JPWO2013027431A1 - 硫化水素合成反応器、硫化水素製造装置、硫化水素ナトリウム製造装置、及びそれらの方法 - Google Patents
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Abstract
Description
硫黄ガス及び水素ガスが、触媒が充填された反応管内で反応することで、硫化水素が生成する。反応熱は、反応管の外部に熱媒体を流して除去する。このような触媒反応は、例えば、下記特許文献1に示される。
無触媒気相反応は、例えば、下記非特許文献1の頁474のFigure1に示される。無触媒の気相反応では、沸点温度で液体硫黄を保持する塔底部と、硫黄ガスと水素ガスとを反応させるガス空間部を有する反応塔を用いて、硫化水素を製造する。水素ガスは、塔底部内の液体硫黄に導入され、水素ガスおよび硫黄ガスは、ガス空間部で反応し、硫化水素を生成する。硫化水素の反応熱は、ガス空間部上部から供給される液体硫黄と接触させることで、回収される。硫化水素と硫黄ガスを含有する生成物ガスは、熱交換器により冷却して、硫黄を固化することで、硫化水素ガスを精製する。
1.硫黄と水素とを無触媒で気相反応させて、硫化水素を合成する硫化水素合成反応器であって、
下部に液体硫黄を溜める反応器本体と、
前記液体硫黄の一部をガス化する加熱部と、
前記液体硫黄に水素ガスを供給する水素ガス供給部と、
前記反応器本体内の液体硫黄の液面より上方の気相反応領域に設ける熱交換部と、を備え、
前記熱交換部を、前記液面から遠い気相反応領域の単位容積当りの交換熱量と、前記液面に近い気相反応領域で単位容積当りの交換熱量とを変えて、前記気相反応領域での反応温度を所定の温度内にするように構成することを特徴とする硫化水素合成反応器。副反応物の生成を少なくして純度の高い硫化水素を製造することができる。
2.前記熱交換部は、液面から離れるにつれて、単位容積当りの交換熱量が下がるように構成される項目1に記載の硫化水素合成反応器。
3.前記熱交換部を、前記液面から遠い気相反応領域の単位容積当たりの伝熱面積より、前記液面に近い気相反応領域の単位容積当たりの伝熱面積が大きくなるように構成する項目1又は2に記載の硫化水素合成反応器。
4.前記所定の温度は、380℃〜410℃である項目1〜3の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。410℃以下にすることで、圧力0.5
MPaの時、H2S2の濃度を10ppm未満に抑えることができる。反応温度を下げると、反応速度が下がるために、少なくとも380℃以上にする。
5.前記熱交換部の冷媒は、硫黄の凝固点以上で供給される項目1〜4の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
6.前記熱交換部は、複数の熱交換器から構成される項目1〜5の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
7.前記熱交換部に、前記ガスが通過する複数の孔を有する整流部を備える項目1〜6の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。下部から上部へのガス流を整流して均一に分散するとともに、冷却により生じ得る下部への逆流を防ぎ、気相部高さに応じた理論的な転化率を実現できる。
8.前記気相反応領域のガス温度を検出する温度検出器と、
前記検出した温度が所定値になるように、前記各熱交換部の熱交換量を制御する制御部と、をさらに備える項目1〜7の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
9.前記硫化水素反応熱により生じる熱量より、前記反応器本体の表面からの放熱が高い場合、気相反応領域における反応温度を所定温度内に保つために、前記熱交換部を、前記反応器本体を加熱するように構成することを特徴とする項目1〜8の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。反応器本体の塔径が小さい場合でも、副反応物の生成を少なくして純度の高い硫化水素を製造することができる。
10.項目1〜9の何れか1項に記載の前記硫化水素合成反応器と、
前記硫化水素合成反応器から放出される未反応硫黄ガスと水素ガスとを水添触媒を用いて反応させて、硫化水素を合成する水添反応器と、を備えることを特徴とする硫化水素製造装置。未反応の硫黄ガスを、水素ガスで硫化水素ガスに転化することができる。
11.硫化水素を液化する液化装置をさらに備える項目1〜10の何れか1項に記載の硫化水素製造装置。
12.硫化水素ナトリウムを合成する硫化水素ナトリウム製造装置であって、
項目1〜11の何れか1項に記載の前記硫化水素合成反応器と、
前記硫化水素合成反応器から放出される未反応硫黄ガスと水素ガスとを水添触媒を用いて反応させて、硫化水素を合成する水添反応器と、
硫化水素と、水酸化ナトリウム水溶液を反応させて、硫化水素ナトリウムを合成する硫化水素ナトリウム合成反応器と、を備える硫化水素ナトリウム製造装置。
13.硫黄と水素とを無触媒で気相反応させて、硫化水素を合成する硫化水素製造方法であって、
反応器の下部に溜まった液体硫黄の一部を加熱し、
前記液体硫黄に水素ガスを供給し、
前記反応器内の液体硫黄の液面より上方の気相反応領域で、前記加熱により生成した硫黄ガスと、前記水素ガスとを気相反応させ、
前記液面から遠い気相反応領域の単位容積当りの交換熱量と、前記液面に近い気相反応領域で単位容積当りの交換熱量とを変えて、前記気相反応領域での反応温度を所定の温度内にするように除熱する、ことを特徴とする硫化水素製造方法。
14.前記除熱工程は、液面から離れるにつれて、単位容積当りの交換熱量が下がるように除熱することを含む項目13に記載の硫化水素製造方法。
15.前記所定の温度は、380℃〜410℃である項目13又は14に記載の硫化水素合成反応器。
16.前記除熱は、硫黄の凝固点以上の冷媒で行う項目13〜15の何れか1項に記載の硫化水素製造反応。
17.前記除熱を行う熱交換部の設けられた複数の孔を有する整流部を、前記ガスが通過する項目13〜16の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
18.前記硫化水素合成反応器から放出される未反応硫黄ガスと水素ガスとを水添触媒を用いて反応させて、硫化水素に転化する項目13〜17の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
19.前記除熱工程は、前記硫化水素反応熱により生じる熱量より、前記反応器本体の表面からの放熱が高い場合、気相反応領域における反応温度を所定温度内に保つために、加熱する工程を含む項目13〜18の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
20.硫化水素を液化する項目13〜19の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
21.硫化水素ナトリウムを生成する硫化水素ナトリウム製造方法であって、
項目13〜19の何れか1項に記載の硫化水素製造方法により生成された硫化水素と、水酸化ナトリウム水溶液とを反応させて、硫化水素ナトリウムを生成する硫化水素ナトリウム製造方法。
硫化水素生成反応は、以下の式1により進行するが、硫化水素生成とともに、式2に示す反応式により、多硫化水素が生成する。以下の説明においては、硫化水素生成反応において、最も濃度が高い多硫化水素である二硫化水素(H2S2)について説明する。
H2 + 1/2S2 → H2S (式1)
2H2S → H2 + H2S2 (式2)
MPaの時、反応温度を410℃以下に制御する必要がある。当該反応温度より温度が上昇すると、H2S2濃度が10ppmを超えてしまう。このように、硫化水素の反応温度は、410℃以下になることが好ましい。一方、反応温度を下げると、反応速度が下がるために、少なくとも380温度以上になることが好ましい。
図3は、本発明の実施形態に係る硫化水素合成反応器の第1例を示す図である。図3に示す硫化水素合成反応器100は、液体硫黄を下部に貯留可能とする反応器本体105、反応器本体105内の反応領域温度を一定に維持する熱交換部110、反応器本体105に貯留される液体硫黄を加熱して、液体硫黄の一部をガス化する加熱部120、および液体硫黄中に水素ガスを供給する水素供給部130を備える。さらに、液体硫黄の供給用配管11、水素ガスの供給用配管12、及び生成ガスの排出用配管13を備える。硫化水素合成反応器100は、反応器本体105の内部を、液体硫黄を保持する液体硫黄保持部101と、無触媒気相反応が起こる空間である気相反応領域102として使用する。本発明の熱交換部110は、3つの熱交換器111〜113を有し、硫黄液面に近い側の熱交換器111の熱交換容量が最も大きく、熱交換器112、113の順に熱交換容量が小さくなるように構成されている。
図4は、硫化水素濃度と、反応器本体105で保持される硫化水素液面からの高さの関係を示すグラフの例である。図示するグラフの縦軸は、硫化水素濃度[mol%]であり、横軸は、硫黄液面を“0”とした場合の液面からの高さ[m]である。硫化水素生成の反応速度は、液面に近いほど高いことがわかる。例えば、液面から1[m]の範囲内では、転化率が高く、当該範囲で反応熱除去と、温度制御が必要なことがわかる。
熱交換部での除熱量が硫化水素反応熱より大きくなると、反応温度が低下し、硫化水素生成反応が停止する。それにより、未反応の水素、硫黄が増加して、硫化水素合成反応器100から流出する。したがって、液面側に近い熱交換器で硫化水素反応熱力より過剰に大きな除熱量をとる、又は、液面側から遠い熱交換器で硫化水素反応熱力より過剰に大きな除熱量をとると、硫化水素生成反応が停止するという問題が生じる。そのため、熱交換部は、液面から遠い気相反応領域より、液面に近い気相反応領域で多く除熱するとともに、過剰な除熱を生じないように、液面から離れるにつれて減少する気相反応領域の硫化水素反応熱を適切に除熱するように構成される。
図5Aは、熱交換器の詳細例を示す図である。上記したように、熱交換部は、気相反応領域の硫化水素反応熱を適切に除熱するように構成される必要がある。しかしながら、冷媒温度を下げて、除熱量を温度差デルタTで制御した場合、チューブの温度が硫黄の凝固点よりも低いと、チューブ表面での硫黄の固化、それによる伝熱係数の低下が生じ、熱交換部の熱交換量が下がる。そのため、以下に示す熱交換部の詳細例は、温度差デルタTを一定範囲に保ちながら、伝熱面積を増やすことにより、熱交換量を変化させる。
熱交換部110としての熱交換器111〜113には、その中間の適宜の位置に複数の穴を有する整流板115及び116(図3又は図5A、5B)を配置する。複数の穴は、液面から上昇するガスが通過し、穴以外の部分は、冷えたガスの逆流を防ぐ。このように、整流板115及び116が、熱交換器111〜113の間に配置されることで、下部から上部へのガス流を整流して均一に分散するとともに、冷却により生じ得る下部への逆流を防ぎ、図4に示すような、気相部高さに応じた理論的な転化率を実現できる。よって、理論的な転化率に基づいて、熱交換部110としての熱交換器111〜113を構成し、硫化水素反応温度が、所定温度以上になることを抑制し、多硫化水素の過剰な生成を防ぐことができ、また、所定温度以下になることを抑制することで反応速度の低下を防ぐ。
図7は、熱交換部110の冷媒量を制御することで、硫化水素の反応温度を制御する硫化水素合成反応器の一例を説明する図である。図7に示す硫化水素合成反応器100Aは、熱交換部110としての熱交換器111、112、及び113の下流に、ガス温度を検出する温度検出器171〜173を有する。熱交換器111、112、及び113は、それぞれ冷媒流量を調整する流量制御弁174、175、及び176を備える。硫化水素合成反応器100Aはさらに、流量制御弁を制御することで、硫化水素の反応温度を制御する制御部160を有する。制御部160は、温度検出器171〜173で検出したガス温度が所定値より上がると、流量制御弁171〜173を開くことで、熱交換部110としての熱交換器111〜113の熱交換量を制御し、ガス温度が所定値になるように除熱する。制御部160は、例えば、分散制御システム(Distributed Control System)である。
図9は、図3に示した硫化水素合成反応器を含む硫化水素製造装置の一例を示す図である。硫化水素製造装置10は、図3に示した硫化水素合成反応器100、硫化水素ガスと共に放出される未反応硫黄ガスを、硫化水素に転化する水添反応器200、高温の生成ガスと、原料水素ガスを熱交換する水素ガス熱交換器210、液化装置220、及び、水素ガスと液化硫化水素とを分離する気液分離器300を有する。
図10は、図3に示した硫化水素合成反応器を含む硫化水素ナトリウム製造装置の一例を示す図である。図10に示す硫化水素ナトリウム製造装置20は、図3に示す硫化水素製造装置10と比して、生成ガス圧縮機230、冷却器240、及び、気液分離器300を有さず、代わりに、硫化水素と、水酸化ナトリウム(NaOH)から硫化水素ナトリウムを生成する硫化水素ナトリウム合成反応器400を有する。
2NaOH + H2S →Na2S + 2H2O (式3)
Na2S + H2S →2NaSH (式4)
NaOH + H2S →NaSH + H2O (式5)
2NaOH + H2S2 →Na2S2 + 2H2O (式6)
多硫化ナトリウムが多く含まれると下流反応工程の製品品質を悪化することに通じる。硫化水素ナトリウム製造装置20は、硫化水素合成反応器100において、二硫化水素の生成を防ぐことで、多硫化ナトリウムの生成を防ぐことができる。
反応温度 405〜410[℃]
反応圧力 0.2〜0.6[MPaA]
転化率 50〜60[mol%]
多硫化水素濃度を10ppm未満とすることができる。
Claims (21)
- 硫黄と水素とを無触媒で気相反応させて、硫化水素を合成する硫化水素合成反応器であって、
下部に液体硫黄を溜める反応器本体と、
前記液体硫黄の一部をガス化する加熱部と、
前記液体硫黄に水素ガスを供給する水素ガス供給部と、
前記反応器本体内の液体硫黄の液面より上方の気相反応領域に設ける熱交換部と、を備え、
前記熱交換部を、前記液面から遠い気相反応領域の単位容積当りの交換熱量と、前記液面に近い気相反応領域で単位容積当りの交換熱量とを変えて、前記気相反応領域での反応温度を所定の温度内にするように構成することを特徴とする硫化水素合成反応器。 - 前記熱交換部は、液面から離れるにつれて、単位容積当りの交換熱量が下がるように構成される請求項1に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記熱交換部を、前記液面から遠い気相反応領域の単位容積当たりの伝熱面積より、前記液面に近い気相反応領域の単位容積当たりの伝熱面積が大きくなるように構成する請求項1又は2に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記所定の温度は、380℃〜410℃である請求項1〜3の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記熱交換部の冷媒は、硫黄の凝固点以上で供給される請求項1〜4の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記熱交換部は、複数の熱交換器から構成される請求項1〜5の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記熱交換部に、前記ガスが通過する複数の孔を有する整流部を備える請求項1〜6の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記気相反応領域のガス温度を検出する温度検出器と、
前記検出した温度が所定値になるように、前記各熱交換部の熱交換量を制御する制御部と、をさらに備える請求項1〜7の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。 - 前記硫化水素反応熱により生じる熱量より、前記反応器本体の表面からの放熱が高い場合、気相反応領域における反応温度を所定温度内に保つために、前記熱交換部を、前記反応器本体を加熱するように構成することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の硫化水素合成反応器。
- 請求項1〜9の何れか1項に記載の前記硫化水素合成反応器と、
前記硫化水素合成反応器から放出される未反応硫黄ガスと水素ガスとを水添触媒を用いて反応させて、硫化水素を合成する水添反応器と、を備えることを特徴とする硫化水素製造装置。 - 硫化水素を液化する液化装置をさらに備える請求項1〜10の何れか1項に記載の硫化水素製造装置。
- 硫化水素ナトリウムを合成する硫化水素ナトリウム製造装置であって、
請求項1〜11の何れか1項に記載の前記硫化水素合成反応器と、
前記硫化水素合成反応器から放出される未反応硫黄ガスと水素ガスとを水添触媒を用いて反応させて、硫化水素を合成する水添反応器と、
硫化水素と、水酸化ナトリウム水溶液を反応させて、硫化水素ナトリウムを合成する硫化水素ナトリウム合成反応器と、を備える硫化水素ナトリウム製造装置。 - 硫黄と水素とを無触媒で気相反応させて、硫化水素を合成する硫化水素製造方法であって、
反応器の下部に溜まった液体硫黄の一部を加熱し、
前記液体硫黄に水素ガスを供給し、
前記反応器内の液体硫黄の液面より上方の気相反応領域で、前記加熱により生成した硫黄ガスと、前記水素ガスとを気相反応させ、
前記液面から遠い気相反応領域の単位容積当りの交換熱量と、前記液面に近い気相反応領域で単位容積当りの交換熱量とを変えて、前記気相反応領域での反応温度を所定の温度内にするように除熱する、ことを特徴とする硫化水素製造方法。 - 前記除熱工程は、液面から離れるにつれて、単位容積当りの交換熱量が下がるように除熱することを含む請求項13に記載の硫化水素製造方法。
- 前記所定の温度は、380℃〜410℃である請求項13又は14に記載の硫化水素合成反応器。
- 前記除熱は、硫黄の凝固点以上の冷媒で行う請求項13〜15の何れか1項に記載の硫化水素製造反応。
- 前記除熱を行う熱交換部の設けられた複数の孔を有する整流部を、前記ガスが通過する請求項13〜16の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
- 前記硫化水素合成反応器から放出される未反応硫黄ガスと水素ガスとを水添触媒を用いて反応させて、硫化水素に転化する請求項13〜17の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
- 前記除熱工程は、前記硫化水素反応熱により生じる熱量より、前記反応器本体の表面からの放熱が高い場合、気相反応領域における反応温度を所定温度内に保つために、加熱する工程を含む請求項13〜18の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
- 硫化水素を液化する請求項13〜19の何れか1項に記載の硫化水素製造方法。
- 硫化水素ナトリウムを生成する硫化水素ナトリウム製造方法であって、
請求項13〜19の何れか1項に記載の硫化水素製造方法により生成された硫化水素と、水酸化ナトリウム水溶液とを反応させて、硫化水素ナトリウムを生成する硫化水素ナトリウム製造方法。
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