前記主表面に沿う方向と前記面取り面に沿う方向とが交差するクロスポイントが、前記主表面を平面視した際に、前記磁気ディスク用基板の全周にわたって前記磁気ディスク用基板の中心から略同じ距離に位置するので、HDD装置におけるヘッドクラッシュの発生を非常に高い確率で防止することができる。   According to the magnetic disk substrate of the present invention, the magnetic disk substrate has a substantially flat main surface, an end surface, and a chamfered surface between the main surface and the end surface, has a substantially circular shape, and extends along the main surface. Since the cross point where the direction and the direction along the chamfered surface intersect is located at substantially the same distance from the center of the magnetic disk substrate over the entire circumference of the magnetic disk substrate when the main surface is viewed in plan. The occurrence of a head crash in the HDD device can be prevented with a very high probability.

本発明者らは、主表面と面取り面との間の境界点の位置について、要求されている管理値を満たしている基板を用いて動作試験を行ったところ、サンプルによってはヘッドクラッシュが発生することに着目した。そこで、本発明者らは、このパラメータの管理値を、より一層厳しく(要求値よりも厳しい条件で管理する)して同様に動作試験を行ったところ、ヘッドクラッシュが発生する割合は相対的に減少したが、やはりヘッドクラッシュが発生した。そこで、本発明者らは、このヘッドクラッシュの原因について、主表面と面取り面との間の境界点の位置のばらつきに着目し、この境界点の位置のばらつきを一定以下に調整することにより、ヘッドクラッシュを非常に高い割合で防止できることを見出し本発明をするに至った。   The present inventors conducted an operation test on the position of the boundary point between the main surface and the chamfered surface using a substrate that satisfies the required control value, and a head crash occurs depending on the sample. Focused on that. Therefore, the present inventors conducted an operation test in a similar manner with the management value of this parameter being made stricter (managed under conditions stricter than the required value). Although it decreased, a head crash occurred. Therefore, the present inventors focused on the variation in the position of the boundary point between the main surface and the chamfered surface for the cause of this head crash, and by adjusting the variation in the position of this boundary point to a certain level or less, It has been found that head crashes can be prevented at a very high rate, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明の骨子は、略平坦な主表面と、端面と、前記主表面と前記端面との間の面取り面と、を備え、略円形状を有し、前記主表面に沿う方向と前記面取り面に沿う方向とが交差するクロスポイントが、前記主表面を平面視した際に、前記磁気ディスク用基板の全周にわたって前記磁気ディスク用基板の中心から略同じ距離に位置するようにすることにより、HDD装置におけるヘッドクラッシュの発生を非常に高い確率で防止することである。   That is, the essence of the present invention comprises a substantially flat main surface, an end surface, and a chamfered surface between the main surface and the end surface, has a substantially circular shape, and the direction along the main surface and the A cross point intersecting with a direction along the chamfered surface is located at substantially the same distance from the center of the magnetic disk substrate over the entire circumference of the magnetic disk substrate when the main surface is viewed in plan. Thus, the occurrence of a head crash in the HDD device is prevented with a very high probability.

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
本実施の形態においては、磁気ディスク用基板がガラスで構成されている場合について説明するが、本発明はこれに限定されず、磁気ディスク用基板が金属やセラミックスで構成されていても良い。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
In the present embodiment, the case where the magnetic disk substrate is made of glass will be described. However, the present invention is not limited to this, and the magnetic disk substrate may be made of metal or ceramics.

図1は、本発明の実施の形態に係る磁気ディスク用基板であるガラス基板の一部を示す図である。図1に示すガラス基板1は、略円形状を有しており、その中央にHDD装置のスピンドルモータに装着するための穴部11を有する。また、ガラス基板1は、互いに対向する一対の主表面12を有すると共に、外周縁に端面(側壁面)13を有する。また、ガラス基板1は、その全周にわたって主表面12と端面13との間に面取り面14を有する。このガラス基板1は、外径(基板中心Cから端面13までの距離)D2を有し、その穴部11は内径D1を有する。また、ガラス基板1の主表面は、略平坦に加工されている。 FIG. 1 is a view showing a part of a glass substrate which is a magnetic disk substrate according to an embodiment of the present invention. The glass substrate 1 shown in FIG. 1 has a substantially circular shape, and has a hole 11 for mounting on the spindle motor of the HDD device at the center thereof. The glass substrate 1 has a pair of main surfaces 12 facing each other and an end surface (side wall surface) 13 on the outer peripheral edge. Further, the glass substrate 1 has a chamfered surface 14 between the main surface 12 and the end surface 13 over the entire circumference. The glass substrate 1 has a D 2 (distance from the substrate center C to the end face 13) outside diameter, the hole portion 11 has an inner diameter D 1. Moreover, the main surface of the glass substrate 1 is processed substantially flat.

ガラス基板1は、溶融させたアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスによりディスク形状に成型して作製しても良く、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を作製しても良い。アルミノシリケートガラスは、化学強化処理が容易であるので好ましい。アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを用いることができる。なお、アルミノシリケートガラスの代わりに、他の多成分ガラスや結晶化ガラスを用いても良い。他成分ガラスは、化学強化処理により耐衝撃性を向上させることができるので好ましい。   The glass substrate 1 may be manufactured by molding a molten aluminosilicate glass into a disk shape by direct pressing, and is cut out from a sheet glass formed by a downdraw method or a float method with a grinding wheel to form a disk-shaped glass substrate. It may be produced. Aluminosilicate glass is preferable because chemical strengthening treatment is easy. As the aluminosilicate glass, a glass for chemical strengthening can be used. Note that other multi-component glass or crystallized glass may be used instead of aluminosilicate glass. The other component glass is preferable because the impact resistance can be improved by the chemical strengthening treatment.

図2(a)は、図1に示すガラス基板の一部を示す図であり、図2(b)は、図2(a)のX部の拡大図であり、図2(c)は、ガラス基板1の平面図である。主表面12と面取り面14との間の境界領域は、図2(b)に示すように、実際には主表面12と面取り面14との間の境界が明確に現れるのではなく、主表面12から面取り面14に緩やかに移行している。本発明においては、主表面12と面取り面14との間の境界点の位置(クロスポイントCP)は、主表面12に沿う方向Aと面取り面14に沿う方向Bとが交差する位置とする。また、このクロスポイントCPは、ガラス基板1の中心Cから端面13までの距離(D2)における中心Cから50%の主表面12上の位置と中心Cから80%の主表面12上の位置とを結ぶ仮想線(A)と、距離(D2)における端面13から0.15%の面取り面14上の位置と端面13から0.30%の面取り面14上の位置とを結ぶ仮想線(B)と、の交点で表わすことができる。なお、仮想線を形成する位置は一例であり、主表面12と面取り面14との間の境界点の位置を実質的に特定できる位置であれば、外径における上記位置に限定されない。 2 (a) is a diagram showing a part of the glass substrate shown in FIG. 1, FIG. 2 (b) is an enlarged view of part X in FIG. 2 (a), and FIG. 1 is a plan view of a glass substrate 1. FIG. As shown in FIG. 2B, the boundary region between the main surface 12 and the chamfered surface 14 is not actually the boundary between the main surface 12 and the chamfered surface 14 but appears on the main surface. There is a gradual transition from 12 to the chamfered surface 14. In the present invention, the position (cross point CP) of the boundary point between the main surface 12 and the chamfered surface 14 is a position where the direction A along the main surface 12 and the direction B along the chamfered surface 14 intersect. Further, the cross point CP is a position on the main surface 12 that is 50% from the center C and a position on the main surface 12 that is 80% from the center C in the distance (D 2 ) from the center C to the end face 13 of the glass substrate 1. And a virtual line connecting a position on the chamfered surface 14 of 0.15% from the end face 13 and a position on the chamfered face 14 of 0.30% from the end face 13 at the distance (D 2 ). It can be represented by the intersection of (B). In addition, the position which forms a virtual line is an example, and if it is a position which can pinpoint the position of the boundary point between the main surface 12 and the chamfering surface 14, it will not be limited to the said position in an outer diameter.

上記のように特定されたクロスポイントCPについては、図2(c)に示すように、主表面12を平面視した際に、ガラス基板1の全周にわたってガラス基板1の中心Cから略同じ距離に位置する。すなわち、図2(c)において、ガラス基板1の中心CからクロスポイントCPまでの距離Eがガラス基板1の全周にわたって略同じである。この「略同じ」に関しては、平面視におけるクロスポイントCPの円の真円度やクロスポイントCPで形成される円の中心とガラス基板1の中心Cとの関係で規定することが可能である。すなわち、主表面12を平面視した際にクロスポイントCPで形成される円(図2(c)における円CP)の真円度が0.5mm以下であることが好ましい。あるいは、主表面12を平面視した際にクロスポイントCPで形成される円(図2(c)における円CP)の中心と、ガラス基板1の中心Cとがずれていたとしても、両者の間の距離が1200μm以下であることが好ましい。   About the cross point CP specified as described above, as shown in FIG. 2C, when the main surface 12 is viewed in plan, it is substantially the same distance from the center C of the glass substrate 1 over the entire circumference of the glass substrate 1. Located in. That is, in FIG. 2C, the distance E from the center C of the glass substrate 1 to the cross point CP is substantially the same over the entire circumference of the glass substrate 1. This “substantially the same” can be defined by the roundness of the circle of the cross point CP in a plan view or the relationship between the center of the circle formed by the cross point CP and the center C of the glass substrate 1. That is, it is preferable that the roundness of a circle (circle CP in FIG. 2C) formed by the cross point CP when the main surface 12 is viewed in plan is 0.5 mm or less. Alternatively, even when the center of the circle formed by the cross point CP (circle CP in FIG. 2C) and the center C of the glass substrate 1 are shifted when the main surface 12 is viewed in plan, The distance is preferably 1200 μm or less.

また、主表面12を平面視した際のクロスポイントCPの面取り面14における投影位置CP‘が、ガラス基板1の全周にわたってガラス基板1の厚さ方向において略同じ位置であることが好ましい。すなわち、図2(b)において、クロスポイントCPから、主表面12を平面視した際のクロスポイントCPの面取り面14における投影位置までの距離tがガラス基板1の全周にわたって略同じである、すなわち、ガラス基板1の全周にわたる距離tの変動が5μm以下(5μm以下のばらつき)であることが好ましい。この場合において、距離tについては15μm以下であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the projection position CP ′ on the chamfered surface 14 of the cross point CP when the main surface 12 is viewed in plan is substantially the same position in the thickness direction of the glass substrate 1 over the entire circumference of the glass substrate 1. That is, in FIG. 2B, the distance t from the cross point CP to the projection position on the chamfered surface 14 of the cross point CP when the main surface 12 is viewed in plan is substantially the same over the entire circumference of the glass substrate 1. That is, it is preferable that the variation of the distance t over the entire circumference of the glass substrate 1 is 5 μm or less (variation of 5 μm or less). In this case, the distance t is preferably 15 μm or less.

このように、クロスポイントCPや距離tを上述したような範囲になるように面取り面14を形成することにより、主表面12と面取り面14との間の境界点の位置のばらつきを一定以下に抑えることができ、その結果、ヘッドクラッシュを非常に高い割合で防止できるガラス基板を実現することができる。   In this way, by forming the chamfered surface 14 so that the cross point CP and the distance t are in the ranges as described above, the variation in the position of the boundary point between the main surface 12 and the chamfered surface 14 is kept below a certain level. As a result, a glass substrate that can prevent head crashes at a very high rate can be realized.

本出願人は、磁気ディスク用基板の外縁部における、いわゆるスキージャンプ(隆起形状)又はロールオフ(沈降形状)に着目し、この形状を一定の条件を満足するように制御することにより、ヘッドクラッシュを防止することを提案している(特願2007−38926号)。すなわち、この提案においては、図3(a)に示すようなスキージャンプの極部21や図3(b)に示すようなロールオフの極部21の高さや間隔、あるいは主表面12における位置を規定することにより、ヘッドクラッシュを防止している。この内容は、すべてここに含める。したがって、上述したようなクロスポイントCPや距離tを特定すると共に、スキージャンプやロールオフの形状を一定の条件を満足するように制御することにより、さらにヘッドクラッシュを効果的に防止することが可能となる。また、図3に示すスキージャンプやロールオフの極部21とクロスポイントCPとの間の距離Fを所定の範囲内に制御することにより、より効果的にヘッドクラッシュを防止することができる。   The present applicant pays attention to a so-called ski jump (bump shape) or roll-off (sink shape) at the outer edge of the magnetic disk substrate, and controls the shape so as to satisfy a certain condition, thereby causing a head crash. Has been proposed (Japanese Patent Application No. 2007-38926). That is, in this proposal, the height and interval of the ski jump pole 21 as shown in FIG. 3A and the roll-off pole 21 as shown in FIG. By prescribing, head crash is prevented. All this content is included here. Therefore, by specifying the cross point CP and the distance t as described above and controlling the shape of the ski jump and roll-off so as to satisfy a certain condition, it is possible to further effectively prevent the head crash. It becomes. Further, the head crash can be more effectively prevented by controlling the distance F between the ski jump and roll-off pole portion 21 shown in FIG. 3 and the cross point CP within a predetermined range.

本実施の形態においては、ガラス基板1の外縁の面取り面14について上記条件を満たすことについて説明しているが、本発明においては、ガラス基板1の穴部11に設けられた面取り面にも同様に適用することが可能である。穴部11の面取り面に対して上記条件を満たすようにすることにより、磁気ディスクをHDD装置に組み込んでクランプする際に、荷重を均等にかけることができる。さらに、ガラス基板1の外縁の面取り面14と、穴部11の面取り面とに対して上記条件を満たすようにすることが好ましい。   In the present embodiment, it is described that the above condition is satisfied for the chamfered surface 14 of the outer edge of the glass substrate 1. However, in the present invention, the same applies to the chamfered surface provided in the hole 11 of the glass substrate 1. It is possible to apply to. By satisfying the above condition for the chamfered surface of the hole 11, a load can be applied evenly when the magnetic disk is assembled and clamped in the HDD device. Furthermore, it is preferable to satisfy the above conditions for the chamfered surface 14 of the outer edge of the glass substrate 1 and the chamfered surface of the hole 11.

次に、上記ガラス基板の製造方法について説明する。
ガラス基板の製造においては、(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程、(2)端部形状工程(穴部を形成するコアリング工程、端部(外周端部及び内周端部)に面取り面を形成するチャンファリング工程(面取り面形成工程))、(3)端面研磨工程(外周端部及び内周端部)、(4)第2ラッピング工程、(5)主表面研磨工程(第1及び第2研磨工程)、(6)化学強化工程、(7)テクスチャー処理工程を備えている。なお、端部研磨工程と第2ラッピング工程とは前後する場合もある。また、テクスチャー処理工程については、垂直磁気記録方式のHDD装置に使用する磁気ディスク用基板には不要となる。
Next, the manufacturing method of the said glass substrate is demonstrated.
In the production of a glass substrate, (1) shape processing step and first lapping step, (2) end shape step (coring step for forming a hole, chamfering at the end (outer peripheral end and inner peripheral end) Chamfering step for forming a surface (chamfered surface forming step)), (3) end surface polishing step (outer peripheral end and inner peripheral end), (4) second lapping step, (5) main surface polishing step (first And a second polishing step), (6) a chemical strengthening step, and (7) a texture treatment step. Note that the end polishing step and the second lapping step may be mixed. Further, the texture processing step is not required for a magnetic disk substrate used in a perpendicular magnetic recording type HDD apparatus.

ガラス基板1の外縁の面取り面14について上記条件を満たすようにする場合、図4に示すような装置を用いてガラス基板1の外縁を面取りすることにより行うことができる。すなわち、図4に示すように、矢印方向に回転可能な回転軸32に軸支され、球形の凹面を有し、その凹面に研磨布が取り付けられた研磨体31に、ガラス基板1の一面側の面取り部を全周にわたって同時に当接させ、ガラス基板1の一面側の面取り部を全周にわたって同時に研磨布に押圧しつつ、研磨体31とガラス基板1とを相対的に移動させることにより研磨する。本出願人は、このような研磨技術について提案している(特願2006-237515、特願2006-237879)。この内容はすべてここに含める。   In order to satisfy the above condition for the chamfered surface 14 of the outer edge of the glass substrate 1, it can be performed by chamfering the outer edge of the glass substrate 1 using an apparatus as shown in FIG. That is, as shown in FIG. 4, one side of the glass substrate 1 is attached to a polishing body 31 that is supported by a rotating shaft 32 that can rotate in the direction of an arrow, has a spherical concave surface, and a polishing cloth is attached to the concave surface. The polishing body 31 and the glass substrate 1 are moved relative to each other while the chamfered portions of the glass substrate 1 are simultaneously brought into contact with each other and the chamfered portion on one side of the glass substrate 1 is simultaneously pressed against the polishing cloth over the entire circumference. To do. The present applicant has proposed such a polishing technique (Japanese Patent Application Nos. 2006-237515 and 2006-237879). All this content is included here.

あるいは、ガラス基板の積層体の回転軸と、研磨部材(研磨ブラシ、研磨パッド)の回転軸とを、端面研磨工程中に常に平行かつ等距離に維持することにより行うことができる。このとき、ガラス基板の積層体の回転軸と、積層体を構成しているガラス基板の中心軸とが一致している。さらに、チャンファリング工程において、ガラス基板1を把持する装置の把持精度(水平方向に対する基板表面の傾きを小さくすること)、研削に用いる砥粒の種類や粒径、荷重、定盤回転数、研磨液流量などの研削条件を制御することによっても行うことができる。   Alternatively, the rotation axis of the laminated body of glass substrates and the rotation axis of the polishing member (polishing brush, polishing pad) can always be maintained parallel and equidistant during the end face polishing step. At this time, the rotation axis of the laminated body of glass substrates and the central axis of the glass substrate constituting the laminated body coincide. Furthermore, in the chamfering process, the gripping accuracy of the apparatus for gripping the glass substrate 1 (reducing the tilt of the substrate surface with respect to the horizontal direction), the type and grain size of abrasive grains used for grinding, the load, the platen rotation speed, polishing It can also be performed by controlling grinding conditions such as the liquid flow rate.

本発明に係る磁気ディスク用基板に対するクロスポイントの条件については、基板サイズが3.5インチ以下(特に、2.5インチ、1.8インチ)のものに好適である。また、ガラス基板の場合には、アルミニウム合金基板に比べて加工が難しく、形状を一定に保つことが困難であるので、上記条件は最も重要となる。   The cross-point condition for the magnetic disk substrate according to the present invention is suitable for a substrate size of 3.5 inches or less (particularly 2.5 inches or 1.8 inches). In the case of a glass substrate, the above conditions are the most important because processing is difficult and it is difficult to keep the shape constant compared to an aluminum alloy substrate.

次に、本発明に係る磁気ディスク用基板を用いて製造される磁気ディスクについて説明する。本発明に係る磁気ディスクは、上述したガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成して構成されている。   Next, a magnetic disk manufactured using the magnetic disk substrate according to the present invention will be described. The magnetic disk according to the present invention is configured by forming at least a magnetic layer on the glass substrate described above.

磁気ディスクは、通常、必要に応じ表面の化学強化処理を施したガラス基板1上に、下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次積層することにより製造される。なお、磁気ディスクにおける下地層は、磁性層に応じて適宜、選択される。   A magnetic disk is usually manufactured by sequentially laminating an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer on a glass substrate 1 that has been subjected to chemical strengthening treatment on the surface as necessary. The underlayer in the magnetic disk is appropriately selected according to the magnetic layer.

下地層を構成する材料としては、例えば、Cr,Mo,Ta,Ti,W,V,B,Alなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種が挙げられる。Coを主成分とする磁性層の場合には、磁気特性向上などの観点からCr単体やCr合金であることが好ましい。また、下地層は、単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても良い。例えば、Cr/Cr,Cr/CrMo,Cr/CrV,CrV/CrV,Al/Cr/CrMo,Al/Cr/Cr,Al/Cr/CrV,Al/CrV/CrVなどの多層下地層などが挙げられる。   Examples of the material constituting the underlayer include at least one selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, and Al. In the case of a magnetic layer containing Co as a main component, Cr alone or a Cr alloy is preferable from the viewpoint of improving magnetic characteristics. Further, the underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, CrV / CrV, Al / Cr / CrMo, Al / Cr / Cr, Al / Cr / CrV, Al / CrV / CrV, etc. .

磁性層を構成する材料としては、例えば、Coを主成分とするCoPt,CoCr,CoNi,CoNiCr,CoCrTa,CoPtCr,CoNiPtや、CoNiCrPt,CoNiCrTa,CoCrTaPt,CoCrPtSiOなどが挙げられる。磁性層は、磁性膜を非磁性膜(例えば、Cr,CrMo,CrVなど)で分割してノイズの低減を図った多層構成(例えば、CoPtCr/CrMo/CoPtCr,CoCrTaPt/CrMo/CoCrTaPtなど)としてもよい。   Examples of the material constituting the magnetic layer include CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiPt containing Co as a main component, CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrTaPt, and CoCrPtSiO. The magnetic layer may be a multilayer structure (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrTaPt / CrMo / CoCrTaPt) in which the magnetic film is divided by a non-magnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV) to reduce noise. Good.

磁気抵抗効果型ヘッド(MRヘッド)又は大型磁気抵抗効果型ヘッド(GMRヘッド)対応の磁性層の材料には、Co系合金に、Y,Si,希土類元素,Hf,Ge,Sn,Znから選択される不純物元素、又はこれらの不純物元素の酸化物を含有させても良い。また、磁性層としては、上記の他、フェライト系、鉄−希土類系や、SiO2、BNなどで構成された非磁性膜中にFe,Co,FeCo,CoNiPtなどの磁性粒子が分散された構造のグラニュラー膜などを用いても良い。 The material of the magnetic layer corresponding to the magnetoresistive head (MR head) or the large magnetoresistive head (GMR head) is selected from Co-based alloys from Y, Si, rare earth elements, Hf, Ge, Sn, and Zn. An impurity element to be formed or an oxide of these impurity elements may be included. As the magnetic layer, in addition to the above, ferritic, iron - rare-earth and, SiO 2, BN Fe nonmagnetic film, which is constituted by a, Co, FeCo, magnetic particles such as CoNiPt dispersed structure Alternatively, a granular film or the like may be used.

保護層を構成する材料としては、例えば、Cr、Cr合金、カーボン、ジルコニア、シリカなどが挙げられる。これらの保護膜は、下地層、磁性層などと共にインライン型スパッタ装置で連続して形成することができる。また、これらの保護膜は、単層としても良く、あるいは、同一又は異種の膜の多層構成としても良い。また、前記保護層上に、あるいは、上記保護層に代えて、他の保護層を形成しても良い。例えば、前記保護層に代えて、Cr膜の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成してなる酸化ケイ素(SiO2)膜を用いても良い。 Examples of the material constituting the protective layer include Cr, Cr alloy, carbon, zirconia, and silica. These protective films can be continuously formed by an in-line type sputtering apparatus together with an underlayer, a magnetic layer, and the like. These protective films may be a single layer, or may be a multilayer structure of the same or different films. Further, another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, instead of the protective layer, a silicon oxide (SiO 2 ) film obtained by dispersing and applying colloidal silica fine particles in a tetraalkoxylane diluted with an alcohol-based solvent on a Cr film, and further baking it. May be used.

潤滑層は、例えば、液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコート法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処理を行って形成する。   For example, the lubricating layer may be obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a solvent such as Freon, and applying it to the surface of the medium by dipping, spin coating, or spraying. Go and form.

図5は、上述した磁気ディスクを搭載したHDD装置(ロード/アンロード方式)の概略を示す分解図である。このHDD装置は、少なくとも一つの磁気ディスクと、この磁気ディスクに対して情報の記録及び/又は再生を行う磁気ヘッドとを備えている。すなわち、図5に示すように、HDD装置は、回路基板41及びスピンドルモータ43を備えた基台42のスピンドルモータ43に磁気ディスク44の穴部が装着され、さらに、ボトムヨーク45、マグネット47及びトップヨーク48に挟持されたヘッドアセンブリ46で構成されたボトムコイルモータが取り付けられて構成されている。このHDD装置においては、情報の記録再生時にヘッドが磁気ディスク44の記録領域(主表面)に進出し、停止時に磁気ディスク44の外縁を経由してヘッドが記録領域(主表面)から退避するようになっている(ロード/アンロード方式)。   FIG. 5 is an exploded view showing an outline of the HDD device (load / unload method) on which the above-described magnetic disk is mounted. This HDD device includes at least one magnetic disk and a magnetic head for recording and / or reproducing information on the magnetic disk. That is, as shown in FIG. 5, in the HDD device, the hole of the magnetic disk 44 is mounted on the spindle motor 43 of the base 42 having the circuit board 41 and the spindle motor 43, and further, the bottom yoke 45, the magnet 47, and A bottom coil motor composed of a head assembly 46 sandwiched between top yokes 48 is attached. In this HDD device, the head advances into the recording area (main surface) of the magnetic disk 44 when recording and reproducing information, and the head retracts from the recording area (main surface) via the outer edge of the magnetic disk 44 when stopped. (Load / Unload method).

クロスポイントの位置の上記条件を満足することは、ヘッドの浮上量が小さくなるHDD装置に搭載された磁気ディスク用基板に非常に有効である。例えば、磁気ディスクの外縁を経由して磁気ヘッドが磁気ディスクの主表面に対してロード/アンロードする方式のHDD装置用の磁気ディスク用基板、少なくとも7200rpmの回転数で磁気ディスクを回転させるHDD装置用の磁気ディスク用基板、タッチダウンハイトが4nm以下である磁気ディスク用基板、記録密度が200Gbit/inch2以上である磁気ディスク用基板に非常に有効である。 Satisfying the above condition of the position of the cross point is very effective for a magnetic disk substrate mounted on an HDD device in which the flying height of the head is reduced. For example, a magnetic disk substrate for an HDD apparatus in which a magnetic head is loaded / unloaded with respect to the main surface of the magnetic disk via the outer edge of the magnetic disk, and an HDD apparatus that rotates the magnetic disk at a rotational speed of at least 7200 rpm The present invention is very effective for magnetic disk substrates, magnetic disk substrates having a touchdown height of 4 nm or less, and magnetic disk substrates having a recording density of 200 Gbit / inch 2 or more.

次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
(実施例1〜3)
(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。得られたディスク状の板状ガラスは、直径が68mm、板厚が1mmであった。
Next, examples performed for clarifying the effects of the present invention will be described.
(Examples 1-3)
(1) Shape processing step and first lapping step First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper die, a lower die, and a barrel die to obtain an amorphous plate glass. In addition, the glass for chemical strengthening was used as aluminosilicate glass. The obtained disk-shaped plate glass had a diameter of 68 mm and a plate thickness of 1 mm.

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。また、このラッピング加工により、ガラス母材の板厚は、板状ガラスよりも削減され、0.7mmとなった。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the plate glass from above and below, the grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relative to each other for lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained. Moreover, the plate | board thickness of the glass base material was reduced rather than plate glass by this lapping process, and became 0.7 mm.

(2)端部形状工程(コアリング、チャンファリング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から、ガラス基板を切り出した。次に、円筒状のコアドリルを用いて、このガラス基板の中心部に穴部を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。なお、このとき、2つのコアドリルを用いて、ガラス基板の両面からそれぞれ穴を形成した。そして、外周端部については、図4に示す装置を用い、ダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(チャンファリング)。
(2) End shape process (coring, chamfering)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical core drill, a hole was formed in the center of the glass substrate to obtain an annular glass substrate (coring). At this time, holes were formed from both surfaces of the glass substrate using two core drills. And about the outer peripheral edge part, it grind | pulverized with the diamond grindstone using the apparatus shown in FIG. 4, and performed the predetermined chamfering (chambering).

(3)鏡面研磨工程
次に、ガラス基板の端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。また、内周端部については、磁気研磨法により鏡面研磨を行った。そして、鏡面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この鏡面研磨工程により、ガラス基板の端部は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。これにより、ガラス基板の直径は65mmとなり、2.5インチ型磁気ディスクに用いる基板とすることができた。
(3) Mirror polishing process Next, the end surface of the glass substrate was mirror-polished by a brush polishing method. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used. Further, the inner peripheral end portion was mirror polished by a magnetic polishing method. And the glass substrate which finished the mirror polishing process was washed with water. By this mirror polishing process, the end portion of the glass substrate was processed into a mirror surface state capable of preventing generation of particles and the like. As a result, the diameter of the glass substrate was 65 mm, and the substrate used for the 2.5-inch magnetic disk could be obtained.

(4)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング加工を行うことにより、前工程である端部形状工程や鏡面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができた。
(4) Second Lapping Step Next, a second lapping process was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping process, the fine uneven shape formed on the main surface in the end shape process and the mirror polishing process, which are the previous processes, can be removed in advance, and the subsequent polishing process on the main surface Could be completed in a short time.

(5)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、上述したラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質の研磨パッドを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。そして、この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
(5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. The first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard polishing pad by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used. And the glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process is immersed in each washing tank of neutral detergent, pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) sequentially. , Washed.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質の研磨パッドを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。そして、この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤(1)、中性洗剤(2)、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft polishing pad by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used. And the glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process is made into neutral detergent (1), neutral detergent (2), pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), IPA (vapor drying) ) Were sequentially immersed in each washing tank and washed. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(6)化学強化工程
次に、上述したラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を380°Cに加熱し、その中に洗浄済みのガラス基板を約4時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。
(6) Chemical strengthening process Next, the glass substrate which finished the lapping process and the polishing process described above was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution in which potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) are mixed is prepared, this chemical strengthening solution is heated to 380 ° C., and the cleaned glass substrate is placed therein for about 4 hours. This was done by dipping. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, it was carried out in a state of being accommodated in a holder so that a plurality of glass substrates were held at the end surfaces.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μm前後であった。   Thus, by immersing in a chemical strengthening solution, the lithium ion and sodium ion of the surface layer of a glass substrate are each substituted by the sodium ion and potassium ion in a chemical strengthening solution, and a glass substrate is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate was about 100 μm.

化学強化処理を終えたガラス基板を、20°Cの水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。   The glass substrate that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a water bath at 20 ° C. for rapid cooling and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Further, the glass substrate after the sulfuric acid cleaning was cleaned by immersing in a cleaning tank of pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

このように、第1ラッピング工程、端部形状工程、鏡面研磨工程、第2ラッピング工程、主表面研磨工程(第1及び第2研磨工程)、精密洗浄、化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気記録媒体用のガラス基板を得た。   Thus, by applying the first lapping process, the edge shape process, the mirror polishing process, the second lapping process, the main surface polishing process (first and second polishing processes), the precision cleaning, and the chemical strengthening process, In addition, a smooth and highly rigid glass substrate for a magnetic recording medium was obtained.

このようにして得られたガラス基板(実施例1〜3)について、触針式表面形状測定器を用いて、主表面を平面視した際のガラス基板1の主表面におけるクロスポイントCPの位置を調べた。その結果を図6に示す。また、クロスポイントCPの面取り面14における投影位置までの距離t(クロスポイントスペーシング)についても、主表面を平面視した際のガラス基板1の主表面における位置を調べた。その結果を図7に示す。   For the glass substrates (Examples 1 to 3) thus obtained, the position of the cross point CP on the main surface of the glass substrate 1 when the main surface is viewed in plan using a stylus type surface shape measuring instrument. Examined. The result is shown in FIG. Further, regarding the distance t (cross point spacing) to the projection position on the chamfered surface 14 of the cross point CP, the position on the main surface of the glass substrate 1 when the main surface was viewed in plan was examined. The result is shown in FIG.

図6から分かるように、実施例1〜3のガラス基板は、主表面におけるクロスポイントの位置のばらつきがそれぞれ0.192mm、0.275mm、0.340mmであり、極めて小さかった。すなわち、クロスポイントで形成される円の真円度が0.5mm以下であった。また、図7から分かるように、実施例1〜3のガラス基板は、主表面におけるクロスポイントスペーシングの位置のばらつきがそれぞれ0.003mm、0.004mm、0.002mmであり、極めて小さかった。すなわち、クロスポイントスペーシングの変動が5μm(0.005mm)以下であった。   As can be seen from FIG. 6, the glass substrates of Examples 1 to 3 had extremely small variations in the position of cross points on the main surface of 0.192 mm, 0.275 mm, and 0.340 mm, respectively. That is, the roundness of the circle formed at the cross point was 0.5 mm or less. Further, as can be seen from FIG. 7, the glass substrates of Examples 1 to 3 had extremely small variations in cross point spacing positions on the main surface of 0.003 mm, 0.004 mm, and 0.002 mm, respectively. That is, the variation of the cross point spacing was 5 μm (0.005 mm) or less.

(比較例1,2)
チャンファリング工程において、外周端部及び内周端部をダイヤモンド砥石によって研削して面取り加工を施すこと以外上記実施例1〜3と同様にして磁気記録媒体用のガラス基板を得た。このようにして得られたガラス基板(比較例1,2)について、実施例1〜3と同様にして、主表面を平面視した際のガラス基板1の主表面におけるクロスポイントCPの位置及びクロスポイントスペーシングの位置を調べた。その結果をそれぞれ図6及び図7に併記する。
(Comparative Examples 1 and 2)
In the chamfering step, a glass substrate for a magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Examples 1 to 3 except that the outer peripheral end and the inner peripheral end were ground with a diamond grindstone and chamfered. For the glass substrates thus obtained (Comparative Examples 1 and 2), in the same manner as in Examples 1 to 3, the position and cross of the cross point CP on the main surface of the glass substrate 1 when the main surface was viewed in plan view. The position of the point spacing was examined. The results are shown in FIGS. 6 and 7 respectively.

図6から分かるように、比較例1,2のガラス基板は、主表面におけるクロスポイントの位置のばらつきがそれぞれ0.608mm、0.694mmであり、大きかった。すなわち、クロスポイントで形成される円の真円度が0.5mmを超えていた。また、図7から分かるように、比較例1,2のガラス基板は、主表面におけるクロスポイントスペーシングの位置のばらつきがそれぞれ0.006mmであり、大きかった。すなわち、クロスポイントスペーシングの変動が5μm(0.005mm)を超えていた。   As can be seen from FIG. 6, the glass substrates of Comparative Examples 1 and 2 had large variations in the position of cross points on the main surface, which were 0.608 mm and 0.694 mm, respectively. That is, the roundness of the circle formed at the cross point exceeded 0.5 mm. Further, as can be seen from FIG. 7, the glass substrates of Comparative Examples 1 and 2 each had a large variation in the position of the cross point spacing on the main surface of 0.006 mm. That is, the variation in cross point spacing exceeded 5 μm (0.005 mm).

次に、クロスポイントの位置のばらつきとヘッドクラッシュとの関係について調べた。この場合、上述したようにして得られたガラス基板に、テクスチャー処理及び精密洗浄を行った後に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑層を順次積層して磁気ディスクを作製し、この磁気ディスクをロ−ド/アンロード方式のHDD装置に搭載して、ヘッドクラッシュの発生率を調べた。ここで、ヘッドクラッシュとは、1000台のドライブテスターを使用して、繰り返しシークヘッドテスト(穴部→外縁→穴部の移動)において、100回毎に外縁側を見て傷が入っているディスク枚数を母数で割ったものをいう。ここでは、ヘッド浮上高さを7nm、10nm、12nm、15nmとしてそれぞれ調べた。その結果を図8に示す。   Next, the relationship between the variation in the position of the cross point and the head crash was examined. In this case, after the texture treatment and precision cleaning are performed on the glass substrate obtained as described above, an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are sequentially laminated to produce a magnetic disk. Was loaded into a load / unload type HDD device, and the incidence of head crashes was examined. Here, the head crash refers to a disc in which 1000 drive testers are used and a scratch is found by looking at the outer edge every 100 times in repeated seek head tests (hole → outer edge → hole movement). This is the number of sheets divided by the parameter. Here, the head flying height was examined as 7 nm, 10 nm, 12 nm, and 15 nm, respectively. The result is shown in FIG.

図8から分かるように、クロスポイントの位置のばらつきが0.5mm以下であれば、ヘッド浮上高さに拘わらずヘッドクラッシュの発生がほとんどない。このため、上記実施例1〜3のガラス基板を用いることにより、ヘッドクラッシュを非常に高い割合で防止することができることが分かる。一方、クロスポイントの位置のばらつきが0.5mmを超えると、ヘッドクラッシュの割合が増加する。特に、ヘッド浮上高さが低くなるにつれてヘッドクラッシュの割合の増加が顕著となる。このため、上記比較例1,2のガラス基板では、ヘッドクラッシュを十分に防止できていないことが分かる。   As can be seen from FIG. 8, if the variation in the position of the cross point is 0.5 mm or less, the head crash hardly occurs regardless of the head flying height. For this reason, it turns out that a head crash can be prevented in a very high ratio by using the glass substrate of the said Examples 1-3. On the other hand, when the variation in the position of the cross point exceeds 0.5 mm, the head crash rate increases. In particular, as the head flying height decreases, the head crash rate increases significantly. For this reason, it can be seen that the glass substrates of Comparative Examples 1 and 2 cannot sufficiently prevent head crashes.

本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態における部材の個数、サイズ、処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with appropriate modifications. For example, the number, size, processing procedure, and the like of the members in the above embodiment are merely examples, and various changes can be made within the range where the effects of the present invention are exhibited. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

本発明の実施の形態に係る磁気ディスク用基板であるガラス基板の一部を示す図である。It is a figure showing a part of glass substrate which is a substrate for magnetic discs concerning an embodiment of the invention. (a)は、図1に示すガラス基板の一部を示す図であり、(b)は、(a)のX部の拡大図であり、(c)は、ガラス基板1の平面図である。(A) is a figure which shows a part of glass substrate shown in FIG. 1, (b) is an enlarged view of the X section of (a), (c) is a top view of the glass substrate 1. FIG. . (a),(b)は、ガラス基板の端部近傍の状態を説明するための図である。(A), (b) is a figure for demonstrating the state of the edge part vicinity of a glass substrate. 本発明の実施の形態に係る磁気ディスク用基板であるガラス基板を作製する際に用いる研磨装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the grinding | polishing apparatus used when producing the glass substrate which is a board | substrate for magnetic discs concerning embodiment of this invention. HDD装置の概略構成を示す分解図である。It is an exploded view which shows schematic structure of a HDD apparatus. 主表面におけるクロスポイントの位置のばらつきを示す図である。It is a figure which shows the dispersion | variation in the position of the cross point in a main surface. 主表面におけるクロスポイントスペーシングの位置のばらつきを示す図である。It is a figure which shows the dispersion | variation in the position of the cross point spacing in a main surface. 主表面におけるクロスポイントの位置のばらつきとヘッドクラッシュとの間の関係を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between variation in cross point position on the main surface and head crash.

符号の説明Explanation of symbols

1 ガラス基板
11 穴部
12 主表面
13 端面
14 面取り面
CP クロスポイント
C 基板中心
1 Glass substrate 11 Hole 12 Main surface 13 End surface 14 Chamfered surface CP Cross point C Center of substrate

Claims (11)

磁気ディスクの外縁を経由して磁気ヘッドが前記磁気ディスクの主表面に対してロード/アンロードする方式の磁気ディスク装置用の磁気ディスク用基板であって、
前記磁気ディスク用基板は、平坦な主表面と、端面と、前記主表面と前記端面との間の面取り面と、を備え、円形状を有
前記磁気ディスク用基板の中心から前記端面までの第1距離における前記中心から50%の前記主表面上の位置と前記中心から80%の前記主表面上の位置とを結ぶ第1仮想線と、前記第1距離における前記端面から0.15%の前記面取り面上の位置と前記端面から0.30%の前記面取り面上の位置とを結ぶ第2仮想線と、の交点をクロスポイントとしたときに、前記主表面を平面視した際に前記クロスポイントで形成される円の真円度が0.5mm以下であり、前記クロスポイントから、前記主表面を平面視した際の前記クロスポイントの前記面取り面における投影位置までの第2距離の、前記磁気ディスク用基板の全周にわたる変動が5μm以下であることを特徴とする磁気ディスク用基板。
A magnetic disk substrate for a magnetic disk apparatus of a type in which a magnetic head is loaded / unloaded to the main surface of the magnetic disk via an outer edge of the magnetic disk,
The substrate for a magnetic disk, includes a flat main surface, an end face, and a chamfer surface between the main surface and the end face, it has a circular shape,
A first imaginary line connecting a position on the main surface of 50% from the center and a position on the main surface of 80% from the center at a first distance from the center of the magnetic disk substrate to the end surface; The intersection of the second imaginary line connecting the position on the chamfered surface of 0.15% from the end surface and the position on the chamfered surface of 0.30% from the end surface at the first distance is defined as a cross point. Occasionally, the roundness of the circle formed by the cross points Ri der less 0.5 mm, from said cross-point, said cross point when viewed from above the said main surface when viewed in plan the main surface The magnetic disk substrate is characterized in that the variation of the second distance to the projection position on the chamfered surface is 5 μm or less over the entire circumference of the magnetic disk substrate.
記第2距離が、15μm以下であることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用基板。 Before Stories second distance, a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein a is 15μm or less. 前記クロスポイントで形成される円の真円度が0.340mm以下であることを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用基板。2. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the roundness of a circle formed at the cross point is 0.340 mm or less. 前記磁気ディスク用基板の全周にわたる前記第2距離の変動がμm以下であることを特徴とする請求項記載の磁気ディスク用基板。 Magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the variation of the second distance over the entire circumference of the substrate for the magnetic disk is 4 [mu] m or less. 前記主表面を平面視した際に前記クロスポイントで形成される円の中心と、前記磁気ディスク用基板の中心との間の距離が1200μm以下であることを特徴とする請求項1から請求項のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。 The center of the circle formed by the cross points in a plan view of the main surface, claims 1 to 4, the distance between the center of the substrate for the magnetic disk is equal to or less than 1200μm The magnetic disk substrate according to any one of the above. 前記磁気ディスク用基板がガラスで構成されていることを特徴とする請求項1から請求項のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。 Substrate according to any one of claims 1 to 5 in which the substrate for the magnetic disk is characterized by being composed of glass. 請求項1から請求項のいずれかに記載の磁気ディスク用基板と、前記磁気ディスク用基板上に形成された磁性層と、を具備することを特徴とする磁気ディスク。 A magnetic disk comprising: the magnetic disk substrate according to any one of claims 1 to 6 ; and a magnetic layer formed on the magnetic disk substrate. 少なくとも7200rpmの回転数で磁気ディスクを回転させる磁気ディスク装置に搭載されることを特徴とする請求項7記載の磁気ディスク。 Magnetic disk Motomeko 7, wherein you, characterized in that it is mounted on at least a magnetic disk device for rotating the magnetic disk at a rotational speed of 7200 rpm. タッチダウンハイトが4nm以下であることを特徴とする請求項7又は請求項8記載の磁気ディスク。 9. The magnetic disk according to claim 7 , wherein the touchdown height is 4 nm or less. 記録密度が200Gbit/inch2以上であることを特徴とする請求項から請求項9のいずれかに記載の磁気ディスク。 10. The magnetic disk according to claim 7 , wherein the recording density is 200 Gbit / inch 2 or more. 請求項から請求項10のいずれかに記載の磁気ディスクと、前記磁気ディスクに対して情報の記録及び/又は再生を行う磁気ヘッドと、を具備することを特徴とするハードディスクドライブ装置。 11. A hard disk drive device comprising: the magnetic disk according to claim 7; and a magnetic head for recording and / or reproducing information with respect to the magnetic disk.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4748115B2 (en) * 2007-06-12 2011-08-17 コニカミノルタオプト株式会社 Glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium
CN104603875B (en) * 2012-09-28 2016-07-06 Hoya株式会社 Glass substrate for disc, disk
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11349354A (en) * 1998-06-08 1999-12-21 Nikon Corp Substrate for information recording medium and its production
JP2006294099A (en) * 2005-04-07 2006-10-26 Asahi Glass Co Ltd Peripheral surface polishing apparatus and manufacturing method for glass substrate for magnetic recording medium
JP2008080482A (en) * 2006-09-01 2008-04-10 Hoya Corp Manufacturing method and manufacturing device for magnetic disk glass substrate, magnetic disk glass substrate, magnetic disk manufacturing method, and magnetic disk

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