JPWO2013125243A1 - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の目的は、透過率や開口率が高く、かつ正面コントラストが高い液晶表示装置を提供することである。本発明の液晶表示装置は、画素電極を有する第一の基板、共通電極を有する第二の基板および負の誘電率異方性の液晶分子を含む垂直配向型の液晶層を有する液晶セルと、一対の偏光板とを含み、画素電極は第一、第二および第三のスリット領域を含む３または５の領域を有し；第二の基板面は第一、第二および第三のスリット領域と対向する第一、第二および第三の領域を有し；第一、第二および第三の領域近傍の液晶分子はそれぞれ互いに異なる方向にプレチルトし；一対の偏光板の少なくとも一方は、偏光子の液晶セル側の面に配置され、（１）６０ｎｍ≰Ｒ０≰８０ｎｍ、（２）２８０ｎｍ≰Ｒｔｈ≰４００ｎｍ、（３）３≰（Ｒｔｈ／ｄ）?１０００を同時に満たす光学補償フィルムを有する。

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、テレビやパソコンなどの液晶ディスプレイとして広く用いられている。なかでも、正面コントラストが高いことから、垂直配向型の液晶表示装置が多く用いられている。

垂直配向型の液晶表示装置では、通常、１）視野角を広げること（黒表示時の斜め方向の光漏れを少なくすること）、２）斜め方向の色味変化を少なくすること、が求められる。黒表示時の光漏れと斜めの色味変化を少なくするために、通常、液晶セルの少なくとも一方の面に位相差フィルムが配置される。例えば、視認側の位相差フィルムよりも、バックライト側の位相差フィルムのＲ_０またはＲｔｈが低く設定された表示装置が提案されている（例えば特許文献１および２）。

さらに、垂直配向型の液晶表示装置には、視野角をさらに広げることや消費電力を低減することなどが求められている。液晶表示装置の視野角を広げるために、一つの画素領域に液晶分子の配向状態が異なる複数の領域を形成する配向分割構造が検討されている。例えば、一つの画素領域に液晶分子の配向状態が異なる３または４の領域を有する垂直配向型の液晶セルが提案されている（例えば特許文献３）。

また、液晶表示装置の消費電力を低減するために、液晶セルの透過率や開口率を高めることが検討されている。例えば、一つの画素領域内に液晶分子の配向状態が異なる４つの領域を有し、かつ電圧印加時に、一方の基板面近傍の液晶分子の長軸と、対向する他方の基板面近傍の液晶分子の長軸とが直交するように、液晶分子をツイスト配向させるカイラル式の垂直配向型の液晶セルが提案されている（例えば特許文献４）。それにより、バックライト側の偏光子を通過した直線偏光の偏光軸を十分に変化させることができ、視認側の偏光子を透過する光の量を多くすることができる。

特開２０１１−９５６９４号公報 特開２０１１−８１０２０号公報 特開２０１０−３３０５４号公報 特許第４７４４５１８号公報

視野角を広げるためには、一つの画素領域に含まれる液晶分子の配向状態が異なる領域の数（配向分割数）を増やすことが有効である。しかしながら、配向分割数を増やすと、歩留まりが低下するだけでなく、分割された領域同士の界面量が増えるため、液晶セルの開口率が低下しやすい。そのため、液晶セルの開口率を高めるためには、配向分割数はできるだけ少ないことが望まれる。

つまり、配向分割数が少なく、かつ電圧印加時に液晶分子が一対の基板間でツイスト配向する新たな垂直配向型の液晶セルは、白表示時に高い透過率と開口率とを有する。

しかしながら、新たな垂直配向型の液晶セルを含む表示装置は、正面コントラストが十分でないという問題があった。即ち、正面コントラストは、白表示時の透過率（白輝度）と、黒表示時の透過率（黒輝度）の比（白輝度／黒輝度）として表される。新たな垂直配向型の液晶セルを含む表示装置は、透過率や開口率が高いため、白表示時の透過率（白輝度）が高い。しかしながら、新たな垂直配向型の液晶セルでは、液晶分子をプレチルトさせているため、黒表示時の透過率（黒輝度）が高くなりやすい。そのため、新たな垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の正面コントラストは、従来の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の正面コントラストよりも低くなることがあった。

即ち、正面コントラストを高めるためには、液晶セルの透過率や開口率を高めるだけでなく、黒表示時の透過率（黒輝度）を低くする必要があった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、透過率や開口率が高く、かつ正面コントラストが高い液晶表示装置を提供することを目的とする。

［１］ 液晶セルと、前記液晶セルの一方の面に配置され、第一の偏光子を有する第一の偏光板と、前記液晶セルの他方の面に配置され、第二の偏光子を有する第二の偏光板とを有し；前記液晶セルは、画素電極を有する第一の基板と、共通電極を有する第二の基板と、前記第一の基板と前記第二の基板との間に配置され、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含む垂直配向型の液晶層とを有し；前記第一の基板における前記画素電極は、複数の第一のスリットを有する第一のスリット領域Ａと、複数の第二のスリットを有する第二のスリット領域Ｂと、前記第一のスリットの長軸方向および前記第二のスリットの長軸方向と略直交する長軸方向を有する第三のスリットを有する第三のスリット領域Ｃとを含む３または５の領域に分割されており；前記第二の基板における前記共通電極は、配向膜によって覆われており、前記第一の基板に対向する前記第二の基板の面は、前記第一のスリット領域Ａに対向する面である第一の領域ａと、前記第二のスリット領域Ｂに対向する面である第二の領域ｂと、前記第三のスリット領域Ｃに対向する面である第三の領域ｃとを有し；前記第二の基板において、電圧無印加時には、前記第一の領域ａ近傍の液晶分子は、前記第二の基板面の法線に対して前記第一のスリットの短軸方向にプレチルトしており、前記第二の領域ｂ近傍の液晶分子は、前記第二の基板面の法線に対して前記第二のスリットの短軸方向にプレチルトしており、かつ前記第一の領域ａ近傍の液晶分子の傾きと前記第二の領域ｂ近傍の液晶分子の傾きとは互いに逆であり、前記第三の領域ｃ近傍の液晶分子は、前記第二の基板面の法線に対して前記第三のスリットの短軸方向にプレチルトしており；前記第一の偏光板の吸収軸と前記第二の偏光板の吸収軸とは直交しており；前記第一の偏光板と前記第二の偏光板のいずれか一方または両方は、前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の液晶セル側の面に配置された光学補償フィルムを有し、前記光学補償フィルムは、下記式（Ｉ）で定義され、かつ測定波長５９０ｎｍで測定される面内方向のレターデーションをＲ_０とし、下記式（II）で定義され、かつ測定波長５９０ｎｍで測定される厚み方向のレターデーションをＲｔｈとしたとき、下記式（１）〜（３）を同時に満たす、液晶表示装置。
（１）６０ｎｍ≦Ｒ_０≦８０ｎｍ
（２）２８０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
（３）３≦（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００
式（Ｉ）：Ｒ_０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、前記光学補償フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
ｎｙは、前記光学補償フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
ｎｚは、前記光学補償フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
ｄ（ｎｍ）は、前記光学補償フィルムの厚みを表す）
［２］ プレチルトした前記第一の領域ａ近傍の液晶分子の長軸と前記第二の基板面の法線とのなす角、プレチルトした前記第二の領域ｂ近傍の液晶分子の長軸と前記第二の基板面の法線とのなす角、およびプレチルトした前記第三の領域ｃ近傍の液晶分子の長軸と前記第二の基板面の法線とのなす角の絶対値が、０°超１５°以下である、［１］に記載の液晶表示装置。
［３］ 前記第一の基板において、電圧無印加時には、前記第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子は、前記第一の基板面の法線に対して前記第一のスリットの長軸方向にプレチルトしており、前記第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子は、前記第一の基板面の法線に対して前記第二のスリットの長軸方向にプレチルトしており、かつ前記第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子の傾きと前記第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子の傾きとは互いに逆であり、前記第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子は、前記第一の基板面の法線に対して前記第三のスリットの長軸方向にプレチルトしている、［１］または［２］に記載の液晶表示装置。
［４］ 前記第二の基板面は、２つの前記第一の領域ａと、２つの前記第二の領域ｂと、１つの前記第三の領域ｃとを含む５つの領域に分割されている、［１］に記載の液晶表示装置。
［５］ 前記液晶セルの前記第一の基板側に配置されたバックライトをさらに有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［６］ 前記第一の偏光板は、前記液晶セルと前記バックライトとの間に配置され、前記第一の偏光子の前記液晶セル側の面に配置された前記光学補償フィルムを有する、［５］に記載の液晶表示装置。
［７］ 前記液晶セルの前記第二の基板が、カラーフィルタをさらに有する、［５］または［６］に記載の液晶表示装置。
［８］ 前記第一の偏光板が、前記第一の偏光子のバックライト側の面に配置された保護フィルムＦ１をさらに有し、前記保護フィルムＦ１の前記第一の偏光子の吸収軸に対して平行な方向α１の引張弾性率が、前記方向α１に対して直交する方向β１の引張弾性率よりも大きいか、または前記第二の偏光板が、前記第二の偏光子の視認側の面に配置された保護フィルムＦ４をさらに有し、前記保護フィルムＦ４の前記第二の偏光子の吸収軸に対して平行な方向α２の引張弾性率が、前記方向α２に対して直交する方向β２の引張弾性率よりも大きい、［６］または［７］に記載の液晶表示装置。
［９］ 前記第一の偏光板が、前記第一の偏光子のバックライト側の面に配置された保護フィルムＦ１をさらに有し、前記保護フィルムＦ１の前記第一の偏光子の吸収軸に対して平行な方向α１の引張弾性率が、前記方向α１に対して直交する方向β１の引張弾性率よりも大きい、［６］または［７］に記載の液晶表示装置。
［１０］ 前記保護フィルムＦ１またはＦ４は、アシル基の総置換度が２．７〜３．０であるセルロースエステルと、ポリエステル系可塑剤とを含有する、［８］に記載の液晶表示装置。
［１１］ 前記光学補償フィルムは、アシル基の総置換度が２．５以下であるセルロースエステルを含むコア層と、アシル基の総置換度が２．５超２．８以下であるセルロースエステルを含むスキン層とを含む積層物である、［１］〜［１０］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１２］ 前記光学補償フィルムは、アシル基の総置換度が２．７〜３．０であるセルロースエステルと、前記セルロースエステルに対して０．０５質量％以上のトリアジン化合物とを含有する、［１］〜［１０］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１３］ 前記液晶セルは、前記液晶セルのギャップをｄ（ｎｍ）とし、２３℃、測定波長５９０ｎｍにおける前記液晶分子の屈折率異方性を△ｎとしたとき、△ｎｄ＞４００ｎｍを満たす、［１］〜［１２］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［１４］ 前記光学補償フィルムの厚みは、１０〜２００μｍである、［１］〜［１３］のいずれかに記載の液晶表示装置。

本発明の液晶表示装置は、透過率や開口率が高く、かつ正面コントラストが高められうる。

本発明に係る液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。 液晶セルの一例を示す部分断面図である。 第一の基板の一例を示す部分上面図である。 図３の第一の基板上の画素領域Ｐ１０における画素電極の一例を示す上面図である。 第二の基板の配向膜面のうち、図４Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。 液晶表示装置の画素領域Ｐ１０における電圧無印加時の状態の一例を示す分解斜視図である。 液晶表示装置の画素領域Ｐ１０における電圧印加時の状態の一例を示す分解斜視図である。 第一の基板上の画素領域Ｐ１０における画素電極の他の例を示す上面図である。 第二の基板の配向膜面のうち、図６Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。 第一の基板上の画素領域Ｐ１０における画素電極の他の例を示す上面図である。 第二の基板の配向膜面のうち、図７Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。 第一の基板上の画素領域Ｐ１０における画素電極の他の例を示す上面図である。 第二の基板の配向膜面のうち、図８Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。

１．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、その一方の面に配置された第一の偏光板と、他方の面に配置された第二の偏光板とを有し；バックライトをさらに有してもよい。

図１は、本発明に係る液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。図１に示されるように、液晶表示装置１０は、液晶セル２０と、それを挟持する第一の偏光板４０および第二の偏光板６０と、バックライト８０とを有する。

液晶セル２０について
液晶セル２０は、高いコントラストを必要とすることから、電圧無印加時に垂直配向する液晶セルであることが好ましい。図２は、電圧無印加時に垂直配向する液晶セルの一例を示す部分断面図である。図２に示されるように、液晶セル２０は、第一の基板１００と、第二の基板２００と、第一の基板１００と第二の基板２００との間に配置され、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含む液晶層３００と、を有する。

第一の基板１００は、絶縁基板１１０と、その表面に設けられた複数の画素電極１２０とを有する。第二の基板２００は、絶縁基板２１０と、その表面に設けられた共通電極２２０と、その表面に設けられた配向膜２３０とを有し、カラーフィルタ２４０をさらに有しうる。

図３は、第一の基板１００の一例を示す部分上面図である。図３に示されるように、第一の基板１００は、複数の画素電極１２０と、複数の走査線１３０と、複数のデータ線１４０と、複数の能動素子１５０とを有する。画素電極１２０は、画素領域Ｐ１０ごとに配置されている。画素領域Ｐ１０は、走査線１３０とデータ線１４０によって画定されている。

画素電極１２０は、能動素子１５０を介してデータ線１４０と電気的に接続されている。それにより、データ線１４０によって伝送された信号を、能動素子１５０を介して画素電極１２０に入力できるようになっている。能動素子１５０は、さらに走査線１３０と電気的に接続されており、走査線１３０によって駆動されるように構成されている。

図４Ａは、図３の第一の基板１００上の画素領域Ｐ１０を示す上面図である。図４Ｂは、第二の基板２００の配向膜２３０の面のうち、図４Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。図４Ａおよび図４Ｂでは、画素領域Ｐ１０を、３つの領域に分割した例を示している。図４Ａに示されるように、画素電極１２０は、複数の第一のスリット１２２を有する第一のスリット領域Ａと、複数の第二のスリット１２４を有する第二のスリット領域Ｂと、第三のスリット１２６を有する第三のスリット領域Ｃとを含む。第一のスリット領域Ａおよび第二のスリット領域Ｂはそれぞれ一つであっても、複数（好ましくは二つ）あってもよい。

第一のスリット１２２、第二のスリット１２４および第三のスリット１２６の形状は、図４Ａではそれぞれ矩形状である例が示されているが、これに限定されず、長軸と短軸とを有する形状であればよい。例えば、第三のスリット１２６は、後述するように、多角形状などであってもよい。多角形状のスリットの長軸と短軸は、当該スリットと外接する矩形を想定したときの、矩形の長軸と短軸としうる。

複数の第一のスリット１２２は、互いに平行に設けられており、第一のスリット１２２と第三のスリット１２６とは、それぞれの長軸同士が互いに略直交するように接続されている。同様に、複数の第二のスリット１２４は、互いに平行に設けられており、第二のスリット１２４と第三のスリット１２６とは、それぞれの長軸同士が互いに略直交するように接続されている。同図では、第三のスリット１２６と第一のスリット１２２または第二のスリット１２４とが互いに接続された態様を示したが、これに限定されず、互いに接続していなくてもよい。

複数の第一のスリット１２２の総面積／複数の第二のスリット１２４の総面積／複数の第三のスリット１２６の総面積の比率は、求められる表示性能にもよるが、例えば４５／４５／１０〜３５／３５／３０としうる。各スリット領域の面積比率は、各スリットの大きさや数によって調整されうる。

電圧印加時に、第一の基板１００面近傍の液晶分子を一定の方向にチルトさせやすくするために、電圧無印加時に、第一の基板１００面近傍の液晶分子は、第一の基板１００の法線に対してプレチルトしていることが好ましい（図５Ａ参照）。プレチルトした第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子は、第一のスリット１２２の長軸方向に傾いていることが好ましく；プレチルトした第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子は、第二のスリット１２４の長軸方向に傾いていることが好ましい。そして、プレチルトした第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子の傾きとプレチルトした第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子の傾きとは互いに逆であることが好ましい。プレチルトした第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子は、第三のスリット１２６の長軸方向に傾いていることが好ましい。

例えば、プレチルトした第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子の傾きの方向は、図４Ａにおけるベクトルαで表すことができ；プレチルトした第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβで表すことができ；プレチルトした第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγで表すことができる。図４Ａにおけるベクトルの起点は、液晶セル２０の厚み方向において、液晶分子の長軸の両端部のうち第一の基板１００面に近い側の端部を示す。

各スリット領域におけるプレチルトした液晶分子の傾きの方向は、第一の基板１００上の配向膜（不図示）の配向処理方向によって調整されうる。

第一の基板１００面近傍の液晶分子（第一のスリット領域Ａ、第二のスリット領域Ｂおよび第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子）の長軸（図５Ａにおける方向Ｌ）と第一の基板１００面の法線（図５Ａにおける法線Ｎ）とのなす角（プレチルト角）の絶対値は、いずれも０°超１５°以下であることが好ましく、０°超１０°以下であることがより好ましい。プレチルト角が小さすぎると、表示装置における応答速度の向上効果が得られにくい。一方、プレチルト角が大きすぎると、黒表示時の光漏れが多くなり、コントラストが低下しやすい。

配向膜の配向処理は、ラビング法、ＳｉＯｘを斜方蒸着させる方法、光配向法などによって行うことができ、配向処理の制御が行いやすいなどの観点から、好ましくは光配向法である。光配向法は、光源とフォトマスクとを固定して露光する方法（同時露光法）や、光線の照射位置を移動させながら露光する方法（スキャン露光法）などがあり、好ましくはスキャン露光法である。

スキャン露光では、配向膜の材料にもよるが、第一の基板面１００近傍の液晶分子を前述のようにプレチルトさせるためには、光線を基板面の法線に対して斜め方向から入射させることが好ましい。プレチルト角を前述の範囲とするためには、配向膜の材料にもよるが、光線の基板面の法線に対する入射角を５°以上７０°以下とすることが好ましい。光線は、配向膜の材料にもよるが、消光比が２：１以上の部分偏光もしくは直線偏光であることが好ましい。光線の波長帯やエネルギー量は、配向膜の材料に応じて、適宜設定されればよい。

光線が照射される配向膜は、光配向膜材料を含む溶液を絶縁基板１１０上にスピンコート法、バーコート法、印刷法などで塗布した後、乾燥させて得られるものであることが好ましい。光配向膜材料は、特に限定されず、感光性基を含む樹脂；例えば４−カルコン基（下記式（１））、４’−カルコン基（下記式（２））、クマリン基（下記式（３））、およびシンナモイル基（下記式（４））などの感光性基を含むポリマーであることが好ましく、クマリン基（下記式（３））を含むポリマーであることがより好ましい。ポリマーは、好ましくはポリイミドでありうる。

図４Ｂに示されるように、第一の基板１００の画素電極１２０に対向する第二の基板２００の面は、第一のスリット領域Ａに対向する面である第一の領域ａと、第二のスリット領域Ｂに対向する面である第二の領域ｂと、第三のスリット領域Ｃに対向する面である第三の領域ｃとを有する。

前述と同様に、電圧印加時に、第二の基板２００面近傍の液晶分子を所定の方向にチルトさせやすくするために、電圧無印加時に、第二の基板２００面近傍の液晶分子が、第二の基板２００の法線に対してプレチルトしていることが好ましい。プレチルトした第一の領域ａ近傍の液晶分子は、第一のスリット１２２の短軸方向に傾いていることが好ましく；プレチルトした第二の領域ｂ近傍の液晶分子は、第二のスリット１２４の短軸方向に傾いていることが好ましい。そして、プレチルトした第一の領域ａ近傍の液晶分子の傾きと、プレチルトした第二の領域ｂ近傍の液晶分子の傾きとは互いに逆であることが好ましい。プレチルトした第三の領域ｃ近傍の液晶分子は、第三のスリット１２６の短軸方向に傾いていることが好ましい。

例えば、プレチルトした第一の領域ａ近傍の液晶分子の傾きの方向は、図４Ｂにおけるベクトルα’で表すことができ；プレチルトした第二の領域ｂ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβ’で表すことができ；プレチルトした第三の領域ｃ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγ’で表すことができる。図４Ｂにおけるベクトルの起点は、液晶セル２０の厚み方向において、液晶分子の長軸の両端部のうち第二の基板２００面に近い側の端部を示す。

各領域におけるプレチルトした液晶分子の傾きの方向は、配向膜２３０の配向処理方向によって規定されうる。配向処理方法は、前述と同様としうる。第一のスリット領域Ａの配向膜（不図示）が規定する配向処理方向と第一の領域ａの配向膜２３０が規定する配向処理方向とは互いに略直交することが好ましく；第二のスリット領域Ｂの配向膜（不図示）が規定する配向処理方向と第二の領域ｂの配向膜２３０が規定する配向処理方向とは互いに略直交することが好ましく；第三のスリット領域Ｃの配向膜（不図示）が規定する配向処理方向と第三の領域ｃの配向膜２３０が規定する配向処理方向とは互いに略直交することが好ましい。

配向膜２３０は、前述と同様に、光配向法により形成されたものであることが好ましい。

第二の基板２００面近傍の各液晶分子（第一の領域ａ、第二の領域ｂおよび第三の領域ｃ近傍の液晶分子）の長軸と第二の基板２００面の法線とのなす角（プレチルト角）の絶対値も、前述と同様に、それぞれ０°超１５°以下であることが好ましく、０°超１０°以下であることがより好ましい。

液晶層３００は、前述の通り、負の誘電率異方性の液晶分子を含む。負の誘電率異方性を有する液晶分子の例には、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子が含まれる。負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子の例には、特開２００４−２０４１３３号、特開２００４−２５０６６８号、特開２００５−０４７９８０号などに記載のものが含まれる。具体的には、負の誘電異方性を有し、△ｎ＝０．０８１５、△ε＝−４．５程度のネマチック液晶材料などが好ましく用いられる。

液晶層３００は、後述するように、電圧印加時に液晶分子を十分にツイスト配向させるために、ＴＮ方式の液晶セルに含まれるようなカイラル材をさらに含んでもよい。その場合、電圧無印加時の液晶分子の垂直配向を阻害しないようにするために、カイラル材の含有量は、液晶分子の含有量の１質量％以下であることが好ましい。

カイラル材の例には、コレステリック環を有する化合物、ビフェニル骨格を有する化合物、ターフェニル骨格を有する化合物、２つのベンゼン環がエステル結合によって連結された骨格を有するエステル化合物、シクロヘキサン環がベンゼン環に直接的に連結された骨格を有する化合物などが含まれる。そのようなカイラル材の具体例には、下記式（Ｃ１）〜（Ｃ７）で表される化合物などが含まれる。

液晶セル２０の△ｎｄは、透過率を高めるためには、４００ｎｍ超であることが好ましく、４０５ｎｍ以上であることがより好ましい。即ち、△ｎｄが大きい液晶セル２０は、電圧印加時に、第二の偏光板を通過した光の偏光軸を、第一の偏光板を通過できる程度まで十分に変化させうるので、透過率を高めることができる。液晶セル２０の△ｎｄは、２３℃５５％ＲＨ下、測定波長５９０ｎｍにて測定される液晶分子の屈折率異方性△ｎと、液晶セルのギャップｄ（ｎｍ）との積である。液晶分子の屈折率異方性△ｎは、液晶分子の常光屈折率ｎｏと異常光屈折率ｎｅの差の絶対値△ｎ＝｜ｎｅ−ｎｏ｜として表される。液晶セルのギャップｄ（ｎｍ）は、具体的には液晶層の厚さ（ｎｍ）である。

液晶セル２０の△ｎｄは、例えば液晶分子の封入量（または液晶セルのギャップｄ（ｎｍ））や、液晶分子の屈折率異方性△ｎ、液晶分子の配向量によって調整することができる。例えば、液晶セルの△ｎｄを大きくするためには、液晶セルのギャップｄ（ｎｍ）を大きくして、液晶分子の封入量を多くしたり；カイラル材などを添加して、液晶分子のツイスト量を多くしたりすればよい。

バックライト８０は、液晶セル２０の第一の基板１００側に配置されても、第二の基板２００側に配置されてもよいが、第一の基板１００側に配置されることが好ましい。

図５Ａは、液晶表示装置１０の、一つの画素領域Ｐ１０の電圧無印加時の状態の一例を示す分解斜視図であり；図５Ｂは、電圧印加時の状態の一例を示す分解斜視図である。同図では、第一の偏光板４０の吸収軸Ｄ１と、第二の偏光板６０の吸収軸Ｄ２とは、互いに直交している。

図５Ａに示されるように、電圧無印加時（画素電極１２０と共通電極２２０との間に電圧が印加されていない状態）では、液晶分子は、その長軸が第一の基板１００面または第二の基板２００面に対して、プレチルトしつつも、略垂直に配向している。

図５Ｂに示されるように、電圧印加時（画素電極１２０と共通電極２２０との間に電圧が印加されている状態）では、液晶分子は、電界の影響を受けて第一の基板１００面および第二の基板２００面に対して略平行方向に配向する。このとき、第一の基板１００面近傍の液晶分子の配向方向（長軸方向）と、第二基板２００面近傍の液晶分子の配向方向（長軸方向）とは互いに略直交し、ツイスト配向する。それにより、第一の偏光板４０を通過した光は、その偏光軸が液晶層３００によって十分に変化し、第二の偏光板６０を通過することができる。つまり、第二の偏光板６０を透過する光量が増えるため、液晶表示装置１０の透過率を高めることができる。

さらに、一つの画素領域Ｐ１０において、液晶分子の配向状態が互いに異なる３つの領域（第一のスリット領域Ａと第一の領域ａとの間の領域；第二のスリット領域Ｂと第二の領域ｂとの間の領域；および第三のスリット領域Ｃと第三の領域ｃとの間の領域）を含む。そのため、歩留まりの低下を最小限にしつつ、液晶表示装置１０の視野角を広げることができる。また、液晶分子の配向状態が異なる領域の数（配向分割数）が少ないので、遮光領域となる領域間の界面量を少なくしうる。それにより、液晶表示装置１０の開口率を高めることができる。

図６Ａは、第一の基板１００上の画素領域Ｐ１０における画素電極の他の例を示す上面図である。図６Ｂは、第二の基板２００の配向膜２３０’の面のうち、図６Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。図６Ａに示されるように、画素電極１２０’は、複数の第一のスリット１２２’を有する第一のスリット領域Ａ’と、複数の第二のスリット１２４’を有する第二のスリット領域Ｂ’と、第三のスリット１２６’を有する第三のスリット領域Ｃ’とを含む。第一のスリット領域Ａ’および第二のスリット領域Ｂ’は、それぞれ一つであっても複数あってもよい。

第一のスリット１２２’と第二のスリット１２４’は、それぞれ画素電極１２０’と第二の共通電極１２８とで挟まれた矩形状の領域を示す。第三のスリット１２６’は、第一のスリット１２２’と第二のスリット１２４’との間を連通し、かつ画素電極１２０’と第二の共通電極１２８が設けられていない領域である。図６Ａにおける第三のスリット１２６’の長軸は、第三のスリット１２６’と外接する矩形（第三のスリット領域Ｃ’と同形状の矩形）の長軸である。

第一の基板１００面近傍の液晶分子は、前述と同様に、第一の基板１００面の法線に対して所定の方向にプレチルトしていることが好ましい。例えば、プレチルトした第一のスリット領域Ａ’近傍の液晶分子の傾きの方向は、前述と同様に、ベクトルαで表すことができ；プレチルトした第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβで表すことができ；プレチルトした第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγで表すことができる。液晶分子のプレチルト角も、前述と同様としうる。

図６Ｂに示されるように、第一の基板１００の画素電極１２０’に対向する第二の基板２００の面は、第一のスリット領域Ａ’に対向する面である第一の領域ａ’と、第二のスリット領域Ｂ’に対向する面である第二の領域ｂ’と、第三のスリット領域Ｃ’に対向する面である第三の領域ｃ’とを有する。

第二の基板２００面近傍の液晶分子は、前述と同様に、第二の基板２００面の法線に対して所定の方向にプレチルトしていることが好ましい。例えば、プレチルトした第一の領域ａ’近傍の液晶分子の傾き方向はベクトルα’で表すことができ；プレチルトした第二の領域ｂ’近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβ’で表すことができ；プレチルトした第三の領域ｃ’近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγ’で表すことができる。液晶分子のプレチルト角も、前述と同様としうる。

図７Ａは、第一の基板１００上の画素領域Ｐ１０における画素電極の他の例を示す上面図である。図７Ｂは、第二の基板２００の配向膜の面のうち、図７Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。図７Ａに示されるように、画素電極１２０”は、複数の第一のスリット１２２”を有する第一のスリット領域Ａ”と、複数の第二のスリット１２４”を有する第二のスリット領域Ｂ”と、第三のスリット１２６”を有する第三のスリット領域Ｃ”とを含む。第一のスリット領域Ａ”および第二のスリット領域Ｂ”は、それぞれ一つであっても複数あってもよい。

図７Ｂに示されるように、第一の基板１００の画素電極１２０”に対向する第二の基板２００面は、第一のスリット領域Ａ”に対向する面である第一の領域ａ”と、第二のスリット領域Ｂ”に対向する面である第二の領域ｂ”と、第三のスリット領域Ｃ”に対向する面である第三の領域ｃ”とを有する。

前述と同様に、第一の基板１００面近傍の液晶分子は、第一の基板１００面の法線に対して所定の方向にプレチルトしていることが好ましい。例えば、プレチルトした第一のスリット領域Ａ”近傍の液晶分子の傾きの方向は、前述と同様に、ベクトルαで表すことができ；プレチルトした第二のスリット領域Ｂ”近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβで表すことができ；プレチルトした第三のスリット領域Ｃ”近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγで表すことができる。

第二の基板２００面近傍の液晶分子は、第二の基板２００面の法線に対して所定の方向にプレチルトしていることが好ましい。例えば、プレチルトした第一の領域ａ”近傍の液晶分子の傾きの方向は、前述と同様に、ベクトルα’で表すことができ；プレチルトした第二の領域ｂ”近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβ’で表すことができ；プレチルトした第三の領域ｃ”近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγ’で表すことができる。液晶分子のプレチルト角も、前述と同様としうる。

図８Ａは、第一の基板１００上の画素領域Ｐ１０における画素電極の他の例を示す上面図である。同図は、画素領域Ｐ１０を、５つの領域に分割した例を示す。図８Ｂは、第二の基板２００の配向膜２３０'''の面のうち、図８Ａの画素領域Ｐ１０に対向する領域の一例を示す上面図である。図８Ａに示されるように、画素電極１２０'''は、第一のスリット領域Ａと第二のスリット領域Ｂをそれぞれ２つずつ有する以外は図４Ａと同様に構成されている。即ち、画素電極１２０'''は、第一のスリット領域１Ａおよび２Ａと、第二のスリット領域１Ｂおよび２Ｂと、第三のスリット領域Ｃとを有する。

図８Ａに示されるように、第一のスリット領域１Ａと２Ａは、第一の基板１００面の中央部を対称中心として互いに点対称となるように配置されることが好ましい。同様に、第二のスリット領域１Ｂと２Ｂは、第一の基板１００面の中央部を対称中心として互いに点対称となるように配置されることが好ましい。

図８Ｂに示されるように、第一の基板１００の画素電極１２０'''に対向する第二の基板２００面は、第一のスリット領域１Ａおよび２Ａにそれぞれ対向する面である第一の領域１ａおよび２ａと、第二のスリット領域１Ｂおよび２Ｂにそれぞれ対向する面である第二の領域１ｂおよび２ｂと、第三のスリット領域Ｃに対向する面である第三の領域ｃとを有する。

第一の基板１００面近傍の液晶分子は、前述と同様に、第一の基板１００面の法線に対して所定の方向にプレチルトしていることが好ましい。プレチルトした第一のスリット領域１Ａおよび２Ａ近傍の液晶分子の傾きの方向は、それぞれベクトルαで表すことができ；プレチルトした第二のスリット領域１Ｂおよび２Ｂ近傍の液晶分子の傾きの方向は、それぞれベクトルβで表すことができ；プレチルトした第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγで表すことができる。

第二の基板２００面近傍の液晶分子も、前述と同様に、第二の基板２００面の法線に対して所定の方向にプレチルトしていることが好ましい。例えば、プレチルトした第一の領域１ａおよび２ａ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルα’で表すことができ；プレチルトした第二の領域１ｂおよび２ｂ近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルβ’で表すことができ；プレチルトした第三の領域ｃ’近傍の液晶分子の傾きの方向はベクトルγ’で表すことができる。液晶分子のプレチルト角も、前述と同様としうる。

このように、画素領域Ｐ１０を、液晶分子の配向状態が異なる５つの領域に分割することで、領域同士の界面量を著しく増やすことなく、視野角を効率的に広げることができる。

図１に示されるように、第一の偏光板４０は、液晶セル２０の第一の基板１００側の面（好ましくはバックライト８０側の面）に配置されており、第一の偏光子４２と、その液晶セル２０とは反対側の面（好ましくはバックライト８０側の面）に配置された保護フィルム４４（Ｆ１）と、液晶セル２０側の面に配置された保護フィルム４６（Ｆ２）とを有する。第二の偏光板６０は、液晶セル２０の第二の基板２００側の面（好ましくは視認側の面）に配置されており、第二の偏光子６２と、その液晶セル２０側の面に配置された保護フィルム６４（Ｆ３）と、液晶セル２０とは反対側の面（好ましくは視認側の面）に配置された保護フィルム６６（Ｆ４）とを有する。第一の偏光板４０の吸収軸Ｄ１と、第二の偏光板６０の吸収軸Ｄ２とは、前述した通り、互いに直交している（図５Ａおよび図５Ｂ参照）。

保護フィルム４６（Ｆ２）と保護フィルム６４（Ｆ３）のうち一方は、必要に応じて省略されてもよい。これは、偏光板の切り出しと液晶セルへの貼り合わせを同時に行うロールｔｏパネル製法によって実現されうる。

保護フィルム４６（Ｆ２）の面内遅相軸と、第一の偏光子４２の吸収軸とは直交していることが好ましく；保護フィルム６４（Ｆ３）の面内遅相軸と、第二の偏光子６２の吸収軸とは直交していることが好ましい。

偏光子（第一の偏光子４２、第二の偏光子６２）は、一定方向の偏波面の光のみを通過させる素子である。偏光子の代表的な例は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムであり、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものと、がある。

偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られるフィルムであってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくはさらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の厚さは、５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることがより好ましい。

ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液から製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能および耐久性能に優れ、色斑が少ないことなどから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましい。エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムの例には、特開２００３−２４８１２３号、特開２００３−３４２３２２号等に記載されたエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のフィルムが含まれる。

二色性色素の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素などが含まれる。

保護フィルム４４（Ｆ１）、４６（Ｆ２）、６４（Ｆ３）および６６（Ｆ４）は、偏光子の面に直接配置されてもよいし、他のフィルムまたは層を介して配置されてもよい。

偏光板（第一の偏光板４０および第二の偏光板６０）は、偏光子（第一の偏光子４２または第二の偏光子６２）の少なくとも一方の面に保護フィルムを貼り合わせるステップを経て得ることができる。偏光子と保護フィルムとの貼り合わせは、接着剤を介して行うことができる。

接着剤は、特に制限されないが、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液や、硬化型接着剤などでありうる。接着剤層の厚みは、０．１〜２０μｍ程度としうる。

偏光子と保護フィルムとの接着性をさらに高めるために、保護フィルムの偏光子との接着面には、易接着層がさらに配置されていてもよい。易接着層は、例えばウレタン系樹脂を主成分として含みうる。ウレタン系樹脂の例には、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタンなどが含まれる。

易接着層の厚みは、好ましくは０．１〜１０μｍであり、より好ましくは０．１〜５μｍであり、さらに好ましくは０．２〜１．５μｍである。易接着層の厚みが１０μｍ超であると、易接着層に位相差が発現することがあり、０．１μｍ未満であると、偏光子と保護フィルムとの十分な接着性が得られにくいことがある。

易接着層は、ウレタン系樹脂と、必要に応じて架橋剤などを含む組成物を、保護フィルム上に塗布および乾燥させて得ることができる。

前述の垂直配向型の液晶セルは、白表示時に高い透過率と開口率とを有する。しかしながら、新たな垂直配向型の液晶セルを含む表示装置は、正面コントラストが十分でないという問題があった。

即ち、正面コントラストは、白表示時の透過率（白輝度）と、黒表示時の透過率（黒輝度）の比（白輝度／黒輝度）として表される。前述の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置は、透過率や開口率が高いため、白表示時の透過率（白輝度）は高い。しかしながら、前述の垂直配向型の液晶セルでは、液晶分子をプレチルトさせているため、黒表示時の透過率（黒輝度）が高くなりやすい。そのため、前述の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置は、従来の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置よりも正面コントラストが低くなることがあった。

即ち、前述の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の正面コントラストを高めるためには、液晶セルの透過率や開口率を高めるだけでなく、黒表示時の透過率（黒輝度）を低くする必要がある。黒表示時の透過率（黒輝度）を低くするためには、保護フィルムＦ２およびＦ３の少なくとも一方；好ましくは保護フィルムＦ３を、Ｒ_０およびＲｔｈが従来よりも高めであり、かつ（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００が一定以上である光学補償フィルムとすることが好ましい。

Ｒ_０およびＲｔｈを従来よりも高めにすることで、新たな垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の黒表示時の斜め方向からの光漏れを低減し、黒輝度を低くすることができる。また、光学補償フィルムの（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００を一定以上にすることで、白表示時に正面方向に直進する光の偏光状態の解消や散乱による損失を低減し、白輝度を高めることができる。それにより、新たな垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の正面コントラストを高めることができる。

２．光学補償フィルム（保護フィルムＦ２またはＦ３）について
保護フィルムＦ２またはＦ３として用いられる光学補償フィルムは、透明な熱可塑性樹脂を含有し、必要に応じて位相差上昇剤などの添加剤をさらに含有していてもよい。

透明な熱可塑性樹脂の例には、セルロースエステル、（メタ）アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂などが含まれ、好ましくはセルロースエステルである。セルロースエステルは、セルロースアセテート（セルロースジアセテートまたはセルローストリアセテート）であることが好ましい。

位相差上昇剤は、特に制限されないが、後述する位相差上昇剤が好ましく用いられる。

セルロースエステルを含む光学補償フィルムは、好ましくはＡ）低アシル基総置換度のセルロースエステルを含む光学補償フィルム、またはＢ）高アシル基総置換度のセルロースエステルと、位相差上昇剤とを含む光学補償フィルムでありうる。

Ａ）低アシル基総置換度のセルロースエステルを含む光学補償フィルム
Ａ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステルは、セルロースの水酸基を、脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸でエステル化して得られる樹脂である。

即ち、セルロースは、多数のβ−グルコース分子がβ−１，４−グリコシド結合により直鎖状に重合した樹脂である。セルロースを構成するグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離のヒドロキシ基（水酸基）を有する。セルロースエステルは、これらのヒドロキシ基（水酸基）の一部または全部を、脂肪族カルボン酸または芳香族カルボン酸でエステル化して得られる樹脂である。

セルロースエステルに含まれるアシル基は、脂肪族アシル基または芳香族アシル基であり、好ましくは脂肪族アシル基である。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、シンナモイル基などが含まれる。芳香族アシル基の例には、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基などが含まれる。

なかでも、セルロースエステルが合成しやすいなどの観点から、好ましくは炭素原子数２〜６の脂肪族アシル基であり、より好ましくは炭素原子数２〜４の脂肪族アシル基である。炭素原子数２〜４の脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基などが含まれ、より好ましくはアセチル基である。

セルロースエステルのアシル基総置換度は、延伸によって高い位相差を発現させるために、好ましくは２．５以下であり、より好ましくは２．０〜２．５であり、さらに好ましくは２．２〜２．５である。セルロースエステルに含まれるアシル基は、全てアセチル基であること（セルロースアセテートであること）が好ましい。

「アシル基置換度」とは、セルロースエステルを構成する全てのグルコース単位のアシル基置換度の和を、グルコース単位の数で除して得られる平均値を示す。アシル基置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

セルロースエステルの例には、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどが含まれ、延伸によって高い位相差を発現しうることから、好ましくはセルロースジアセテートである。セルロースエステルは、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。

セルロースエステルの数平均分子量は、機械的強度が高いフィルムを得るためには、３．０×１０^４〜３．０×１０^５の範囲であることが好ましく、５．０×１０^４〜２．０×１０^５の範囲であることがより好ましい。

セルロースエステルの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、好ましくは１．４〜３．０である。

セルロースエステルの分子量および分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０^６〜５．０×１０^２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。

セルロースエステルは、公知の方法で合成することができる。具体的には、セルロースと、少なくとも酢酸またはその無水物を含む炭素数３以上の有機酸またはその無水物と、を触媒（硫酸など）の存在下でエステル化反応させてセルロースのトリエステル体を合成する。セルロースのトリエステル体では、そのグルコース単位に含まれる３つのヒドロキシル基（水酸基）の水素原子が、有機酸から誘導されるアシル基で置換されている。次いで、セルロースのトリエステル体を加水分解して、所望のアシル置換度を有するセルロースエステルを合成する。得られたセルロースエステルをろ過、沈殿、水洗、脱水および乾燥させて、セルロースエステルを得ることができる（特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参照）。

原料となるセルロースの例には、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）およびケナフなどが含まれる。原料となるセルロースは、一種類だけであってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。

Ａ）の光学補償フィルムは、単層であっても、複数の層の積層物であってもよい。Ａ）の光学補償フィルムの耐湿性を高めたり、セルロースエステルの鹸化液への溶出を抑制したりするためなどから、Ａ）の光学補償フィルムは、低アシル基総置換度のセルロースエステルを含むコア層と、それよりも高いアシル基総置換度のセルロースエステルを含むスキン層とを含む積層物であることが好ましい。

コア層に含まれるセルロースエステルのアシル基総置換度は、延伸によって高い位相差を発現させるためには、前述した通り、好ましくは２．５以下であり、より好ましくは２．０〜２．５であり、さらに好ましくは２．２〜２．５である。セルロースエステルに含まれるアシル基は、全てアセチル基であること（セルロースアセテートであること）が好ましい。

スキン層は、コア層の少なくとも一方の面に配置されうる。スキン層は、コア層に含まれるセルロースエステルよりもアシル基総置換度が高いセルロースエステルを含有する。具体的には、セルロースエステルの鹸化液への溶出を抑制するためなどから、スキン層に含まれるセルロースエステルのアシル基総置換度は、好ましくは２．５超である。延伸によって一定以上の位相差を有するスキン層を得るためには、セルロースエステルのアシル基総置換度は、好ましくは２．９以下としうる。セルロースエステルに含まれるアシル基は、全てアセチル基であること（セルロースアセテートであること）が好ましい。スキン層に含まれるセルロースエステルの数平均分子量は、コア層に含まれるセルロースエステルの数平均分子量と同様としうる。

コア層とスキン層の膜厚の比率は、コア層：スキン層＝４：１〜２０：１としうる。

Ｂ）高アシル基総置換度のセルロースエステルと、位相差上昇剤とを含む光学補償フィルム
Ｂ）の光学補償フィルムは、高アシル基総置換度のセルロースエステルと、位相差上昇剤とを含む。

Ｂ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステルは、アシル基の総置換度がＡ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステルのアシル基の総置換度が異なる以外は同様に定義されうる。Ｂ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステルのアシル基の総置換度は、得られるフィルムの耐湿性を高めたり、セルロースエステルの鹸化液への溶出を抑制したりするためなどから、好ましくは２．７〜３．０である。

Ｂ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステルのアシル基のうち、アセチル基の置換度は、好ましくは２．５以上であり、より好ましくは２．７以上である。炭素原子数３以上の脂肪族アシル基の置換度は、好ましくは０．２以下である。

Ｂ）の光学補償フィルムに含まれるアシル基総置換度が２．７〜３．０のセルロースエステルは、好ましくはトリアセチルセルロースである。

位相差上昇剤
位相差上昇剤は、光学補償フィルムのＲｔｈを高めうることから、円盤状化合物であることが好ましい。円盤状化合物は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物である。芳香族環は、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環でありうる。

芳香族炭化水素環は、好ましくは６員環である。芳香族炭化水素環の例には、ベンゼン環、縮合ベンゼン環などが含まれ、好ましくはベンゼン環である。

芳香族性ヘテロ環は、好ましくは５員環、６員環または７員環であり、より好ましくは５員環または６員環である。芳香族性へテロ環は、一般的には不飽和であり、好ましくは最多の二重結合を有する。芳香族性へテロ環を構成するヘテロ原子は、好ましくは窒素原子、酸素原子または硫黄原子であり、より好ましくは窒素原子または硫黄原子である。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５−トリアジン環などが含まれる。

なかでも、芳香族環は、１，３，５−トリアジン環であることが好ましい。

円盤状化合物に含まれる芳香族環の炭素数は、好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２〜１２であり、さらに好ましくは２〜８である。

円盤状化合物における二つの芳香族環は、（ａ）縮合環を形成してもよいし、（ｂ）単結合で直結していてもよいし、（ｃ）連結基を介して結合していてもよい。

（ａ）の縮合環の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環などが含まれる。なかでも、ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。

（ｃ）の連結基は、二つの芳香族環の炭素原子同士を連結する。そのような連結基の例には、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせなどが含まれる。２以上の連結基が組み合わされた例を、以下に示す。以下の連結基の例において、左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ１０：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ１１：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ１２：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ１３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ１４：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ１５：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

芳香族環や連結基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。

円盤状化合物は、トリアジン化合物またはトリフェニレン化合物であることが好ましく、トリアジン化合物であることがより好ましい。

トリアジン化合物は、一般式（１）で表されることが好ましい。

一般式（１）のＲ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立してアリール基またはヘテロアリール基を示す。アリール基は、好ましくはフェニル基またはナフチル基であり、より好ましくはフェニル基である。ヘテロアリール基は、好ましくはピリジニル基である。

アリール基およびヘテロアリール基は、置換基をさらに有してもよい。置換基の例には、置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル基、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基などが含まれる。

後述するＸ^１〜Ｘ^３が単結合である場合のＲ^１〜Ｒ^３が示すヘテロアリール基は、窒素原子で結合していることが好ましい。窒素原子で結合するヘテロアリール基の具体例を以下に示す。

一般式（１）のＸ^１〜Ｘ^３は、それぞれ独立して単結合または−ＮＲ^４−を示す。Ｒ^４は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはヘテロアリール基を示し、好ましくは水素原子である。

−ＮＲ^４−におけるＲ^４が示すアルキル基は、環状であっても鎖状であってもよく、好ましくは鎖状であり、より好ましくは直鎖状である。アルキル基の炭素数は、好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。

−ＮＲ^４−におけるＲ^４が示すアルケニル基は、環状であっても鎖状であってもよく、好ましくは鎖状であり、より好ましくは直鎖状である。アルケニル基の炭素数は、好ましくは２〜３０であり、より好ましくは２〜２０であり、さらに好ましくは２〜１０である。

アルキル基およびアルケニル基は、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基）およびアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基）などの置換基をさらに有してもよい。

−ＮＲ^４−におけるＲ^４が示すアリール基またはヘテロアリール基は、式（１）におけるＲ^１〜Ｒ^３のアリール基またはヘテロアリール基と同様に定義されうる。

一般式（１）で表される化合物の具体例を以下に示す。

トリフェニレン化合物は、一般式（２）で表されることが好ましい。

一般式（２）のＲ_５〜Ｒ_１０は、それぞれ独立に
水素原子；
アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）；
アルケニル基（好ましくは、炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）；
アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）；
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）；
置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）；
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）；
アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）；
アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）；
アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）；
アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）；
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）；
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）；
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）；
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）；
スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）；
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）；
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）；
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基などが挙げられる）；
アリールチオ基（好ましくは、炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）；
スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）；
スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）；
ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）；
リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）；
ヒドロキシ基；メルカプト基；
ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；
シアノ基；スルホ基；カルボキシル基；ニトロ基；ヒドロキサム酸基；スルフィノ基；ヒドラジノ基；イミノ基；
ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）；
シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが含まれる。

Ｒ_５〜Ｒ_１０は、それぞれ置換基をさらに有していてもよい。置換基の例には、アルキル基、アリール基、置換または未置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはハロゲン原子などが含まれる。

一般式（２）で示される化合物の具体例を以下に示す。

位相差上昇剤の含有量は、セルロースエステルの合計に対して好ましくは０．０５〜２０質量％であり、より好ましくは１．０〜１５質量％であり、さらに好ましくは３．０〜１０質量％である。

光学補償フィルムは、必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子（マット剤）などをさらに含有してもよい。

可塑剤は、通常、得られるフィルムに可とう性を付与する目的で含有されうる。可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（脂肪酸エステル系可塑剤を含む）、およびアクリル系可塑剤などが含まれる。これらは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。

ポリエステル系可塑剤
ポリエステル化合物は、炭素原子数３〜２０のアルキレンジカルボン酸、炭素原子数４〜２０のアルケニレンジカルボン酸および炭素原子数６〜２０のアリールジカルボン酸からなる群より選ばれる一以上のジカルボン酸と；炭素原子数２〜２０のアルキレングリコール、炭素原子数６〜２０のシクロアルキレングリコール、炭素原子数６〜２０のアリールグリコールから誘導される２価の基、または炭素原子数４〜２０のオキシアルキレングリコールとを反応させて得られる化合物である。ポリエステル系可塑剤の末端は、疎水性基で封止されていても、封止されていなくてもよいが、フィルムの耐湿性を高めるためには、末端が封止されていることが好ましい。

即ち、ポリエステル系可塑剤は、下記一般式（４）または（５）で表されることが好ましい。
一般式（４）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
一般式（５）
Ｃ−（Ａ−Ｇ）ｎ−Ａ−Ｃ

一般式（４）のＡは、炭素原子数３〜２０（好ましくは４〜１２）のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基、炭素原子数４〜２０（好ましくは４〜１２）のアルケニレンジカルボン酸から誘導される２価の基、または炭素原子数８〜２０（好ましくは８〜１２）のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基を表す。

Ａにおける炭素原子数３〜２０のアルキレンジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、１,２-エタンジカルボン酸（コハク酸）、１,３-プロパンジカルボン酸（グルタル酸）、１,４-ブタンジカルボン酸（アジピン酸）、１，５−ペンタンジカルボン酸（ピメリン酸）、１，８−オクタンジカルボン酸（セバシン酸）などから誘導される２価の基が含まれる。Ａにおける炭素原子数４〜２０のアルケニレンジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、マレイン酸、フマル酸などから誘導される２価の基が含まれる。Ａにおける炭素原子数８〜２０のアリールジカルボン酸から誘導される２価の基の例には、１,２-ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１,３-ベンゼンジカルボン酸、１,４-ベンゼンジカルボン酸、１,５-ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸などから誘導される２価の基が含まれる。

Ａは、一種類であっても、二種類以上が組み合わされてもよい。なかでも、Ａは、炭素原子数３〜１２のアルキレンジカルボン酸と炭素原子数８〜１２のアリールジカルボン酸との組み合わせが好ましい。

一般式（４）のＧは、炭素原子数２〜２０（好ましくは２〜１２）のアルキレングリコールから誘導される２価の基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキレングリコールから誘導される２価の基、炭素原子数６〜２０（好ましくは６〜１２）のアリールグリコールから誘導される２価の基、または炭素原子数４〜２０（好ましくは４〜１２）のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基を表す。

Ｇにおける炭素原子数２〜２０のアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、エチレングリコール、１,２-プロピレングリコール、１,３-プロピレングリコール、１,２-ブタンジオール、１,３-ブタンジオール、１,２-プロパンジオール、２-メチル-１,３-プロパンジオール、１,４-ブタンジオール、１,５-ペンタンジオール、２,２-ジメチル-１,３-プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２,２-ジエチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールペンタン）、２-ｎ-ブチル-２-エチル-１,３-プロパンジオール（３,３-ジメチロールヘプタン）、３-メチル-１,５-ペンタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、２,２,４-トリメチル-１,３-ペンタンジオール、２-エチル-１,３-ヘキサンジオール、２-メチル-１,８-オクタンジオール、１,９-ノナンジオール、１,１０-デカンジオール、および１,１２-オクタデカンジオール等から誘導される２価の基が含まれる。炭素原子数６〜２０のシクロアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、１，４ーシクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが含まれる。

Ｇにおける炭素原子数６〜２０のアリールグリコールから誘導される２価の基の例には、１,２-ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１,３-ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１,４-ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）、１，４−ベンゼンジメタノールなどから誘導される２価の基が含まれる。

Ｇにおける炭素原子数が４〜２０のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコール、ポリプロピレンエーテルグリコールなどから誘導される２価の基が含まれる。ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコール、ポリプロピレンエーテルグリコールの平均重合度は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜５であり、さらに好ましくは２〜４である。

Ｇは、一種類であっても、二種類以上が組み合わされてもよい。なかでも、Ｇは、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールであることが好ましい。

一般式（４）のＢは、モノカルボン酸から誘導される１価の基である。モノカルボン酸は、芳香環含有モノカルボン酸または脂肪族モノカルボン酸でありうる。

芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシル基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してカルボキシル基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸などから誘導される１価の基が含まれる。

脂肪族モノカルボン酸の炭素原子数は２〜３０でありうる。脂肪族モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される１価の基が含まれる。なかでも、酢酸などのアルキル部分の炭素原子数が１〜３であるアルキルモノカルボン酸から誘導される１価の基が好ましい。

一般式（５）のＡおよびＧは、前述の一般式（４）のＡおよびＧとそれぞれ同様に定義される。

一般式（５）のＣは、モノアルコールから誘導される１価の基である。モノアルコールは、芳香環含有モノアルコールまたは脂肪族モノアルコールでありうる。

芳香環含有モノアルコールから誘導される１価の基における芳香環含有モノアルコールは、分子内に芳香環を含有するアルコールであり、芳香環がＯＨ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してＯＨ基と結合したものも含む。芳香環含有モノアルコールから誘導される１価の基の例には、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどから誘導される１価の基が含まれる。

脂肪族モノアルコールの炭素原子数は１〜３０でありうる。脂肪族モノアルコールから誘導される１価の基の例には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、ｔｅｒｔ−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどから誘導される１価の基が含まれる。なかでも、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素原子数１〜３のアルコールから誘導される１価の基が好ましい。

ポリエステル系可塑剤の具体例を以下に示す。以下の表において、ＰＡ：フタル酸、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＩＰＡ：イソフタル酸、ＡＡ：アジピン酸、ＳＡ：コハク酸、２，６−ＮＰＡ：２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ＮＰＡ：２，８−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ＮＰＡ：１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ＮＰＡ：１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ＮＰＡ：１，８−ナフタレンジカルボン酸を示す。

多価アルコールエステル系可塑剤は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル系化合物は、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

多価アルコールエステル系可塑剤の具体例を以下に示す。２価のアルコールエステル系可塑剤の例には、以下のものが含まれる。

多価カルボン酸エステル系可塑剤は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸または３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。

多価カルボン酸の例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などが含まれ、フィルムからの揮発を抑制するためには、オキシ多価カルボン酸が好ましい。

アルコール化合物の例には、直鎖もしくは側鎖を有する脂肪族飽和アルコール化合物、直鎖もしくは側鎖を有する脂肪族不飽和アルコール化合物、脂環式アルコール化合物または芳香族アルコール化合物などが含まれる。脂肪族飽和アルコール化合物または脂肪族不飽和アルコール化合物の炭素数は、好ましくは１〜３２であり、より好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂環式アルコール化合物の例には、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどが含まれる。芳香族アルコール化合物の例には、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどが含まれる。

多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００であることが好ましく、３５０〜７５０であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きいほうが好ましく；透湿性やセルロースエステルとの相溶性の観点では、小さいほうが好ましい。

多価カルボン酸エステル系可塑剤の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。

多価カルボン酸エステル系可塑剤は、フタル酸エステル系可塑剤であってもよい。フタル酸エステル系可塑剤の例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。

グリコレート系可塑剤の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれる。

エステル系可塑剤には、脂肪酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤やリン酸エステル系可塑剤などが含まれる。

脂肪酸エステル系可塑剤の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、およびセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル系可塑剤の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、およびクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル系可塑剤の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、およびトリブチルホスフェート等が含まれる。

（メタ）アクリル系可塑剤は、（メタ）アクリレートモノマーと、それと共重合可能なモノマーとの共重合体であることが好ましい。

（メタ）アクリレートモノマーは、好ましくはアルキル部分の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリレートであり、より好ましくはメチルメタクリレートである。共重合可能なモノマーの例には、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルなどの水酸基を有するアルキル（メタ）アクリレート；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アゾビスイソブチロニトリルなどのα，β−不飽和ニトリル；スチレンモノマーなどが含まれる。共重合体における（メタ）アクリレート由来の構成単位の含有割合は５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、それと共重合可能なモノマーとの共重合体は、側鎖にアルキル基やポリエーテル基、ポリエステル基、水酸基、エポキシ基等の置換基をさらに有していてもよい。

（メタ）アクリル系可塑剤の重量平均分子量Ｍｗは、５００〜５００００であることが好ましい。

（メタ）アクリル系可塑剤の重量平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は、以下の通りとしうる。
溶媒：メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

可塑剤の含有量は、光学補償フィルムに含まれる前述の熱可塑性樹脂の合計に対して１〜４０質量％であることが好ましい。可塑剤を、波長分散の調整に用いる場合、可塑剤の含有量は、前述の熱可塑性樹脂の合計に対して２〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。

微粒子（マット剤）
光学補償フィルムは、表面の滑り性を高めるためなどから、微粒子（マット剤）をさらに含有してもよい。

微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。無機微粒子の例には、二酸化珪素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムなどが含まれる。なかでも、二酸化珪素や酸化ジルコニウムが好ましく、得られるフィルムのヘイズの増大を少なくするためには、より好ましくは二酸化珪素である。

二酸化珪素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ５０、ＫＥ−Ｐ１００（以上日本触媒（株）製）などが含まれる。なかでも、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０、シーホスターＫＥ−Ｐ３０などが、得られるフィルムの濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させうるため特に好ましい。

微粒子の一次粒子径は、５〜５０ｎｍであることが好ましく、７〜２０ｎｍであることがより好ましい。一次粒子径が大きいほうが、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子またはその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０万〜２００万倍で一次粒子または二次凝集体を観察し、一次粒子または二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。

微粒子の含有量は、前述の熱可塑性樹脂の合計に対して０．０５〜１．０質量％であることが好ましく、０．１〜０．８質量％であることがより好ましい。

光学補償フィルムの物性
前述の通り、本発明の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の正面コントラストを高めるためには、黒輝度を低くし、白輝度を高くすることが好ましい。黒表示時の斜め方向からの光漏れを低減して黒輝度を低くするためには、保護フィルムＦ２およびＦ３の少なくとも一方に用いられる光学補償フィルムの、面内方向のレターデーションＲ_０と厚み方向のレターデーションＲｔｈを、従来よりも高めの範囲にすることが好ましい。

具体的には、光学補償フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される面内方向のレターデーションＲ_０は、（１）６０ｎｍ≦Ｒ０≦８０ｎｍを満たすことが好ましく、６０ｎｍ≦Ｒ_０≦７０ｎｍを満たすことがより好ましい。光学補償フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される厚み方向のレターデーションＲｔｈは、（２）２８０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍを満たすことが好ましく、３００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３６０ｎｍを満たすことがより好ましい。

Ｒ_０およびＲｔｈは、セルロースアセテートのアシル基の総置換度、位相差上昇剤または延伸条件などによって調整することができる。Ｒ_０、Ｒｔｈを大きくするためには、例えばセルロースアセテートのアシル基の総置換度を低くしたり、位相差上昇剤を添加したりすればよい。Ｒ_０を大きくするためには延伸倍率を大きくすればよく、Ｒｔｈを大きくするためには、例えば、延伸温度を低くしたり、フィルムの膜厚を大きくしたりすればよい。

また、白表示時に正面方向に直進する光の偏光状態の解消や散乱による損失を低減して白輝度を高めるためには、光学補償フィルムの厚み方向のレターデーションＲｔｈとフィルム厚みｄとの比（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００を一定以上にすること；具体的には（３）（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００を３以上とすることが好ましく、３．２以上にすることがより好ましい。（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００の上限値は、６．０程度としうる。

（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００も、前述と同様に、セルロースアセテートのアシル基総置換度、位相差上昇剤または延伸条件などによって調整することができる。（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００を大きくするためには、例えば、セルロースアセテートのアシル基総置換度を低くしたり、位相差上昇剤を添加したり、光学補償フィルムの厚みｄ（ｎｍ）を小さくしたりすればよい。低アシル基総置換度のセルロースエステルを含むフィルムは、延伸によって、薄いフィルム厚みｄであっても、高いレターデーションＲｔｈを発現しうる。

レターデーションＲ_０およびＲｔｈは、それぞれ以下の式で定義される。
式（Ｉ）：Ｒ_０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、光学補償フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
ｎｙは、光学補償フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
ｎｚは、光学補償フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
ｄ（ｎｍ）は、光学補償フィルムの厚みを表す）

レターデーションＲ_０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって求めることができる。
１）光学補償フィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿する。調湿後の光学補償フィルムの平均屈折率をアッベ屈折計などで測定する。
２）調湿後の光学補償フィルムに、フィルム法線方向から測定波長４５０ｎｍ、５９０ｎｍ、６３０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときのＲ_０を、ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株）にて測定する。
３）ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、光学補償フィルムの面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、光学補償フィルムの表面の法線に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定する。レターデーション値Ｒ（θ）の測定は、θが０°〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行うことができる。光学補償フィルムの面内の遅相軸は、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより確認することができる。
４）測定されたＲ_０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長５９０ｎｍでのＲｔｈを算出する。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。

光学補償フィルムの面内遅相軸とフィルムの幅方向とのなす角θ１（配向角）は、好ましくは−５°〜＋５°であり、より好ましくは−１°〜＋１°であり、さらに好ましくは−０．５°〜＋０．５°であり、特に好ましくは−０．１°〜＋０．１°である。光学補償フィルムの配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて測定することができる。配向角は、延伸条件などによって調整されうる。

光学補償フィルムの厚みは、前述の（３）（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００≧３を満たす範囲であればよく、熱や湿度によるレターデーションの変動を少なくするためなどから、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下であり、さらに好ましくは９５μｍ以下である。一方、光学補償フィルムの厚みは、保護フィルムとして機能しうるフィルム強度やレターデーションを得るためには、好ましくは１０μｍ以上であり、より好ましくは２０μｍ以上であり、さらに好ましくは４０μｍ以上としうる。光学補償フィルムの厚みは、特に好ましくは４０〜９５μｍである。

光学補償フィルムの、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定されるヘイズは、好ましくは１．０％未満であり、より好ましくは０．２％以下であり、さらに好ましくは０．１％以下である。

光学補償フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法；具体的には、２３℃５５％ＲＨの条件下にて、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ ２０００、日本電色（株）製）にて測定することができる。ヘイズメーターの光源は、５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）としうる。

光学補償フィルムの可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。

保護フィルムＦ２またはＦ３の一方（好ましくは保護フィルムＦ３）が、前述の光学補償フィルムである場合、他方（好ましくは保護フィルムＦ２）は、前述の光学補償フィルム以外の他の光学補償フィルムであってもよい。

他の光学補償フィルムは、透明な熱可塑性樹脂を含有し、所望の光学特性を持たせたり、耐水性を付与したりする観点から、前述の（メタ）アクリル系可塑剤またはポリエステル系可塑剤をさらに含有することが好ましい。

他の光学補償フィルムに含まれる透明な熱可塑性樹脂は、前述の光学補償フィルムと同様の熱可塑性樹脂であってよい。フィルムの透明性や等方性に優れることから、好ましくはセルロースエステルまたは（メタ）アクリル樹脂である。

セルロースエステルは、前述のＢ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステル（高アシル基総置換度のセルロースエステル）と同様としうる。

（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体、または（メタ）アクリル酸エステルと他の共重合モノマーとの共重合体でありうる。（メタ）アクリル酸エステルは、好ましくはメチルメタクリレートである。共重合体におけるメチルメタクリレート由来の構成単位の含有割合は５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。

共重合体における共重合体モノマーの例には、アルキル部分の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート；アルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート；後述のラクトン環構造を形成しうる、水酸基を有するアルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキル（メタ）アクリレート；アクリル酸、メタクリル酸などのα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和基含有二価カルボン酸；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのα，β−不飽和ニトリル；無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物など、アクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）などのアクリルアミド誘導体；Ｎ−ビニルピロリドン（ＶＰ）などが含まれる。これらは、一種類で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

なかでも、共重合体の耐熱分解性や流動性を高めるためには、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレートなどのアルキルアクリレート；２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルなどの水酸基を有するアルキル（メタ）アクリレートが好ましい。セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、アクリロイルモルホリンなどが好ましい。

（メタ）アクリル樹脂は、得られる光学補償フィルムの耐熱性を高めたり、光弾性係数を調整したりする観点などから、ラクトン環構造を含有することが好ましい。（メタ）アクリル樹脂に含まれるラクトン環構造は、好ましくは下記一般式（６）で表される。

式（６）において、Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を示す。有機残基は、酸素原子を含んでいてもよい。有機残基の例には、直鎖もしくは分岐状のアルキル基、直鎖もしくは分岐状のアルキレン基、アリール基、−ＯＡｃ基（Ａｃはアセチル基）、−ＣＮ基などが含まれる。式（１）で示されるラクトン環構造は、後述するように、水酸基を有するアルキル（メタ）アクリレートに由来する構造である。

ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂は、アルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位をさらに含み、必要に応じて水酸基を含有するモノマー、不飽和カルボン酸、一般式（７）で表されるモノマーなどに由来する構成単位をさらに含んでいてもよい。一般式（７）におけるＲ^４は、水素原子またはメチル基を示す。Ｘは、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基（Ａｃ：アセチル基）、−ＣＮ基、アシル基または−Ｃ−ＯＲ基（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０の有機残基）を示す。

ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、式（６）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％であり、より好ましくは１０〜８０質量％であり、さらに好ましくは１５〜７０質量％である。ラクトン環構造の含有割合が９０質量％超であると、成形加工性が低く、得られるフィルムの可とう性も低くなりやすい。ラクトン環構造の含有割合が５質量％未満であると、必要な位相差を有するフィルムが得られにくく、耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が十分でないことがある。

ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、アルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位の含有割合は、好ましくは１０〜９５質量％であり、より好ましくは２０〜９０質量％であり、さらに好ましくは３０〜８５質量％である。

ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、水酸基含有モノマー、不飽和カルボン酸または一般式（７）で表されるモノマーに由来する構成単位の含有割合は、それぞれ独立に好ましくは０〜３０質量％であり、より好ましくは０〜２０質量％であり、さらに好ましくは０〜１０質量％である。

ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂は、少なくとも、水酸基を有するアルキル（メタ）アクリレートと、それ以外のアルキル（メタ）アクリレートとを含むモノマー成分を重合反応させて、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体を得るステップ；得られた重合体を加熱処理してラクトン環構造を導入するステップ、を経て製造されうる。

（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは８．０×１０^４〜５．０×１０^５の範囲内であり、より好ましくは９．０×１０^４〜４．５×１０^５の範囲内であり、さらに好ましくは１．０×１０^５〜４．０×１０^５の範囲内である。（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗが８．０×１０^４未満であると、得られるフィルムの脆性が高すぎることがあり、５．０×１０^５超であると、溶融物の粘度が高すぎたり、得られるフィルムのヘイズが高かったりする。

（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下の通りである。
溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用する）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝２８０００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

他の光学補償フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される面内方向のレターデーションＲ_０は、（４）０ｎｍ≦Ｒ_０≦５ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒ_０≦３ｎｍを満たすことがより好ましい。光学補償フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される厚み方向のレターデーションＲｔｈは、（５）−１０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１０ｎｍを満たすことが好ましく、−７ｎｍ≦Ｒｔｈ≦７ｎｍを満たすことがより好ましい。

光学補償フィルムの製造方法
光学補償フィルムは、溶液流延法または溶融流延法で製造され、好ましくは溶液流延法により製造されうる。

セルロースエステルを含む光学補償フィルムを溶液流延法で製造する方法は、１）少なくともセルロースエステルと、必要に応じて他の添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する工程、２）ドープを無端の金属支持体上に流延する工程、３）流延したドープから溶媒を蒸発させてウェブとする工程、４）ウェブを金属支持体から剥離する工程、５）ウェブを乾燥後、延伸してフィルムを得る工程を含む。

１）ドープ調製工程
溶解釜において、セルロースエステルと、必要に応じて他の添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する。

ドープの調製に用いられる溶剤は、セルロースエステルを溶解するものであれば、特に制限されない。そのような溶剤の例には、塩化メチレンなどの塩素系有機溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、乳酸エチル、乳酸、ジアセトンアルコールなどの非塩素系有機溶媒などが含まれ、好ましくは塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、乳酸エチルである。

ドープの調製に用いられる溶剤は、前述した以外の他の溶剤をさらに含有してもよい。そのような他の溶剤の例には、炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールが含まれる。炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールの例には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどが含まれ、沸点が比較的低く、乾燥しやすいことなどから、好ましくはエタノールである。

他の溶剤の含有量は、溶剤全体に対して１〜４０質量％としうる。他の溶剤の含有割合を高めにすると、得られるウェブがゲル化しやすいため、金属支持体から剥離しやすい。一方、ドープ中の他の溶剤の含有割合を低めにすると、溶剤が非塩素系有機溶媒である場合に、セルロースエステルを溶解させやすい。

溶剤として、メチレンクロライドと、炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとを含有するドープ中の熱可塑性樹脂の含有量は、１０〜４５質量％であることが好ましい。

セルロースエステルの溶解は、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上かつ加圧下で行う方法、特開平９−９５５４４号、特開平９−９５５５７号または特開平９−９５５３８号に記載された冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号に記載の高圧下で行う方法などであってよく、特に主溶媒の沸点以上かつ加圧下で行う方法が好ましい。

２）流延工程
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無端状の金属支持体（例えばステンレスベルトや回転する金属ドラムなど）上に、加圧ダイのスリットから流延させる。

ダイは、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一に調整しやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイの例には、コートハンガーダイ、Ｔ−ダイなどが含まれる。金属ベルトの表面は、鏡面加工されていることが好ましい。

３）溶媒蒸発工程
ウェブ（ドープを金属支持体上に流延して得られるドープ膜）を金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる。

ウェブの乾燥は、４０〜１００℃の雰囲気下で行うことが好ましい。ウェブを４０〜１００℃の雰囲気下で乾燥させるためには、４０〜１００℃の温風をウェブ上面に当てたり、赤外線などで加熱したりすることが好ましい。

溶媒を蒸発させる方法としては、ウェブの表面に風を当てる方法、ベルトの裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法などがあるが、乾燥効率が高いことから、ベルトの裏面から液体により伝熱させる方法が好ましい。

得られるウェブの面品質や透湿性、剥離性などを高める観点から、流延後、３０〜１２０秒以内で、ウェブを金属支持体から剥離することが好ましい。

４）剥離工程
金属支持体上で溶媒を蒸発させたウェブを、金属支持体上の剥離位置で剥離する。金属支持体上の剥離位置における温度は、好ましくは１０〜４０℃であり、さらに好ましくは１１〜３０℃である。

金属支持体上の剥離位置で剥離する際のウェブの残留溶媒量は、乾燥条件や金属支持体の長さなどにもよるが、５０〜１２０質量％とすることが好ましい。残留溶媒量が多いウェブは、柔らか過ぎて平面性を損ないやすく、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易い。そのようなツレや縦スジを抑制できるように、剥離位置でのウェブの残留溶媒量が設定されうる。
ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を意味する。

金属支持体からウェブを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍであるが、剥離の際に皺が入り易い場合には１９０Ｎ／ｍ以下とすることが好ましく、１６６．６Ｎ／ｍ以下とすることがより好ましく、１３７．２Ｎ／ｍ以下とすることがさらに好ましく、１００Ｎ／ｍ以下とすることが特に好ましい。

金属支持体上の剥離位置におけるウェブの温度は、−５０〜４０℃であることが好ましく、１０〜４０℃であることがより好ましく、１５〜３０℃であることがさらに好ましい。

５）乾燥および延伸工程
金属支持体から剥離して得られたウェブを乾燥させた後、延伸する。ウェブの乾燥は、ウェブを、上下に配置した多数のロールにより搬送しながら乾燥させてもよいし、ウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。

ウェブの乾燥方法は、熱風、赤外線、加熱ロールおよびマイクロ波等で乾燥する方法であってよく、簡便であることから熱風で乾燥する方法が好ましい。ウェブの乾燥温度は、４０〜２５０℃、好ましくは４０〜１６０℃である。高温での乾燥は、ウェブの残留溶媒量が８質量％以下で行うことが好ましい。

ウェブの延伸により、所望のレターデーションを有する光学補償フィルムを得る。光学補償フィルムのレターデーションは、ウェブに掛かる張力の大きさを調整することで制御することができる。

ウェブの延伸は、幅方向（ＴＤ方向）、ドープの流延方向（ＭＤ方向）、または斜め方向の延伸であり、少なくとも幅方向（ＴＤ方向）に延伸することが好ましい。ウェブの延伸は、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。二軸延伸は、好ましくはドープの流延方向（ＭＤ方向）と幅方向（ＴＤ方向）への延伸である。二軸延伸は、逐次二軸延伸であっても同時二軸延伸であってもよい。

逐次二軸延伸には、延伸方向の異なる延伸を順次行う方法や、同一方向の延伸を多段階に分けて行う方法などが含まれる。逐次二軸延伸の例には、以下のような延伸ステップが含まれる。
流延方向（ＭＤ方向）に延伸−幅方向（ＴＤ方向）に延伸−流延方向（ＭＤ方向）に延伸−流延方向（ＭＤ方向）に延伸
幅方向（ＴＤ方向）に延伸−幅方向に延伸（ＴＤ方向）−流延方向（ＭＤ方向）に延伸−流延方向（ＭＤ方向）に延伸

同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方の方向の張力を緩和して収縮させる態様も含まれる。

延伸倍率は、得られる光学補償フィルムの膜厚や、求められるレターデーション値にもよるが、各方向に１．０１〜１．５倍であることが好ましい。ウェブの幅方向（ＴＤ方向）のみに延伸しても、得られる光学補償フィルムの流延方向（ＭＤ方向）の延伸倍率が０．９５〜１．１倍程度となることもある。

ウェブの延伸方法は、特に制限されず、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して流延方向（ＭＤ方向）に延伸する方法（ロール延伸法）、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を流延方向（ＭＤ方向）に向かって広げて流延方向（ＭＤ方向）に延伸したり、幅方向（ＴＤ方向）に広げて幅方向（ＴＤ方向）に延伸したり、流延方向（ＭＤ方向）と幅方向（ＴＤ方向）の両方に広げて流延方向（ＭＤ方向）と幅方向（ＴＤ方向）の両方に延伸する方法（テンター延伸法）などが挙げられる。これらの延伸方法は、組み合わせてもよい。

テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましい。延伸後のウェブの残留溶媒量は、延伸後の乾燥時間を短縮するためなどから、好ましくは１０質量％以下とし、より好ましくは５質量％以下としうる。

延伸温度は、３０〜１６０℃が好ましく、５０〜１５０℃がより好ましく、７０〜１４０℃であることがさらに好ましい。

３．保護フィルムＦ１またはＦ４について
保護フィルムＦ１またはＦ４は、保護フィルムＦ２またはＦ３として用いられる光学補償フィルムと同様の透明な熱可塑性樹脂を含有しうる。透明な熱可塑性樹脂の例には、セルロースエステル、（メタ）アクリル樹脂などが含まれ、好ましくはセルロースエステルである。

セルロースエステルは、前述のＢ）の光学補償フィルムに含まれるセルロースエステルと同様としうる。保護フィルムＦ１またはＦ４に含まれるセルロースエステルのアシル基の総置換度は、温度や湿度などの環境条件の変化によるフィルムの収縮を抑制するためには、２．７〜３．０であることが好ましく、２．７５〜２．９０であることがより好ましい。アシル基の総置換度が上記範囲のセルロースエステルは、耐湿性が高いからである。保護フィルムＦ１またはＦ４に含まれるセルロースエステルは、好ましくはトリアセチルセルロースである。

保護フィルムＦ１またはＦ４は、フィルムの耐湿性を高めるためなどから、ポリエステル系可塑剤をさらに含有することが好ましい。ポリエステル系可塑剤は、保護フィルムＦ２またはＦ３として用いられる光学補償フィルムに含まれうるポリエステル系可塑剤と同様としうる。

前述の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置では、輝度ムラが生じやすいという問題もあった。即ち、バックライトを一定時間点灯させると、バックライトの熱などにより、偏光子（図１では特に第一の偏光子４２）が収縮し；偏光子の収縮する力が液晶セルに加わり、液晶セルの反りを生じる。液晶セルの反りは、バックライト側に凸となるように生じやすい。そのような液晶セルの反りは、表示装置の輝度ムラを生じる。

特に、本発明の垂直配向型の液晶セルは、白表示時に、液晶層に入射する光を効率よく旋光させて透過率を高めるために、従来の垂直配向型の液晶セルよりも高い△ｎｄを有する。そのため、液晶セルに加わる力（偏光子が収縮する力）によって、液晶分子が傾いたときに生じる光漏れの量が多く、輝度ムラとして目立ちやすいと考えられる。

そこで、前述の通り、表示装置の輝度ムラを抑制するためには、保護フィルムＦ１の、第一の偏光子４２の吸収軸と平行な方向α１の引張弾性率を、保護フィルムＦ１の、方向α１に対して直交する方向β１の引張弾性率よりも大きくするか；あるいは保護フィルムＦ４の、第二の偏光子６２の吸収軸と平行な方向α２の引張弾性率を、保護フィルムＦ４の、方向α２に対して直交する方向β２の引張弾性率よりも大きくすることが好ましい。

具体的には、保護フィルムＦ１の方向α１（または保護フィルムＦ４の方向α２）の引張弾性率は、第一の偏光子４２（または第二の偏光子６２）が収縮しようとする力に抵抗できる程度であればよく、好ましくは２〜１０ＭＰａであり、より好ましくは３〜７ＭＰａである。

即ち、偏光子は、バックライトの熱により含水量が少なくなると、吸収軸方向に収縮しやすい。これに対して、第一の偏光子４２と隣接する保護フィルムＦ１（または第二の偏光子６２と隣接する保護フィルムＦ４）の、第一の偏光子４２（または第二の偏光子６２）の吸収軸と平行な方向α１（または方向α２）の引張弾性率を大きくすることで、第一の偏光子４２（または第二の偏光子６２）の収縮しようとする力に抵抗することができる。それにより、第一の偏光子４２（または第二の偏光子６２）の収縮する力を、液晶セルに加わりにくくし、表示装置の輝度ムラを抑制しうる。

保護フィルムＦ１またはＦ４の引張弾性率は、フィルム製造工程における延伸倍率などによって調整されうる。例えば、フィルム製造工程における保護フィルムＦ１またはＦ４の搬送方向（方向α１または方向α２）の延伸倍率を、フィルムの幅方向（方向β１または方向β２）の延伸倍率よりも高くすればよい。具体的には、保護フィルムＦ１またはＦ４の搬送方向（方向α１または方向α２）の延伸倍率を１〜１５％程度とし；フィルムの幅方向（方向β１または方向β２）の延伸倍率を０〜５％程度とすればよい。そして、保護フィルムＦ１またはＦ４の延伸倍率が高い方向（方向α１または方向α２）と、偏光子の吸収軸方向とが平行になるように、保護フィルムＦ１またはＦ４を配置すればよい。

保護フィルムＦ１（または保護フィルムＦ４）の引張弾性率は、ＪＩＳ Ｋ７１６１に準拠した方法で測定できる。保護フィルムＦ１の方向α１の引張弾性率は、以下のように測定される。
１）フィルムをカットして、巾（保護フィルムＦ１の遅相軸方向α１に対して直交する方向β１）１０ｍｍ、長さ（保護フィルムＦ１の遅相軸方向α１）１００ｍｍの短冊状の試料片を準備する。
２）ＪＩＳ Ｋ７１６１に準拠して、引張試験機によりチャック間距離５０ｍｍ、引張速度５０ｍｍ／分の条件で試料片の遅相軸方向α１の引張弾性率を測定する。

保護フィルムＦ１の方向β１の引張弾性率は、以下のように測定される。
１）巾（保護フィルムＦ１の遅相軸方向α１）１０ｍｍ、長さ（保護フィルムＦ１の遅相軸方向α１に対して直交する方向β１）１００ｍｍの短冊状の試料片を準備する。
２）試料片の、遅相軸方向α１に対して直交する方向β１の引張弾性率を測定する以外は前述と同様としうる。引張弾性率の測定は、いずれも温度２３℃、湿度５５％の条件下で行うことができる。

保護フィルムＦ１およびＦ４の少なくとも一方が、前述のような引張弾性率を満たすことが好ましい。好ましくは保護フィルムＦ１；より好ましくは保護フィルムＦ１およびＦ４の両方が、前述のような引張弾性率を満たすことが好ましい。

保護フィルムＦ１またはＦ４の厚みは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍであり、より好ましくは１０〜７０μｍである。

本発明では、前述の通り、保護フィルムＦ２およびＦ３の少なくとも一方を、Ｒ_０、Ｒｔｈおよび（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００が所定の範囲に調整された光学補償フィルムとする。それにより、前述の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置の正面コントラストを高めることができる。

また、保護フィルムＦ１（またはＦ４）の、隣接する第一の偏光子（または第二の偏光子）の吸収軸と平行な方向α１（または方向α２）における引張弾性率を、それと直交する方向β１（または方向β２）における引張弾性率よりも高くすることができる。それにより、前述の垂直配向型の液晶セルを含む表示装置における輝度ムラを抑制することができる。

さらに、保護フィルムＦ２を、ラクトン構造を有する（メタ）アクリル樹脂を含有するフィルムとすることで、セルロースエステルを含有するフィルムとするよりも、表示装置の湿度や熱による表示ムラを抑制することもできる。

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。

１．フィルムの材料
１）熱可塑性樹脂
セルロースエステル１：セルロースジアセテート（アセチル基置換度２．４５、数平均分子量Ｍｎ＝６００００）
セルロースエステル２：セルローストリアセテート（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、数平均分子量Ｍｎ＝１４００００）
ラクトン環含有（メタ）アクリル樹脂：下記一般式（６）中、Ｒ^１は水素原子であり、Ｒ^２およびＲ^３はメチル基であるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂、共重合モノマー重量比＝メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、重量平均分子量Ｍｗ＝１３３０００、２４０℃、１０ｋｇｆ条件下でのメルトフローレート＝６．５ｇ／１０分、Ｔｇ＝１３１℃

アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂：東洋スチレン社製 トーヨーＡＳ ＡＳ２０

２）位相差上昇剤
トリアジン系化合物Ａ

３）可塑剤
ポリエステル系化合物Ａ

下記のようにして合成した（メタ）アクリル系化合物Ａ
（（メタ）アクリル系化合物Ａの合成）
攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管および温度計の付いたガラスフラスコに、ＭＭＡ（メタクリル酸メチル）：８０質量部、ＨＥＡ（β−ヒドロキシエチルアクリレート）：２０質量部の比率で混合されたモノマー混合液４０ｇ、連鎖移動剤であるメルカプトプロピオン酸３．０ｇ、およびトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、上記と同じモノマー混合液６０ｇを３時間かけて滴下し、かつ同時にもう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを３時間かけて滴下した。その後、得られた溶液に、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間かけてさらに滴下した後、２時間反応を継続させて、（メタ）アクリル系化合物Ａを得た。

（メタ）アクリル系化合物Ａの重量平均分子量Ｍｗを下記方法により測定したところ、８０００であった。

分子量の測定
重量平均分子量の測定は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定した。測定条件は、以下の通りとした。
溶媒：メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いた。

２．フィルムの製造
（製造例１）
微粒子分散希釈液１の調製
下記成分を、ディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散させて、微粒子分散液１を得た。
（微粒子分散液１の組成）
微粒子（アエロジル Ｒ８１２ 日本アエロジル（株）製）：１１質量部
エタノール：８９質量部

次いで、メチレンクロライドを入れた溶解タンクに、微粒子分散液１を十分攪拌しながらゆっくりと添加した後、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散させた。得られた溶液を、日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過して、微粒子分散希釈液１を得た。
（微粒子分散希釈液１の組成）
メチレンクロライド：９９質量部
微粒子分散液１：５質量部

コア層用ドープの調製
まず、加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加し、セルロースエステル１（アセチル基置換度２．４５）、上記ポリエステル系化合物Ａ、上記トリアジン系化合物Ａ、および微粒子分散希釈液１を攪拌しながら投入した。得られた溶液を加熱し、攪拌しながら完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、下記組成のコア層用ドープ液を得た。
（コア層用ドープ液の組成）
メチレンクロライド：３４０質量部
エタノール：６４質量部
セルロースエステル１（セルロースジアセテート、アセチル基置換度２．４５、Ｍｎ＝６００００）：１００質量部
ポリエステル系化合物Ａ：１２質量部
トリアジン系化合物Ａ：２質量部
微粒子分散希釈液１：１質量部

スキン層用ドープの調製
コア層用ドープ液の組成を、下記のように変更した以外は同様にしてスキン層用ドープ液を調製した。
（スキン層用ドープ液の組成）
メチレンクロライド：３４０質量部
エタノール：６４質量部
セルロースエステル２（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、Ｍｎ＝１４００００）：９０質量部
ポリエステル系化合物Ａ：１２質量部

得られたコア層用ドープ液と、スキン層用ドープ液とを、バンド流延機にて共流延させた。具体的には、走行するバンド上に、流延ダイからスキン層用ドープ液／コア層用ドープ液／スキン層用ドープ液の順に積層されるように同時多層流延させた。

バンド上で流延したドープ膜を、残留溶剤量が約３０質量％となるまで乾燥させた後、バンドから剥ぎ取ってウェブを得た。得られたウェブを、テンターにて１６０℃、延伸倍率４５％でウェブの幅方向（ＴＤ方向）に延伸し、さらに搬送しながら１２０℃で乾燥させ、スキン層／コア層／スキン層の３層構造を有するフィルム１０１を得た。得られたフィルムの総厚みは７２μｍであり、各層の厚みはスキン層／コア層／スキン層＝２μｍ／６８μｍ／２μｍであった。

（製造例２〜６および９〜１３）
延伸条件およびフィルム厚みを表３に示されるように変更した以外は製造例１と同様にしてフィルム１０２〜１０６および１０９〜１１３を得た。フィルム厚みは、延伸前のウェブ厚みまたは延伸条件によって調整した。

（製造例７）
ドープ液１の調製
下記組成のドープ液１を、製造例１と同様にして調製した。
（ドープ液１の組成）
メチレンクロライド：３４０質量部
エタノール：６４質量部
セルロースエステル１（セルロースジアセテート、アセチル基置換度２．４５、Ｍｎ＝６００００）：１００質量部
ポリエステル系化合物Ａ：１２質量部
トリアジン系化合物Ａ：２質量部
微粒子分散希釈液１：１質量部

得られたドープ液１のみを、バンド流延機のバンド上に流延させた以外は製造例１と同様にして単層のウェブを得た。得られたウェブを、表３に示される延伸条件で延伸した以外は、製造例１と同様にしてフィルム１０７を得た。得られたフィルムの厚みは６８μｍであった。

（製造例８）
下記組成のドープ液２を、製造例１と同様にして調製した。
（ドープ液２の組成）
メチレンクロライド：３４０質量部
エタノール：６４質量部
セルロースエステル２（セルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８、Ｍｎ＝１４００００）：１００質量部
ポリエステル系化合物Ａ：１２質量部
トリアジン系化合物Ａ：１０質量部
微粒子分散希釈液１：１質量部

得られたドープ液２のみを、バンド流延機のバンド上に流延させた以外は製造例１と同様にして、単層のウェブを得た。得られたウェブを、表３に示される延伸条件で延伸した以外は製造例１と同様にしてフィルム１０８を得た。得られたフィルム１０８の厚みは７２μｍであった。

（製造例１４）
微粒子分散希釈液２の調製
下記成分をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散させて、微粒子分散液２を得た。
（微粒子分散液２の組成）
アエロジルＲ８１２（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均径７ｎｍ）：１０質量部
エタノール：９０質量部

得られた微粒子分散液２に、８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合させた。得られた溶液を、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して、微粒子分散希釈液２を得た。

ドープ液３の調製
下記成分を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を用いて濾過し、ドープ液を得た。
（ドープ液３の組成）
メチレンクロライド：４３２質量部
エタノール：３８質量部
セルロースエステル２（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度２．８８）：９０質量部
（メタ）アクリル系化合物Ａ：１０質量部
微粒子分散希釈液２：４質量部

得られたドープ液３を、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶剤を蒸発させてウェブとした後、ウェブをステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃で溶剤を蒸発させ、１．６５ｍ幅にスリットし、テンターで幅保持し１６０℃の乾燥温度（熱処理温度または延伸温度ともいう）で乾燥させて、未延伸フィルムを得た。乾燥を始めたときの残留溶剤量は２０％であった。

得られた未延伸フィルムを、１２０℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら１５分間乾燥させた後、フィルム両端に幅１５ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、厚さ４０μｍのフィルム１１４を得た。フィルム１１４の残留溶剤量は０．２％であり、巻数は６０００ｍであった。

（製造例１５）
上記ラクトン環含有（メタ）アクリル樹脂：９０質量部と、上記アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂（東洋スチレン社製、トーヨーＡＳ ＡＳ２０）：１０質量部との混合物（Ｔｇ＝１２７℃）のペレットを準備した。このペレットを、二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、厚さ８５μｍのラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂の未延伸フィルムを得た。

得られた未延伸フィルムを、１６０℃の条件下、搬送方向（ＭＤ方向）に２．０倍、幅方向（ＴＤ方向）に２．４倍延伸して、厚さ３０μｍの（メタ）アクリル樹脂フィルムを得た。

易接着剤組成物の調製
ポリエステルウレタン（第一工業製薬製、商品名：スーパーフレックス２１０、固形分：３３％）１６．８ｇ、架橋剤（オキサゾリン含有ポリマー、日本触媒製、商品名：エポクロスＷＳ−７００、固形分：２５％）４．２ｇ、１質量％のアンモニア水２．０ｇ、コロイダルシリカ（扶桑化学工業製、クォートロンＰＬ−３、固形分：２０質量％）０．４２ｇ及び純水７６．６ｇを混合し、易接着剤組成物を得た。

そして、前述で得られた（メタ）アクリル樹脂フィルムの片側に、コロナ放電処理（コロナ放電電子照射量：７７Ｗ／ｍ^２／ｍｉｎ）を施した。その後、前述で得られた易接着剤組成物を、コロナ放電処理を施した（メタ）アクリル樹脂フィルムのコロナ放電処理面に、乾燥後の厚みが３５０ｎｍとなるように、バーコーター（＃６）で塗布した。その後、（メタ）アクリル樹脂フィルムを熱風乾燥機（１４０℃）に投入し、易接着剤組成物を約５分間乾燥させて、厚さ０．３〜０．５μｍの易接着層を形成した。これにより、表面に易接着層を有する（メタ）アクリル樹脂フィルム（フィルム１１５）を得た。

（フィルム１１６〜１１８）
フィルム１１６として、厚さ８０μｍのセルロース系樹脂フィルム（富士フィルム社製 商品名「フジタック ＴＤ８０ＵＳ」）を；フィルム１１７として、厚さ６０μｍのセルロース系樹脂フィルム（富士フィルム社製 商品名「フジタック ＴＤ６０ＵＳ」）を；フィルム１１８として、厚さ４０μｍのセルロース系フィルム（コニカミノルタオプト社製 商品名「ＫＣ４ＵＡ−ＳＷ」）を準備した。

得られたフィルム１０１〜１１８のレターデーションＲ_０、Ｒｔｈおよび（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００を、以下の方法で測定した。

（Ｒ_０およびＲｔｈの測定）
１）得られたフィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿した。調湿後のフィルムの３方向の屈折率をアッベ屈折計にて測定し、それらの平均値を平均屈折率とした。
２）調湿後のフィルムに、フィルム法線方向から測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのＲ_０を、ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株）にて測定した。
３）ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、フィルムの面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、フィルムの表面の法線に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定した。レターデーション値Ｒ（θ）の測定は、θが０°〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行った。フィルムの面内の遅相軸は、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより確認した。
４）測定されたＲ_０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長５９０ｎｍでのＲｔｈを算出した。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行った。

さらに、得られた厚み方向のレターデーションＲｔｈと、フィルムの膜厚ｄ（ｎｍ）とから、（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００を算出した。

また、フィルム１１７および１１８の遅相軸方向（ＭＤ方向、方向α２）またはそれと直交する方向（ＴＤ方向、方向β２）の引張弾性率を、ＪＩＳ Ｋ７１６１に準拠した方法で測定した。

（引張弾性率の測定）
遅相軸方向（方向α２）の引張弾性率
１）フィルムをカットして、巾（保護フィルムの遅相軸方向に対して直交する方向β２）１０ｍｍ、長さ（保護フィルムの遅相軸方向α２）１００ｍｍの短冊状の試料片を準備した。
２）ＪＩＳ Ｋ７１６１に準拠して、引張試験機によりチャック間距離５０ｍｍ、引張速度５０ｍｍ／分の条件で試料片の遅相軸方向（方向α２）の引張弾性率を測定した。

遅相軸方向α２に対して直交する方向β２の引張弾性率
１）巾（保護フィルムの遅相軸方向α２）１００ｍｍ、長さ（保護フィルムの遅相軸方向に対して直交する方向β２）１０ｍｍの短冊状の試料片を準備した。
２）試料片の、遅相軸方向に対して直交する方向β２の引張弾性率を測定した以外は前述と同様とした。引張弾性率の測定は、いずれも温度２３℃、湿度５５％の条件下で行った。

フィルム１０１〜１１８の評価結果を表３に示す。製造例１〜１３で得られたフィルム１０１〜１１３は、後述の偏光板の作製において、保護フィルムＦ２またはＦ３として用いられる「光学補償フィルム」であり；フィルム１１４〜１１６は、保護フィルムＦ２として用いられる「他の光学補償フィルム」であり；フィルム１１７〜１１８は「保護フィルムＦ１またはＦ４」である。

３．偏光板の作製
（製造例１６）
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。このフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬させた後、ヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬させた。浸漬後のフィルムを、５５℃、延伸倍率５倍で一軸延伸した。得られたフィルムを水洗した後、乾燥させて厚さ３５μｍの偏光子を得た。

製造例１で得られたフィルム１０１（光学補償フィルム）とフィルム１１７（保護フィルム）の表面に、それぞれ５０℃２ＮのＫＯＨ水溶液を用いてアルカリケン化処理を行い、水洗、乾燥させた。

そして、前述の偏光子の一方の面にケン化処理済みのフィルム１０１を、水糊を介して配置し；偏光子の他方の面にケン化処理済みのフィルム１１７を、水糊を介して配置し、積層物を得た。得られた積層物を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピード約１０ｍ／分で貼り合わせた後、７０℃で約２分間、次いで６０℃で約２分間乾燥させて偏光板２０１を得た。貼り合わせは、フィルム１１７の遅相軸（方向α２）が偏光子の吸収軸と平行になるように行った。

得られた偏光板２０１のフィルム１０１（光学補償フィルム）側の面に粘着層を形成して、粘着剤付き偏光板２０１を得た。

（製造例１７〜３２）
表４で示されるフィルムの組み合わせとした以外は製造例１６と同様にして偏光板２０２〜２１７を得た。

４．液晶表示装置の作製
（実施例１）
液晶セルの作製
ガラス基板上に、所定のパターンのマスクを介してＩＴＯをスパッタリングして、ＩＴＯ膜を形成した。得られたＩＴＯ膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとしてＩＴＯ膜の露出部をエッチングして、前述の図４Ａに示されるような第一のスリット領域Ａ、第二のスリット領域Ｂおよび第三のスリット領域Ｃを含む画素電極を形成した。第一のスリットの総面積／第二のスリットの総面積／第三のスリットの総面積の比率を４０／２０／２０とした。第一のスリットおよび第二のスリットの長さは３００μｍとし、幅は１００μｍとした。第三のスリットの長さは１５０μｍとし、幅は１００μｍとした。

得られた画素電極上に、下記式（３）で表されるクマリン基を有するポリイミドを含む光配向膜用ポリイミド溶液を、厚さ７０ｎｍにスピンコート法により塗布した。次いで、得られた塗布層を１８０℃で６０分間焼成して光配向膜を形成した。その後、得られた光配向膜面にスキャン露光して配向処理を行い、図４Ａに示されるような配向分割構造を有する垂直配向膜を得た。スキャン露光における、光線の基板面の法線に対する入射角は１５°とした。これにより、第一の基板を得た。

一方、前述の第一の基板とは別に、ＩＴＯ膜付きガラス基板を準備した。このＩＴＯ膜上にカラーフィルタを配置し、その上に前述と同様にして光配向膜を形成した。その後、得られた光配向膜面に、スキャン露光して配向処理を行い、図４Ｂに示されるような配向処理方向を有する垂直配向膜を得た。これにより、第二の基板を得た。

第一の基板の垂直配向膜上に、スペーサである球状の樹脂ボールを含有する接着剤を枠状に塗布形成した。接着剤からなる枠には、液晶層用組成物を注入するための開口部を設けた。次いで、第一の基板の垂直配向膜と、第二の基板の垂直配向膜とが対向するように、第一の基板と第二の基板とを、枠状の接着剤を介して貼り合わせた。

接着剤に含まれるスペーサであるプラスチックビーズの粒径は４．５μｍとした。液晶セルのギャップを５μｍ（ｄ＝５×１０^３ｎｍ）とした。

得られた液晶セル内に、誘電率異方性が負である表示用液晶材料（△ｎ＝０．０８、△ε＝−４）を真空注入法によって注入した。表示用液晶材料を注入した後、注入口を紫外線硬化樹脂で封止して、垂直配向型の液晶セルを得た。得られた液晶セルの△ｎｄは、４００ｎｍであった。電圧無印加時における各基板近傍の液晶分子の、基板の法線に対するプレチルト角は１°であった。電圧印加時には液晶分子が基板面に対して略平行に配向し、かつ第一の基板側から第二の基板側に亘ってツイスト配向するものであった。

得られた液晶セルの両面に、表４に示されるように偏光板を貼り合あわせて、液晶表示装置を得た。

（実施例２〜１２および比較例１〜５）
液晶セルの両面に貼り合わせる偏光板を、表４に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を得た。

実施例１〜１２および比較例１〜５で得られた液晶表示装置の、正面コントラスト（正面ＣＲ）および輝度ムラを、以下の方法で評価した。

（正面コントラスト）
ｉ）液晶表示装置を白表示させたときの表示画面の、１ｍ離れた距離からの正面輝度（表示画面の法線方向から測定される輝度）を、コニカミノルタセンシング製ＣＳ２０００で測定した。同様にして、液晶表示装置を黒表示させたときの表示画面の正面輝度を測定した。
ii）黒表示させたときの表示画面の正面輝度に対する、白表示させたときの表示画面の正面輝度の比を正面コントラストとした。
正面コントラスト＝（白表示させたときの正面輝度）／（黒表示させたときの正面輝度）
iii）液晶表示装置の表示画面の任意の１０点における正面コントラストを測定し、それらの平均値を求めた。

正面コントラストを以下の基準に基づいて評価した。
◎：正面コントラストが２０００以上
○：正面コントラストが１７００以上２０００未満
△：正面コントラストが１５００以上１７００未満
×：正面コントラストが１５００未満

（輝度ムラ）
得られた液晶表示装置のバックライトを点灯させた状態で黒表示させたときの、表示画面の輝度ムラを、１０人の観察者により目視評価した。輝度ムラの評価は、以下の基準に基づいて行った。
◎：輝度ムラが１０人中０〜２人確認できる
○：輝度ムラが１０人中３〜５人確認できる
×：輝度ムラが１０人中６〜１０人確認できる

実施例１〜１２および比較例１〜５の液晶表示装置の評価結果を表４に示す。

表４に示されるように、保護フィルムＦ３として、Ｒ_０、Ｒｔｈおよび（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００がいずれも所定の範囲を満たす光学補償フィルムを含む実施例１〜１２の表示装置は、Ｒ_０、Ｒｔｈおよび（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００の少なくとも一つが所定の範囲を満たさない光学補償フィルムを含む比較例１〜５の表示装置よりも、正面コントラストが高いことがわかる。

また、視認側の保護フィルムＦ４が、ＭＤ方向（第二の偏光子の吸収軸と平行な方向α２）の引張弾性率＞ＴＤ方向（方向α２と直交する方向β２）の引張弾性率を満たす実施例１の表示装置は、上記関係を満たさない実施例９の表示装置よりも輝度ムラが抑制されることがわかる。

さらに、Ｒ_０、Ｒｔｈおよび（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００が所定の範囲を満たす光学補償フィルムを保護フィルムＦ３に用いるほうが、保護フィルムＦ２に用いるよりも、表示装置の正面コントラストを高める効果が大きいことがわかる。

本出願は、２０１２年２月２２日出願の特願２０１２−０３６６６９に基づく優先権を主張する。当該出願明細書および図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。

本発明の液晶表示装置は、透過率や開口率が高く、かつ正面コントラストが高められうる。

１０ 液晶表示装置
２０ 液晶セル
４０ 第一の偏光板
４２ 第一の偏光子
４４ 保護フィルム（Ｆ１）
４６ 保護フィルム（Ｆ２）
６０ 第二の偏光板
６２ 第二の偏光子
６４ 保護フィルム（Ｆ３）
６６ 保護フィルム（Ｆ４）
８０ バックライト
１００ 第一の基板
１１０ 絶縁基板
１２０、１２０’、１２０”、１２０''' 画素電極
１２２、１２２’、１２２” 第一のスリット
１２４、１２４’、１２４” 第二のスリット
１２６、１２６’、１２６” 第三のスリット
１２８ 第二の共通電極
１３０ 走査線
１４０ データ線
１５０ 能動素子
２００ 第二の基板
２１０ 絶縁基板
２２０ 共通電極
２３０、２３０’、２３０''、２３０''' 配向膜
２４０ カラーフィルタ
３００ 液晶層
Ａ、Ａ’、Ａ''、１Ａ、２Ａ 第一のスリット領域
Ｂ、Ｂ’、Ｂ''、１Ｂ、２Ｂ 第二のスリット領域
Ｃ、Ｃ’、Ｃ'' 第三のスリット領域
ａ、ａ’、ａ''、１ａ、２ａ 第一の領域
ｂ、ｂ’、ｂ''、１ｂ、２ｂ 第二の領域
ｃ、ｃ’、ｃ'' 第三の領域
Ｎ 第一の基板面の法線
Ｌ 液晶分子の長軸
Ｄ１ 第一の偏光板４０の吸収軸
Ｄ２ 第二の偏光板６０の吸収軸

Claims (14)

1. 液晶セルと、前記液晶セルの一方の面に配置され、第一の偏光子を有する第一の偏光板と、前記液晶セルの他方の面に配置され、第二の偏光子を有する第二の偏光板と、を有し、
   前記液晶セルは、画素電極を有する第一の基板と、共通電極を有する第二の基板と、前記第一の基板と前記第二の基板との間に配置され、負の誘電率異方性を有する液晶分子を含む垂直配向型の液晶層と、を有し、
   前記第一の基板における前記画素電極は、複数の第一のスリットを有する第一のスリット領域Ａと、複数の第二のスリットを有する第二のスリット領域Ｂと、前記第一のスリットの長軸方向および前記第二のスリットの長軸方向と略直交する長軸方向を有する第三のスリットを有する第三のスリット領域Ｃとを含む３または５の領域に分割されており、
   前記第二の基板における前記共通電極は、配向膜によって覆われており、
   前記第一の基板に対向する前記第二の基板の面は、前記第一のスリット領域Ａに対向する面である第一の領域ａと、前記第二のスリット領域Ｂに対向する面である第二の領域ｂと、前記第三のスリット領域Ｃに対向する面である第三の領域ｃとを有し、
   前記第二の基板において、電圧無印加時には、
   前記第一の領域ａ近傍の液晶分子は、前記第二の基板面の法線に対して前記第一のスリットの短軸方向にプレチルトしており、
   前記第二の領域ｂ近傍の液晶分子は、前記第二の基板面の法線に対して前記第二のスリットの短軸方向にプレチルトしており、かつ
   前記第一の領域ａ近傍の液晶分子の傾きと前記第二の領域ｂ近傍の液晶分子の傾きとは互いに逆であり、
   前記第三の領域ｃ近傍の液晶分子は、前記第二の基板面の法線に対して前記第三のスリットの短軸方向にプレチルトしており、
   前記第一の偏光板の吸収軸と前記第二の偏光板の吸収軸とは直交しており、
   前記第一の偏光板と前記第二の偏光板のいずれか一方または両方は、前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の液晶セル側の面に配置された光学補償フィルムを有し、
   前記光学補償フィルムは、下記式（Ｉ）で定義され、かつ測定波長５９０ｎｍで測定される面内方向のレターデーションをＲ_０とし、下記式（II）で定義され、かつ測定波長５９０ｎｍで測定される厚み方向のレターデーションをＲｔｈとしたとき、下記式（１）〜（３）を同時に満たす、液晶表示装置。
   （１）６０ｎｍ≦Ｒ_０≦８０ｎｍ
   （２）２８０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
   （３）３≦（Ｒｔｈ／ｄ）×１０００
   式（Ｉ）：Ｒ_０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
   式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
   （式（Ｉ）および（II）において、
   ｎｘは、前記光学補償フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
   ｎｙは、前記光学補償フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
   ｎｚは、前記光学補償フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
   ｄ（ｎｍ）は、前記光学補償フィルムの厚みを表す）
2. プレチルトした前記第一の領域ａ近傍の液晶分子の長軸と前記第二の基板面の法線とのなす角、プレチルトした前記第二の領域ｂ近傍の液晶分子の長軸と前記第二の基板面の法線とのなす角、およびプレチルトした前記第三の領域ｃ近傍の液晶分子の長軸と前記第二の基板面の法線とのなす角の絶対値が、０°超１５°以下である、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記第一の基板において、電圧無印加時には、
   前記第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子は、前記第一の基板面の法線に対して前記第一のスリットの長軸方向にプレチルトしており、
   前記第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子は、前記第一の基板面の法線に対して前記第二のスリットの長軸方向にプレチルトしており、かつ
   前記第一のスリット領域Ａ近傍の液晶分子の傾きと前記第二のスリット領域Ｂ近傍の液晶分子の傾きとは互いに逆であり、
   前記第三のスリット領域Ｃ近傍の液晶分子は、前記第一の基板面の法線に対して前記第三のスリットの長軸方向にプレチルトしている、請求項１に記載の液晶表示装置。
4. 前記第二の基板面は、２つの前記第一の領域ａと、２つの前記第二の領域ｂと、１つの前記第三の領域ｃとを含む５つの領域に分割されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 前記液晶セルの前記第一の基板側に配置されたバックライトをさらに有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
6. 前記第一の偏光板は、前記液晶セルと前記バックライトとの間に配置され、前記第一の偏光子の前記液晶セル側の面に配置された前記光学補償フィルムを有する、請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 前記液晶セルの前記第二の基板が、カラーフィルタをさらに有する、請求項５に記載の液晶表示装置。
8. 前記第一の偏光板が、前記第一の偏光子のバックライト側の面に配置された保護フィルムＦ１をさらに有し、前記保護フィルムＦ１の前記第一の偏光子の吸収軸に対して平行な方向α１の引張弾性率が、前記方向α１に対して直交する方向β１の引張弾性率よりも大きいか、または
   前記第二の偏光板が、前記第二の偏光子の視認側の面に配置された保護フィルムＦ４をさらに有し、前記保護フィルムＦ４の前記第二の偏光子の吸収軸に対して平行な方向α２の引張弾性率が、前記方向α２に対して直交する方向β２の引張弾性率よりも大きい、請求項６に記載の液晶表示装置。
9. 前記第一の偏光板が、前記第一の偏光子のバックライト側の面に配置された保護フィルムＦ１をさらに有し、前記保護フィルムＦ１の前記第一の偏光子の吸収軸に対して平行な方向α１の引張弾性率が、前記方向α１に対して直交する方向β１の引張弾性率よりも大きい、請求項６に記載の液晶表示装置。
10. 前記保護フィルムＦ１またはＦ４は、アシル基の総置換度が２．７〜３．０であるセルロースエステルと、ポリエステル系可塑剤とを含有する、請求項８に記載の液晶表示装置。
11. 前記光学補償フィルムは、アシル基の総置換度が２．５以下であるセルロースエステルを含むコア層と、アシル基の総置換度が２．５超２．８以下であるセルロースエステルを含むスキン層とを含む積層物である、請求項１に記載の液晶表示装置。
12. 前記光学補償フィルムは、アシル基の総置換度が２．７〜３．０であるセルロースエステルと、前記セルロースエステルに対して０．０５質量％以上のトリアジン化合物とを含有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
13. 前記液晶セルは、前記液晶セルのギャップをｄ（ｎｍ）とし、２３℃、測定波長５９０ｎｍにおける前記液晶分子の屈折率異方性を△ｎとしたとき、△ｎｄ＞４００ｎｍを満たす、請求項１に記載の液晶表示装置。
14. 前記光学補償フィルムの厚みは、１０〜２００μｍである、請求項１に記載の液晶表示装置。

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