JPWO2012165164A1 - ワインラクトンの製造方法 - Google Patents

Abstract

有害な試薬または高価な試薬を使用することなく、極度の低温または高温などの苛酷な反応条件を必要とせずに、簡便な方法でワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を製造する。工程Ａ）β−ケトエステルと２−ハロエステルとを塩基性条件下にて反応させて２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得；工程Ｂ）得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルとメチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に必要に応じて脱炭酸反応及び加水分解等を行うことによりα−メチル−γ−ケト酸を得；工程Ｃ）得られたα−メチル−γ−ケト酸を還元する、あるいは、上記の工程Ａ）、Ｂ）、工程Ｅ）得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを所定の構造を有するルテニウム錯体及び水素供与体の存在下にて還元する、のいずれかの方法によりワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を得る。

Description

本発明は香料化合物として有用なワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物の製造方法に関する。

ワインラクトン（化学名：（３ａ，４，５，７ａ）−テトラヒドロ−３，６−ジメチルベンゾフラン−２（３Ｈ）−オン）は、１９７５年にＳｏｕｔｈｗｅｌｌによりコアラの代謝物から発見され、１９９６年にＧｕｔｈにより白ワインの最も重要な香気成分の一つであるとして白ワインから単離されて「ワインラクトン」と命名された化合物である。ワインラクトンには立体異性体が８種類存在し、Ｇｕｔｈにより全ての立体異性体が合成され、天然に存在する化合物（すなわち、ワインラクトン）は（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体であり、８種類ある立体異性体の中で（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体の香気が最も強く、香質に優れていることが見出された（非特許文献１：Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，７９，（１９９６），１５５９−１５７１）。

ワインラクトンの製造方法については様々な報告がある。
例えば、前掲非特許文献１では、ワインラクトンを含む全ての立体異性体を製造する方法、Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応による６員環形成反応を用いる方法及びワインラクトンの３ａ位と同じ立体化学を有するリモネンを出発物質として用いる方法が報告されている。しかし、全ての立体異性体を製造する方法では、香気及び香質に優れた（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体であるワインラクトンの収率は２０％程度であり経済的でない。Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応を用いた方法では、ジアステレオ選択的に目的の立体異性体を合成することができるが、酸化反応の際にクロム酸、メチル化の際にヨウ化メチルなどの有害な試薬を用いるため、工業的規模での利用には適さない。リモネンを出発物質として用いる方法においても酸化反応の際にクロム酸などの有害な試薬を用いるため、工業的規模での利用は困難である。
非特許文献２（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４６（１９８１），３８９６−３９００）では、２−シクロヘキセノール誘導体からクライゼン転位反応によりワインラクトンを得る方法が報告されている。この方法によれば、ジアステレオ選択的にワインラクトンを合成することができるが、出発物質である２−シクロヘキセノール誘導体の入手が非常に困難であり、またメチル化の際にヨウ化メチルなどの有害な試薬を用いるため、工業的規模での利用には適さない。

非特許文献３（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，（２０００），４１９−４２３）では、パラジウム錯体を触媒とするマロン酸エステルの付加反応を利用して、立体選択的にワインラクトンを得る方法が記載されている。この方法によれば、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のみを立体選択的に得ることができる。しかし、ラクトン化−ラクトン開裂−再環化という段階が必要であり、工程数が多く、操作が煩雑である。また、メチル化の際にヨウ化メチルなどの有害な試薬を用いるため、工業的規模での利用には適さない。
非特許文献４（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ： Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１２，（２００１），２９８５−２９８８）では、イソリモネンを水和した後に、酸化反応によりカルボン酸を合成し、閉環反応によりワインラクトンを合成する方法が開示されている。この方法によればジアステレオ選択的に目的の立体異性体を合成できる。しかし、酸化反応の際にクロム酸などの有害な試薬を使用するため、工業的規模での利用には適さない。

特許文献１（特開２００４−２６９４６３号公報）では、βケトエステルを出発物質とし、光学活性なオキサザボロリジンを不斉配位子としてカルボニル基を還元し、さらに、加水分解、環化反応を経てワインラクトンを合成する方法が記載されている。しかし、この方法においてもメチル化の際にブチルリチウム及びヨウ化メチルなどの有害な試薬を用いる点で課題がある。
特許文献２（特開２０１０−１９５７６５号公報）では、Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応により、二つの環を同時に生成させてワインラクトンを得る方法が記載されている。この方法は、有害な試薬を使用することなくワインラクトンを合成できる点で優れているが、環化反応の温度が２００℃と非常に高温であり、工業的に有利な方法とは言い難い。

特開２００４−２６９４６３号公報 特開２０１０−１９５７６５号公報

Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，７９，（１９９６），１５５９−１５７１ Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４６（１９８１），３８９６−３９００ Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，（２０００），４１９−４２３ Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ： Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１２，（２００１），２９８５−２９８８ Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．５４，１８７６−１８８３（１９８９）

上記のような状況において、有害な試薬または高価な試薬を使用することなく、極度の低温または高温などの苛酷な反応条件を必要とせずに、簡便な方法でワインラクトンもしくはその立体異性体を製造する方法の提供が望まれている。

本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、有害な試薬または高価な試薬を使用することなく、少ない工程数で、ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を製造できることを見出した。また、必要に応じて、ワインラクトン及びそのジアステレオマー異性体を高選択的に生成できることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、以下に示したワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物の製造方法に関するものである。
［１］ ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：

で示される化合物の製造方法であって、
Ａ）式（１）：

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：

［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：

［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
Ｂ−１）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に加水分解して、式（４）：

で示されるα−メチル−γ−ケト酸を得る工程；
Ｃ）前記工程Ｂ−１）で得られたα−メチル−γ−ケト酸を還元して、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程を含む、方法。
［２］ ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：

で示される化合物の製造方法であって、
Ａ）式（１）：

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：

［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：

［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
Ｂ−２）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：

［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程；
Ｂ−３）前記工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを加水分解して、式（４）：

で示されるα−メチル−γ−ケト酸を得る工程；
Ｃ）前記工程Ｂ−３で得られたα−メチル−γ−ケト酸を還元して、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程を含む、方法。
［３］ 前記工程Ｃ）が、式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下にて不斉還元反応させることを含む、［１］または［２］に記載の方法。

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、ここで、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
Ｙは水素原子であり、
Ｗはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、
ｊ及びｋは、それぞれ独立して、０又は１であり、但し、ｊ＋ｋが１になることはなく、
Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、
ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、
Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
Ｙは水素原子であり、
Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｑ⁻はカウンターアニオンであり、
ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］
［４］ 式（６）で示されるルテニウム錯体が次式で示される化合物である、［３］に記載の方法。

［５］ 前記工程Ｃ）で得られた化合物を塩基性条件下にて蒸留して、式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を得る工程をさらに含む、［１］または［２］に記載の方法。
［６］（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物の含有率が式（ａ）で示される化合物の全重量に対して９０重量％以上である、［５］に記載の方法。
［７］ 前記工程Ｃ）で得られた化合物を塩基性条件下にて蒸留して、式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を得る工程をさらに含む、［３］または［４］に記載の方法。
［８］ さらに再結晶することにより、式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を得る工程を含む、［７］に記載の方法。

［９］ ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：

で示される化合物の製造方法であって、
Ａ）式（１）：

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：

［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：

［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
Ｂ−２）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：

［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程；
Ｅ）前記工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体及び水素供与体の存在下にて還元して、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、ここで、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
Ｙは水素原子であり、
Ｗはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、
ｊ及びｋは、それぞれ独立して、０又は１であり、但し、ｊ＋ｋが１になることはなく、
Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、
ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、
Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
Ｙは水素原子であり、
Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｑ⁻はカウンターアニオンであり、
ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］
を含む、方法。
［１０］ 前記工程Ｅ）において、式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体が光学活性ルテニウム錯体であり、不斉還元反応させる、［９］に記載の方法。
［１１］ 前記式（６）で示されるルテニウム錯体が次式で示される化合物である、［９］または［１０］に記載の方法。

［１２］ ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：

で示される化合物の製造方法であって、
Ａ）式（１）：

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：

［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：

［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
Ｂ−２）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：

［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程；
Ｅ）前記工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを、塩基性条件下、式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体及び水素ガスの存在下にて不斉水素化反応させて、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程

［式中、Ｐ⌒Ｐは光学活性ジホスフィンであり、
Ｖはアニオン性基であり、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基であり、あるいは、Ｒ^ｂとＲ^ｃとでアルキレン基又はアルキレンジオキシ基を形成してもよく、
Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、又は、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基であり、但し、Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ^Ｎ１とＲ^ａとでアルキレン基を形成してもよく、
ｎは０〜３の整数であり、
Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基である。］
を含む、方法。
［１３］ 式（８）の光学活性ルテニウム錯体が次式で示される化合物である、［１２］に記載の方法。

［式中、Ｍｅはメチル基を表す。］
［１４］ 前記工程Ｅ）で得られた化合物を塩基性条件下にて蒸留して、式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を得る工程をさらに含む、［９］〜［１３］の何れか１項に記載の方法。
［１５］ さらに再結晶することにより、式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を得る工程を含む、［１４］に記載の方法。
［１６］ 全ての製造工程が０℃以上１３０℃以下で行われ、且つ、全ての製造工程においてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製工程を必要としない、［１］〜［１５］の何れか１項に記載の方法。

本発明によれば、有害な試薬または高価な試薬を使用することなく、極度の低温や高温の反応条件を必要とせずに、少ない工程数で簡便にワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を製造することができる。また、本発明の好ましい態様によれば、ワインラクトンを高選択的に製造することができる。本発明の方法は、工業的規模での利用に適している。

以下、本発明の製造方法について具体的に説明する。本発明の製造方法は、ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：

で示される化合物の製造方法であって、下記反応スキームで示される工程Ａ）、Ｂ）及びＣ）を含むことを特徴としている。

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］

工程Ｂ）は、式（３）で示される化合物を環化反応させることにより式（４）で示される化合物を得る工程である。工程Ｂ）としては、例えば、式（３）で示される化合物を塩基性条件下にて反応させ、その後、加水分解することにより式（４）で示される化合物を得る方法（工程Ｂ−１）と、式（３）で示される化合物を塩基性条件下にて反応させ、無機塩の存在下にて脱炭酸反応させた後（工程Ｂ−２）、加水分解することにより式（４）で示される化合物を得る方法とが挙げられる（工程Ｂ−３）。

また、本発明の製造方法は、ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：

で示される化合物の製造方法であって、下記反応スキームで示される工程Ａ）、Ｂ−２）及びＥ）を含むことを特徴としている。

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］

以下、工程Ａ）、工程Ｂ−１）及び工程Ｃ）を含む方法を第１実施態様とし、工程Ａ）、工程Ｂ−２）、工程Ｂ−３）及び工程Ｃ）を含む方法を第２実施態様とし、工程Ａ）、工程Ｂ−２）及び工程Ｅ）を含む方法を第３実施態様として、それぞれの態様ごとに説明する。

１．第１実施態様
本発明の第１実施態様の製造方法は、工程Ａ）、工程Ｂ−１）及び工程Ｃ）を含むことを特徴とする。

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］

以下、各工程について詳しく説明する。
（１）工程Ａ）
工程Ａ）は、式（１）：

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：

［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：

［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程である。

上記式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ、炭素数１〜４のアルキル基であり、これらは同一であっても異なっていてもよい。なお、本明細書において、炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが挙げられる。中でも、メチル基、エチル基が好ましい。

式（２）で示される２−ハロエステルとしては、下記に示す化合物が挙げられる。

中でも、２−ブロモプロピオン酸アルキルが好ましく、２−ブロモプロピオン酸メチル、２−ブロモプロピオン酸エチルが特に好ましい。

式（２）で示される２−ハロエステルの使用量は、式（１）で示されるβ−ケトエステルに対して通常０．５〜１０モル当量、好ましくは０．８〜１．２モル当量の範囲から適宜選択される。

本工程は塩基性条件下にて行う。使用する塩基としては無機塩基及び有機塩基等が挙げられる。
無機塩基としては、例えば、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩； 水素化ナトリウム、等の金属水素化物類等が挙げられる。
有機塩基としては、例えば、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、リチウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウムナフタレニド等のアルカリ金属アルコキシド； 酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム等のアルカリ金属・アルカリ土類金属の酢酸塩類； トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピペリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機アミン類； ４級アンモニウム塩等 が挙げられる。
これらの中でも有機塩基が好ましい。特に、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドが好ましく使用できる。

塩基の使用量は、式（１）で示されるβ−ケトエステルに対して、通常０．５〜１０モル当量、好ましくは１．０〜３．０モル当量の範囲から適宜選択される。

反応は、溶媒の存在下で行うことが好ましい。使用する溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類； ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類； ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類； ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類； メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−エトキシエタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類； アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類； 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類； ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類； ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類； アセトニトリル等の含シアノ有機化合物類； Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、アルコール類が特に好ましい。

溶媒の使用量は、式（１）で示されるβ−ケトエステルの重量（ｇ）に対して、通常０．５〜１００倍容量（ｍｌ）［溶媒ｍｌ／基質ｇ］ （以下、「倍容量」とは同義を表す）、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

上記反応の反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜２０時間、好ましくは１〜１０時間の範囲から適宜選択される。

反応終了後、得られた式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルは、後処理等をせずにそのまま次の工程に用いてもよく、必要に応じて後処理、精製、単離等を行って次の工程に用いてもよい。後処理の具体的な方法としては、溶媒抽出、転溶、塩析、蒸留、晶出、再結晶等の公知の方法が挙げられる。ただし、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製は、大量の溶媒を必要とするため、経済的あるいは作業効率の観点から好ましくない。

なお、工程Ａの反応条件等については、非特許文献５（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．５４，１８７６−１８８３（１９８９））に記載されたメチル ２−ブロモプロピオネートとメチルアセトアセテートを反応させ、メチル ３−（メトキシカルボニル）−２−メチル−４−オキソペンタノエートを得る反応を参照することができる。

（２）工程Ｂ−１）
工程Ｂ−１）は、工程Ａ）で得られた式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に加水分解して、式（４）：

で示されるα−メチル−γ−ケト酸を得る工程である。

メチルビニルケトンは、市販品を使用することができる。また、合成品を使用することもできる。例えば、ホルマリンとアセトンの縮合により容易に合成可能な４−ヒドロキシ−２−ブタノンを脱水して調製したり、あるいは、アセトン、ホルムアルデヒド及びアミンを反応させて得られる４−アミノ−２−ブタノン（マンニッヒ塩基)のホフマン脱離により調製することで、メチルビニルケトンを得ることができる。上述した反応により得られるメチルビニルケトンは蒸留等の精製を行って使用してもよいし、反応粗製物をそのまま使用してもよい。

メチルビニルケトンの使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して通常０．５〜１０モル当量、好ましくは０．８〜１．５モル当量の範囲から適宜選択される。

本工程は塩基性条件下にて行う。使用する塩基としては無機塩基及び有機塩基等が挙げられる。無機塩基及び有機塩基としては、工程Ａ）で例示した化合物と同じものを使用できるが、本工程においては無機塩基が好ましく用いられる。中でも、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが好ましい。

塩基の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．０００１〜１０モル当量、好ましくは０．０００５〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

反応は、溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒の具体例としては、工程Ａ）で例示した溶媒と同じものを挙げることができる。溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール類またはスルホキシド類が好ましい。

溶媒の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

上記反応の反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜２０時間、好ましくは１〜１０時間の範囲から適宜選択される。

工程Ｂ−１）においては、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルとメチルビニルケトンとを反応させた後、続けて加水分解反応を行う。加水分解反応は、酸または塩基を添加して行うことが好ましい。

加水分解反応に使用する酸としては、無機酸、有機酸及びルイス酸等が挙げられる。
無機酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、テトラフルオロホウ酸、過塩素酸、過ヨウ素酸等が挙げられる。
有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、吉草酸、ヘキサン酸、クエン酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、サリチル酸、シュウ酸、コハク酸、マロン酸、フタル酸、酒石酸、リンゴ酸、グリコール酸等のカルボン酸； メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられる。
ルイス酸としては、例えば、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム； 塩化ジエチルアルミニウム、臭化ジエチルアルミニウム、塩化ジイソプロピルアルミニウム等のハロゲン化ジアルキルアルミニウム； トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム等のトリアルコキシアルミニウム； 四塩化チタン等のハロゲン化チタン； テトライソプロポキシチタニウム等のテトラアルコキシチタニウム； 三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等のハロゲン化ホウ素； 塩化亜鉛、臭化亜鉛等のハロゲン化亜鉛等が挙げられる。
これらの中でも、無機酸が好ましい。中でも塩酸、硫酸が好ましい。

酸の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．００１〜１０モル当量、好ましくは０．０１〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

塩基としては、無機塩基及び有機塩基等が挙げられる。無機塩基及び有機塩基の具体例としては、工程Ａ）で例示したものと同じものを挙げることができる。それらの中でも、無機塩基としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが好ましく、有機塩基としては、カリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドが好ましい。

塩基の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して０．００１〜１０モル当量、好ましくは０．０１〜４モル当量の範囲から適宜選択される。

加水分解反応は、溶媒中で行うことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類； ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類； ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類； ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類； メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−エトキシエタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類； エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール、グリセリン等の多価アルコール類； ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の酸類； ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類； Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、アルコール類またはスルホキシド類が好ましい。

溶媒の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

加水分解反応の反応温度は、通常０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜２４時間、好ましくは１〜２０時間の範囲から適宜選択される。

反応終了後、得られた式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸は、後処理等をせずにそのまま次の工程に用いてもよいし、必要に応じて後処理、精製、単離等を行って次の工程に用いてもよい。後処理の具体的な方法は、工程Ａ）で述べた後処理の方法と同様である。

（３）工程Ｃ）
工程Ｃ）は、工程Ｂ−１）で得られた式（４）：

で示されるα−メチル−γ−ケト酸を還元して、ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物として式（ａ）：

で示される化合物を得る工程である。

本工程における還元反応は、特に制限されるものではないが、式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸のケトン部位を、ヒドリド還元等により還元することにより行われる。式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸の空間的に空いている側から還元試薬が近づくため、本工程では、次式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体、（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体、（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）体を立体選択的に得ることができる。

ヒドリド還元試薬としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、ジボラン、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられる。

ヒドリド還元試薬の使用量は、（４）のα−メチル−γ−ケト酸に対して０．０１〜１０モル当量、好ましくは０．１〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

必要に応じて、塩化セリウム、塩化カルシウムなどの反応助剤の存在下で還元反応を行うことにより、α−メチル−γ−ケト酸の環上のケトンを選択的に還元することができる。

還元反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒の具体例としては、工程Ｂ−１）の加水分解反応で例示した溶媒と同じものを挙げることができる。溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール類が好ましい。

溶媒の使用量は、式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸に対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

還元反応の反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜２０時間、好ましくは１〜１０時間の範囲から適宜選択される。

また、ヒドリド還元反応では、必要に応じて、塩基性条件下、遷移金属錯体及び水素ガスの存在下で不斉水素化反応させることにより、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトンを高選択的に得ることが可能である。

遷移金属錯体は、例えば、特開平１１−１８９６００号公報に記載の遷移金属錯体を使用することができる。遷移金属錯体の具体例としては、特に制限されるものではないが、ＲｕＣｌ_２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｒ）−ＤＭ−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｒ）−ＤＭ−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｓ）−Ｔｏｌ−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｓ）−Ｔｏｌ−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｓ）−ＤＭ−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］、ＲｕＣｌ_２［（Ｓ）−ＤＭ−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］等が挙げられる。
ここで、ｂｉｎａｐは２，２’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、Ｔｏｌ−ｂｉｎａｐは２，２’−ビス−（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、ＤＭ−ｂｉｎａｐは２，２’−ビス［ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル、ｄｐｅｎは１，２−ジフェニル−エチレンジアミン、ｄａｉｐｅｎは１，１−ジ（４−メトキシフェニル）−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミンを表す。

遷移金属錯体の使用量は、反応容器や反応の形式あるいは経済性によっても異なるが、反応基質であるα−メチル−γ−ケト酸に対してモル比で１／１０〜１／１００，０００の範囲、好ましくは１／５０〜１／１０，０００の範囲で用いることができる。

必要に応じて用いられる塩基としては、炭酸カリウム（Ｋ_２ＣＯ_３）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化リチウム（ＬｉＯＨ）、カリウムメトキシド（ＫＯＣＨ_３）、カリウムイソプロポキシド（ＫＯＣＨ（ＣＨ_３）_２）、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（ＫＯＣ（ＣＨ_３）_３）、リチウムメトキシド（ＬｉＯＣＨ_３）、カリウムナフタレン（ＫＣ_１０Ｈ_８）、リチウムイソプロポキシド（ＬｉＯＣＨ（ＣＨ_３）_２）等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩； ４級アンモニウム塩等が挙げられる。これらのうち、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩が好ましい。

塩基の使用量は、式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸に対して０．００１〜１０モル当量であり、好ましくは０．０１〜２モル当量である。

あるいは、ヒドリド還元反応に代えて、式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸を以下に示される式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体の光学活性体および水素供与体の存在下にて、不斉還元反応させることにより、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトンを高選択的に得ることも可能である。

以下、式（６）で示されるルテニウム錯体及び式（７）で示されるルテニウム錯体についてそれぞれ説明する。
式（６）で示されるルテニウム錯体：

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、ここで、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
Ｙは水素原子であり、
Ｗはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、
ｊ及びｋは、それぞれ独立して、０又は１であり但し、ｊ＋ｋが１になることはなく、
Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、
ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］

式（７）で表されるルテニウム錯体：

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、ここでＲ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
Ｙは水素原子であり、
Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であるが、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｑ⁻はカウンターアニオンであり、
ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］

式（６）及び（７）において、Ｒ^３１で示される炭素数１〜１０のアルキル基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。具体的なアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
式（６）及び（７）において、Ｒ^３１で示される炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等の前記した直鎖又は分岐のアルキル基において、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が１個以上置換した炭素数１〜１０のアルキル基である。具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等のパーフルオロアルキル基が挙げられる。

式（６）及び（７）において、Ｒ^３１で示される炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基のアリール基としては、フェニル基又はナフチル基等の炭素数１〜２０、好ましくは炭素数６〜１２の単環式、多環式又は縮合環式のアリール基が挙げられる。

前記アリール基の置換基である炭素数１〜１０のアルキル基としては、前記したようなアルキル基が挙げられる。
炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基としては、前記したようなハロゲン化アルキル基、例えばパーフルオロアルキル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子又は塩素原子等が挙げられる。
−ＮＲ^２０Ｒ^２１で示されるアルキルアミノ基としては、例えばＮ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基若しくはＮ−シクロヘキシルアミノ基等のモノアルキルアミノ基、又は、ジアルキルアミノ基が挙げられる。
５員若しくは６員の環状アミノ基としては、例えばピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホニル基等の、５員〜６員で１若しくは２個の窒素原子を有する不飽和又は飽和複素環基が挙げられる。
−ＣＯ−Ｒ^２０で表されるアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基、又は、ヘキサノイル基等が挙げられる。
−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０で示されるアシルアミノ基としては、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、又は、ヘキサノイルアミノ基等が挙げられる。
−ＯＲ^２０で表されるアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、５−メチルペンチルオキシ基またはシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
−ＣＯＯＲ^２０で表されるアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基または２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる
−ＳＲ^２０で表されるアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基またはシクロヘキシル基等が挙げられる。
−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２で表されるシリル基としては、例えばトリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基またはトリフェニルシリル基等が挙げられる。
上記式において、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基である。
Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２の炭素数１〜１０のアルキル基としては、前記したようなアルキル基が挙げられる。
Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２の３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基としては、単環、多環式若しくは縮合環の３〜１０個の炭素原子を有する飽和又は不飽和の３員〜７員のシクロアルキル基が挙げられる。

これらの置換基で置換されていてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−トリル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−エチルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−イソプロピルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，５−キシリル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−フルオロフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−クロロフェニル基、ならびに、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられる。

式（６）及び（７）において、Ｒ^３２及びＲ^３３で示される炭素数１〜１０のアルキル基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。具体的なアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
式（６）及び（７）において、Ｒ^３２及びＲ^３３で示される、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基における炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば前記したようなアルキル基が挙げられる。
炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられる。具体的なアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。

式（６）及び（７）において、Ｒ^３２及びＲ^３３で示される炭素数３〜８のシクロアルキル基としては、炭素数３〜８、好ましくは炭素数５〜８の単環式、多環式又は架橋式のシクロアルキル基が挙げられる。具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基などが挙げられる。これらのシクロアルキル基は、メチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基などで置換されていてもよい。
また、Ｒ^３２及びＲ^３３が一緒になって環を形成する場合、Ｒ^３２及びＲ^３３が一緒になって炭素数２〜１０、好ましくは３〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基となり、隣接する不斉炭素原子と共に４〜８員、好ましくは５〜８員のシクロアルカン環を形成する。
好ましいシクロアルカン環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環及びシクロヘプタン環が挙げられる。これらの環は置換基としてメチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基などを有していてもよい。

式（６）及び（７）で表されるａｒｅｎｅ部分において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基である。
炭素数１〜１０のアルキル基としては、前記したアルキル基が挙げられる。具体的には、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、前記してきた直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられる。具体的なアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。

式（６）及び（７）で表されるａｒｅｎｅ部位とジアミン部分を連結する鎖状部分の炭素原子に置換する置換基として表される、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
炭素数１〜１０のアルキル基としては、前記したアルキル基が挙げられる。具体的には例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、前記した直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられる。具体的なアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。
好ましい−（−Ｃ（Ｒ^１６）Ｒ^１７−）ｎ_１−基としては、例えば、−ＣＨ_２−基、−ＣＨ（ＣＨ_３）−基及び−ＣＯ−基などが挙げられるが、これらの基に限定されるものではない。
好ましい−（−Ｃ（Ｒ^１８）Ｒ^１９−）ｎ_２−基としては、例えば、−ＣＨ_２―ＣＨ_２―基などが挙げられるが、これらの基に限定されるものではない。

式（６）及び（７）においてＺは、酸素原子（−Ｏ−）又は硫黄原子（−Ｓ−）である。

式（６）においてｋ及びｊは、０又は１の整数である。但し、ｊ＋ｋが１になることはない。即ち、ｋが１であればｊも１であり、ｋが０であればｊも０である。ｋが１のときのＹは水素原子である。

式（６）においてｊが１のときのＷは、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又は、ハロゲン原子のいずれであってもよいが、好ましいＷとしてハロゲン原子が挙げられ、具体的には例えば塩素原子が好ましい。
式（６）及び（７）におけるＹ、ならびに式（６）におけるＷの水素原子としては、通常の水素原子だけでなく、水素原子の同位体であってもよい。好ましい同位体としては重水素原子が挙げられる。

式（７）におけるＱ⁻はカウンターアニオンを表す。具体的なカウンターアニオンとしては、トリフルオロメタンスルホニルオキシイオン（ＴｆＯ⁻）、ｐ−トルエンスルホニルオキシイオン（ＴｓＯ⁻）、メタンスルホニルオキシイオン（ＭｓＯ⁻）、ベンゼンスルホニルオキシイオン（ＢｓＯ⁻）などのアルキル若しくはアレーンスルホニルオキシイオン；又は、ＢＦ_４ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻、ＣＦ_３ＣＯＯ⁻、ＣＨ_３ＣＯＯ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＮＯ_３ ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＳＣＮ⁻、ＯＣＮ⁻、ＲｅＯ_４ ⁻、ＭｏＯ_４ ⁻、ＢＰｈ_４ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻、及び、Ｂ（３，５−（ＣＦ_３）_２Ｃ_６Ｆ_３）_４ ⁻などのイオンが挙げられる。

式（６）で示されるルテニウム錯体の化合物の中でも、
Ｒ^３１が、炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及び炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、
Ｙが水素原子であり、
Ｗがハロゲン原子であり、
Ｒ^３２及びＲ^３３が、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基であり、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５が、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９が、それぞれ独立して、水素原子であり、
Ｚが酸素原子又は硫黄原子であり、
ｊ＝１であり、ｋ＝１であり、
ｎ_１が１であり、ｎ_２が２である化合物が好適である。

また、式（７）で示される化合物の中でも、
Ｒ^３１が、炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基及び炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、
Ｙが水素原子であり、
Ｒ^３２及びＲ^３３が、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキル基；又は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基であり、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、
Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子であり、
Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｑ⁻はカウンターアニオンであり、
ｎ_１は１であり、ｎ_２は２である化合物が好適である。

これらの中でも、式（６）で示されるルテニウム錯体が好ましく、式（６）で示されるルテニウム錯体の中でも、以下の化合物がさらに好ましい。

これらの式（６）で示されるルテニウム錯体は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．ｓｏｃ．，２０１１，１３３，１４９６０−１４９６３、特開２０１２−６７０７１号公報、ＰＣＴ公報 ＷＯ２０１２／２６２０１Ａ１に記載の方法に従って製造することができる。式（７）で示されるルテニウム錯体は、特開２０１２−６７０７１号公報、ＰＣＴ公報 ＷＯ２０１２／２６２０１Ａ１に記載の方法に従って製造することができる。また、市販品を用いてもよい。例えば、式（６）で示されるルテニウム錯体については、ＳＴＲＥＭ社より販売されている（Ｒ，Ｒ）−Ｔｓ−ＤＥＮＥＢ^ＴＭが挙げられる。

本不斉還元反応は、式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸を水素供与体の共存下、式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体の光学活性体と反応させることにより行われる。
水素供与体としては、ギ酸又はギ酸アルカリ金属塩、水酸基が置換している炭素原子のα位に水素原子を有するアルコールであるイソプロパノール等の水素移動型還元反応に一般的に用いられるようなものであれば特に限定されない。

本不斉還元反応は、塩基の存在下で実施されることが好ましい。塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）及び１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）などの第３級有機アミン類；及びＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３などの無機塩基が挙げられる。好ましい塩基としては、トリエチルアミン、ＤＡＢＣＯが挙げられる。
塩基は、式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体に対して過剰量、例えばモル比で１〜１０００００倍の量が用いられる。トリエチルアミンを使用する場合は、ルテニウム錯体に対して、モル比で１〜１００００倍の量で用いるのが好ましい。

水素供与体と塩基との組み合わせの中で、水素供与体がギ酸の場合にはアミンを塩基として用いるのが好ましい。この場合、ギ酸とアミンは別々に反応系に添加してもよいが、あらかじめギ酸とアミンの共沸混合物を調製して用いてもよい。好ましいギ酸とアミンの共沸混合物としては、例えば、ギ酸：アミン--＝１：１〜５：２（モル比）の共沸混合物などが挙げられる。

反応は通常、水素供与体が液体であればそれを反応溶媒として利用できるが、α−メチル−γ−ケト酸を溶解させるために、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、塩化メチレン、メタノール等の非水素供与性溶媒を単独又は複数種混合して助溶媒として使用してもよい。ギ酸アルカリ金属塩を用いる時などは、ギ酸アルカリ金属塩を溶解させるため、水を助溶媒として有機溶媒と併せて用い二層系で反応を行うこともできる。この場合、反応を加速させるため相関移動触媒を併せて用いてもよい。

触媒であるルテニウム錯体の使用量は、ルテニウム金属原子（Ｃ）に対する基質であるα−メチル−γ−ケト酸（Ｓ）のモル比（Ｓ／Ｃ）が１０〜１００００００、好ましくは１００〜１５０００の範囲から選ばれる。
α−メチル−γ−ケト酸に対する水素供与体の量としては、通常等モル量以上用いられる。このうち水素供与体がギ酸又はギ酸アルカリ金属塩である場合には、１．０倍モル量以上が好ましく、また、２０倍モル量以下、好ましくは１０倍モル量以下の範囲で用いられる。一方、水素供与体がイソプロパノール等の場合には、反応平衡の観点からα−メチル−γ−ケト酸に対して大過剰量（１０モル倍以上）用いられ、通常１０００モル倍以下の範囲で用いられる。

反応温度は０〜１００℃、好ましくは０〜７０℃の範囲から選ばれる。
反応圧力は特に限定されず、通常０．０５〜０．２ＭＰａ、好ましくは常圧のもとで行われる。
反応時間は触媒比によって異なるが１〜１００時間、通常は２〜９０時間である。

以上のとおり、第１実施態様においては、工程Ａ）、工程Ｂ−１）及び工程Ｃ）により、式（ａ）：

で示される化合物を得ることができる。前述したとおり、本実施態様では、工程Ｃ）において還元反応を工夫することにより、有害な試薬または高価な試薬を用いることなく、通常の反応条件下にてワインラクトンを高選択的に得ることができる。

２．第２実施態様
本発明の第２実施態様の製造方法は、工程Ａ）、工程Ｂ−２）、工程Ｂ−３）及び工程Ｃ）を含む方法である。

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］

第２実施態様における上記工程のうち、工程Ａ）及び工程Ｃ）は、第１実施態様の工程Ａ）及び工程Ｃ）と同じであるので、ここでは説明を繰り返さない。以下、工程Ｂ−２）及び工程Ｂ−３）について具体的に説明する。

（１）工程Ｂ−２）
工程Ｂ−２）は、工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：

［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程である。

本反応に使用するメチルビニルケトンは、第１実施態様で述べたとおり、市販品または合成品の何れを使用することもできる。
メチルビニルケトンの使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して通常０．５〜１０モル当量、好ましくは０．８〜１．５モル当量の範囲から適宜選択される。

工程Ｂ−２）では塩基性条件下にて反応を行う。使用する塩基としては無機塩基及び有機塩基等が挙げられる。無機塩基及び有機塩基としては、工程Ｂ−１）と同じものを使用できる。

塩基の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．０００１〜１０モル当量、好ましくは０．０００５〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

反応は、溶媒の存在下で行うことが好ましい。溶媒の具体例としては、工程Ｂ−１）における式（３）で示される２−アセト−３−メチルーコハク酸エステルとメチルビニルケトンとの反応で例示した溶媒と同じものを挙げることができる。溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、アルコール類またはスルホキシド類が好ましい。

溶媒の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

上記反応の反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜２０時間、好ましくは１〜１０時間の範囲から適宜選択される。

工程Ｂ−２）では、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルとメチルビニルケトンとを塩基性条件下にて反応させた後、続いて脱炭酸反応を行う。脱炭酸反応は、無機塩を添加して行うことが好ましい。なお、脱炭酸反応を行う際は、溶媒を除去せずに反応を行ってもよいし、溶媒を除去した後に反応を行ってもよい。あるいは、溶媒を除去した後に新たに溶媒を添加して反応を行うこともできる。

脱炭酸反応に使用する無機塩としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化マグネシウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、シアン化ナトリウム、シアン化マグネシウム、シアン化カリウム、シアン化カルシウム等が挙げられる。中でも、塩化ナトリウム、塩化マグネシウムが好ましい。

無機塩の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．０１〜１０モル当量、好ましくは０．１〜５モル当量の範囲から適宜選択される。

脱炭酸反応の際に使用する溶媒の具体例としては、工程Ｂ−１）における式（３）で示される２−アセト−３−メチルーコハク酸エステルとメチルビニルケトンとの反応で例示した溶媒と同じものを挙げることができる。溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でもスルホキシド類が好ましい。

脱炭酸反応の際に使用する溶媒の使用量は、式（３）で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルに対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

脱炭酸反応の反応温度は、通常５０〜１３０℃、好ましくは８０〜１３０℃の範囲から適宜選択される。反応時間は、通常０．５〜３０時間、好ましくは１〜２０時間の範囲から適宜選択される。

上記反応終了後、得られた式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルは、後処理等をせずにそのまま次の工程に用いてもよく、必要に応じて後処理、精製、単離等を行って次の工程に用いてもよい。後処理の具体的な方法は、前記と同じである。

（２）工程Ｂ−３）
工程Ｂ−３）は、工程Ｂ−２）で得られた式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを加水分解して、式（４）：

で示されるα−メチル−γ−ケト酸を得る工程である。

式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルの加水分解は、酸または塩基の存在下で行うことが好ましい。使用できる酸または塩基の具体例は、工程Ｂ−１）における加水分解に使用できる化合物として例示したものを挙げることができる。

酸の使用量は、式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルに対して、通常０．００１〜１０モル当量、好ましくは０．０１〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

塩基の使用量は、式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルに対して０．００１〜１０モル当量、好ましくは０．０１〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

本工程において、加水分解は、溶媒の存在下で行ってもよいし、無溶媒下で行ってもよい。
溶媒の存在下で加水分解を行う場合、使用できる溶媒としては、工程Ｂ−１）において加水分解に使用できる溶媒として例示したものと同じものを挙げることができる。中でも、アルコール類、スルホキシド類、水が好ましい。

溶媒の使用量は、式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルに対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。

反応温度は、通常０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜２４時間、好ましくは１〜２０時間の範囲から適宜選択される。

反応終了後、得られた式（４）で示されるα−メチル−γ−ケト酸は、後処理等をせずにそのまま次の工程に用いてもよいし、必要に応じて後処理、精製、単離等を行って次の工程に用いてもよい。後処理の具体的な方法は、前記と同じである。

第２実施態様においても、工程Ｂ−３）に続いて行う工程Ｃ）において還元反応を工夫することにより、有害な試薬または高価な試薬を用いることなく、通常の反応条件下にてワインラクトンを高選択的に得ることができる。

３．第３実施態様
本発明の第３実施態様の製造方法は、工程Ａ）、工程Ｂ−２)及び工程Ｅ）を含む方法である。

［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］

第３実施態様における上記工程のうち、工程Ａ）は第１実施態様の工程Ａ）、工程Ｂ−２）は第２実施態様の工程Ｂ−２）と同じであるので、ここでは説明を繰り返さない。以下、工程Ｅ）について具体的に説明する。

（１）工程Ｅ）
工程Ｅ）の第１の態様は、工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体及び水素供与体の存在下にて還元反応させ、式（ａ）：

で示される化合物を得る工程である。

式（６）で示されるルテニウム錯体及び式（７）で示されるルテニウム錯体は、前記した第１実施態様の工程Ｃ）で説明したものと同じものを用いることができる。好ましい化合物についても同様であるので、ここでは説明を繰り返さない。但し、工程Ｅ）において式（６）及び（７）における＊印は、当該＊印が付されている炭素原子が不斉炭素原子となる場合があることを示している。当該炭素原子が不斉炭素原子となる場合には、光学活性体であってもよいし、光学活性体の混合物であってもよいし、ラセミ体（ラセミ化合物を含む）であってもよい。これらの中でも、式（６）及び（７）は光学活性体であることが好ましい。

これらの中でも、式（６）で示されるルテニウム錯体が好ましく、式（６）で示されるルテニウム錯体の中でも、以下の化合物がさらに好ましい。

工程Ｅ）は、式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを水素供与体の共存下、式（６）及び（７）から選ばれるルテニウム錯体と反応させることにより行われる。
水素供与体としては、ギ酸又はギ酸アルカリ金属塩、水酸基が置換している炭素原子のα位に水素原子を有するアルコールであるイソプロパノール等の水素移動型還元反応に一般的に用いられるようなものであれば特に限定されない。
工程Ｅ）は、塩基の存在下で実施されることが好ましい。塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）などの第３級有機アミン類やＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｋ_２ＣＯ_３などの無機塩基が挙げられる。好ましい塩基は、トリエチルアミン、ＤＡＢＣＯである。
塩基は、式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体に対して過剰量、例えばモル比で１〜１０００００倍の量で用いられる。トリエチルアミンを使用する場合は、ルテニウム錯体に対して、モル比で１〜１００００倍の量で用いるのが好ましい。
水素供与体と塩基との組み合わせの中で、水素供与体がギ酸の場合にはアミンを塩基として用いるのが好ましい。この場合、ギ酸とアミンは別々に反応系に添加してもよいが、あらかじめギ酸とアミンの共沸混合物を調製して用いてもよい。好ましいギ酸とアミンの共沸混合物としては、例えば、ギ酸：アミン＝１：１〜５：２（モル比）の共沸混合物などが挙げられる。

反応は通常、水素供与体が液体であればそれを反応溶媒として利用できるが、α−メチル−γ−ケト酸エステルを溶解させるために、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、塩化メチレン、メタノール等の非水素供与性溶媒を単独又は複数種混合して助溶媒として使用することも可能である。ギ酸アルカリ金属塩を用いる時などは、ギ酸アルカリ金属塩を溶解させるため水を助溶媒として有機溶媒と併せて用い二層系で反応を行うこともできる。この場合、反応を加速させるため相関移動触媒を併せて用いてもよい。

触媒であるルテニウム錯体の使用量は、ルテニウム金属原子（Ｃ）に対する基質であるα−メチル−γ−ケト酸エステル（Ｓ）のモル比（Ｓ／Ｃ）が１０〜１００００００、好ましくは１００〜１５０００の範囲から選ばれる。
α−メチル−γ−ケト酸エステルに対する水素供与体の量としては、通常等モル量以上用いられる。このうち水素供与体がギ酸又はギ酸アルカリ金属塩である場合には、１．０倍モル量以上が好ましく、また、２０倍モル量以下、好ましくは１０倍モル量以下の範囲で用いられる。一方、水素供与体がイソプロパノール等の場合には、反応平衡の観点からα−メチル−γ−ケト酸エステルに対して大過剰量（１０モル倍以上）用いられ、通常１０００モル倍以下の範囲で用いられる。

反応温度は０〜１００℃、好ましくは０〜７０℃の範囲から選ばれる。
反応圧力は特に限定されず、通常０．０５〜０．２ＭＰａ、好ましくは常圧のもとで行われる。
反応時間は触媒比によって異なるが１〜１００時間、通常は２〜９０時間である。

工程Ｅ）の第２の態様は、工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを塩基性条件下、式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体および水素ガスの存在下にて不斉水素化反応させることにより、式（ａ）：

で示される化合物を得る工程である。

以下、式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体について説明する。
式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体：

［式中、Ｐ⌒Ｐは光学活性ジホスフィンであり、
Ｖはアニオン性基であり、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基であり、あるいは、Ｒ^ｂとＲ^ｃとでアルキレン基又はアルキレンジオキシ基を形成してもよく、
Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、又は、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基であり、但し、Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ^Ｎ１とＲ^ａとでアルキレン基を形成してもよく、
ｎは０〜３の整数であり、
Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基である。］

式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体のうち、下記式（９）で示される光学活性ルテニウム錯体が好ましい。

［式中、Ｐ⌒Ｐは光学活性ジホスフィンであり、
Ｖはアニオン性基であり、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基であり、あるいは、Ｒ^ｂとＲ^ｃとでアルキレン基又はアルキレンジオキシ基を形成してもよく、
Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ及びＲ^ｇは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜２０アルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換基を有してもよい３置換シリル基、又は、置換基を有してもよい炭素数１〜２０アルコキシ基であり、
Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、又は、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基であり、但し、Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ^Ｎ１とＲ^ａとでアルキレン基を形成してもよい。］

さらには、式（８）及び（９）で示される光学活性ルテニウム錯体のうち、下記式（１０）で示される光学活性ルテニウム錯体がより好ましい。

［式中、Ｐ⌒Ｐは光学活性ジホスフィンであり、
Ｖはアニオン性基であり、
Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基であり、
Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、又は、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基であり、但し、Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ^Ｎ１とＲ^ａとでアルキレン基を形成してもよい。］

式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体において、Ａｒで表される、置換基を有していてもよいアリーレン基としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１２の単環式、多環式又は縮合環式の二価のアリーレン基、又は、１〜４個、好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個の窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる異種原子を含有する３〜８員、好ましくは５〜８員の環を有する単環式、多環式又は縮合環式の二価のヘテロアリーレン基が挙げられる。好ましいアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ピリジンジイル基、チオフェンジイル基、フランジイル基等が挙げられるが、フェニレン基が特に好ましい。二価のアリーレン基の結合する位置は特に制限はないが、隣接する２個の炭素原子の位置（オルト位）が好ましい。
また、前記アリーレン基に置換する置換基としては、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルコキシ基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基、及び、三置換シリル基等が挙げられる。

以下、アリーレン基に置換する置換基について説明する。
直鎖又は分岐のアルキル基としては、例えば炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。該アルキル基はフッ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基等が挙げられる。

直鎖又は分岐のアルコキシ基としては、例えば炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられる。具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基及びｔ−ブトキシ基などが挙げられる。
シクロアルキル基としては、炭素数３〜１５、好ましくは炭素数５〜７の飽和又は不飽和の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられ、具体的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。これらシクロアルキル基の環上においては、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基で、１又は２個以上置換されていてもよい。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。

アリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基及びビフェニル基などが挙げられる。これらアリール基は１又は２以上の置換基を有していてもよく、該置換基としては、前述したような炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基などが挙げられる。
ヘテロアリール基としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等を含む５員環又は６員環状の基が挙げられる。具体的には、フリル基、チエニル基、ピリジル基等が挙げられる。
三置換シリル基としては、前記したアルキル基やアリール基で三置換されたシリル基が挙げられる。例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが挙げられる。

式（８）、（９）及び（１０）において、Ｖで表されるアニオン性基としては、ヒドリドイオン（Ｈ⁻）；塩素イオン（Ｃｌ⁻）、臭素イオン（Ｂｒ⁻）、又は、ヨウ素イオン（Ｉ⁻）等のハロゲンイオン；ＢＨ_４、ＢＦ_４、ＢＰｈ_４、ＰＦ_６、アセトキシ基（ＯＡｃ）、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基（ＯＴｆ）等の複合アニオンなどが挙げられる。これらの中でもハロゲンイオンが好ましい。

式（８）、（９）及び（１０）におけるＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、Ｒ^ｇ、Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４で表される基を以下に説明する。

Ｃ_１〜Ｃ_２０アルキル基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜５、より好ましくは炭素数１〜４の直鎖状又は分枝状のアルキル基が挙げられる。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。
Ｃ_２〜Ｃ_２０アルケニル基としては、炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６の直鎖状又は分枝状のアルケニル基が挙げられる。例えば、エテニル基、ｎ−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、１−ブテン−２−イル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。
Ｃ_１〜Ｃ_２０アルコキシ基としては、前記した炭素数１〜２０のアルキル基に酸素原子結合した基が挙げられる。例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基及びｔ−ブトキシ基などが挙げられる。

炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリクロロメチル基などが挙げられる。
Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基としては、炭素数３〜８、好ましくは炭素数５〜７の飽和又は不飽和の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられる。例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。
三置換シリル基としては、前記したアルキル基又はアリール基で三置換されたシリル基が挙げられる。例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基などが挙げられる。

Ｃ_７〜Ｃ_２０アラルキル基としては、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１４の単環式、多環式又は縮合環式のアリール基に、前記した炭素数１〜１９のアルキル基が結合した、炭素数７〜２０、好ましくは炭素数７〜１５、炭素数７〜１０のアラルキル基が挙げられる。例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基等が挙げられる。

また、前記Ｃ_１〜Ｃ_２０アルキル基、Ｃ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、Ｃ_１〜Ｃ_２０アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、Ｃ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、三置換シリル基、及びＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基に置換する置換基としては、前述したような直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルコキシ基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、アリール基、及び、三置換シリル基等が挙げられる。

置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数６〜１４、炭素数６〜１２の単環式、多環式又は縮合環式のアリール基が挙げられる。具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基などが挙げられ、フェニル基が好ましい。これらアリール基は１又は２個以上の置換基を有していてもよい。該置換基としては、前述したようなメチル基、イソプロピル基及びｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基及びｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基などが挙げられる。

置換基を有していてもよいヘテロ環基としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等を含む飽和又は不飽和の５員環又は６員環状の基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基等が挙げられる。これらヘテロ環基は１又は２個以上の置換基を有していてもよい。該置換基としては、前述したようなメチル基、イソプロピル基及びｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基及びｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基などが挙げられる。

Ｒ^ｂとＲ^ｃとで形成するアルキレン基としては、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキレン基が挙げられる。例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基等が挙げられ、これらアルキレン基は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ^ｂとＲ^ｃとで形成するアルキレンジオキシ基としては、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキレンジオキシ基が挙げられる。例えば、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基等が挙げられる。
Ｒ^Ｎ１とＲ^ａとで形成するアルキレン基としては、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキレン基が挙げられる。例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基等が挙げられ、これらアルキレン基は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されていてもよい。

本発明の式（８）、（９）及び（１０）において、Ｐ⌒Ｐで表される光学活性ジホスフィン（ビスホスフィンということもある。）としては、ルテニウムに配位することができるジホスフィンであれば特に制限はないが、例えば下記式（１１）で表されるものが挙げられる。
Ｒ^４１Ｒ^４２Ｐ−Ｔ−ＰＲ^４３Ｒ^４４ （１１）
（式中、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^４１とＲ^４２とで、及び／又は、Ｒ^４３とＲ^４４とで環を形成してもよく、
Ｔは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいビフェニルジイル基、置換基を有していてもよいビナフタレンジイル基、置換基を有していてもよいビピリジンジイル基、置換基を有していてもよいパラシクロファンジイル基、又は、置換基を有していてもよいフェロセンジイル基である。）

式（１１）中、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４で表される、置換基を有していてもよいアリール基のアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基などが挙げられる。

これらアリール基は１又は２個以上の置換基を有していてもよく、該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
該アリール基の置換基としてのアルキル基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。具体例としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基及びｔ−ブチル基などが挙げられる。
前記アリール基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられる。具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基及びｔ−ブトキシ基などが挙げられる。

Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４で表される、置換基を有していてもよいシクロアルキル基のシクロアルキル基としては、５員環又は６員環のシクロアルキル基が挙げられる。好ましいシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。これらシクロアルキル基の環上においては、前記アリール基の置換基として挙げたようなアルキル基又はアルコキシ基などの置換基で、１又は２個以上置換されていてもよい。
Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４で表される、置換基を有していてもよいアルキル基のアルキル基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。具体例としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基及びｔ−ブチル基などが挙げられる。これらのアルキル基においては、前記アリール基の置換基として挙げたようなアルコキシ基などの置換基で、１又は２個以上置換されていてもよい。
Ｒ^４１とＲ^４２とで、及び／又は、Ｒ^４３とＲ^４４とで形成してもよい環としては、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４が結合しているリン原子を含めた環として、四員環、五員環又は六員環の環が挙げられる。具体的な環としては、ホスフェタン環、ホスホラン環、ホスファン環、２，４−ジメチルホスフェタン環、２，４−ジエチルホスフェタン環、２，５−ジメチルホスホラン環、２，５−ジエチルホスホラン環、２，６−ジメチルホスファン環、２，６−ジエチルホスファン環などが挙げられる。これらの環は光学活性体でもよい。

Ｔは、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいビフェニルジイル基、置換基を有していてもよいビナフタレンジイル基、置換基を有していてもよいビピリジンジイル基、置換基を有していてもよいパラシクロファンジイル基、及び、置換基を有していてもよいフェロセンジイル基などが挙げられる。
二価のアリーレン基としては、Ｒ^４１〜Ｒ^４４で説明したアリール基から誘導される二価のアリーレン基が挙げられる。好ましいアリーレン基としてはフェニレン基が挙げられる。フェニレン基としては、ｏ又はｍ−フェニレン基が挙げられる。該アリーレン基の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基及びｔ−ブチル基などの炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基及びｔ−ブトキシ基などの炭素数１〜６のアルコキシ基；水酸基；アミノ基；又は、置換アミノ基などが挙げられる。
ビフェニルジイル基、ビナフタレンジイル基及びビピリジンジイル基としては、軸不斉構造を有する１，１’−ビアリール−２，２’−ジイル型の構造を有するものが好ましい。該ビフェニルジイル基、ビナフタレンジイル基及びビピリジンジイル基の置換基としては、前記した二価のアリーレン基の置換基として列挙した基、又は、例えばメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基などのアルキレンジオキシ基などが挙げられる。
パラシクロファンジイル基及びフェロセンジイル基の置換基としては、前記ビフェニルジイル基の置換基として説明した基が挙げられる。
これらの置換アミノ基としては、炭素数１〜６のアルキルが１又は２個以上置換されたアミノ基が挙げられる。

式（１１）で表される光学活性ジホスフィンの具体例としては、例えば公知の光学活性なジホスフィン類が挙げられ、そのうちの好ましい例の一つとして下記式（１２）で表される化合物が挙げられる。

［式中、＊は不斉炭素原子であり、
Ｒ^４１’、Ｒ^４２’、Ｒ^４３’及びＲ^４４’は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよいフェニル基；炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよいシクロペンチル基；又は、炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよいシクロヘキシル基であり、
Ｒ^４５、Ｒ^４６、Ｒ^４７、Ｒ^４８、Ｒ^４９及びＲ^５０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数１〜４のハロゲン化アルキル基、又は、ジアルキルアミノ基であり、
Ｒ^４５、Ｒ^４６及びＲ^４７のうちの二つにより、置換基を有していてもよいアルキレン基；置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基；又は、置換基を有していてもよい芳香環を形成していてもよく、
Ｒ^４８、Ｒ^４９及びＲ^５０のうちの二つにより、置換基を有していてもよいアルキレン基；置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基；又は、置換基を有していてもよい芳香環を形成していてもよく、
Ｒ^４７とＲ^４８とで置換基を有していてもよいアルキレン基；置換基を有していてもよいアルキレンジオキシ基；又は、置換基を有していてもよい芳香環を形成していてもよい。但し、Ｒ^４７とＲ^４８は水素原子ではない。］

式（１２）における炭素数１〜４のアルキル基としては、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが挙げられる。
炭素数１〜４のアルコキシ基としては、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基及びｔ−ブトキシ基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。
炭素数１〜４のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリクロロメチル基などが挙げられる。
ジアルキルアミノ基は、前記アルキル基が置換したアミノ基が挙げられる。

Ｒ^４５、Ｒ^４６及びＲ^４７のうちの２つ、またはＲ^４８、Ｒ^４９及びＲ^５０のうちの２つにより形成されるアルキレン基としては、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキレン基が挙げられる。例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。アルキレン基の置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基などが挙げられる。
Ｒ^４５、Ｒ^４６及びＲ^４７のうちの２つ、またはＲ^４８、Ｒ^４９及びＲ^５０のうちの２つにより形成されるアルキレンジオキシ基としては、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキレンジオキシ基が挙げられる。例えば、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基等が挙げられる。アルキレンジオキシ基の置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基などが挙げられる。
Ｒ^４５、Ｒ^４６及びＲ^４７のうちの２つ、又は、Ｒ^４８、Ｒ^４９及びＲ^５０のうちの２つにより形成される芳香環は、隣接する原子と共に６員の芳香環を形成する場合が挙げられる。芳香環の置換基としては、アルキル基やアルコキシ基などが挙げられる。

式（１２）における好ましい例としては、例えば、Ｒ^４１’、Ｒ^４２’、Ｒ^４３’及びＲ^４４’は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基からなる群より選ばれる置換基で、単数又は複数個置換されていてもよいフェニル基であって、Ｒ^４６とＲ^４７とでテトラメチレン基；炭素数１〜４のアルキル基若しくはフッ素原子などで置換されていてもよいメチレンジオキシ基；又は、隣接する炭素原子と共にベンゼン環を形成し、Ｒ^４８とＲ^４９とでテトラメチレン基；炭素数１〜４のアルキル基若しくはフッ素原子などで置換されていてもよいメチレンジオキシ基；又は、隣接する炭素原子と共にベンゼン環を形成する場合が挙げられる。

式（１２）で示される光学活性なジホスフィン類のさらに好ましい例としては、下記の式（１３）又は（１４）で示される光学活性ジホスフィンが挙げられる。

式（１３）におけるＲ^Ｐ１及びＲ^Ｐ２の具体例、及び、式（１４）におけるＲ^Ｐ３及びＲ^Ｐ４の具体例としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、３，５−キシリル基、３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基などが挙げられる。これらの中でも、３，５−キシリル基が好ましい。

式（１０）で示される光学活性ルテニウム錯体の化合物の中でも、
Ｐ⌒Ｐが式（１４）で示される光学活性ジホスフィンであり、
Ｖがハロゲンイオンであり、
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基であり、
Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４が、水素原子である化合物が好適である。

特に、式（１０）で示される光学活性ルテニウム錯体のうち、以下の化合物が好ましい。なお、以下の化合物中、Ｍｅはメチル基を表す。

式（８）、（９）及び（１０）で示される光学活性ルテニウム錯体は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，２０１１，１３３，１０６９６−１０６９９、特開２０１１−２４６４３５号公報、ＰＣＴ国際公報 ＷＯ２０１１／１３５７５３Ａ１に記載の方法に従って製造することができる。また、市販品を用いてもよい。例えば、ＳＴＲＥＭ社より販売されている（Ｒ）−ＲＵＣＹ^ＴＭ−ＸｙｌＢＩＮＡＰや（Ｓ）−ＲＵＣＹ^ＴＭ−ＸｙｌＢＩＮＡＰが挙げられる。

式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体の使用量は、反応容器や反応の形式あるいは経済性によっても異なるが、反応基質である式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルに対してモル比で１／１０〜１／１００，０００の範囲、好ましくは１／５０〜１／１０，０００の範囲で用いることができる。

用いられる塩基としては、炭酸カリウム（Ｋ_２ＣＯ_３）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）、水酸化リチウム（ＬｉＯＨ）、カリウムメトキシド（ＫＯＣＨ_３）、カリウムイソプロポキシド（ＫＯＣＨ（ＣＨ_３）_２）、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（ＫＯＣ（ＣＨ_３）_３）、リチウムメトキシド（ＬｉＯＣＨ_３）、カリウムナフタレン（ＫＣ_１０Ｈ_８）、リチウムイソプロポキシド（ＬｉＯＣＨ（ＣＨ_３）_２）等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩；４級アンモニウム塩等が挙げられる。これらのうち、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩が好ましい。

塩基の使用量は、式（５）で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルに対して０．００１〜１０モル当量であり、好ましくは０．０１〜２モル当量である。

反応は、無溶媒又は溶媒中で好適に実施することができるが、溶媒を使用することが好ましい。用いられる溶媒としては、基質及び触媒を溶解できるものが好ましく、単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素；塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブチルアルコール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール及びグリセリン等の多価アルコール類が挙げられる。これらの中でも、エーテル類又はアルコール類が好ましく、特に好ましい溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール又は２−プロパノールが挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。

反応温度は、０℃〜１００℃が好ましく、より好ましくは０℃〜５０℃の範囲である。反応温度が低すぎると未反応の原料が多く残存する場合があり、また高すぎると、原料、触媒等の分解が起こる場合があり、好ましくない。
水素の圧力は、本触媒系が極めて高活性であることから常圧で十分反応は進行するが、好ましくは０．１ＭＰａ〜１０ＭＰａ、より好ましくは０．１ＭＰａ〜６ＭＰａ、さらに好ましくは０．１ＭＰａ〜３ＭＰａである。
反応時問は１分間〜７２時間、好ましくは３０分間〜４８時間である。

工程Ｅ）において、式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体を使用して還元反応することにより、また、式（８）で示される光学活性なルテニウム錯体を使用して不斉水素化反応することにより、有害な試薬または高価な試薬を用いることなく、通常の反応条件下にてワインラクトンを高選択的に得ることができる。

以上のとおり、第３実施態様においては、工程Ｂ−２）に続いて行う工程Ｅ）において式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体を使用して還元反応することにより、また、式（８）で示される光学活性なルテニウム錯体を使用して不斉水素化反応させることにより、式（ａ）で示される化合物を簡便に製造することができる。
特に、工程Ｅ）において式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体の光学活性体を使用して不斉還元反応させること、あるいは、式（８）で示される光学活性なルテニウム錯体を使用して不斉水素化反応させることにより、選択的に（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体を製造することができる。特に、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を高選択的に製造することができる。工程Ｅ）の後に、さらに工程Ｄ）である蒸留を行うことにより、（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体が（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体に異性化するため、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトンを、簡便に、高選択的に、光学純度が高く、かつ高収率で製造することができる。

工程Ｄ）
本発明の製造方法においては、第１実施態様、第２実施態様、及び第３実施態様で得られた化合物をさらに塩基性条件下にて蒸留することにより、次式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を選択的に製造することができる。第１実施態様、第２実施態様及び第３実施態様においては、上記工程（工程Ｄ））をさらに含むことが好ましい。

工程Ｄ）は塩基性条件下にて行う。本工程で使用する塩基としては、無機塩基及び有機塩基等が挙げられる。無機塩基及び有機塩基の具体例としては、第１実施態様の工程Ａ）で例示したものを挙げることができる。それらの中でも、有機塩基が好ましい。中でもナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドが好ましい。

塩基の使用量は、式（ａ）で示される化合物に対して０．００１〜１０モル当量、好ましくは０．０１〜３モル当量の範囲から適宜選択される。

蒸留は、次式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物と、（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物とが十分に分離される条件であればよい。（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物と、（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物とは、沸点が異なるため、沸点差を利用して分離することができる。

例えば、充填塔等を用いて蒸留を行うことで、上記の条件を満たすことができる。
使用する充填物としては、ラシヒリング、レッシングリング、ポールリング、スルーザーパッキン等が挙げられる。
蒸留温度は、式（ａ）：

で示される化合物の３位のメチル基の異性化反応が進行する温度以上が好ましく、通常０〜１３０℃であるが、好ましくは５０〜１３０℃の範囲から適宜選択される。

ワインラクトンすなわち（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体は、香質に優れており、香りの強度も強い。そのため、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を蒸留により選択的に製造することは、経済的観点からも好ましい。

本発明の好ましい態様によれば、工程Ｄ）により、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物が、工程Ｃ）で得られた式（ａ）で示される化合物、特に（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体、（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体、（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）体の全重量に対して９０重量％以上含有する式（ａ）で示される化合物を製造することができる。

また、第１及び第２実施態様の工程Ｃ）の還元反応において、式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下で不斉還元反応させること； 第３実施態様の工程Ｅ）において式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下で不斉還元反応させること；あるいは、第３実施態様の工程Ｅ）において式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体及び水素ガスの存在下にて不斉水素化反応させることにより、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を選択的に製造してから、工程Ｄ）を行うことにより、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物中の（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を多く含有するジアステレオマー異性体混合物を製造することができる。
さらには、第３実施態様の工程Ｅ）において式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下で不斉還元反応させてから、工程Ｄ）を行うことにより、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を、工程Ｅ）で得られた式（ａ）で示される化合物、特に（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体、（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体、（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）体の全重量に対して８５重量％以上含有する式（ａ）で示される化合物を製造することができる。

工程Ｆ）
第１実施態様及び第２実施態様の工程Ｃ）の還元反応において式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下で不斉還元反応させる場合；第３実施態様の工程Ｅ）において一般式（６）または（７）で示されるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下で不斉還元反応させる場合；あるいは、第３実施態様の工程Ｅ）において式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体と水素ガスとの存在下にて不斉水素化反応させる場合；その後に行う工程Ｄ）の蒸留により収率よく（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトンを製造できるが、得られた高収率の（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトンを、再結晶（工程Ｆ））によりさらに精製することで、ほぼ純粋な（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトン、つまり高光学純度の（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体のワインラクトンを製造することが可能である。

工程Ｆ）で使用する溶媒としては、特に制限されないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類； ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類； ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類； ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類； メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−エトキシエタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類； エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール、グリセリン等の多価アルコール類； ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の酸類； ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類； Ｎ−メチルピロリドン、水等が挙げられる。
これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、脂肪族炭化水素類及びアルコール類が好ましい。
溶媒の使用量は、次式：

で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物に対して、通常０．５〜１００倍容量、好ましくは１〜４０倍容量の範囲から適宜選択される。
再結晶の反応温度は、通常０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜８０℃の範囲から適宜選択される。また、反応時間は、通常０．５〜４８時間、好ましくは１〜２4時間の範囲から適宜選択される。

上述したとおり、本発明では、全ての製造工程が０℃以上１３０℃以下で行われ、極度の低温や高温を必要とせずにワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を製造することができる。

さらには、全ての製造工程においてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製工程を特に必要とせずにワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を製造することができる。

本発明で得られたワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物は、飲食品、香粧品、日用・雑貨品、口腔用組成物、医薬品等に添加することができる。

ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を飲食品、香粧品、日用・雑貨品、口腔用組成物、医薬品に添加することにより、これらの製品に果汁感や完熟感、ボディ感を与えることができる。
飲食品としては、例えば、果汁飲料類、果実酒類、乳飲料類、炭酸飲料、清涼飲料、ドリンク剤類などの飲料類； アイスクリーム類、シャーベット類、アイスキャンディー類などの冷菓類；ゼリー、プリンなどのデザート類； ケーキ、クッキー、チョコレート、チューインガムなどの洋菓子類； 饅頭、羊羹、ウイロウなどの和菓子類； ジャム類； キャンディー類； パン類； 緑茶、ウーロン茶、紅茶、柿の葉茶、カミツレ茶、クマザサ茶、桑茶、ドクダミ茶、プアール茶、マテ茶、ルイボス茶、ギムネマ茶、グアバ茶、コーヒー、ココアなどの茶飲料または嗜好飲料類； 和風スープ、洋風スープ、中華スープなどのスープ類； 風味調味料； 各種インスタント飲料または食品類； 各種スナック食品類などを挙げることができる。

香粧品としては、例えば、フレグランス製品、基礎化粧品、仕上げ化粧品、頭髪化粧品、日焼け化粧品、薬用化粧品などを挙げることができる。

具体的には、フレグランス製品としては、例えば、香水、オードパルファム、オードトワレ、オーデコロンなど；
基礎化粧品としては、例えば、洗顔クリーム、バニシングクリーム、クレンジングクリーム、コールドクリーム、マッサージクリーム、乳液、化粧水、美容液、パック、メイク落としなど；
仕上げ化粧品としては、例えば、ファンデーション、粉おしろい、固形おしろい、タルカムパウダー、口紅、リップクリーム、頬紅、アイライナー、マスカラ、アイシャドウ、眉墨、アイパック、ネイルエナメル、エナメルリムーバーなど；
頭髪化粧品としては、例えば、ポマード、ブリランチン、セットローション、ヘアースティック、ヘアーソリッド、ヘアーオイル、ヘアートリートメント、ヘアークリーム、ヘアートニック、ヘアーリキッド、ヘアースプレー、バンドリン、養毛剤、染毛剤など；
日焼け化粧品としては、例えば、サンタン製品、サンスクリーン製品など；
薬用化粧品としては、例えば、制汗剤、アフターシェービングローション、ジェル、パーマネントウェーブ剤、薬用石鹸、薬用シャンプー、薬用皮膚化粧料など；
が挙げられる。

日用・雑貨品としては、例えば、ヘアケア製品、石鹸、身体洗浄剤、浴用剤、洗剤、柔軟仕上げ剤、洗浄剤、台所用洗剤、漂白剤、エアゾール剤、消臭・芳香剤、雑貨、シェービング製品、スキンケア製品、忌避剤、煙草製品などを挙げることができる。

具体的には、ヘアケア製品としては、例えば、シャンプー、リンス、リンスインシャンプー、コンディショナー、トリートメント、ヘアパックなど；
石鹸としては、例えば、化粧石鹸、浴用石鹸、香水石鹸、透明石鹸、合成石鹸など；
身体洗浄剤としては、例えば、ボディソープ、ボディシャンプー、ハンドソープなど；
浴用剤としては、例えば、入浴剤（バスソルト、バスタブレット、バスリキッド等）、フォームバス（バブルバス等）、バスオイル（バスパフューム、バスカプセル等）、ミルクバス、バスジェリー、バスキューブなど；
洗剤としては、例えば、衣料用重質洗剤、衣料用軽質洗剤、液体洗剤、洗濯石鹸、コンパクト洗剤、粉石鹸など；
柔軟仕上げ剤としては、例えば、ソフナー、ファーニチャーケアなど；
洗浄剤としては、例えば、クレンザー、ハウスクリーナー、トイレ洗浄剤、浴室用洗浄剤、ガラスクリーナー、カビ取り剤、排水管用洗浄剤など；
台所用洗剤としては、例えば、台所用石鹸、台所用合成石鹸、食器用洗剤など；
漂白剤としては、例えば、酸化型漂白剤（塩素系漂白剤、酸素系漂白剤等）、還元型漂白剤（硫黄系漂白剤等）、光学的漂白剤など）など；
エアゾール剤としては、例えば、スプレータイプ、パウダースプレーなど；
消臭・芳香剤としては、例えば、固形状タイプ、ゲル状タイプ、リキッドタイプなど；
雑貨としては、例えば、ティッシュペーパー、トイレットペーパーなど；
シェービング製品としては、例えば、シェービングフォームなど；
スキンケア製品としては、ハンドクリーム、ボディクリーム、ボディーローションなど；
を挙げることができる。

口腔用組成物としては、例えば、歯磨き剤、口腔洗浄料、マウスウォッシュ、トローチ、チューインガム類などを挙げることができる。
医薬品としては、例えば、ハップ剤、軟膏剤などの皮膚外用剤、内服剤などを挙げることができる。

以下、実施例を用いて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。

［測定機器］
実施例において得られた化合物の物性の測定には次の機器を用いた。
（１）ＮＭＲ：ＤＲＸ５００（Ｂｒｕｋｅｒ社製）
（２）ＧＣ／ＭＳ：ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０（島津製作所社製）
カラム：ＲＴＸ−１（長さ３０ｍ×内径０．２５ｍｍ、液相膜厚０．２５μｍ）
（３）ガスクロマトグラフィー純度分析：ＧＣ−４０００（ＧＬサイエンス製）
カラム：ＲＴＸ−１（長さ３０ｍ×内径０．２５ｍｍ、液相膜厚０．２５μｍ）
温度条件：カラム１００℃→２５０℃（１０℃／分）
注入口２５０℃、検出器２５０℃（ＦＩＤ）
（４）光学純度分析（ガスクロマトグラフィー）：ＧＣ−４０００（ＧＬサイエンス製）
カラム：Beta DEX^TM-225（長さ３０ｍ×内径０．２５ｍｍ、液相膜厚０．２５μｍ）
温度条件：カラム１００℃→２００℃（2℃／分）
注入口２００℃、検出器２００℃（ＦＩＤ）
融点測定器：YANAGIMOTO MICRO MELTING POINT APPARATUS

なお、以下の式中、Ｍｅはメチル基を表す。

〔実施例１〕
［１］工程Ａ

窒素気流下、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液５７７．５ｇ（２．９９ｍｏｌ）及びメタノール５００ｍｌを内温３℃で撹拌し、アセト酢酸メチル（１−１）３４７．６ｇ（２．９９ｍｏｌ）を滴下した後、２−ブロモプロピオン酸メチル（２−１）５７７．５ｇ（２．９９ｍｏｌ，１ｅｑ）を滴下した。滴下終了後、７０℃にて３時間攪拌を行って反応させ、その後０．５Ｎ ＨＣｌ３５０ｍｌを加えて反応を停止させた。減圧下にて溶媒を回収後、トルエンにより生成物を抽出し、６２８．５ｇの粗２−アセト−３−メチル−コハク酸エステル（３−１）を得た。１２０℃にて蒸留することにより２−アセト−３−メチル−コハク酸エステル（３−１）を４６０．９ｇ得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）（Ｉｓｏｍｅｒ ｍａｊｏｒ）：δ １．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝８．９），２．２６（ｓ、３Ｈ）、３．２２（ｍ、１Ｈ），３．６５（ｓ、３Ｈ），３．７３（ｓ、３Ｈ），３．８５（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝１０．３）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）（Ｉｓｏｍｅｒ ｍｉｎｏｒ）：δ １．１５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝９．０），２．２８（ｓ、３Ｈ）、３．２２（ｍ、１Ｈ），３．６７（ｓ、３Ｈ），３．７０（ｓ、３Ｈ），３．８２（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝９．５）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １５．０７，１５．２６，２９．５９，３８．６８、３８．７１、５２．０７、５２．５８、５２．６１、６１．４１、６２．０１、１６８．１５、１７５．００、２０１．２７
ＧＣ／ＭＳ（ｍ／ｅ）；２０２（Ｍ^＋，），１７１、１６０、１４３、１２８、１１３、１０１、８５、７０、６９、４３、４１、３６

［２］工程Ｂ−１

上記［１］で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステル（３−１）２５０．０ｇ（１．２４ｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（以下、ＤＭＳＯと記す）５００ｍｌに溶解し、水酸化カリウム１．０４ｇ（０．０２ｍｏｌ）を加えて内温４０℃にて３０分攪拌した。同温にて、メチルビニルケトン１１３ｍｌ（１．３５ｍｏｌ）を滴下した後、同温にて３時間攪拌した。反応液にメタノール５００ｍｌを加え、０〜１０℃で冷却し、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液２３９．０ｇ（１．２４ｍｏｌ）を０〜１０℃にて滴下し、３０分間攪拌した後、２Ｎ ＮａＯＨ１．５８Ｌ（３．１６ｍｏｌ）を滴下し、４０℃に加温して７時間攪拌した。
減圧下にて溶媒を回収した後、５Ｎ ＨＣｌ８９２ｍｌ（４．４６ｍｏｌ）を加え、酢酸エチルにて抽出後、有機層をエバポレーターにて濃縮して、２５０ｇの粗α−メチル−γ−ケト酸（４）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）（Ｉｓｏｍｅｒ ｍａｊｏｒ）：δ １．２２（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．３），１．９８（ｓ、３Ｈ）、２．０４（ｍ、２Ｈ），２．３８（ｍ、２Ｈ），２．６３（ｄｔ、１Ｈ、Ｊ＝４．７、１２．５），２．９９（ｄｑ、１Ｈ、Ｊ＝４．５、７．２）、５．９０（ｓ、１Ｈ）、６．２２（ｂｓ、１Ｈ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）（Ｉｓｏｍｅｒ ｍｉｎｏｒ）：δ １．１１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．２），１．９７（ｓ、３Ｈ）、２．０４（ｍ、２Ｈ），２．３８（ｍ、２Ｈ），２．７６（ｄｔ、１Ｈ、Ｊ＝４．９、１４．１），３．１５（ｄｑ、１Ｈ、Ｊ＝５．３、７．２）、５．８９（ｓ、１Ｈ）、６．２２（ｂｓ、１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １２．５４、１３．１６、２４．２１、２５．３８、３０．９６、３１．２４、３７．８８、３８．９９，４７．８１，４８．０７、１２６．３７、１２６．４３、１６２．７９、１７８．９７、１８１．２５、１９８．８１、１９９．５９
ＧＣ／ＭＳ（ｍ／ｅ）；１６４（Ｍ−Ｈ２Ｏ，），１３６、１２３、１０９、９５、８２、６７、５４、３９、３６

（３）工程Ｃ

［γ−ケト酸ナトリウム塩−塩化セリウム混合溶液の調製］
上記［２］で得られた粗α−メチル−γ−ケト酸（４）１３０．０ｇ（０．４５ｍｏｌ）をエタノール９５０ｍｌに溶解させた溶液を、窒素雰囲気下、０〜１０℃にて攪拌し、そこへ２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液１３８．４ｇ（０．７２ｍｏｌ）および塩化セリウム七水和物１０１．５ｇ（０．２７ｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌し、γ−ケト酸ナトリウム塩−塩化セリウム混合溶液を調製した。

［還元反応］
エタノール１．０Ｌを内温２℃で攪拌し、水素化ホウ素ナトリウム９．４５ｇ（０．２５ｍｏｌ）を加えた。そこへ調製したγ−ケト酸ナトリウム塩−塩化セリウム混合溶液全量を滴下した。引き続き０〜１０℃で１．５時間攪拌して反応させた後、アセトン１０２ ｍｌ（１．３８ｍｏｌ）、水２．６Ｌ、および５Ｎ塩酸３００ｇ（１．５０ｍｏｌ）を滴下し、反応を停止した。
その後、減圧下にて溶媒回収を行った後、トルエンを加えて生成物を抽出し、得られた有機層を５％炭酸ナトリウム水溶液および５％塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した。得られた有機層を減圧下にて濃縮し化合物（ａ）（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝５７：４３）を得た。

前記［γ−ケト酸ナトリウム塩−塩化セリウム混合溶液の調製］および［還元反応］の操作を３回行い、化合物（ａ）を合計１９４．６ｇ得た。

［４］工程Ｄ（蒸留）
上記（３）で得られた化合物（ａ）１９４．６ｇ（１．１７ｍｏｌ）（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝５７：４３）にナトリウムメトキシドを０．０３モル当量加え、異性化させながら精密蒸留（１００〜１３０℃）を行い、１５３．５ｇの精製した化合物（ａ）（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝９７：３）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １．２４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．２），１．７１（ｓ、３Ｈ）、１．７３（ｍ、1Ｈ），１．８２（ｍ、１Ｈ），１．９７（ｍ、２Ｈ），２．２５（ｍ、１Ｈ），２．４１（ｄｑ、１Ｈ、Ｊ＝７．２、８．５）、４．８８（ｍ、１Ｈ）、５．４９（ｍ、１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １３．９５、２２．２３、２３．５９、２５．９０、３７．５６、４０．３２、７５．３８、１１８．７６、１４０．７２、１７９．６８
ＧＣ／ＭＳ（ｍ／ｅ）；１６６（Ｍ^＋，），１５１、１３８、１２３、１０７、９３、７９、６９、５５、３９、３６

〔実施例２〕
［１］工程Ｂ−２

実施例１の［１］＜工程Ａ＞で得られた未蒸留品の粗２−アセト−３−メチル−コハク酸エステル（３−１）２６５．０ｇ（１．３１ｍｏｌ）をＤＭＳＯ５３０ｍｌに溶解し、水酸化カリウム１．１０ｇ（０．０２ｍｏｌ）を加えて内温４０℃にて３０分攪拌した。同温にて、メチルビニルケトン１２０ｍｌ（１．４４ｍｏｌ）を滴下した後、同温にて３時間攪拌し反応させた。反応液を０〜１０℃に冷却し、メタノール５００ｍｌを加えた後、２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液７５．８ｇ（０．３９ｍｏｌ）を０〜１０℃にて滴下し、３０分攪拌した後、５Ｎ ＨＣｌ７８．０ｇ（０．３９ｍｏｌ）を滴下し、中和した（ｐＨ＝６〜７）。
減圧下にて溶媒を回収した後、無水塩化マグネシウム９３．５ｇ（０．９８ｍｏｌ）を加えて、１３０℃にて１８時間加熱し、脱炭酸反応を行った。反応液を室温まで冷却し、水５３０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮し、１９０．５ｇの粗α−メチル−γ−ケト酸エステル（５−１）を得た。蒸留精製を行い、α−メチル−γ−ケト酸エステル（５−１）１２１．９ｇを得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（Ｉｓｏｍｅｒ ｍａｊｏｒ）（ＣＤＣｌ_３ ，σ ｉｎ ｐｐｍ）
１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２），１．７２−１．７６（１Ｈ，ｍ），１．９５（３Ｈ， ｓ），１．９７−２．０５（１Ｈ，ｍ），２．３８−２．４７（２Ｈ，ｍ），２．７２−２．７７（１Ｈ，ｍ）、３．０５−３．１０（１Ｈ，ｍ），３．７１（３Ｈ，ｓ）
^１Ｈ−ＮＭＲ（Ｉｓｏｍｅｒ ｍｉｎｏｒ）（ＣＤＣｌ_３ ，σ ｉｎ ｐｐｍ）
１．１９（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝７．２）、１．７２−１．７６（１Ｈ，ｍ），１．９５（３Ｈ， ｓ），１．９７−２．０５（１Ｈ，ｍ），２．３８−２．４７（２Ｈ，ｍ），２．５５−２．５９（１Ｈ，ｍ）、２．９６−３．０２（１Ｈ，ｍ），３．６７（３Ｈ，ｓ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３ ，５００ ＭＨｚ）１９８．８３，１９８．７４，１７６．６４，１７５．２７，１６１．８６，１６１．５１，１２６．４７，１２６．４３，７７．２６，７７．００，７６．７５，５１．７５，５１．６４，４８．４５，４８．０１，３８．４８，３８．１０，３１．１８，３０．７５，２５．２１，２４．４５，２４．１２， ２４．１０，１３．６９，１２．９３

［２］工程Ｂ−３および工程Ｃ

＜工程Ｂ−３＞
上記［１］で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステル（５−１）６０．０ｇ（０．３１ｍｏｌ）を０〜１０℃にて冷却した。２Ｎ ＮａＯＨ水溶液２３０ｍｌ（０．４６ｍｏｌ）を加え、室温にて１時間攪拌した。５Ｎ ＨＣｌ１２２ｍｌを滴下した後、生成物を酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を濃縮し、α−メチル−γ−ケト酸（４）５１．７ｇを得た。

＜工程Ｃ＞
上記工程Ｂ−３で得られたα−メチル−γ−ケト酸（４）５１．７ｇ（０．２８４ｍｏｌ）をメタノール５００ｍｌに溶解し、２℃まで冷却した。２８％ナトリウムメトキシドのメタノール溶液４９．４ｇ（０．２６ｍｏｌ）および塩化セリウム７水和物２１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）を加え、更に３０分間攪拌した。そこへ水素化ホウ素ナトリウム５．５ｇ（０．１５ｍｏｌ）を加え、１時間攪拌し反応させた後、アセトン５１ｍｌ（０．６９ｍｏｌ）、水６６５ｍｌ、および５Ｎ ＨＣｌ１０７．０ｇを加えて反応を停止した。
減圧下にて溶媒を回収した後、トルエンにて生成物を抽出し、得られた有機層を５％炭酸ナトリウム水溶液および５％塩化ナトリウム水溶液により洗浄後、減圧下にて濃縮した。

前記工程Ｂ−３および工程Ｃの操作を２回行い、合計７２．９ｇの化合物（ａ）（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝５８：４２）を得た。

［３］工程Ｄ（蒸留）
上記［２］で得られた化合物（ａ）７２．９ｇ（０．４３９ｍｏｌ）にナトリウムメトキシド０．７３ｇ（０．０１３５ｍｏｌ）を加え、異性化させながら精密蒸留（１００〜１３０℃）を行い、５９．４ｇの精製した化合物（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝９７：３、収率７６．８％）を得た。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １．２４（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．２），１．７１（ｓ、３Ｈ）、１．７３（ｍ、１Ｈ），１．８２（ｍ、１Ｈ），１．９７（ｍ、２Ｈ），２．２５（ｍ、１Ｈ），２．４１（ｄｑ、１Ｈ、Ｊ＝７．２、８．５）、４．８８（ｍ、１Ｈ）、５．４９（ｍ、１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １３．９５、２２．２３、２３．５９、２５．９０、３７．５６、４０．３２、７５．３８、１１８．７６、１４０．７２、１７９．６８
ＧＣ／ＭＳ（ｍ／ｅ）；１６６（Ｍ^＋，），１５１、１３８、１２３、１０７、９３、７９、６９、５５、３９、３６

〔実施例３〕
［１］工程Ｃ

実施例２の［２］＜工程Ｂ−３＞で得られたα−メチル−γ−ケト酸（４）０．４ｇ（０．００２２ｍｏｌ）をメタノール４ｍｌに溶解し、そこへ、トリエチルアミン ４３３ｍｇ（０．００４２８ｍｏｌ)、 式（２０）で示されるルテニウム錯体 １４．３ｍｇ（０．０２２０ｍｍｏｌ)、ギ酸 ０．４０４ｍｌ（０．０１０７ｍｏｌ）を加え、６０℃にて２０時間攪拌した。そこへ更にギ酸０．４０４ｍｌ（０．０１０７ｍｏｌ）を加え、２０時間攪拌し反応させて、化合物（ａ）を得た。
その後、ガスクロマトグラフィーにて転化率を確認したところ、５５％の転化率であり、ジアステレオ選択性は５６％ｄ．ｅ．であり、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体の光学純度は４２％ｅｅであった。

〔実施例４〕
［１］工程Ｃ

実施例２の［２］＜工程Ｂ−３＞で得られたα−メチル−γ−ケト酸（４）０．４ｇ（０．００２２ｍｏｌ）をメタノール４ｍｌに溶解し、そこへ、ＤＡＢＣＯ １．６４ｇ （０．０１４６３ｍｏｌ）、式（２０）で示されるルテニウム錯体 １４．３ｍｇ (０．０２２０ｍｍｏｌ)、ギ酸０．５５ｍｌ（０．０１４６３ｍｏｌ)を加え、６０℃にて２０時間攪拌し反応させて、化合物（ａ）を得た。
その後、ガスクロマトグラフィーにて転化率を確認したところ、２６％の転化率であり、ジアステレオ選択性は３６％ｄ．ｅ．であり、目的とする天然型のワインラクトン（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体の光学純度は５７％ｅｅであった。

〔実施例５〕
［１］工程Ｅ

実施例２の［１］＜工程Ｂ−２＞で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステル（５−１）０．４ｇ（０．００２０４ｍｏｌ）をエタノール４ｍｌに溶解し、そこへ、式（２１）で示されるルテニウム錯体 １２ｍｇ（０．０１０２ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム１１ｍｇ（０．１０２ｍｍｏｌ）を加え、水素圧３ＭＰａ、４０℃にて２１時間攪拌し反応させ、化合物（ａ）を得た。
その後、ガスクロマトグラフィーにて転化率を確認したところ、９％の転化率であり、ジアステレオ選択性は２４％d.e.であり、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体の光学純度は２５％eeであった。

〔実施例６〕
［１］工程Ｅ

実施例２の［１］＜工程Ｂ−２＞で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステル（５−１）８０ｇ（０．４０７６ｍｏｌ）をメタノール２００ｍｌに溶解し、そこへ、ＤＡＢＣＯ ４５．７ｇ（０．４０７６ｍｏｌ）、以下の式（２０）で示されるルテニウム錯体２．６５ｇ（０．００４０７６ｍｏｌ)、ギ酸１５．３ｍｌ（０．４０７６ｍｏｌ)を加え、６０℃にて２５時間攪拌した。そこへ更にギ酸１５．３ｍｌ（０．４０７６ｍｏｌ）を加え、４５時間攪拌し反応させた。
その後、反応液に水２ｍｌおよびトルエン２ｍｌを加えて生成物を抽出し、得られた有機層を５％炭酸ナトリウム水溶液および５％塩化ナトリウム水溶液により洗浄した。得られた有機層を減圧下にて濃縮し、化合物（ａ）（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝８０：２０、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）：（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）＝９０：１０、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体の光学純度８０％ｅｅ）を６１．７ｇ得た。

［２］工程Ｄ（蒸留）
上記［１］で得られた化合物（ａ）６１．７ｇ（０．３７１２ｍｏｌ）にナトリウムメトキシド０．６２ｇ（０．０１１１ｍｏｌ）を加え、異性化させながら精密蒸留（１００〜１３０℃）を行い、１４．７ｇの精製した化合物（ａ）（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）：（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）＝９０：１０、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）：（３Ｒ，３ａＳ，７ａＲ）＋（３Ｓ，３ａＲ，７ａＳ）＝１００：０、収率２２％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １．２６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．３），１．７３（ｓ、３Ｈ）、１．７３（ｍ、１Ｈ），１．８２（ｍ、１Ｈ），１．９７（ｍ、２Ｈ），２．２５（ｍ、１Ｈ），２．４１（ｄｑ、１Ｈ、Ｊ＝７．３、８．６）、４．８９（ｍ、１Ｈ）、５．５１（ｍ、１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １４．０３、２２．３１、２３．６７、２５．９８、３７．６２、４０．４０、７５．４２、１１８．８５、１４０．７６、１７９．７０
ＧＣ／ＭＳ（ｍ／ｅ）；１６６（Ｍ^＋，），１５１、１３８、１２３、１０７、９３、７９、６９、５５、３９、３６

［３］工程Ｆ（再結晶）
上記［２］で得られた化合物（ａ）１４．７ｇ（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）：（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）＝９０：１０）をヘプタン７４ｍｌおよび２−プロパノール５ｍｌの混合液に溶解し、５℃にて静置した。１８時間後に生成した結晶をろ別し、１０．６ｇの精製した化合物（（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）：（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）＝９９.９３：０．０７、収率７２％、（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体の光学純度９９．８６％ｅｅ）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １．２６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．３），１．７３（ｓ、３Ｈ）、１．７３（ｍ、１Ｈ），１．８２（ｍ、１Ｈ），１．９７（ｍ、２Ｈ），２．２５（ｍ、１Ｈ），２．４１（ｄｑ、１Ｈ、Ｊ＝７．３、８．６）、４．８９（ｍ、１Ｈ）、５．５１（ｍ、１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ １４．０３、２２．３１、２３．６７、２５．９８、３７．６２、４０．４０、７５．４２、１１８．８５、１４０．７６、１７９．７０
ＧＣ／ＭＳ（ｍ／ｅ）；１６６（Ｍ^＋，），１５１、１３８、１２３、１０７、９３、７９、６９、５５、３９、３６
融点 ４７−５１℃

本発明によれば、有害な試薬または高価な試薬を使用することなく、極度の低温または高温などの苛酷な反応条件を必要とせずに、香料化合物として有用なワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物を製造することができる。本発明の好ましい態様によれば、簡便且つ安全な方法で、高選択的にワインラクトンを含む化合物を製造することができる。本発明の方法は、工業的規模でのワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物の製造に好適に使用することができる。

Claims (16)

1. ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：
   

   

   
   で示される化合物の製造方法であって、
   Ａ）式（１）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
   で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
   で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
   で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
   Ｂ−１）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に加水分解して、式（４）：
   

   

   
   で示されるα−メチル−γ−ケト酸を得る工程；
   Ｃ）前記工程Ｂ−１）で得られたα−メチル−γ−ケト酸を還元して、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程を含む、方法。
2. ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：
   

   

   
   で示される化合物の製造方法であって、
   Ａ）式（１）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
   で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
   で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
   で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
   Ｂ−２）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
   で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程；
   Ｂ−３）前記工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを加水分解して、式（４）：
   

   

   
   で示されるα−メチル−γ−ケト酸を得る工程；
   Ｃ）前記工程Ｂ−３で得られたα−メチル−γ−ケト酸を還元して、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程を含む、方法。
3. 前記工程Ｃ）が、式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体の光学活性体及び水素供与体の存在下にて不斉還元反応させることを含む、請求項１または２に記載の方法。
   

   

   
   ［式中、＊は不斉炭素原子であり、
   Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、ここで、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
   Ｙは水素原子であり、
   Ｗはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、
   ｊ及びｋは、それぞれ独立して、０又は１であり、但し、ｊ＋ｋが１になることはなく、
   Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
   Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
   Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、
   ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］
   

   

   
   ［式中、＊は不斉炭素原子であり、
   Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、
   Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
   Ｙは水素原子であり、
   Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、
   Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
   Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｑ⁻はカウンターアニオンであり、
   ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］
4. 式（６）で示されるルテニウム錯体が次式で示される化合物である、請求項３に記載の方法。
   

   
5. 前記工程Ｃ）で得られた化合物を塩基性条件下にて蒸留して、式：
   

   

   
   で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を得る工程をさらに含む、請求項１または２に記載の方法。
6. （３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物の含有率が式（ａ）で示される化合物の全重量に対して９０重量％以上である、請求項５に記載の方法。
7. 前記工程Ｃ）で得られた化合物を塩基性条件下にて蒸留して、式：
   

   

   
   で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を得る工程をさらに含む、請求項３または４に記載の方法。
8. さらに再結晶することにより、式：
   

   

   
   で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を得る工程を含む、請求項７に記載の方法。
9. ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：
   

   

   
   で示される化合物の製造方法であって、
   Ａ）式（１）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
   で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
   で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
   で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
   Ｂ−２）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：
   

   

   
   ［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
   で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程；
   Ｅ）前記工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体及び水素供与体の存在下にて還元して、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程
   

   

   
   ［式中、＊は不斉炭素原子であり、
   Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、ここで、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
   Ｙは水素原子であり、
   Ｗはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又は、ハロゲン原子であり、
   ｊ及びｋは、それぞれ独立して、０又は１であり、但し、ｊ＋ｋが１になることはなく、
   Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
   Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
   Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、
   ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］
   

   

   
   ［式中、＊は不斉炭素原子であり、
   Ｒ^３１は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基；又は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ^２０Ｒ^２１）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^２０）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ^２０）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ^２０）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^２０）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ^２０）、シリル基（−ＳｉＲ^２０Ｒ^２１Ｒ^２２）及びニトロ基（−ＮＯ_２）からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいアリール基であり、
   Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数３〜１０のシクロアルキル基であり、
   Ｙは水素原子であり、
   Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は、炭素数３〜８のシクロアルキル基であり、あるいは、Ｒ^３２及びＲ^３３は一緒になって環を形成してもよく、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、
   Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８及びＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、あるいは、Ｒ^１６とＲ^１７とこれらが置換している炭素原子、及び／又は、Ｒ^１８とＲ^１９とこれらが置換している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
   Ｚは酸素原子又は硫黄原子であり、Ｑ⁻はカウンターアニオンであり、
   ｎ_１は１又は２であり、ｎ_２は１〜３の整数である。］
   を含む、方法。
10. 前記工程Ｅ）において、式（６）または（７）で示される化合物から選ばれるルテニウム錯体が光学活性ルテニウム錯体であり、不斉還元反応させる、請求項９に記載の方法。
11. 前記式（６）で示されるルテニウム錯体が次式で示される化合物である、請求項９または１０に記載の方法。
    

    
12. ワインラクトンもしくはその立体異性体またはそれらの混合物としての式（ａ）：
    

    

    
    で示される化合物の製造方法であって、
    Ａ）式（１）：
    

    

    
    ［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基である。］
    で示されるβ−ケトエステルと、式（２）：
    

    

    
    ［式中、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは塩素原子または臭素原子である。］
    で示される２−ハロエステルとを、塩基性条件下にて反応させて、式（３）：
    

    

    
    ［式中、Ｒ^１は、式（１）の定義と同じである。Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
    で示される２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルを得る工程；
    Ｂ−２）前記工程Ａ）で得られた２−アセト−３−メチル−コハク酸エステルと、メチルビニルケトンとを、塩基性条件下にて反応させ、その後に脱炭酸反応させて、式（５）：
    

    

    
    ［式中、Ｒ^２は、式（２）の定義と同じである。］
    で示されるα−メチル−γ−ケト酸エステルを得る工程；
    Ｅ）前記工程Ｂ−２）で得られたα−メチル−γ−ケト酸エステルを、塩基性条件下、式（８）で示される光学活性ルテニウム錯体及び水素ガスの存在下にて不斉水素化反応させて、前記式（ａ）で示される化合物を得る工程
    

    

    
    ［式中、Ｐ⌒Ｐは光学活性ジホスフィンであり、
    Ｖはアニオン性基であり、
    Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は、置換基を有してもよいヘテロ環基であり、あるいは、Ｒ^ｂとＲ^ｃとでアルキレン基又はアルキレンジオキシ基を形成してもよく、
    Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ_１〜Ｃ_２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ_２〜Ｃ_２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ_７〜Ｃ_２０アラルキル基、又は、置換基を有してもよいＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基であり、但し、Ｒ^Ｎ１、Ｒ^Ｎ２、Ｒ^Ｎ３及びＲ^Ｎ４のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ^Ｎ１とＲ^ａとでアルキレン基を形成してもよく、
    ｎは０〜３の整数であり、
    Ａｒは置換基を有していてもよいアリーレン基である。］
    を含む、方法。
13. 式（８）の光学活性ルテニウム錯体が次式で示される化合物である、請求項１２に記載の方法。
    

    

    
    ［式中、Ｍｅはメチル基を表す。］
14. 前記工程Ｅ）で得られた化合物を塩基性条件下にて蒸留して、式：
    

    

    
    で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体及び（３Ｒ，３ａＲ，７ａＳ）体から構成されるジアステレオマー異性体混合物を得る工程をさらに含む、請求項９〜１３の何れか１項に記載の方法。
15. さらに再結晶することにより、式：
    

    

    
    で示される（３Ｓ，３ａＳ，７ａＲ）体を得る工程を含む、請求項１４に記載の方法。
16. 全ての製造工程が０℃以上１３０℃以下で行われ、且つ、全ての製造工程においてシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製工程を必要としない、請求項１〜１５の何れか１項に記載の方法。