JPWO2012026579A1 - 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 - Google Patents
単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2012026579A1 JPWO2012026579A1 JP2012511088A JP2012511088A JPWO2012026579A1 JP WO2012026579 A1 JPWO2012026579 A1 JP WO2012026579A1 JP 2012511088 A JP2012511088 A JP 2012511088A JP 2012511088 A JP2012511088 A JP 2012511088A JP WO2012026579 A1 JPWO2012026579 A1 JP WO2012026579A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- fluid
- fine particle
- hydroxide
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims abstract description 578
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims abstract description 157
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 388
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 313
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 176
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 125
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 62
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 55
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 54
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 45
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 44
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 6
- 239000012224 working solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 abstract description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 229910001233 yttria-stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 26
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 26
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 26
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 26
- -1 magnesium nitride Chemical class 0.000 description 24
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 23
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 21
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 13
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 11
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 11
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 5
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 2
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 2
- 229910001337 iron nitride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940091250 magnesium supplement Drugs 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229940116315 oxalic acid Drugs 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.OS(O)(=O)=O HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-[4-(chloromethyl)phenyl]benzene Chemical compound C1=CC(CCl)=CC=C1C1=CC=C(CCl)C=C1 INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C)=C1 IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDUPDOJHUQKPAG-UHFFFAOYSA-M 2,2-Dichloropropanoate Chemical compound CC(Cl)(Cl)C([O-])=O NDUPDOJHUQKPAG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002706 AlOOH Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005997 Calcium carbide Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002588 FeOOH Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003174 MnOOH Inorganic materials 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002640 NiOOH Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DOIHHHHNLGDDRE-UHFFFAOYSA-N azanide;copper;copper(1+) Chemical compound [NH2-].[Cu].[Cu].[Cu+] DOIHHHHNLGDDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCLQZCOGUCNIOC-UHFFFAOYSA-N azanylidynelanthanum Chemical compound [La]#N QCLQZCOGUCNIOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N azanylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#N GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N azanylidynetungsten Chemical compound [W]#N IVHJCRXBQPGLOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJXBBNUQVRZRCZ-UHFFFAOYSA-N azanylidyneyttrium Chemical compound [Y]#N AJXBBNUQVRZRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000005539 carbonized material Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(II) oxide Inorganic materials [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229940013688 formic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002337 magnesium chloride Drugs 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940050906 magnesium chloride hexahydrate Drugs 0.000 description 1
- DHRRIBDTHFBPNG-UHFFFAOYSA-L magnesium dichloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Mg+2].[Cl-].[Cl-] DHRRIBDTHFBPNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- QJQAMHYHNCADNR-UHFFFAOYSA-N n-methylpropanamide Chemical compound CCC(=O)NC QJQAMHYHNCADNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000005381 potential energy Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N sodium;propan-2-olate Chemical compound [Na+].CC(C)[O-] WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-[2-[2-[2-[bis[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]amino]-5-bromophenoxy]ethoxy]-4-methyl-n-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl]anilino]acetate Chemical compound CC1=CC=C(N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)C(OCCOC=2C(=CC=C(Br)C=2)N(CC(=O)OC(C)(C)C)CC(=O)OC(C)(C)C)=C1 CLZWAWBPWVRRGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBMZLLXZMSMJPJ-UHFFFAOYSA-N thiepane 1-oxide Chemical compound O=S1CCCCCC1 LBMZLLXZMSMJPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(II) oxide Inorganic materials [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- RTFQEILBYBEJPP-UHFFFAOYSA-N yttrium(3+) trinitrate nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[N+](=O)([O-])[O-].[Y+3].[N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-] RTFQEILBYBEJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
- C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
- C01G23/0536—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts by hydrolysing chloride-containing salts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/0004—Crystallisation cooling by heat exchange
- B01D9/0009—Crystallisation cooling by heat exchange by direct heat exchange with added cooling fluid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F27/00—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders
- B01F27/27—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices
- B01F27/271—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed radially between the surfaces of the rotor and the stator
- B01F27/2712—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed radially between the surfaces of the rotor and the stator provided with ribs, ridges or grooves on one surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F27/00—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders
- B01F27/27—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices
- B01F27/271—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed radially between the surfaces of the rotor and the stator
- B01F27/2714—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed radially between the surfaces of the rotor and the stator the relative position of the stator and the rotor, gap in between or gap with the walls being adjustable
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
- C01B13/36—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by precipitation reactions in aqueous solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
- C01F17/218—Yttrium oxides or hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F5/00—Compounds of magnesium
- C01F5/02—Magnesia
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F5/00—Compounds of magnesium
- C01F5/02—Magnesia
- C01F5/06—Magnesia by thermal decomposition of magnesium compounds
- C01F5/08—Magnesia by thermal decomposition of magnesium compounds by calcining magnesium hydroxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F5/00—Compounds of magnesium
- C01F5/14—Magnesium hydroxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F5/00—Compounds of magnesium
- C01F5/14—Magnesium hydroxide
- C01F5/20—Magnesium hydroxide by precipitation from solutions of magnesium salts with ammonia
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G1/00—Methods of preparing compounds of metals not covered by subclasses C01B, C01C, C01D, or C01F, in general
- C01G1/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
- C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
- C01G23/047—Titanium dioxide
- C01G23/053—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts
- C01G23/0532—Producing by wet processes, e.g. hydrolysing titanium salts by hydrolysing sulfate-containing salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
- C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
- C01P2002/54—Solid solutions containing elements as dopants one element only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Geology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
Description
この鏡面研磨の面粗度は、特に限定されないが、好ましくはRa0.01〜1.0μm、より好ましくはRa0.03〜0.3μmとする。
このように、3次元的に変位可能に保持するフローティング機構によって、第2処理用部20を保持することが望ましい。
P=P1×(K−k)+Ps
なお、図示は省略するが、近接用調整面24を離反用調整面23よりも広い面積を持ったものとして実施することも可能である。
この凹部13の先端と第1処理用面1の外周面との間には、凹部13のない平坦面16が設けられている。
上記微粒子処理用物質を混合、溶解または分子分散させるための溶媒としては、上記微粒子原料を混合、溶解または分子分散させるための溶媒と同様のものが使用できる。
本発明における他の実施の形態としては、上記に説明した装置の処理用面1,2の間に形成される薄膜流体中で、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させ、処理用面1,2間より酸化物微粒子または水酸化物微粒子の分散液として吐出された直後、言い換えると処理用部10,20における流体の吐出部51b付近に微粒子処理用物質含有液を含む流体の供給装置51を設け、この供給装置51から微粒子処理用物質含有液を含む流体を噴霧または滴下して、酸化物微粒子または水酸化物微粒子の分散液と微粒子処理用物質含有液を含む流体とを混合するような方法が挙げられる(図4(A)参照)。より具体的に説明すると、上記供給装置51は、微粒子処理用物質含有液を含む流体の供給源にポンプPを介して接続された環状の流路を備える。この環状の流路は、上記処理用面1,2の吐出部51bを臨む位置(この例では上方)に配位され、環状の流路の下部には開口部51aが形成されている。この開口部51aは、多数の細穴であったり、連続したスリット状の開口であったり、上記吐出部51bから吐出する上記分散液に対して、満遍なく微粒子処理用物質含有液を含む流体を供給・混合するものとして実施することが望ましい。なお、上記吐出部51bは、上記処理用面1,2により強制された流路の最下流(この例では上記処理用面1,2の最外周端)であり、この吐出部51bから上記薄膜流体は処理用面1,2による強制から開放され、より広い流路空間へと吐出するものであり、広がりながら吐出する分散液に対して、微粒子処理用物質含有液を含む流体を供給することにより、上記析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子に上記微粒子処理用物質を有効に接触・作用させることができる。
または、図4(B)に示すように、吐出された酸化物微粒子または水酸化物微粒子の分散液が収束されて流される流路52に、微粒子処理用物質含有液を含む流体の投入孔53を配位し、この投入孔53から微粒子処理用物質含有液を含む流体を投入するような方法でも良い。上記のような方法においては、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させる工程と、析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子を含む流体と微粒子処理用物質含有液を含む流体とを混合する工程とを連続的に行う事ができる利点がある。
そうすると、各流体の濃度や圧力を個々に管理することができ、析出反応及び単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造をより精密に制御することができる。第4以上の導入部を設けた場合も同様であって、このように処理装置へ導入する流体を細分化できる。
また、酸化物微粒子または水酸化物微粒子の析出に悪影響を及ぼさない範囲においては、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させる前の微粒子原料液を含む流体及び/又は微粒子析出用液を含む流体に微粒子処理用物質を含む流体を混合することによって、上記処理用面1,2間において析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子と微粒子処理用物質とを接触・作用させてもよい。例えば、前述のように、第1導入部d1、第2導入部d2以外に第3導入部d3を処理装置に設け、各導入部から、第1流体として微粒子原料液を含む流体と微粒子析出用液を含む流体とのうちいずれか一方の流体、第2流体として微粒子原料液を含む流体と微粒子析出用液を含む流体のうち何れか他方の流体、第3流体として微粒子処理用物質含有液を含む流体をそれぞれ別々に処理装置に導入して、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させる前の微粒子原料液を含む流体及び/又は微粒子析出用液を含む流体に微粒子処理用物質含有液を含む流体を混合してもよく、この場合、微粒子処理用物質含有液を導入する第3導入部d3の開口部d30の位置は問わないものとする。
また、上記析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子と微粒子処理用物質とを接触・作用させることによって、得られる物質の状態については特に限定されない。例えば水酸化物微粒子に微粒子処理用物質を接触・作用させることによって単離可能な酸化物微粒子を得ることもできるし、単離可能な水酸化酸化物微粒子を得る事も可能である。
中央から第1流体の微粒子析出用液として、1質量%のアンモニア水溶液を、供給圧力/背圧力=0.50MPa/0.04MPa、液温80℃、回転数1700rpmで送液し、第2流体として、12.0質量%のオキシ硝酸ジルコニウム2水和物と1.29質量%の硝酸イットリウム9水和物を水に溶解した微粒子原料液を5mL/min、液温25℃で処理用面1,2間に導入した。第1流体と第2流体は薄膜流体中で混合され、イットリア安定化ジルコニア水和物微粒子を処理用面1,2間において析出させ、イットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液として処理用面1,2より吐出させ、吐出させたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液と第3流体とを混合した。微粒子処理用物質含有液としての第3流体には、1質量%硝酸水溶液、または、1質量%過酸化水素溶液を用いた。吐出させたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液と第3流体との混合方法は、処理用面1,2外側、吐出部51b付近に第3流体を50mL/min、液温80℃で滴下し、吐出部51b付近及び吐出液が収束する流路52において混合した。処理用面1,2よりイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液を吐出させてから第3流体と混合するまでの時間は、0.5秒程度であった。第2流体を処理用面1,2間に導入してから処理用面1,2よりイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液を吐出させるまでの時間は大半の微粒子については0.3秒程度であるので、第2流体を処理用面1,2間に導入してから処理用面1,2より吐出させたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液と第3流体とを混合するまでの時間は1秒以内であった。また、第1流体〜第3流体における液温は、それぞれの流体が処理装置に導入される直前の温度である。
吐出されたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液と第3流体との混合液より不純物を除去するために、イットリア安定化ジルコニア水和物微粒子を緩く凝集させ、遠心分離機(×8000G)にてイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子を沈降させ、上澄み液を除去した後、純水を加えてイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子を再分散し、再度遠心分離機を用いて沈降させた。上記洗浄操作を3回行った後、最終的に得られたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子のペーストを60℃、−0.1MPaGにて真空乾燥し、イットリア安定化ジルコニア水和物微粒子乾燥粉体を得た。さらに、得られたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子乾燥粉体について、400℃で4時間の熱処理を実施した。第3流体を変更して、実験を行った結果を表1に示す。実施例1〜2の比較のために、実施例1〜2と同様の方法で処理用面1,2より吐出させたイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子分散液に第3流体を混合せずに作製したイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子及びイットリア安定化ジルコニア微粒子を比較例1とした。また、実施例1〜2及び比較例1において作製された熱処理前のイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子および熱処理後のイットリア安定化ジルコニア微粒子のTEM写真を図5〜図7に示す。表1における分散性は、TEM写真においてイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子またはイットリア安定化ジルコニア微粒子の凝集がほぐれ、分散した状態を観察できた場合には「良好」とし、そうでない場合には「不十分」として評価した。また、表1における分散粒子径は、TEM観察により確認した。図5〜図7のTEM写真より、第3流体を用いなかった比較例1に対して、第3流体に硝酸水溶液または過酸化水素溶液を用いた実施例1または実施例2は一次粒子まで分散している様子が確認できた。表1及び図5〜7により第3流体に過酸化水素溶液または酸性物質としての硝酸水溶液を用いる事によって、熱処理前のイットリア安定化ジルコニア水和物微粒子及び熱処理後に得られたイットリア安定化ジルコニア微粒子の分散性が向上していることがわかった。
中央から第1流体の微粒子析出用液として、1質量%の水酸化ナトリウム水溶液を250ml/min.、供給圧力/背圧力=0.50MPa/0.04MPa、液温80℃、回転数500rpmで送液し、第2流体の微粒子原料液として、塩化マグネシウム6水和物を水に溶解した10.0質量%塩化マグネシウム水溶液を10mL/min.、液温25℃で処理用面1,2間に導入した。第1流体と第2流体は薄膜流体中で混合され、水酸化マグネシウム微粒子を処理用面1,2間において析出させ、水酸化マグネシウム微粒子分散液として処理用面1,2より吐出させた。吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液と第3流体とを混合し、その後、65℃で2時間攪拌処理を行った。撹拌処理にはクレアミックス2.2S(エム・テクニック社製)を用い、回転数20000rpmにて撹拌処理を行った。微粒子処理用物質含有液としての第3流体には、0.5〜1.0質量%の過酸化水素水溶液を用いた。吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液と第3流体との混合方法は、処理用面1,2外側、吐出部51b付近に第3流体を50mL/min、液温80℃で滴下し、吐出部51b付近及び吐出液が収束する流路52において混合した。処理用面1,2より水酸化マグネシウム微粒子分散液を吐出させてから第3流体と混合するまでの時間は、0.5秒程度であった。第2流体を処理用面1,2間に導入してから処理用面1,2より水酸化マグネシウム微粒子分散液を吐出させるまでの時間は大半の微粒子については0.3秒程度であるので、第2流体を処理用面1,2間に導入してから処理用面1,2より吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液と第3流体とを混合するまでの時間は1秒以内であった。また、第1流体〜第3流体における液温は、それぞれの流体が処理装置に導入される直前の温度である。
撹拌処理後の水酸化マグネシウム微粒子分散液と第3流体との混合液中より不純物を除去するために、水酸化マグネシウム微粒子を緩く凝集させ、洗浄操作として遠心分離機(×8000G)にて水酸化マグネシウム微粒子を沈降させ、上澄み液を除去した後、純水を加えて水酸化マグネシウム微粒子を再分散し、再度遠心分離機を用いて沈降させた。上記洗浄操作を3回行ったあと、最終的に得られた水酸化マグネシウム微粒子のペーストを60℃、−0.1MPaGにて真空乾燥し、水酸化マグネシウム微粒子乾燥粉体を得た。さらに、得られた水酸化マグネシウム微粒子乾燥粉体について、500℃で4時間熱処理を実施した。熱処理前と熱処理後の微粒子乾燥粉体について行ったX線回折(XRD)測定の結果、水酸化マグネシウム微粒子が熱処理後に酸化マグネシウムに変化していることを確認した。
第3流体中の過酸化水素濃度を変更して、実験を行った結果(実施例3〜4)を表2に示す。また、実施例3〜4の比較のために、実施例3〜4と同様の方法で処理用面1,2より吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液に第3流体を混合せずに作製した水酸化マグネシウム微粒子及び酸化マグネシウム微粒子を比較例2とした。実施例3及び比較例2において得られた熱処理後の酸化マグネシウム微粒子のTEM写真を図8〜図9に示す。表2における分散性は、TEM写真において水酸化マグネシウム微粒子または酸化マグネシウム微粒子の凝集がほぐれ、分散した状態を観察できた場合には「良好」とし、そうでない場合には「不十分」として評価した。表2及び図8〜図9より、第3流体に過酸化水素溶液を用いる事によって、熱処理前の水酸化マグネシウム微粒子及び熱処理後の酸化マグネシウム微粒子の分散性が向上していることがわかった。また、吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液と第3流体である過酸化水素溶液とを混合し、水酸化マグネシウム微粒子と過酸化水素とを接触・作用させることによって、熱処理前の水酸化マグネシウム微粒子及び熱処理後の酸化マグネシウム微粒子の分散性を調整することができた。過酸化水素水溶液中の過酸化水素の濃度については、比較的希薄な過酸化水素水溶液を吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液との混合に用いた場合においても、熱処理前の水酸化マグネシウム微粒子及び熱処理後の酸化マグネシウム微粒子の分散性を調整することができた。以上の結果より、処理用面1,2より吐出させた水酸化マグネシウム微粒子分散液と、過酸化水素水溶液とを混合し、水酸化マグネシウム微粒子と過酸化水素とを接触・作用させることによって、単離可能な水酸化マグネシウム微粒子及び酸化マグネシウムを作製できることが分かった。
中央から第1流体の微粒子析出用液として、1質量%のアンモニア水溶液、イソプロピルアルコール(IPA)またはアセトンを、供給圧力/背圧力=0.50MPa/0.04MPa、回転数1700rpmで送液し、第2流体の微粒子原料液として、10質量%の硫酸チタニル水溶液もしくは10質量%の四塩化チタン水溶液を5mL/min、液温25℃で処理用面1,2間に導入した。第1流体と第2流体は薄膜流体中で混合され、二酸化チタン微粒子を処理用面1,2間において析出させ、二酸化チタン微粒子分散液として処理用面1,2より吐出させた。吐出させた二酸化チタン微粒子分散液と第3流体とを混合し、その後65〜80℃で4時間の静置または攪拌処理を行った。撹拌処理は、ウォーターバス中においてマグネティックスターラーを用いて回転数600rpmにて行った。微粒子処理用物質含有液としての第3流体には、1質量%の硝酸水溶液を用いた。吐出させた二酸化チタン微粒子分散液と第3流体との混合方法は、実施例5においては、処理用面1,2外側、吐出部51b付近に第3流体を50mL/min、液温80℃で滴下し、吐出部51b付近及び吐出液が収束する流路52において混合し、実施例6においては、予めポリ容器に準備した第3流体に処理用面1,2より吐出させた二酸化チタン微粒子分散液を、吐出後0.6秒で連続的に混合させた。処理用面1,2より二酸化チタン微粒子分散液を吐出させてから第3流体と混合するまでの時間は、0.6秒程度であった。第2流体を処理用面1,2間に導入してから処理用面1,2より二酸化チタン微粒子分散液を吐出させるまでの時間は大半の微粒子については0.3秒程度であるので、第2流体を処理用面1,2間に導入してから処理用面1,2より吐出させた二酸化チタン微粒子分散液と第3流体とを混合するまでの時間は1秒以内であった。また、第1流体〜第3流体における液温は、それぞれの流体が処理装置に導入される直前の温度であり、第1流体の液温は表3に示した。
処理後の二酸化チタン微粒子分散液と第3流体との混合液中より不純物を除去するために、二酸化チタン微粒子を緩く凝集させ、洗浄操作として遠心分離機(×8000G)にて二酸化チタン微粒子を沈降させ、上澄み液を除去した後、純水を加えて二酸化チタン微粒子を再分散し、再度遠心分離機を用いて沈降させた。上記洗浄操作を3回行ったあと、最終的に得られた二酸化チタン微粒子のペーストを60℃、−0.1MPaGにて真空乾燥した。
条件を変更して実験を行った結果を表3に示す。また、実施例5〜6の比較のために、実施例5〜6と同様の方法で処理用面1,2より吐出させた二酸化チタン微粒子分散液に第3流体を混合せずに作製した二酸化チタン微粒子を比較例3〜5とした。表3における分散性は、TEM写真において二酸化チタン微粒子の凝集がほぐれ、分散した状態を観察できた場合には「良好」とし、そうでない場合には「不十分」として評価した。また、表3における一次粒子径の項にはTEM観察より確認された一次粒子径を記載した。図10に実施例6で得られた二酸化チタン微粒子のTEM写真を示す。表3及び図10より、第3流体に酸性物質としての硝酸水溶液を用いる事によって、二酸化チタン微粒子の分散性が向上していることがわかった。また、第1流体及び第2流体の種類を問わず、第3流体に酸性物質としての硝酸水溶液を用いる事によって、二酸化チタン微粒子の分散性が向上していることがわかった。さらに、吐出させた二酸化チタン微粒子分散液と第3流体との混合液に対して行われた静置または攪拌処理の処理方法を問わず、第3流体に酸性物質としての硝酸水溶液を用いる事によって、二酸化チタン微粒子の分散性が向上していることがわかった。実施例及び比較例全ての結果を通して、処理用面1,2間において析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子を処理用面1,2より酸化物微粒子分散液または水酸化物微粒子分散液として吐出させた直後に、酸化物微粒子分散液または水酸化物微粒子分散液と微粒子処理用物質含有液とを混合し、酸化物微粒子または水酸化物微粒子と微粒子処理用物質とを接触・作用させることによって、熱処理前後の酸化物微粒子または水酸化物微粒子の分散性を調整することができ、単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子を作製できることが分かった。
2 第2処理用面
10 第1処理用部
11 第1ホルダ
20 第2処理用部
21 第2ホルダ
51a 開口部
51b 吐出部
d1 第1導入部
d2 第2導入部
d20 開口部
d30 開口部
Claims (8)
- 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法であり、
(I)少なくとも1種の微粒子原料を溶媒に混合した微粒子原料液と、
(II)微粒子析出用液と、
(III)少なくとも1種の微粒子処理用物質を溶媒に混合した微粒子処理用物質含有液と
をそれぞれ調製し、
(IV)被処理流動体として、少なくとも2種類の流体を用いるものであり、そのうちで少なくとも1種類の流体については上記微粒子原料液を含む流体であり、
上記微粒子原料液以外の流体のうち、少なくとも1種類の流体については上記微粒子析出用液を含む流体であり、
対向して配設された、接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して回転する少なくとも2つの処理用面間において形成された薄膜流体中において、上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とを混合させて、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させる工程と、
(V)上記(IV)の工程によって析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子を含む流体と、上記微粒子処理用物質含有液を含む流体とを混合する工程と
を含み、
上記微粒子処理用物質が、上記析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子の分散性を調整する物質である事を特徴とする、単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。 - 上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とのうちいずれか一方が上記薄膜流体を形成しながら上記両処理用面間を通過し、
上記いずれか一方の流体が流される流路とは独立した別途の導入路を備えており、
上記少なくとも2つの処理用面の少なくとも何れかが、上記の導入路に通じる開口部を少なくとも一つ備え、
上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とのうちいずれか他方を、上記開口部から上記処理用面の間に導入し、
上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とが、上記薄膜流体中で混合されることを特徴とする請求項1に記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。 - 上記の、対向して配設された、接近・離反可能な、少なくとも一方が他方に対して回転する少なくとも2つの処理用面間において形成された薄膜流体中において、上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とを混合させて、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させる工程と、
上記工程によって析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子を含む流体と、上記微粒子処理用物質含有液を含む流体とを混合する工程とを、
連続的に行う事を特徴とする、請求項1または2に記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。 - 上記微粒子処理用物質含有液を含む流体を上記処理用面の間に導入する開口部を、上記少なくとも2つの処理用面の少なくとも何れか一方に設け、
上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とを上記薄膜流体中で混合させて、酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させたあとに、上記の析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子に上記微粒子処理用物質を上記薄膜流体中で接触・作用させることを特徴とする請求項3に記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。 - 上記微粒子処理用物質含有液を含む流体を供給する開口部を、上記少なくとも2つの処理用面間の吐出部を臨む位置に設け、
上記微粒子原料液を含む流体と上記微粒子析出用液を含む流体とを上記薄膜流体中で混合させて、上記酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させて、この酸化物微粒子または水酸化物微粒子を含む流体を上記吐出部より吐出させた直後に、上記の析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子に上記微粒子処理用物質を接触・作用させることを特徴とする請求項3に記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。 - 上記析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子を含む流体と、上記微粒子処理用物質含有液を含む流体とを混合する工程を、
上記酸化物微粒子または水酸化物微粒子を析出させる工程の後、
1秒間以内に行う事を特徴とする、請求項1〜5の何れかに記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。 - 上記の析出させた酸化物微粒子または水酸化物微粒子に接触・作用させる上記微粒子処理用物質含有液中の上記微粒子処理用物質の濃度を調整することによって、酸化物微粒子または水酸化物微粒子の分散性を調整した事を特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。
- 上記微粒子処理用物質が、酸性物質または過酸化水素である事を特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012511088A JP5213292B2 (ja) | 2010-08-26 | 2011-08-26 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010190101 | 2010-08-26 | ||
JP2010190101 | 2010-08-26 | ||
JP2012511088A JP5213292B2 (ja) | 2010-08-26 | 2011-08-26 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
PCT/JP2011/069290 WO2012026579A1 (ja) | 2010-08-26 | 2011-08-26 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013002517A Division JP5794582B2 (ja) | 2010-08-26 | 2013-01-10 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5213292B2 JP5213292B2 (ja) | 2013-06-19 |
JPWO2012026579A1 true JPWO2012026579A1 (ja) | 2013-10-28 |
Family
ID=45723568
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012511088A Active JP5213292B2 (ja) | 2010-08-26 | 2011-08-26 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
JP2013002517A Active JP5794582B2 (ja) | 2010-08-26 | 2013-01-10 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013002517A Active JP5794582B2 (ja) | 2010-08-26 | 2013-01-10 | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9005567B2 (ja) |
EP (1) | EP2610215B1 (ja) |
JP (2) | JP5213292B2 (ja) |
KR (1) | KR101848718B1 (ja) |
CN (1) | CN103038159B (ja) |
WO (1) | WO2012026579A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009082902A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-04-23 | M Technique Co Ltd | 強制超薄膜回転式処理法を用いたナノ粒子の製造方法 |
US9371236B2 (en) | 2011-03-23 | 2016-06-21 | M. Technique Co., Ltd. | Highly efficient method for producing ceramic microparticles |
JP4868558B1 (ja) | 2011-04-28 | 2012-02-01 | エム・テクニック株式会社 | 酸化物・水酸化物の製造方法 |
JP6074649B2 (ja) * | 2012-07-24 | 2017-02-08 | エム・テクニック株式会社 | 被処理流体の安定吐出機構を備えた流体処理装置及び流体処理方法 |
WO2014084547A1 (ko) * | 2012-11-27 | 2014-06-05 | (주)라미나 | 혼합용 반응 장치 및 이 반응 장치를 이용한 제조 방법 |
JP2015160801A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | ラミナ カンパニー リミテッド | 連続式反応器を用いた酸化金属の製造方法 |
US10364508B2 (en) | 2014-07-14 | 2019-07-30 | M. Technique Co., Ltd. | Method for producing single crystalline zinc oxide nanoparticles |
WO2016141301A1 (en) * | 2015-03-04 | 2016-09-09 | William Marsh Rice University | Boron nitride-ionic liquid composites and their use for energy storage devices |
EP3296040A4 (en) * | 2015-05-15 | 2019-01-23 | M. Technique Co., Ltd. | METHOD FOR MODIFICATION OF NICKEL POWDER AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF |
KR102058346B1 (ko) * | 2015-06-26 | 2019-12-23 | 엠. 테크닉 가부시키가이샤 | 자외선 방어제 조성물의 제조 방법 및 그에 의해 얻어진 자외선 방어제 조성물 |
WO2017010557A1 (ja) * | 2015-07-14 | 2017-01-19 | エム・テクニック株式会社 | 酸化物粒子の製造方法 |
CA2996403A1 (en) | 2015-10-05 | 2017-04-13 | M. Technique Co., Ltd. | Metal oxide particles and method of producing the same |
JP6151469B1 (ja) * | 2016-02-02 | 2017-06-21 | エム・テクニック株式会社 | 微粒子分散液の精密改質方法 |
JP6144447B1 (ja) * | 2016-02-02 | 2017-07-05 | エム・テクニック株式会社 | 微粒子分散液の精密改質方法 |
EP3412628A4 (en) * | 2016-02-02 | 2019-07-10 | M. Technique Co., Ltd. | PRECISE MODIFICATION PROCESS FOR FINE PARTICLE DISPERSION LIQUID |
KR102509269B1 (ko) * | 2018-09-14 | 2023-03-10 | 주식회사 엘지화학 | 산화니켈 나노 입자의 제조 방법 |
CN113426465A (zh) * | 2021-05-20 | 2021-09-24 | 浙江理工大学 | 一种g-C3N4@FeOOH异质结材料及其制备方法 |
CN116328802B (zh) * | 2021-12-10 | 2024-01-30 | 华北电力大学(保定) | 一种β-FeOOH@MXene纳米复合材料催化剂的制备方法 |
CN117696100B (zh) * | 2024-02-06 | 2024-04-16 | 太原科技大学 | 一种g-C3N4/ FeOOH /Cu2O纳米异质结光催化剂及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2819611B2 (ja) * | 1989-05-09 | 1998-10-30 | ミノルタ株式会社 | 現像装置及びこれに用いる現像剤担持体 |
JPH05147943A (ja) | 1991-02-08 | 1993-06-15 | Nok Corp | 安定化ジルコニア薄膜の製造方法 |
US5725162A (en) | 1995-04-05 | 1998-03-10 | Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Firing sol-gel alumina particles |
JP2001101984A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
JP4047243B2 (ja) * | 2003-08-07 | 2008-02-13 | 株式会社日立製作所 | 有機・無機酸化物混合体薄膜、それを用いた受動素子内蔵電子基板及び有機・無機酸化物混合体薄膜の製造方法 |
JP2005352225A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 現像装置 |
JP2006227149A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 現像装置及びプロセスカートリッジ並びに画像形成装置 |
JP2006308624A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 現像装置 |
US7711308B2 (en) * | 2006-09-11 | 2010-05-04 | Ricoh Company, Ltd. | Cleaning device, process cartridge, and image forming apparatus |
KR101358261B1 (ko) * | 2007-07-06 | 2014-02-05 | 엠. 테크닉 가부시키가이샤 | 세라믹스 나노입자의 제조 방법 |
JP2009082902A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-04-23 | M Technique Co Ltd | 強制超薄膜回転式処理法を用いたナノ粒子の製造方法 |
WO2009035019A1 (ja) | 2007-09-12 | 2009-03-19 | M.Technique Co., Ltd. | 二酸化チタン超微粒子及びその製造方法 |
CN101868316B (zh) * | 2007-09-27 | 2012-06-20 | M技术株式会社 | 磁性体微粒的制造方法、由此得到的磁性体微粒、及磁性流体、磁性体制品的制造方法 |
WO2009041275A1 (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | M.Technique Co., Ltd. | 樹脂微粒子水分散体の製造方法及びこの製造方法にて得られた樹脂微粒子水分散体、樹脂微粒子 |
CN101234750B (zh) * | 2008-02-28 | 2010-09-29 | 五矿(北京)稀土研究院有限公司 | 一种超细微粒和纳米颗粒的制备方法 |
JP5464840B2 (ja) | 2008-10-31 | 2014-04-09 | 関東電化工業株式会社 | ジルコニア微粒子の製造方法 |
-
2011
- 2011-08-26 KR KR1020137001954A patent/KR101848718B1/ko active IP Right Grant
- 2011-08-26 JP JP2012511088A patent/JP5213292B2/ja active Active
- 2011-08-26 EP EP11820039.3A patent/EP2610215B1/en active Active
- 2011-08-26 US US13/818,954 patent/US9005567B2/en active Active
- 2011-08-26 CN CN201180037081.7A patent/CN103038159B/zh active Active
- 2011-08-26 WO PCT/JP2011/069290 patent/WO2012026579A1/ja active Application Filing
-
2013
- 2013-01-10 JP JP2013002517A patent/JP5794582B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9005567B2 (en) | 2015-04-14 |
EP2610215B1 (en) | 2018-07-18 |
WO2012026579A1 (ja) | 2012-03-01 |
KR20130098287A (ko) | 2013-09-04 |
JP5794582B2 (ja) | 2015-10-14 |
EP2610215A1 (en) | 2013-07-03 |
US20130156682A1 (en) | 2013-06-20 |
EP2610215A4 (en) | 2015-10-14 |
JP5213292B2 (ja) | 2013-06-19 |
KR101848718B1 (ko) | 2018-04-13 |
CN103038159A (zh) | 2013-04-10 |
CN103038159B (zh) | 2016-10-12 |
JP2013082621A (ja) | 2013-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5794582B2 (ja) | 単離可能な酸化物微粒子または水酸化物微粒子の製造方法 | |
JP2013082621A5 (ja) | ||
JP4840835B2 (ja) | ナノ微粒子の製造方法 | |
JP6035499B2 (ja) | 微粒子の製造方法 | |
KR101876767B1 (ko) | 금속 미립자의 제조 방법 | |
JP5235233B2 (ja) | 高効率なセラミックス微粒子の製造方法 | |
KR20170031082A (ko) | 단결정 산화아연 나노 입자의 제조 방법 | |
JP5831821B2 (ja) | 金属微粒子の製造方法 | |
KR101988238B1 (ko) | 니켈 미립자의 제조 방법 | |
JP5598989B2 (ja) | ドープ元素量を制御された析出物質の製造方法 | |
JP4742202B1 (ja) | ドープ元素量を制御された析出物質の製造方法 | |
JP5979645B2 (ja) | バリウムチタニル塩及びチタン酸バリウムの製造方法 | |
JP5376483B1 (ja) | ニッケル微粒子の製造方法 | |
JP5261780B1 (ja) | 金属微粒子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5213292 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |